JP2017504946A - Sofc陰極拡散バリア層を生成する方法およびsofc - Google Patents

Sofc陰極拡散バリア層を生成する方法およびsofc Download PDF

Info

Publication number
JP2017504946A
JP2017504946A JP2016564382A JP2016564382A JP2017504946A JP 2017504946 A JP2017504946 A JP 2017504946A JP 2016564382 A JP2016564382 A JP 2016564382A JP 2016564382 A JP2016564382 A JP 2016564382A JP 2017504946 A JP2017504946 A JP 2017504946A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
precursor
diffusion barrier
cathode
thd
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016564382A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6337146B2 (ja
Inventor
オウンプー エン
オウンプー エン
スッビ ジュハン
スッビ ジュハン
セッパラ サンニ
セッパラ サンニ
ニーニスト ジャッコ
ニーニスト ジャッコ
レスケラ マルク
レスケラ マルク
リターラ ミッコ
リターラ ミッコ
Original Assignee
エルコゲン エーエス
エルコゲン エーエス
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by エルコゲン エーエス, エルコゲン エーエス filed Critical エルコゲン エーエス
Publication of JP2017504946A publication Critical patent/JP2017504946A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6337146B2 publication Critical patent/JP6337146B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/40Oxides
    • C23C16/405Oxides of refractory metals or yttrium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45523Pulsed gas flow or change of composition over time
    • C23C16/45525Atomic layer deposition [ALD]
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/40Oxides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45523Pulsed gas flow or change of composition over time
    • C23C16/45525Atomic layer deposition [ALD]
    • C23C16/45527Atomic layer deposition [ALD] characterized by the ALD cycle, e.g. different flows or temperatures during half-reactions, unusual pulsing sequence, use of precursor mixtures or auxiliary reactants or activations
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45523Pulsed gas flow or change of composition over time
    • C23C16/45525Atomic layer deposition [ALD]
    • C23C16/45553Atomic layer deposition [ALD] characterized by the use of precursors specially adapted for ALD
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45523Pulsed gas flow or change of composition over time
    • C23C16/45525Atomic layer deposition [ALD]
    • C23C16/45555Atomic layer deposition [ALD] applied in non-semiconductor technology
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/56After-treatment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01MPROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M8/00Fuel cells; Manufacture thereof
    • H01M8/10Fuel cells with solid electrolytes
    • H01M8/12Fuel cells with solid electrolytes operating at high temperature, e.g. with stabilised ZrO2 electrolyte
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01MPROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M8/00Fuel cells; Manufacture thereof
    • H01M8/10Fuel cells with solid electrolytes
    • H01M8/12Fuel cells with solid electrolytes operating at high temperature, e.g. with stabilised ZrO2 electrolyte
    • H01M8/1213Fuel cells with solid electrolytes operating at high temperature, e.g. with stabilised ZrO2 electrolyte characterised by the electrode/electrolyte combination or the supporting material
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01MPROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M8/00Fuel cells; Manufacture thereof
    • H01M8/10Fuel cells with solid electrolytes
    • H01M8/12Fuel cells with solid electrolytes operating at high temperature, e.g. with stabilised ZrO2 electrolyte
    • H01M8/1213Fuel cells with solid electrolytes operating at high temperature, e.g. with stabilised ZrO2 electrolyte characterised by the electrode/electrolyte combination or the supporting material
    • H01M8/1226Fuel cells with solid electrolytes operating at high temperature, e.g. with stabilised ZrO2 electrolyte characterised by the electrode/electrolyte combination or the supporting material characterised by the supporting layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01MPROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M8/00Fuel cells; Manufacture thereof
    • H01M8/10Fuel cells with solid electrolytes
    • H01M8/12Fuel cells with solid electrolytes operating at high temperature, e.g. with stabilised ZrO2 electrolyte
    • H01M8/124Fuel cells with solid electrolytes operating at high temperature, e.g. with stabilised ZrO2 electrolyte characterised by the process of manufacturing or by the material of the electrolyte
    • H01M8/1246Fuel cells with solid electrolytes operating at high temperature, e.g. with stabilised ZrO2 electrolyte characterised by the process of manufacturing or by the material of the electrolyte the electrolyte consisting of oxides
    • H01M8/1253Fuel cells with solid electrolytes operating at high temperature, e.g. with stabilised ZrO2 electrolyte characterised by the process of manufacturing or by the material of the electrolyte the electrolyte consisting of oxides the electrolyte containing zirconium oxide
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01MPROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M8/00Fuel cells; Manufacture thereof
    • H01M8/10Fuel cells with solid electrolytes
    • H01M8/12Fuel cells with solid electrolytes operating at high temperature, e.g. with stabilised ZrO2 electrolyte
    • H01M2008/1293Fuel cells with solid oxide electrolytes
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/30Hydrogen technology
    • Y02E60/50Fuel cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Sustainable Energy (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Inert Electrodes (AREA)
  • Fuel Cell (AREA)

