JP2017500267A - 低放射コーティング膜、その製造方法及びそれを含む窓用機能性建築資材 - Google Patents
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-
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-
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Abstract
Description
前記金属酸化物層の厚さは、0.5nm〜5nmであってよい。
前記金属酸窒化物層の厚さは、2nm〜20nmであってよい。
図面において、数々の層及び領域を明確に表現するために、厚さを拡大して示した。そして、図面において、説明の便宜のために、一部の層及び領域の厚さを誇張して示した。
前記基材100は、可視光線透過率の高い透明基材であってよく、例えば、約80%〜約100%の可視光線透過率を有するガラスまたは透明プラスチック基板であってよい。前記基材は、例えば、建築用に用いられるガラスが制限することなく用いられ得、例えば、約2mm〜約12mmの厚さであってよく、使用目的及び機能によって変わることがあり、これに制限されるものではない。
前記低放射コーティング層200は、前記基材から第1誘電体層210、第1低放射保護層220、低放射層230、第2低放射保護層240及び第2誘電体層250を順次に含む多層構造であってよい。
前記最上部コーティング層300は、前記低放射コーティング層200から金属層310、金属酸化物層320及び金属酸窒化物層330を順次に含む多層構造であってよい。
(実施例1)
マグネトロンスパッタリング蒸着器(Selcos Cetus−S)を用いて、下記のように透明ガラス基材に積層された多層構造の低放射コーティング層及び多層構造の最上部コーティング層を製造した。
多層構造の最上部コーティング層の製造を省略したことを除いては、実施例1と同様にした。
多層構造の最上部コーティング層においてジルコニウムシリコンオキシナイトライド層の形成を省略したことを除いては、実施例1と同様にした。
多層構造の最上部コーティング層においてジルコニウム層を全て酸化させ、ジルコニウム層の形成を省略したことを除いては、実施例1と同様にした。
1.耐摩耗性の評価
実施例1及び比較例1〜3により製造された低放射コーティング膜に対してTaber摩耗試験機(メーカー:Taber Abraser、Erichsen社、モデル名:5135 Rotary Platform abraser)を利用し、1kg/mm2の条件下で耐摩耗性試験を100回実施した後、光学顕微鏡(X200)で観察し、スクラッチの形態を測定して表1に示し、光学顕微鏡像で撮影して図2に示した。
(1)耐湿テスト
実施例1及び比較例1〜3により製造された低放射コーティング膜に対して恒温恒湿チャンバ(LS産電、EBS−35B)を利用し、耐湿40℃、90%RH(湿度)の条件下で、耐湿テスト(3日目、7日目)をし、光学顕微鏡(X200)を利用して腐食の程度を観察した。その結果、発生した腐食点の個数を計算して表2に示し、光学顕微鏡像で撮影して図3aに示した。
蒸留水飽和25℃、99%RH(湿度)の条件下で、蒸留水テスト(3日目、7日目)をしたことを除いては、(1)と同様にした。その結果、発生した腐食点の個数を計算して表3に示し、光学顕微鏡像で撮影して図3bに示した。
硫酸カリウム溶液飽和25℃、85%RH(湿度)の条件下で、硫酸カリウム溶液テスト(3日目、7日目)をしたことを除いては、(1)と同様にした。その結果、発生した腐食点の個数を計算して表4に示し、光学顕微鏡像で撮影して図3cに示した。
前記表4及び図3cに示されたように、比較例1〜3は、腐食点の個数がかなり多く発生し、腐食の程度が顕著に高く生じることを確認することができた。これに対し、実施例1は、腐食点の個数が3日目に0個、7日目に3個発生し、腐食がほとんど生じておらず、比較例1〜3と比べるとき、ジルコニウム層、ジルコニウム酸化物層及びジルコニウムシリコンオキシナイトライド層の形成によってO2、H2O及びNa+等のような外部から流入する化学反応物が低放射層230に拡散される過程を阻害することにより、低放射コーティング膜の耐腐食性がさらに向上することを確認することができた。
実施例1及び比較例1〜3により製造された低放射コーティング膜を常温で、pH2のシグマアルドリッチHCl溶液に5分間浸漬しながら、分光測色計(メーカー:KONICA MINOLTA、モデル名:VTLCM−700)を利用して、浸漬前後の色指数(color index)の変化値を測定し、それに従って作成したグラフを図4に示した。
実施例1及び比較例1〜3によって製造された低放射コーティング膜を実験室用box furnace装備を用いて、装備内部の温度を約700℃に維持された状態で前記サンプルを入れ、7分間維持した後、サンプルを取り出した。熱処理後、光学顕微鏡(X50)を利用して欠陥の程度を観察した。
