JP2017224735A - Superposition apparatus, pasting device, superposition method, and pasting method - Google Patents

Superposition apparatus, pasting device, superposition method, and pasting method Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a superposition apparatus, a pasting device, a superposition method and a pasting method which allow for suitable detection of positional deviation in a board and a support, that are brought close to each other while keeping the plane parts in parallel with each other, in a superposition chamber for superposing the board and the support.SOLUTION: Position detectors (27-29) for detecting the position of outer peripheral end of at least one of a board (42) and a support (41), brought close to each other while keeping the mutual plane parts (41b, 42b) in parallel, in a superposition chamber (6a), includes an internal detector (27) imaging the outer peripheral end in the superposition chamber (6a), and external detectors (28, 29) for detecting the outer peripheral end, imaged by the internal detector (27), from the outside of the superposition chamber (6a).SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、重ね合わせ装置、貼付装置、重ね合わせ方法および貼付方法に関する。   The present invention relates to a superimposing apparatus, a pasting apparatus, a superposing method, and a pasting method.

携帯電話、デジタルAV機器およびICカード等の高機能化に伴い、搭載される半導体シリコンチップ(以下、チップ)を小型化および薄板化することによって、パッケージ内にチップを高集積化する要求が高まっている。パッケージ内のチップの高集積化を実現するためには、チップの厚さを25〜150μmの範囲にまで薄くする必要がある。   As mobile phones, digital AV devices, IC cards, etc. have become more sophisticated, there is an increasing demand for higher integration of chips in packages by reducing the size and thickness of semiconductor silicon chips (hereinafter referred to as chips). ing. In order to achieve high integration of chips in the package, it is necessary to reduce the thickness of the chip to a range of 25 to 150 μm.

しかしながら、チップのベースとなる半導体ウエハ(以下、ウエハ)は、研削することにより薄化され、その強度は弱くなり、ウエハにクラックまたは反りが生じやすくなる。また、薄板化することによって強度が弱くなったウエハを自動搬送することは困難であるため、人手によって搬送しなければならず、その取り扱いが煩雑であった。   However, a semiconductor wafer (hereinafter referred to as a wafer) serving as a base of a chip is thinned by grinding, its strength is weakened, and the wafer is likely to be cracked or warped. Further, since it is difficult to automatically transport a wafer whose strength has been reduced by making it thin, it has to be transported manually, and the handling thereof is complicated.

そのため、研削するウエハにサポートプレートと呼ばれる、ガラスまたは硬質プラスチック等からなるプレートを貼り合わせることによって、ウエハの強度を保持し、クラックの発生およびウエハの反りを防止するウエハサポートシステムが開発されている。ウエハサポートシステムによりウエハの強度を維持することができるため、薄板化した半導体ウエハの搬送を自動化することができる。   Therefore, a wafer support system has been developed that maintains the strength of the wafer and prevents the occurrence of cracks and warpage of the wafer by bonding a plate made of glass or hard plastic, called a support plate, to the wafer to be ground. . Since the strength of the wafer can be maintained by the wafer support system, the transport of the thinned semiconductor wafer can be automated.

ウエハとサポートプレートとは、粘着テープ、熱可塑性樹脂を含む接着剤等を用いて貼り合わせられている。サポートプレートが貼り付けられたウエハを薄板化した後、ウエハをダイシングする前にサポートプレートを基板から剥離する。   The wafer and the support plate are bonded together using an adhesive tape, an adhesive containing a thermoplastic resin, or the like. After thinning the wafer to which the support plate is attached, the support plate is peeled from the substrate before dicing the wafer.

ここで、支持体と基板との貼り合わせにおける貼り合わせ精度を向上させることができる技術が求められている。そのような技術として、特許文献1は、ウエハホルダに保持した状態で複数のウエハを重ね合わせた後、重ね合わせたウエハを接合部に搬送するときに、ウエハホルダの加速度または位置に基づいてウエハの位置ずれを判断し、位置ずれがある場合には接合を行わないことを開示している。   Here, the technique which can improve the bonding precision in bonding of a support body and a board | substrate is calculated | required. As such a technique, Patent Document 1 discloses that a position of a wafer is based on the acceleration or position of the wafer holder when a plurality of wafers are stacked while being held by the wafer holder and then transferred to the bonding portion. It is disclosed that the joining is not performed when the displacement is judged and there is a displacement.

特開2014−57070号公報(2014年3月27日公開)JP 2014-57070 A (published March 27, 2014)

但し、特許文献1に記載の技術は、複数のウエハを重ね合わせた後の位置ずれに対処する技術である。   However, the technique described in Patent Document 1 is a technique for dealing with a positional deviation after a plurality of wafers are overlapped.

