JP2017504788A - 圧縮器と組み合わせて大型且つ高エネルギーのレーザービームをサンプリングする装置 - Google Patents
圧縮器と組み合わせて大型且つ高エネルギーのレーザービームをサンプリングする装置 Download PDFInfo
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Abstract
Description
− 圧縮器の真空筐体31内に、但し圧縮要素の出力端および出力ウインドウ33の上流に配置され、圧縮された主ビームの小さいサンプルだけを取るために透過率が2%未満である図2に示すいわゆる「リーキー」ミラー32、
− 圧縮器の出力ウインドウの下流に位置する、収差が修正された縮小無限焦点42、および
− 縮小されたサンプルビームを測定する装置43
を用いることが知られている。
− サンプルビームは、測定される前にリーキーミラー32を通過している。持続期間が極端に短いパルスを測定する場合、パルスを構成する各波長が進む光路(すなわちスペクトル位相)が主ビームおよびサンプルビームとで同一であることを保証しなければならない。また、エネルギーのスペクトル分布(すなわちスペクトル強度)を忠実に維持することも必須である。従って、自身が反射されているためミラー32の素材を通過していない圧縮された主ビームの光路上の進行を補償することが必須である。しかし、そのような補償器は、圧縮器出力端における主ビームのエネルギーの観点から製造が困難である。実際、そのようなビームは、通過するあらゆる素材に損傷を与える。
− また、サンプルビームはリーキーミラーによる歪まされ、これは主ビームに対する補償も困難である。
− 更に、透過率が極めて小さい(すなわち<2%)場合、サンプル取得の均一性がミラーの瞳孔全体およびミラーのスペクトル帯域全体にわたり極めて良好であることが必要である。リーキーミラーのメーカーにとって0.2%未満の変動率で2%未満の透過率を得ることは実現が極めて困難である。
− パルスレーザービームのT%(Tは90よりも大きい)を透過可能、且つパルスレーザービームの(1−T)%を反射可能(反射されたビームをサンプルビームと呼ぶ)なサンプリングジオプタを備えたサンプル取得装置と、
− サンプルビームのサイズを縮小可能な無限焦点とを含み、
− 圧縮器が、決定された有効開口、および縮小されたサンプルビームを当該圧縮器の有効開口に再注入する装置を有していることを主な特徴とする。
− リーキーミラーの透過率または厚さは、ミラー内におけるレーザーの透過中にSPM(自己位相変調)型の非線形効果を回避すべく小さくなければならない。非線形効果が特にパルスのピーク入力および通過する素材の厚さに依存することを想起されたい。非線形効果を合理的な境界内、例えば透過パルスの1未満の積分Bに留めるべく、リーキーミラーの透過率は従って0.1%のオーダーでなければならないが、これは以下の問題をもたらす。
− 例証として、反射率が波長λ1で99.9%および波長λ2で99.8%である高反射率またはHRのミラーを取り上げる。
2波長間の歪みである反射パルスの歪みは、((99.9−99.8)/(99.9))=0.001である。反射パルスの歪みは従って極めて小さい。
透過パルスの場合、波長λ1は0.2%で透過され、波長λ2は0.1%で透過される。
透過パルスに対して、2波長間の歪みは((0.2−0.1)/(0.2))=50%である。この場合の歪みは従って極めて高い。透過ビーム(=サンプルビーム)のスペクトル形状は従って、反射された有効ビームに全く似ていない。すなわち幅がより広く、他の波長に中心を有していてよい。これらの歪みにより時間的測定値が真正でない恐れがある。
− 圧縮器内のレーザーパルスの直径がセンチメートル、更にはメートルクラスであるTW、更にはマルチPWクラスのレーザーにおいて、良好な品質(波面収差が無い)の反射波面を保証するためにリーキーミラーの厚さは数cmのオーダーでなければならない一方、厚さは、上述のように非線形効果を抑制するために薄くなければならない。
− また、元のビームはHRミラーにより反射され、素材を一切通過しない。この点、サンプルビームはミラーの基板を通過する。2本のビームが進む光路は従って異なっており、2本のビームは従って同一の時空間的歪みを受けない。
− 例えば二酸化ケイ素またはBK7のサンプリングジオプタ44により設けられた、圧縮されるパルスレーザービームのT%(T>90、更には99超)を透過可能(透過ビームを当該ジオプタの下流の経路全体にわたり主または基準ビームと呼ぶ)であり、且つその(1−T)%を反射可能(反射ビームをサンプルビームと呼ぶ)なサンプル取得装置。透過ビームは、圧縮器の出力端で達するピーク出力を未だ発しない伸長されたビームであるため、ジオプタ44を通過する際に非線形効果が生じない。
− サンプルビームの経路上において、
・好適にはサンプルビームの特性を保持すべく反射屈折光学部品を含んでいるサンプルビームのサイズを縮小可能な無限焦点42と、
・縮小されたサンプルビームを圧縮器3の有効開口に再注入する装置。当該再注入装置は、例えば縮小されたサンプルビームを主ビームと並列配置させることにより圧縮器3の有効開口へ向けて反射することを目的とするミラー45である。圧縮器は従来、ジオプタまたは反射分散格子34、35、36、37、あるいは透過分散格子等、1個以上の分散要素を含み、これら各々の要素が図4に示すように有効開口を有している。同図は、一方では未だにスペクトル分散がなされていない主ビームおよび縮小されたサンプルビームが到着する格子34の有効開口を、他方では共に格子34により第1の分散がなされた主ビームおよび縮小されたサンプルビームが到着する格子35の有効開口を示す(同図では3波長を示している)。各々のケースでサンプルビームと主ビームが並列配置される点に注意されたい。圧縮器の有効開口が、これら全ての分散要素の有効開口に共通な部分により画定されることを想起されたい。