Abstract

本発明は陰極拡散バリア層を生成するための改良法ならびに高い効率および寿命を有するSOFCを提供する。本発明は、焼結された半電池の電解質層上に、ALDによって純粋なセリアまたは異種原子価的にドープされたセリア層を堆積させることを含む。膜が堆積される電解質の表面は、1または複数のランタニドの第1の前駆体からの1回分の蒸気に曝露される。その前駆体からの任意の過剰の未反応蒸気が除去される。ついで、第2の前駆体の1回分の蒸気が表面にもたらされ、反応させられる。第2のパージによりALDサイクルが完了し、これが繰り返されて、より厚い膜が構築される。このセリア層は、陰極拡散バリア層を形成し、その上にコバルタイト系陰極層がスクリーン印刷によって塗布され、陰極拡散バリア層および陰極層が一緒に加熱されて、SOFCが形成される。

Description

本発明は、概して、固体酸化物燃料電池(SOFC)に関し、より詳細には、陰極拡散バリア層を製造する方法、および該バリア層を含む電池に関する。
SOFCは、電気と熱との分散型熱電併給のための将来の可能性のある電源の1つである。この目標を実現するために、SOFCの運転温度範囲を、800〜1000℃から600〜700℃に下げて、より安価な構成素材の使用を促進し、システムの熱劣化を減少させなければならない。これは、一方では、これらの温度でより低い抵抗率を有する固体電解質の開発に特別な重点を置き、他方では、電池の陽極で異なる燃料を酸化し陰極で酸素を還元するための、新しい混合伝導性の、より効率的で選択的に触媒的な電極の開発に特別な重点を置く。ストロンチウムドープランタンコバルタイトおよびストロンチウムドープランタンフェライトが、より低い温度でより高い効率を有する潜在的な新しい陰極材料として台頭してきた。
しかし、これらのより効率的なコバルタイト陰極材料およびフェライト陰極材料は、ジルコニア系電解質と反応し、イオンに対して高い抵抗率の層を発達させ、SOFCの効率および寿命を低下させる傾向がある。これらの望ましくない反応を回避するために、ドープ化セリア拡散バリア層が一般に堆積されており、その理由は、セリアが、化学的により不活性であり、SOFCが生産または使用される条件下で陰極材料と望ましくない化合物を形成しないためである。しかし、セリアは、ジルコニアとの固溶体を形成し、それは、ドープ化ジルコニアまたはドープ化セリアより低いイオン伝導性を有する。この固溶体形成は、1300℃以上の温度で著しく、この場合、電池の同時焼成(cell cofiring)が高密度な電解質層をもたらす。
この拡散バリア層は、陰極生成サイクルの過程、および元素の完全なライフサイクルの過程で、陰極から元素、好ましくはストロンチウムおよびランタンのドープ化ジルコニア電解質層への拡散に耐えなければならない。拡散バリア層は、必ずしも高密度である必要はないが、高密度な層は、著しい利点を有する。表面上および粒界上の金属原子拡散は、粒を通じた拡散より速く、したがって拡散バリア層が多孔質である場合、電池の寿命を制限し得る。さらに、高密度な層は、イオン移動にとって電解質とのより良好な接触を有することになる。
ドープ化セリア拡散バリア層は、
(i)予備焼成された基板上にスクリーン印刷し、その後、1200℃から1400℃の間で焼結し、基板へのいくつかの反応で厚さ0.5〜5マイクロメートルを有する多孔質層を生成する[非特許文献1];
(ii)400〜800℃でパルスレーザー堆積させ、柱状構造を生成する[非特許文献2][非特許文献3];
(iii)800℃でマグネトロンスパッタリングによって物理気相堆積させ、柱状構造を生成し、(i)に対して利点をもたらす[非特許文献4]
ことによって生産することができる。
(ii)および(iii)は、より低い温度で行われ、電解質との望ましくない反応を回避するが、これらは依然として多孔質層を生成し、高価な技術であり、大面積生産に拡張することが困難である。
(i)および(iii)は、本発明と最も近い先行技術を形成する。
当技術分野におけるこれらの問題を克服するために、大面積生産に適切な高密度陰極拡散バリア層を生成する安価な方法、すなわち原子層堆積(ALD)、ならびに効率および寿命が増大した固体酸化物燃料電池を、本発明において記載する。