一方、基板と支持体との間の位置ずれは、重ね合わせの前に生じる場合がある。すなわち、基板と支持体とを重ね合わせる重ね合わせ室では、重ね合わせのために、基板と支持体とを互いの平面部を平行にして近接させるが、その時点またはその前に位置ずれが生じる場合がある。   On the other hand, misalignment between the substrate and the support may occur before the overlapping. That is, in the superposition chamber in which the substrate and the support are superposed, for the superposition, the substrate and the support are brought close to each other with their flat portions parallel to each other. There is.

本発明者らは、このような位置ずれに対処すべく、重ね合わせ室内において、互いの平面部を平行にして近接させた基板および支持体における位置ずれを検知することを検討している。しかしながら、重ね合わせ室内において、互いの平面部を平行にして近接させた基板および支持体について、外部から位置ずれを検知すること困難である。また、重ね合わせ室内は、例えば真空環境となる場合があるため、内部カメラ等を導入して位置ずれを検知することも困難である。   In order to cope with such a positional deviation, the present inventors are considering detecting a positional deviation in a substrate and a support that are close to each other with their planar portions parallel to each other in the superposition chamber. However, it is difficult to detect misalignment from the outside of the substrate and the support that are close to each other with their flat portions parallel to each other in the overlapping chamber. In addition, since the inside of the stacking chamber may be in a vacuum environment, for example, it is difficult to detect a positional shift by introducing an internal camera or the like.

本発明は、前記の問題点に鑑みてなされたものであり、基板と支持体とを重ね合わせる重ね合わせ室内において、互いの平面部を平行にして近接させた基板および支持体における位置ずれを好適に検知することができる重ね合わせ装置、貼付装置、重ね合わせ方法および貼付方法を提供することを主たる目的とする。   The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and in a superposition chamber in which a substrate and a support are superposed, a positional shift in a substrate and a support that are close to each other with their flat portions parallel to each other is preferable. It is a main object of the present invention to provide a superimposing apparatus, a pasting apparatus, a superimposing method, and a pasting method that can be detected.

上記の課題を解決するために、本発明に係る重ね合わせ装置は、
基板と、上記基板を支持する支持体とを重ね合わせる重ね合わせ装置であって、
上記基板と上記支持体とを重ね合わせる重ね合わせ室と、
上記重ね合わせ室内において、互いの平面部を平行にして近接させた上記基板および上記支持体の少なくとも一方の外周端部の位置を検知する位置検知部と、を備えており、
上記位置検知部は、
上記重ね合わせ室内において、上記外周端部を映す内部検知部と、
上記重ね合わせ室の外部から、上記内部検知部が映した上記外周端部を検知する外部検知部とを備えている。
In order to solve the above-described problem, an overlay apparatus according to the present invention
A superposing apparatus for superposing a substrate and a support for supporting the substrate,
An overlapping chamber for overlapping the substrate and the support;
A position detection unit that detects the position of the outer peripheral end of at least one of the substrate and the support that are close to each other in parallel with each other in the overlapping chamber;
The position detector is
In the superposition chamber, an internal detection unit that reflects the outer peripheral end,
And an external detection unit for detecting the outer peripheral end portion reflected by the internal detection unit from the outside of the superposition chamber.

また、本発明に係る重ね合わせ方法は、
基板と、上記基板を支持する支持体とを重ね合わせる重ね合わせ方法であって、
上記基板と上記支持体とを重ね合わせる重ね合わせ室内において、互いの平面部を平行にして近接させた上記基板および上記支持体の少なくとも一方の外周端部の位置を検知する位置検知工程を包含しており、
上記位置検知工程では、上記重ね合わせ室内において、上記外周端部を映し、上記重ね合わせ室の外部から、映した上記外周端部を検知する。
Moreover, the overlaying method according to the present invention includes:
A method of superimposing a substrate and a support that supports the substrate,
A position detection step of detecting a position of an outer peripheral end portion of at least one of the substrate and the support that are close to each other with the planar portions parallel to each other in an overlapping chamber in which the substrate and the support are overlapped; And
In the position detection step, the outer peripheral end portion is projected in the superposition chamber, and the projected outer peripheral end portion is detected from the outside of the superposition chamber.

本発明によれば、基板と支持体とを重ね合わせる重ね合わせ室内において、互いの平面部を平行にして近接させた基板および支持体における位置ずれを好適に検知することができる重ね合わせ装置、貼付装置、重ね合わせ方法および貼付方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, in the superposition chamber which superimposes a board | substrate and a support body, the superposition apparatus which can detect suitably the position shift in the board | substrate and support body which mutually made the plane part parallel and adjoined, sticking An apparatus, a superimposing method, and a sticking method can be provided.

