CN106216192A - 一种管状大容积等离子体聚合涂层装置 - Google Patents

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    • B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
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Abstract

一种管状大容积等离子体聚合涂层装置，属于等离子体技术领域，用于在基材表面制备聚合物涂层。其特征是，真空室为管状，内壁上安装电极和导轨，其中电极为柱面形，位于与真空室同轴的柱面上，分开为左右两部分，留出中间的空隙安装导轨，治具安装在导轨上，与真空室同轴，用来装载待处理的基材，治具能够沿导轨移入和移出真空室，真空室的顶部沿轴向间隔设置一个载体气体管路的出口和一个单体蒸汽管路的出口，真空室的底部沿轴向间隔设置一个真空排气管路的入口，真空室的两端安装真空室门，供治具送入和取出。本发明的装置具有真空室的容积大，等离子体的均匀性好，处理批量大，处理成本低，批处理产品质量均一性良好等优点。

Description

一种管状大容积等离子体聚合涂层装置
技术领域
本发明属于等离子体技术领域，涉及到一种管状大容积等离子体聚合涂层装置，用于在基材表面制备聚合物涂层。
背景技术
等离子体聚合涂层是一种重要的表面处理方法。在等离子体聚合涂层过程中，将需要处理的基材放在真空室内，在真空状态下通入工艺气体和气态有机类单体，通过放电把有机类气态单体等离子体化，使其产生各类活性种，由这些活性种之间或活性种与单体之间进行加成反应形成聚合物。在等离子体聚合涂层的工业应用中，为了尽可能提高处理批量和降低处理成本，需要尽可能增大真空室的容积以便能够同时容纳更多的基材接受处理。但是现有技术增大真空室的容积会造成空间等离子体的均匀性变差，使批处理产品质量均一性不良。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种管状大容积等离子体聚合涂层装置，以解决现有技术增大真空室的容积造成空间等离子体的均匀性变差、批处理产品质量均一性不良的问题。
本发明所采用的技术方案如下：
一种管状大容积等离子体聚合涂层装置，其特征在于：真空室为管状，真空室的内壁上安装有电极和导轨，其中电极为柱面形，位于与真空室同轴的柱面上，电极分开为左右两部分，留出中间的空隙安装导轨，电极与导轨不接触；治具安装在导轨上，与真空室同轴，待处理的基材装在治具内，真空室的顶部沿轴向间隔设置一个载体气体管路的出口和一个单体蒸汽管路的出口，真空室的底部沿轴向间隔设置一个真空排气管路的入口，真空室的两端安装真空室门。
所述的真空室的内径为30-80cm，长度为0.5-10m。
所述的电极与真空室内壁之间的间隙为10-60mm。
所述的电极上布满小孔，孔径为2-30mm，孔间隔为2-30mm。
所述的载体气体管路的出口和单体蒸汽管路的出口每隔30-80cm设置一个，所述的真空排气管路的入口每隔30-80cm设置一个。
所述的治具为金属或塑料制成的筒状笼子。
本发明的上述技术方案与现有技术相比具有以下优点：
本发明装置的真空室的容积大，等离子体的均匀性好，处理批量大，处理成本低，批处理产品质量均一性良好。
附图说明
图1是本发明装置的结构示意图。
图中：1、真空室，2、电极，3、导轨，4、治具，5、基材，6、载体气体管路，7、单体蒸汽管路，8、真空排气管路，9、真空室门。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施例详细说明本发明，但本发明并不局限于具体实施例。
真空室为管状，内径30-80cm，长度0.5-10米，真空室的内壁上安装有电极和导轨，其中电极为柱面形，位于与真空室同轴的柱面上，与真空室内壁之间的间隙为10-60mm，电极上布满小孔，孔径为2-30mm，孔间隔为2-30mm，电极分开为左右两部分，留出中间的空隙安装导轨，电极与导轨不接触；治具为金属或塑料制成的筒状笼子，安装在导轨上，与真空室同轴，能够沿导轨移入和移出真空室，待处理的基材装在治具内，真空室的顶部沿轴向每隔30-80cm设置一个载体气体管路的出口和一个单体蒸汽管路的出口，真空室的底部沿轴向每隔30-80cm设置一个真空排气管路的入口，真空室的两端安装真空室门，供治具送入和取出。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征，本领域的技术人员应该了解本发明不受上述实施例的限制，上述的实施例和说明书描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入本发明要求保护的范围内，本发明要求保护范围由所附的权利要求书和等效物界定。

Claims (6)

1.一种管状大容积等离子体聚合涂层装置，其特征在于：真空室(1)为管状，真空室(1)的内壁上安装有电极(2)和导轨(3)，其中电极(2)为柱面形，位于与真空室(1)同轴的柱面上，电极(2)分开为左右两部分，留出中间的空隙安装导轨(3)，电极(2)与导轨(3)不接触；治具(4)安装在导轨(3)上，与真空室(1)同轴，待处理的基材(5)装在治具(4)内，真空室(1)的顶部沿轴向间隔设置一个载体气体管路(6)的出口和一个单体蒸汽管路(7)的出口，真空室(1)的底部沿轴向间隔设置一个真空排气管路(8)的入口，真空室(1)的两端安装真空室门(9)。
2.根据权利要求1所述的一种管状大容积等离子体聚合涂层装置，其特征在于：所述的真空室(1)的内径为30-80cm，长度为0.5-10m。
3.根据权利要求1所述的一种管状大容积等离子体聚合涂层装置，其特征在于：所述的电极(2)与真空室(1)内壁之间的间隙为10-60mm。
4.根据权利要求1所述的一种管状大容积等离子体聚合涂层装置，其特征在于：所述的电极上布满小孔，孔径为2-30mm，孔间隔为2-30mm。
5.根据权利要求1所述的一种管状大容积等离子体聚合涂层装置，其特征在于：所述的载体气体管路(6)的出口和单体蒸汽管路(7)的出口每隔30-80cm设置一个，所述的真空排气管路(8)的入口每隔30-80cm设置一个。
6.根据权利要求1所述的一种管状大容积等离子体聚合涂层装置，其特征在于：所述的治具(4)为金属或塑料制成的筒状笼子。
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