原子層堆積は、公知の技術分野であり[非特許文献5]、多孔質基板上にイオン伝導体層を生成するのに使用される[特許文献1、Cassir M.ら、2002]。ALDプロセスは、2種以上の異なる気相前駆体を使用して固体材料の薄層を堆積させる。膜が堆積される基板の表面は、1つの前駆体からの1回分(dose)の蒸気に曝露される。次いで、その前駆体からの任意の過剰の未反応蒸気がポンプで除かれ、またはパージされる。次に、第2の前駆体の1回分の蒸気が表面にもたらされ、反応させられる。第2のパージがALDサイクルを完了する。非特許文献6、非特許文献7および非特許文献8に記載されているように、このサイクルのステップを繰り返して、より厚い膜を構築することができる。
国際特許出願国際公開第02053798号
A. Mai et al., Solid State Ionics Vol.176 (2005) pp 1341−1350 Jong Hoon Joo, Gyeong Man Choi, Journal of the European Ceramic Society Vol.27 (2007) pp 4273−4277 K. Rodrigo et al., Appl Phys A Vol.101 (2010) pp 601−607 N. Jordan et al., Solid State Ionics 179 (2008) pp 919−923 M. Putkonen et al., Chem. Mater. Vol.13 (2001) pp 4701−4707 Paivasaari, J., Putkonen, M. and Niinisto, L. J. Mater. Chem. Vol.12 (2002) pp 1828−1832 Niinisto, J., Petrova, N., Putkonen, M., Sajavaara, T., Arstila, K. and Niinisto, L. J. Cryst. Growth Vol.285 (2005) pp 191−200 Putkonen, M, Nieminen, M., Niinisto, J., Sajavaara, T. and Niinisto, L. Chem. Mater. Vol.13 (2001) pp 4701−4707
本発明の目的は、陰極拡散バリア層を生成するための改良法を提供すること、ならびにそれによって現況技術から公知のものより高い効率および寿命を有する固体酸化物燃料電池を提供することである。
それは、焼結された半電池の電解質層上に原子層堆積によって純粋なセリアまたは異種原子価的に(aliovalently)ドープされたセリア層を堆積させるステップを含む。膜が堆積される電解質の表面は、1または複数のランタニドの第1の前駆体からの1回分の蒸気に曝露される。次いで、その前駆体からの任意の過剰の未反応蒸気が除去される(ポンプで除かれ、またはパージされる)。次に、第2の前駆体の1回分の蒸気が表面にもたらされ、反応させられる。第2のパージによりALDサイクルが完了する。このサイクルのステップが繰り返されて、より厚い膜が構築される。連続したサイクル中の異なるランタニドが混合酸化物を構築するのに使用されることになる。このセリア層は、陰極拡散バリア層を形成し、その上にコバルタイト系陰極層がスクリーン印刷によって塗布され、陰極拡散バリア層および陰極層が一緒に加熱されて、改善された固体酸化物燃料電池が形成される。加熱温度は、1000〜1200℃の間、好ましくは1000〜1100℃の間である。
第1の前駆体は、一般式Ln(thd)n(式中、thdは、2,2,6,6−テトラメチルヘプタン−3,5−ジオネートである)を有するランタニドジケトネート、または自己制限的成長の要件を満たすのに十分熱的に安定である任意の他の揮発性ランタニド化合物である。第1の前駆体Ce(thd)4とY(thd)3またはGd(thd)3との堆積のためのパルシング比(pulsing ratio)は、30:1〜5:1、好ましくは10:1である。第2の前駆体は、オゾンまたは水である。
