JP2017503153A - ガスを検出するための装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
Description
・キャリアガスの流入のための1つの入口と、その流出のための1つの出口と、
・ガスを検出するための少なくとも1つのガスセンサと、
・当該キャリアガスを装置内で搬送するための1つの第1ポンプと、
・少なくとも1つの半透性の材料から成り、少なくとも部分的に絶縁媒体によって包囲されていて、少なくとも部分的に当該キャリアガスによって流通される1つの膜と、
・当該キャリアガスを装置内へ搬入し、当該キャリアガスを当該装置から搬出するための1つの第2ポンプとを有する、絶縁媒体で充填された高電圧機器内のガスを検出するための装置を提唱する。
・当該温度センサと当該熱電対とが、1つの制御装置に接続されていて、
・当該熱電対が、当該温度センサの測定に基づいて制御されることが提唱され得る。
・当該第2ポンプが、当該第1導管内に設置されている場合、この第1導管は、当該第2導管よりも大きいアスペクト比を有し、及び/又は100又は200又は500又は1000又は2000又は5000又は10,000よりも大きいアスペクト比を有し、及び/又は
この第1導管は、当該第2導管よりも大きい流れ抵抗を有し、及び/又は一定の内径と100又は200又は500又は1000又は2000又は5000又は10,000よりも大きいアスペクト比とを有する1つの導管の流れ抵抗に相当する流れ抵抗を有し、
・当該第2ポンプが、当該第2導管内に設置されている場合、この第2導管は、当該第1導管よりも大きいアスペクト比を有し、及び/又は100又は200又は500又は1000又は2000又は5000又は10,000よりも大きいアスペクト比を有し、及び/又は
この第2導管は、当該第1導管よりも大きい流れ抵抗を有し、及び/又は一定の内径と100又は200又は500又は1000又は2000又は5000又は10,000よりも大きいアスペクト比とを有する1つの導管の流れ抵抗に相当する流れ抵抗を有することが提唱され得る。
・第1ステップにおいて、弁が通流されることなしに、キャリアガスが、1つの第2ポンプによって1つの測定室内へ搬入され、この測定室から搬出されることによって、この測定室が、当該キャリアガスで洗浄され、
・第2ステップにおいて、当該第1ステップ後に、当該キャリアガスが、1つの第1ポンプによって当該測定室から搬出され、1つの膜を通過し、当該測定室内へ搬入され、この膜に流れる当該キャリアガス中に蓄積されたガスが、当該測定室内で検出され、
・当該膜は、少なくとも1つの半透性の材料から少なくとも成り、少なくとも部分的に当該絶縁媒体によって包囲されている。
2 絶縁媒体
3 高電圧機器
4 ガス
5 入口
6 出口
7 第1導管
8 第2導管
9 第1ポンプ
10 第2ポンプ
11 測定室
12 ガスセンサ
13 膜
14 熱電対
15 フィルタ
16 キャリアガス
17 中央制御装置
18 温度センサ
19 第1連結管
20 第2連結管
Claims (20)
- ・キャリアガス(16)の流入のための1つの入口(5)と、その流出のための1つの出口(6)と、
・ガス(4)を検出するための少なくとも1つのガスセンサ(12)と、
・前記キャリアガス(16)を前記装置(1)内で搬送するための1つの第1ポンプ(9)と、
・少なくとも1つの半透性の材料から成り、少なくとも部分的に絶縁媒体(2)によって包囲されていて、少なくとも部分的に前記キャリアガス(16)によって流通される1つの膜(13)と、
・前記キャリアガス(16)を装置(1)内へ搬入し、前記キャリアガス(16)を前記装置(1)から搬出するための1つの第2ポンプ(10)とを有する、前記絶縁媒体(2)で充填された高電圧機器(3)内の前記ガス(4)を検出するための装置(1)において、
前記キャリアガス(16)が、前記装置(1)内へ搬入され得るか又は前記装置(1)から搬出され得る弁が存在しない前記装置(1)。 - 前記入口(5)は、1つの第1導管(7)を有する請求項1に記載の装置。
- 前記膜(13)は、少なくとも部分的に管状に及び/又は少なくとも部分的にホース状に形成されている請求項1又は2に記載の装置。
- 前記膜(13)は、少なくとも部分的に螺旋状に及び/又は少なくとも部分的に蛇行状に及び/又は少なくとも部分的にヘリカルに形成されている請求項3に記載の装置。
- 前記出口(6)は、1つの第2導管(8)を有する請求項1〜4のいずれか1項に記載の装置。
- 前記装置(1)は、前記ガスセンサ(12)が配置されている1つの測定室(11)を有する請求項1〜5のいずれか1項に記載の装置。
- 少なくとも1つの熱電対(14)及び/又は少なくとも1つの温度センサ(18)が、前記測定室(11)内に配置されている請求項1〜6のいずれか1項に記載の装置。