Claims (19)
- 基材;低放射コーティング層;及び最上部コーティング層を含み、
前記最上部コーティング層は、前記低放射コーティング層から金属層、金属酸化物層及び金属酸窒化物層を順次に含む多層構造である、
低放射コーティング膜。 - 前記金属層は、シリコン、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、シリコン系複合金属、チタン系複合金属、ジルコニウム系複合金属、及びこれらの組み合わせから選択された少なくとも一つを含む、
請求項1に記載の低放射コーティング膜。 - 前記金属酸化物層は、シリコン酸化物、アルミニウム酸化物、チタン酸化物、ジルコニウム酸化物、シリコン系複合金属酸化物、チタン系複合金属酸化物、ジルコニウム系複合金属酸化物、及びこれらの組み合わせから選択された少なくとも一つを含む、
請求項1に記載の低放射コーティング膜。 - 前記金属酸窒化物層は、ジルコニウム系複合金属酸窒化物を含む、
請求項1に記載の低放射コーティング膜。 - 前記低放射コーティング層は、前記基材から第1誘電体層、第1低放射保護層、低放射層、第2低放射保護層及び第2誘電体層を順次に含む多層構造である、
請求項1に記載の低放射コーティング膜。 - 前記第1誘電体層または前記第2誘電体層は、チタンオキシド、スズ亜鉛オキシド、亜鉛オキシド、亜鉛アルミニウムオキシド、スズオキシド、ビスマスオキシド、シリコンナイトライド、シリコンアルミニウムナイトライド、シリコンスズナイトライド、及びこれらの組み合わせからなる群から選択された少なくとも一つを含むか、または
前記少なくとも一つに、ビスマス(Bi)、ホウ素(B)、アルミニウム(Al)、ケイ素(Si)、マグネシウム(Mg)、アンチモン(Sb)、ベリリウム(Be)、及びこれらの組み合わせからなる群から選択された少なくとも一つの元素がドーピングされた、
請求項5に記載の低放射コーティング膜。 - 前記第1低放射保護層または前記第2低放射保護層は、ニッケル(Ni)、クロム(Cr)、ニッケル(Ni)とクロム(Cr)の合金、チタン(Ti)、及びこれらの組み合わせを含む群から選択された少なくとも一つを含む、
請求項5に記載の低放射コーティング膜。 - 前記低放射層は、銀(Ag)、金(Au)、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、白金(Pt)、イオンドーピング金属酸化物、及びこれらの組み合わせを含む群から選択された少なくとも一つを含む、
請求項5に記載の低放射コーティング膜。 - 前記金属層の厚さは、0.5nm〜5nmである、
請求項1に記載の低放射コーティング膜。 - 前記金属酸化物層の厚さは、0.5nm〜5nmである、
請求項1に記載の低放射コーティング膜。 - 前記金属酸窒化物層の厚さは、2nm〜20nmである、
請求項1に記載の低放射コーティング膜。 - (a)基材の少なくとも一面に積層された低放射コーティング層を準備するステップ;
(b)前記低放射コーティング層の上部に金属を蒸着して金属層を形成するステップ;及び
(c)前記金属層の上部に金属酸化物層を形成し、金属酸窒化物を蒸着して金属酸窒化物層を形成するステップを含む、
低放射コーティング膜の製造方法。 - 前記(b)において、金属層は、シリコン、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、シリコン系複合金属、チタン系複合金属、ジルコニウム系複合金属、及びこれらの組み合わせから選択された少なくとも一つを含む、
請求項12に記載の低放射コーティング膜の製造方法。 - 前記(c)において、金属酸化物層は、シリコン酸化物、アルミニウム酸化物、チタン酸化物、ジルコニウム酸化物、シリコン系複合金属酸化物、チタン系複合金属酸化物、ジルコニウム系複合金属酸化物、及びこれらの組み合わせから選択された少なくとも一つを含む、
請求項12に記載の低放射コーティング膜の製造方法。 - 前記(c)において、金属酸窒化物層は、ジルコニウム系複合金属酸窒化物を含む、
請求項12に記載の低放射コーティング膜の製造方法。 - 前記(c)において、金属酸化物層の形成は、前記金属層の表面の後酸化工程を通して、前記金属層の表面を一部酸化させて行われるものである、
請求項12に記載の低放射コーティング膜の製造方法。 - 前記後酸化工程は、酸素(O2)、窒素(N2)及びアルゴン(Ar)からなる群から選択された少なくとも一つの反応性ガスを用いて行われる、
請求項16に記載の低放射コーティング膜の製造方法。 - 前記(c)において、金属層の表面の一部酸化と金属酸窒化物の蒸着は、インサイチュ(in−situ)で連続的に行われるものである、
請求項16に記載の低放射コーティング膜の製造方法。 - 請求項1乃至11のいずれか一項による低放射コーティング膜を含む、
窓用機能性建築資材。
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