電解質層は、イットリウム安定化ジルコニアまたはスカンジウム安定化ジルコニアであり、セリア層は、好ましくはYドープセリア層またはGdドープセリア層である。
コバルタイト系陰極層は、好ましくはLSC(LaxSr(1-x)CoO3)またはLSCF(LaxSr(1-x)CoyFe(1-y)3)層である。
本発明の目的はまた、上述した方法によって生成される陰極拡散バリア層を含む固体酸化物燃料電池である。
燃料電池スキームを示す図である。1−陰極、2−陰極拡散バリア層、3−電解質、4−陽極活性層、5−陽極支持層。 燃料電池を示す図である。1−陰極、2−陰極拡散バリア層、3−電解質、4−陽極活性層、5−陽極支持層。 より詳細な燃料電池を示す図である。1−陰極、2−陰極拡散バリア層、3−電解質。 0.5〜2.0秒の異なる金属前駆体パルス長でのa)CeO2、b)Gd23、およびc)Y23の成長速度を示す図である。堆積温度は、250℃であった。 Si(100)上の厚さ200nmのCeO2膜、CeO2:Gd膜、およびCeO2:Y膜のXRDパターンを示す図である。
燃料電池は、焼結された半電池のイットリウム安定化ジルコニア電解質層上に、ALDによって、異種原子価的にドープされたセリア層、好ましくはYドープセリア層またはGdドープセリア層を堆積させることによって生産され、その上にはコバルタイト系陰極層、好ましくはランタンストロンチウムコバルタイト(LaxSr(1-x)CoO3)(LSC)層またはランタンストロンチウムコバルタイトフェライト(LaxSr(1-X)CoyFe(1-y)3)(LSCF)層がスクリーン印刷され、そのように覆われた電池は、1000℃〜1200℃の間、好ましくは1000℃〜1100℃の間で加熱される。電池のスキームは、図1にある。
陰極層と一緒に未処理のALD層を加熱すると、陰極拡散バリア層と電解質層との間、および陰極拡散バリア層と陰極層との間の有利な接触が生じる。これは、現況技術より低い電気抵抗率およびより良好な拡散耐性を伴ったほとんど連続的な陰極拡散バリア層をもたらす。電池のSEM断面は、図2および図3にある。
ALD陰極拡散バリア層は、現況技術に対して複数の利点を有する。スクリーン印刷層と比較して、それは、より高密度であり、陽イオン拡散に対してより良好なバリアを形成する。それは、より低い温度で生成され、バリア層材料と電解質材料との相互拡散を最小限にし、燃料電池の電気抵抗を低下させる。それはまた、生産サイクルから1つの加熱ラウンドを除外し、生産性を増大させ、コストを低下させる。
物理気相堆積(スパッタリング)と比較して、ALD陰極拡散バリア層は、より高密度であり、はるかによりコンフォーマルであり、柱状構造を回避し、それにより陽イオン拡散に対するより良好なバリアを形成する。ALD法はまた、工業スケールアップについてスパッタリングに対して利点を有し、その理由は、燃料電池を反応器チャンバー内に一緒に最密充填することができるためである。
1.原子層堆積による固体酸化物燃料電池のためのCeO2、CeO2:Gd、およびCeO2:Y陰極拡散拡散バリア層
拡散バリア層CeO2、CeO2:Gd、およびCeO2:Yを、固体酸化物燃料電池(SOFC)ボタン電池上に原子層堆積(ALD)によって堆積させて、陰極から電解質への陽イオンの拡散を防止した。最初に、二元酸化物CeO2、Gd23、およびY23の成長速度を、Si(100)ウエハーおよびイットリア安定化ジルコニア(YSZ)上で判定した。次いでドープ膜を、異なるCe:Gd前駆体パルス比およびCe:Y前駆体パルス比を用いてSi(100)上に堆積させて、ドーパント含有量について適切な比を見出した。実際の膜は、NiO/YSZ陽極およびYSZ電解質からなっていたSOFC半電池上に堆積させた。