− 任意選択により、サンプリングジオプタ44に対称形をなすジオプタ46は、圧縮器の上流で主ビームの経路に配置されている。当該ジオプタは再注入ミラー45の機能を保証する部分を含んでいてよく、他の部分は主ビームを透過させることを目的とし、当該ジオプタは2本のビームを並列配置させることから再結合ジオプタ46と呼ばれる。
Claims (6)
- 高エネルギー且つ大直径のパルスレーザービームをサンプリングすべく、圧縮器(3)と組み合わせることを意図された装置において、前記圧縮器(3)の上流に、
− 前記パルスレーザービームのT%(Tは90よりも大きい)を透過可能、且つ前記パルスレーザービームの(1−T)%を反射可能(反射されたビームをサンプルビームと呼ぶ)なサンプリングジオプタ(44)を備えたサンプル取得装置と、
− 前記サンプルビームのサイズを縮小可能な無限焦点(42)とを含み、
− 前記圧縮器が、決定された有効開口、および前記縮小されたサンプルビームをこの有効開口に再注入する装置(45)を有していることを特徴とする装置。 - 前記サンプルビームの経路上に、このサンプルビームの光路を拡張可能な光路補償器(47)を含むことを特徴とする、請求項1に記載のサンプリング装置。
- 前記補償器が前記圧縮器の下流に位置していることを特徴とする、請求項2に記載のサンプリング装置。
- 前記パルスレーザービームのエネルギーが1Jよりも大きく、直径が1cmよりも大きいことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載のサンプリング装置。
- 圧縮器(3)からの高エネルギー且つ大直径のパルスレーザービームを分析する装置であって、請求項1〜4のいずれか1項に記載され且つ前記圧縮器(3)と組み合わせることを意図されたサンプリング装置と、サンプリングおよび圧縮されたビームを測定する装置(43)とを含む装置。
- 伸長器(1)、増幅器(2)、圧縮器(3)を含み、前記圧縮器の出力端において高エネルギー且つ大直径のパルスレーザービームを生成することが可能であって、請求項5に記載の分析装置を含むことを特徴とする、パルス圧縮によるレーザー増幅用の設備品目。
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CN111399244B (zh) * | 2020-04-27 | 2022-01-28 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 光栅压缩器内部时空畸变的补偿方法 |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5648976A (en) * | 1994-04-27 | 1997-07-15 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Laser with variable pulse length |
US20050226287A1 (en) * | 2004-03-31 | 2005-10-13 | Imra America, Inc. | Femtosecond laser processing system with process parameters, controls and feedback |
JP2007535141A (ja) * | 2004-03-31 | 2007-11-29 | イムラ アメリカ インコーポレイテッド | モジュール式ファイバ型チャープパルス増幅システム |
JP2009509351A (ja) * | 2005-09-21 | 2009-03-05 | エコル ポリテクニク | 高ピークおよび高平均のパワーを伴う光パルス増幅器 |
US20110019267A1 (en) * | 2009-07-24 | 2011-01-27 | Coherent, Inc. | Carrier envelope phase stabilization of an optical amplifier |
US20110268389A1 (en) * | 2010-04-29 | 2011-11-03 | Lockheed Martin Corporation | Tiled bragg grating and laser systems therefrom |
JP2011222582A (ja) * | 2010-04-05 | 2011-11-04 | Hamamatsu Photonics Kk | 光増幅装置 |
US20130003763A1 (en) * | 2010-03-12 | 2013-01-03 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Apparatus for adjusting polarization characteristics, and ultra-short ultra-high intensity pulse laser generator comprising same |