- 前記温度センサ(18)と前記熱電対(14)とが、1つの制御装置(17)に接続されていて、
前記熱電対(14)が、前記温度センサ(18)の測定に基づいて制御される請求項1〜7のいずれか1項に記載の装置。 - 前記測定室(11)は、前記第1導管(7)に連結されていて、且つ前記膜(13)と前記第2導管(8)とを介して前記出口(6)に連結されている請求項1〜8のいずれか1項に記載の装置。
- 前記測定室(11)は、前記第1導管(7)と前記膜(13)との間に配置されている請求項1〜9のいずれか1項に記載の装置。
- 前記第1ポンプ(9)の稼働中に、前記第2ポンプ(10)は、閉じられている弁の機能を有し、前記第2ポンプ(10)の稼働中に、前記第1ポンプ(9)は、閉じられている弁の機能を有する請求項1〜10のいずれか1項に記載の装置。
- 前記第2ポンプ(10)は、前記第1導管(7)又は前記第2導管(9)内に設置されている請求項1〜11のいずれか1項に記載の装置。
- ・前記第2ポンプ(10)が、前記第1導管(7)内に設置されている場合、この第1導管(7)は、前記第2導管(8)よりも大きいアスペクト比を有し、及び/又は100又は200又は500又は1000又は2000又は5000又は10,000よりも大きいアスペクト比を有し、及び/又は
この第1導管(7)は、前記第2導管(8)よりも大きい流れ抵抗を有し、及び/又は一定の内径と100又は200又は500又は1000又は2000又は5000又は10,000よりも大きいアスペクト比とを有する1つの導管の流れ抵抗に相当する流れ抵抗を有し、
・前記第2ポンプ(10)が、前記第2導管(8)内に設置されている場合、この第2導管(8)は、前記第1導管(7)よりも大きいアスペクト比を有し、及び/又は100又は200又は500又は1000又は2000又は5000又は10,000よりも大きいアスペクト比を有し、及び/又は
この第2導管(8)は、前記第1導管(7)よりも大きい流れ抵抗を有し、及び/又は一定の内径と100又は200又は500又は1000又は2000又は5000又は10,000よりも大きいアスペクト比とを有する1つの導管の流れ抵抗に相当する流れ抵抗を有する請求項12に記載の装置。 - 前記第1ポンプ(9)は、前記測定室(11)の流出部を前記膜(13)の流入部に結合する1つの第1連結管(19)内に設置されているか、又は前記膜(13)の流出部を前記測定室(11)の流入部に結合する1つの第2連結管(20)内に設置されている請求項1〜13のいずれか1項に記載の装置。
- 前記第1導管(7)は、前記第1ポンプと前記膜(13)との間で、前記測定室(11)の流出部を前記膜(13)の流入部に結合する1つの第1連結管(19)内へ通じているか、又は前記第1ポンプ(9)と前記測定室(11)との間で、前記膜(13)の流出部を前記測定室(11)の流入部に結合する1つの第2連結管(20)内へ通じている請求項1〜14のいずれか1項に記載の装置。
- 特に請求項1〜15のいずれか1項に記載の装置(1)によって、絶縁媒体(2)で充填された高電圧機器(3)内のガス(4)を検出するための方法において、
・第1ステップにおいて、弁が通流されることなしに、キャリアガス(16)が、1つの第2ポンプ(10)によって測定室(11)内へ搬入され、この測定室(11)から搬出されることによって、この測定室(11)が、前記キャリアガス(16)で洗浄され、
・第2ステップにおいて、前記第1ステップ後に、前記キャリアガス(16)が、1つの第1ポンプ(9)によって前記測定室(11)から搬出され、1つの膜(13)を通過し、前記測定室(11)内へ搬入され、この膜(13)に流れる前記キャリアガス(16)中に蓄積されたガス(4)が、前記測定室(11)内で検出され、
・前記膜(13)は、少なくとも1つの半透性の材料から少なくとも成り、少なくとも部分的に前記絶縁媒体(2)によって包囲されている当該方法。 - 洗浄時に、前記キャリアガス(16)は、1つの第1導管(7)を通じて吸入され、前記測定室(11)と前記膜(13)とを通じて搬送され、1つの第2導管(8)を通じて排出される請求項16に記載の方法。
- 前記キャリアガス(16)は、1つのフィルタ(15)を介して吸入される請求項16又は17に記載の方法。
- 前記キャリアガス(16)が、搬出される前に及び/又は搬出された後に、前記測定室(11)内のガス(4)の量及び/又は種類が特定される請求項16〜18のいずれか1項に記載の方法。
- 前記キャリアガス(16)が、搬送される前に及び/又は搬送された後に、前記測定室(11)内のガス(4)の量及び/又は種類が特定される請求項16〜19のいずれか1項に記載の方法。
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