すべての膜は、フロー式ホットウォールALD反応器(ASM Microchemistry F−120)内で堆積させた。反応器内の圧力は、5〜10mbarであった。Ce(thd)4、Gd(thd)3、およびY(thd)3(thd=2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオン)(VolatecOy)を金属前駆体として使用し、オゾン発生器(Wedeco OZOMATIC 4 HC)で酸素(AGA、99,999%)から生成されるオゾン(100g/m3)を酸素源として使用した。窒素(Domnick Hunter N2発生器、99.999%超)を、担体およびパージガスとして使用した。
フィルム厚は、反射率スペクトルから判定した。スペクトルは、Hitachi U−2000分光光度計で370と1100nmとの間の波長で測定した。YSZ上のCeO2の厚さは、エネルギー分散X線分析(EDX)で測定した元素のk値から判定した。ドープ膜のドーパントレベルもEDXによって判定した。堆積させた膜の結晶性は、PanalyticalX’Pert PRO MPD回折計におけるCu Kα放射線を用いてX線回折(XRD)によって判定した。ALDによって堆積された二元酸化物CeO2、Gd23、およびY23は、以前に徹底的に研究されている。報告された成長速度は、250℃で、CeO2について、0.32Å/サイクル、Gd23について0.30Å/サイクル、およびY23について0.22〜0.23Å/サイクルである。本研究では、成長速度は、250℃で、CeO2について、0.31Å/サイクル、Gd23について0.30Å/サイクル、およびY23について0.25Å/サイクルであった。
YSZ上のCeO2の成長速度は、Si(100)上よりほんのわずかに低かった。すべての場合において、ALD型自己制限的成長モードが確認された(図4)。
ドープ膜をSi上に堆積させ、10陽イオン−%ドーパントレベルを得るための適切なGd:Ce前駆体パルシング比およびY:Ce前駆体パルシング比を判定した。試験したパルシング比およびEDXによって測定されたドーパント含有量を表1および表2に提示する。
2.電池製造
最初に半電池を製造する。半電池を、YSZおよびNiOから構成される陽極支持層(5)をテープキャスティングし、この上にYSZおよびNiOから構成される陽極活性層(4)をスクリーン印刷し、この上にYSZから構成される電解質層(3)をスクリーン印刷し、この多層未焼結半電池を1400℃で焼結することによって製造する。
完全な燃料電池は、焼結された半電池のイットリウム安定化ジルコニア電解質層上に、ALDによって、純粋なセリア、または異種原子価的にドープされたセリア層、好ましくはYドープセリア層もしくはGdドープセリア層を堆積させることによって生産し、その上にコバルタイト系陰極層、好ましくはLSC層またはLSCF層がスクリーン印刷され、そのように覆われた電池を、温度が少なくとも1時間にわたって1000℃超に留まるように、1000℃〜1200℃の間、好ましくは1000℃〜1100℃の間で加熱する。
上記ALD結果に基づいて、1:10のパルシング比を、SOFCボタン電池上のCeO2:Gd膜およびCeO2:Y膜の堆積について選択した。堆積温度は、250℃であった。Ce(thd)4は、170℃で保持し、Gd(thd)3は、137℃で保持し、Y(thd)3は、127℃で保持した。パルス長は、Gd(thd)3およびCe(thd)4について0.5秒、Y(thd)3について1.0秒であった。パージは、Gd(thd)3のパルスおよびCe(thd)4のパルス後に1.0秒、Y(thd)3のパルス後に1.5秒であった。オゾンのパルスは常に1.0秒であり、オゾン後のパージは、1.5秒であった。厚さ100nmのCeO2膜を堆積させるために、3334サイクルを施した。厚さ200nmの膜については、7800サイクルを施した。ドープ膜については、10サイクルのCeO2を最初に堆積させ、次いで1サイクルのGd23またはY23を堆積させた。厚さ100nmの膜については、このシーケンスを337回繰り返し、厚さ200nmの膜については674回繰り返した。Si(100)上の厚さ200nmのCeO2膜、CeO2:Gd膜、およびCeO2:Y膜のXRDパターンを図2に示す。相は、立方晶系CeO2(PDFカード34−0394)であり、最も強力な反射は、(200)である。