US20130034114A1 (en) * | 2011-08-05 | 2013-02-07 | Coherent, Inc. | Carrier-envelope-phase stabilization of a master oscillator optical amplifier system |
EP2654142A1 (en) * | 2012-04-19 | 2013-10-23 | Amplitude Technologies | Fully analog method for stabilizing CEP of ultra-short high-power pulses in a chirped pulse amplification laser system |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8279901B2 (en) * | 2010-02-24 | 2012-10-02 | Alcon Lensx, Inc. | High power femtosecond laser with adjustable repetition rate and simplified structure |
TWI611731B (zh) * | 2012-12-21 | 2018-01-11 | Gigaphoton Inc | 雷射束控制裝置及極端紫外光產生裝置 |
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2013
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2014
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Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5648976A (en) * | 1994-04-27 | 1997-07-15 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Laser with variable pulse length |
US20050226287A1 (en) * | 2004-03-31 | 2005-10-13 | Imra America, Inc. | Femtosecond laser processing system with process parameters, controls and feedback |
JP2007535141A (ja) * | 2004-03-31 | 2007-11-29 | イムラ アメリカ インコーポレイテッド | モジュール式ファイバ型チャープパルス増幅システム |
JP2009509351A (ja) * | 2005-09-21 | 2009-03-05 | エコル ポリテクニク | 高ピークおよび高平均のパワーを伴う光パルス増幅器 |
US20110019267A1 (en) * | 2009-07-24 | 2011-01-27 | Coherent, Inc. | Carrier envelope phase stabilization of an optical amplifier |
US20130003763A1 (en) * | 2010-03-12 | 2013-01-03 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Apparatus for adjusting polarization characteristics, and ultra-short ultra-high intensity pulse laser generator comprising same |
JP2011222582A (ja) * | 2010-04-05 | 2011-11-04 | Hamamatsu Photonics Kk | 光増幅装置 |
US20110268389A1 (en) * | 2010-04-29 | 2011-11-03 | Lockheed Martin Corporation | Tiled bragg grating and laser systems therefrom |
US20130034114A1 (en) * | 2011-08-05 | 2013-02-07 | Coherent, Inc. | Carrier-envelope-phase stabilization of a master oscillator optical amplifier system |
EP2654142A1 (en) * | 2012-04-19 | 2013-10-23 | Amplitude Technologies | Fully analog method for stabilizing CEP of ultra-short high-power pulses in a chirped pulse amplification laser system |
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Publication number | Publication date |
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