本発明の一実施形態における貼付システムの概略構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows schematic structure of the sticking system in one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る貼付装置の概略構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows schematic structure of the sticking apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態における位置調整部の概略構成を示す図であり、(a)は上面図を示し、(b)は側方断面図を示す。It is a figure which shows schematic structure of the position adjustment part in one Embodiment of this invention, (a) shows a top view, (b) shows a side sectional view. 本発明の一実施形態における保持部の概略構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows schematic structure of the holding | maintenance part in one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態における位置検知部の動作を説明する模式図であり、(a)は、支持体の外周端部の位置を検知するときの重ね合わせ装置の状態を示し、(b)は、(a)の状態において撮影部が撮影する画像の例を示し、(c)は、基板の外周端部の位置を検知するときの重ね合わせ装置の状態を示し、(d)は、(c)の状態において撮影部が撮影する画像の例を示す。It is a schematic diagram explaining operation | movement of the position detection part in one Embodiment of this invention, (a) shows the state of the superposition apparatus when detecting the position of the outer peripheral end part of a support body, (b) , (A) shows an example of an image taken by the photographing unit, (c) shows the state of the superposition apparatus when detecting the position of the outer peripheral edge of the substrate, and (d) shows (c) ) Shows an example of an image photographed by the photographing unit. 本発明の一実施形態における位置検知部の動作を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining operation | movement of the position detection part in one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態における内部搬送部の概略動作を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining schematic operation | movement of the internal conveyance part in one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る貼付方法の流れを説明するフローチャートである。It is a flowchart explaining the flow of the sticking method which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る貼付方法の一工程における貼付装置の状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the state of the sticking apparatus in one process of the sticking method which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る貼付方法の一工程における貼付装置の状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the state of the sticking apparatus in one process of the sticking method which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る貼付方法の一工程における貼付装置の状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the state of the sticking apparatus in one process of the sticking method which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る貼付方法の一工程における貼付装置の状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the state of the sticking apparatus in one process of the sticking method which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る貼付方法の一工程における貼付装置の状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the state of the sticking apparatus in one process of the sticking method which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る貼付方法の一工程における貼付装置の状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the state of the sticking apparatus in one process of the sticking method which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る貼付方法の一工程における貼付装置の状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the state of the sticking apparatus in one process of the sticking method which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る貼付方法の一工程における貼付装置の状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the state of the sticking apparatus in one process of the sticking method which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る貼付方法の一工程における貼付装置の状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the state of the sticking apparatus in one process of the sticking method which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る貼付方法の一工程における貼付装置の状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the state of the sticking apparatus in one process of the sticking method which concerns on one Embodiment of this invention.

本発明は、重ね合わせ装置、貼付装置、重ね合わせ方法および貼付方法を提供する。   The present invention provides a superposition device, a sticking device, a superposition method, and a sticking method.

〔重ね合わせ装置〕
本発明の一実施形態に係る重ね合わせ装置は、基板と、上記基板を支持する支持体とを重ね合わせる重ね合わせ装置であって、上記基板と上記支持体とを重ね合わせる重ね合わせ室と、上記重ね合わせ室内において、互いの平面部を平行にして近接させた上記基板および上記支持体の少なくとも一方の外周端部の位置を検知する位置検知部と、を備えており、上記位置検知部は、上記重ね合わせ室内において、上記外周端部を映す内部検知部と、上記重ね合わせ室の外部から、上記内部検知部が映した上記外周端部を検知する外部検知部とを備えている。
[Overlay device]
An overlay apparatus according to an embodiment of the present invention is an overlay apparatus that superimposes a substrate and a support that supports the substrate, the overlay chamber that overlays the substrate and the support, and the above A position detection unit that detects the position of the outer peripheral end of at least one of the substrate and the support that are close to each other in parallel with each other in the overlapping chamber, and the position detection unit includes: An internal detection unit that reflects the outer peripheral end in the superposition chamber and an external detection unit that detects the outer peripheral end reflected by the internal detection unit from the outside of the superposition chamber.

上記の構成によれば、(i)重ね合わせ室内において近接させた基板および支持体の少なくとも一方の外周端部を内部検知部が映し、(ii)重ね合わせ室の外部から、内部検知部が映した当該外周端部を検知することにより、重ね合わせ室内において近接させた基板および支持体の少なくとも一方の外周端部の位置を好適に検知することができる。   According to the above configuration, (i) the inner detection unit projects at least one outer peripheral end of the substrate and the support that are brought close to each other in the superposition chamber, and (ii) the inner detection unit projects from the outside of the superposition chamber. By detecting the outer peripheral end portion, the position of the outer peripheral end portion of at least one of the substrate and the support that are brought close to each other in the overlapping chamber can be suitably detected.