Claims (10)

  1. SOFC陰極拡散バリア層を製造する方法であって、
    a)焼結された半電池の異種原子価的に安定化されたジルコニアからなる電解質層上に、原子層堆積によって純粋なセリアまたは異種原子価的にドープされたセリア層を堆積させるステップであって、膜が堆積される電解質の表面は、1または複数のランタニドの第1の前駆体からの1回分の蒸気に曝露され、その前駆体からの任意の過剰の未反応蒸気が除去され、第2の前駆体の1回分の蒸気が表面にもたらされ、反応させられ、このサイクルのステップが繰り返されて、より厚い膜が構築されるステップと、
    b)前記層の上にコバルタイト系陰極層をスクリーン印刷するステップと、
    c)前記陰極拡散バリア層および陰極層が一緒に加熱されるステップと
    の連続したステップを含む方法。
  2. 前記第1の前駆体が一般式Ln(thd)n(式中、thdは、2,2,6,6−テトラメチルヘプタン−3,5−ジオネートである)を有するランタニドジケトネート、または自己制限的成長の要件を満たすのに十分熱的に安定である任意の他の揮発性ランタニド化合物であり、
    前記第2の前駆体がオゾンまたは水である、請求項1に記載の方法。
  3. 前記電解質層はイットリウム安定化ジルコニアである、請求項1に記載の方法。
  4. 前記電解質層はスカンジウム安定化ジルコニアである、請求項1に記載の方法。
  5. 前記セリア層は、好ましくはYまたはGdドープセリア層である、請求項1に記載の方法。
  6. 前記第1の前駆体Ce(thd)4とY(thd)3またはGd(thd)3との堆積のためのパルシング比(pulsing ratio)は、30:1〜5:1、好ましくは10:1である、請求項5に記載の方法。
  7. 前記コバルタイト系陰極層は好ましくはLSC(LaxSr(1-x)CoO3)またはLSCF(LaxSr(1-x)CoyFe(1-y)3)層である、請求項1に記載の方法。
  8. 前記加熱する温度は、1000〜1200℃の間、好ましくは1000〜1100℃の間である、請求項1に記載の方法。
  9. 前記ステップa)の連続したサイクル中で異なるランタニドが使用され、混合酸化物を構築する、請求項1に記載の方法。
  10. 請求項1に記載の方法で製造した陰極拡散バリア層を含むSOFC。
JP2016564382A 2014-01-14 2014-01-14 Sofc陰極拡散バリア層を生成する方法およびsofc Active JP6337146B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/EE2014/000001 WO2015106769A1 (en) 2014-01-14 2014-01-14 A method of producing sofc cathode diffusion barrier layer and a sofc

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017504946A true JP2017504946A (ja) 2017-02-09
JP6337146B2 JP6337146B2 (ja) 2018-06-06

Family

ID=50064321

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016564382A Active JP6337146B2 (ja) 2014-01-14 2014-01-14 Sofc陰極拡散バリア層を生成する方法およびsofc

Country Status (11)

Country Link
US (1) US20160333476A1 (ja)
EP (1) EP3099836B1 (ja)
JP (1) JP6337146B2 (ja)
KR (1) KR102294212B1 (ja)
DK (1) DK3099836T3 (ja)
ES (1) ES2912750T3 (ja)
LT (1) LT3099836T (ja)
PL (1) PL3099836T3 (ja)
PT (1) PT3099836T (ja)
RU (1) RU2656436C2 (ja)
WO (1) WO2015106769A1 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9755235B2 (en) 2014-07-17 2017-09-05 Ada Technologies, Inc. Extreme long life, high energy density batteries and method of making and using the same
US10217571B2 (en) 2015-05-21 2019-02-26 Ada Technologies, Inc. High energy density hybrid pseudocapacitors and method of making and using the same
US11996564B2 (en) 2015-06-01 2024-05-28 Forge Nano Inc. Nano-engineered coatings for anode active materials, cathode active materials, and solid-state electrolytes and methods of making batteries containing nano-engineered coatings
WO2017023797A1 (en) 2015-07-31 2017-02-09 Ada Technologies, Inc. High energy and power electrochemical device and method of making and using same
WO2017205660A1 (en) * 2016-05-25 2017-11-30 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Electrode comprising heavily-doped ceria
US11024846B2 (en) 2017-03-23 2021-06-01 Ada Technologies, Inc. High energy/power density, long cycle life, safe lithium-ion battery capable of long-term deep discharge/storage near zero volt and method of making and using the same
WO2020053765A2 (en) * 2018-09-11 2020-03-19 Versa Power Systems Ltd Redox mitigating solid oxide cell compositions

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009069685A1 (ja) * 2007-11-27 2009-06-04 Honda Motor Co., Ltd. 自立膜型電解質・電極接合体
US20120094213A1 (en) * 2010-10-19 2012-04-19 Samsung Electronics Co., Ltd. Solid oxide electrolyte membrane, method of manufacturing the same and fuel cell including the solid oxide electrolyte membrane
JP2012195281A (ja) * 2011-03-03 2012-10-11 Ngk Insulators Ltd 固体酸化物形燃料電池

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2424604C1 (ru) * 2007-05-31 2011-07-20 Элкоген Ас Способ изготовления одиночного твердооксидного топливного элемента
EP2031684B1 (en) * 2007-08-31 2016-08-10 Technical University of Denmark Metal supported solid oxide fuel cell
EA021907B1 (ru) * 2008-06-13 2015-09-30 Серес Интеллекчуал Проперти Компани Лимитед Способ осаждения керамических пленок

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009069685A1 (ja) * 2007-11-27 2009-06-04 Honda Motor Co., Ltd. 自立膜型電解質・電極接合体
US20120094213A1 (en) * 2010-10-19 2012-04-19 Samsung Electronics Co., Ltd. Solid oxide electrolyte membrane, method of manufacturing the same and fuel cell including the solid oxide electrolyte membrane
JP2012195281A (ja) * 2011-03-03 2012-10-11 Ngk Insulators Ltd 固体酸化物形燃料電池

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
ZENG FAN: "Improving solid oxide fuel cells with yttria-doped ceria interlayers by atomic layer deposition", JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY, vol. Vol.21, JPN6017036768, 2011, pages 10903-10906 *

Also Published As

Publication number Publication date
DK3099836T3 (da) 2022-05-30
US20160333476A1 (en) 2016-11-17
RU2016133145A (ru) 2018-02-16
WO2015106769A1 (en) 2015-07-23
PT3099836T (pt) 2022-05-11
JP6337146B2 (ja) 2018-06-06
KR102294212B1 (ko) 2021-08-30
RU2656436C2 (ru) 2018-06-05
EP3099836B1 (en) 2022-04-20
ES2912750T3 (es) 2022-05-27
PL3099836T3 (pl) 2022-07-18
EP3099836A1 (en) 2016-12-07
KR20160107284A (ko) 2016-09-13
LT3099836T (lt) 2022-05-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6337146B2 (ja) Sofc陰極拡散バリア層を生成する方法およびsofc
Fabbri et al. Towards the next generation of solid oxide fuel cells operating below 600 C with chemically stable proton‐conducting electrolytes
JP5762295B2 (ja) 低温sofc用の新素材および構造
Liu et al. Improving the performance of the Ba0. 5Sr0. 5Co0. 8Fe0. 2O3-δ cathode for proton-conducting SOFCs by microwave sintering
US8592101B2 (en) Electrolyte comprising YSZ for SOFC battery, and method comprising CVD for making same
US20150099061A1 (en) Formation of solid oxide fuel cells
US8337939B2 (en) Method of processing a ceramic layer and related articles
US9660273B2 (en) Liquid phase modification of solid oxide fuel cells
AU2003229677B2 (en) High-temperature solid electrolyte fuel cell comprising a composite of nanoporous thin-film electrodes and a structured electrolyte
KR101288375B1 (ko) 원자막 증착법으로 형성된 이트리아-안정화 지르코니아 기능층을 포함하는 세리아계 전해질 및 이를 포함하는 고체 산화물 연료전지
JP2020129433A (ja) 固体電解質部材、固体酸化物型燃料電池、水電解装置、水素ポンプ及び固体電解質部材の製造方法
WO2018230247A1 (ja) 固体電解質部材、固体酸化物型燃料電池、水電解装置、水素ポンプ及び固体電解質部材の製造方法
US20050250000A1 (en) Novel composite solid oxide fuel cell anode based on ceria and strontium titanate
Kim et al. Stable ceria-based electrolytes for intermediate temperature-solid oxide fuel cells via hafnium oxide blocking layer
JP6879456B2 (ja) 固体電解質部材、固体酸化物型燃料電池、水電解装置、水素ポンプ及び固体電解質部材の製造方法
JPH1074528A (ja) 固体電解質型燃料電池およびその製造方法
JP5550223B2 (ja) セラミック電解質の処理方法および関連製品
Ju et al. New buffer layer material La (Pr) CrO3 for intermediate temperature solid oxide fuel cell using LaGaO3-based electrolyte film
KR102267721B1 (ko) 고체 산화물 연료전지용 연료극 제조방법
KR20200135027A (ko) 고체 산화물 연료전지용 전극 재료 및 그의 제조방법
JP2001015129A (ja) 固体電解質型燃料電池セル
US20150099063A1 (en) Method of producing layers for solid oxide fuel cells
Lessing et al. Fabrication Technologies for a Planar Solid Oxide Fuel Cell
Karimaghaloo Nanoscale Functionalization of SOFC Cathode Surface and Interfaces
Xie Process development of BaZrO3-BaCeO3 based electrolytes for proton-conducting solid oxide fuel cells

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20161115

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170913

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170926

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20171225

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180403

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180507

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6337146

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250