これにより、(i)重ね合わせ室の外部から、直接、重ね合わせ室内の基板または支持体の位置を検知することが難しい場合や、(ii)重ね合わせ室内に、基板または支持体の外周端部を直接検知する検知部を配置することが難しい場合にも、重ね合わせ室内において、互いの平面部を平行にして近接させた基板および支持体における位置ずれを好適に検知することができる。   Accordingly, (i) it is difficult to detect the position of the substrate or the support in the superposition chamber directly from the outside of the superposition chamber, or (ii) the outer peripheral end of the substrate or the support in the superposition chamber Even when it is difficult to dispose a detection unit that directly detects the position of the substrate, it is possible to suitably detect a positional shift in the substrate and the support body in which the planar portions are close to each other in parallel in the superposition chamber.

本明細書において「基板と支持体とを重ね合わせる」とは、基板と支持体とを積層して積層体を形成することを意味する。当該積層体において、基板と支持体とは、互いの平面部が平行になっている。また、当該積層体において、基板と支持体との間には他の層が介在していてもよい。本発明に係る重ね合わせ装置は、基板および支持体を、互いの平面部を平行にして近接させて、積層することにより、基板と支持体とを重ね合わせる装置である。   In this specification, “superimposing a substrate and a support” means that the substrate and the support are stacked to form a stacked body. In the laminate, the substrate and the support have parallel plane portions. In the laminate, another layer may be interposed between the substrate and the support. The superimposing apparatus according to the present invention is an apparatus that superimposes the substrate and the support by stacking the substrate and the support so that the plane portions of the substrate and the support are close to each other.

本明細書において「外周端部」とは、基板または支持体の平面部の外周部における、当該基板または支持体の端部を意味する。また、「外周端部を映す」とは、基板または支持体の外周端部の像を、当該基板または支持体とは異なる位置に現すことを意味する。外周端部を映す内部検知部は、例えば、反射、屈折等の光学現象を生じさせる鏡、プリズム等の光学部材を含むものであり得る。また、「内部検知部が映した外周端部を検知する」とは、内部検知部によって映された外周端部の像を検知することを意味する。また、「検知する」とは、少なくとも外周端部の位置を特定可能な程度に検知することを意味し、例えば、外周端部の像を撮像することであり得るがこれに限定されない。また、内部検知部が映した外周端部を検知する外部検知部は、例えば、カメラ等の撮影装置であり得る。   In the present specification, the “outer peripheral end” means an end of the substrate or support in the outer peripheral portion of the flat portion of the substrate or support. Further, “project the outer peripheral edge” means that the image of the outer peripheral edge of the substrate or the support appears at a position different from that of the substrate or the support. The internal detection unit that reflects the outer peripheral end may include, for example, an optical member such as a mirror or a prism that generates an optical phenomenon such as reflection or refraction. Further, “detecting the outer peripheral edge projected by the internal detection unit” means detecting an image of the outer peripheral edge projected by the internal detection unit. Further, “detecting” means detecting at least a position at which the outer peripheral end portion can be specified, and may be, for example, capturing an image of the outer peripheral end portion, but is not limited thereto. Moreover, the external detection part which detects the outer peripheral edge part which the internal detection part projected can be imaging devices, such as a camera, for example.

〔貼付装置〕
本発明の一実施形態に係る貼付装置は、本発明の一実施形態に係る重ね合わせ装置と、当該重ね合わせ装置の重ね合わせ室の外部において、当該重ね合わせ装置が重ね合わせた基板および支持体を貼り合わせる貼付部とを備えている。
[Paste device]
A sticking device according to an embodiment of the present invention includes a superimposing device according to an embodiment of the present invention, and a substrate and a support body superposed by the superimposing device outside the superposition chamber of the superimposing device. And an affixing part to be bonded.

上記の構成によれば、重ね合わせ装置が重ね合わせた基板および支持体を、貼付部が貼り合わせることにより、所望の積層体を得ることができる。特に、貼付部は、重ね合わせ室の外部において基板および支持体を貼り合わせるため、重ね合わせの環境と、貼り合わせの環境とを夫々の目的に適したものとすることができ、所望の積層体を好適に得ることができる。   According to said structure, a desired laminated body can be obtained when a sticking part bonds together the board | substrate and support body which the superimposition apparatus superimposed. In particular, the affixing unit bonds the substrate and the support body outside the overlapping chamber, so that the overlapping environment and the adhering environment can be suitable for each purpose. Can be suitably obtained.

〔重ね合わせ方法〕
本発明の一実施形態に係る重ね合わせ方法は、基板と、上記基板を支持する支持体とを重ね合わせる重ね合わせ方法であって、上記基板と上記支持体とを重ね合わせる重ね合わせ室内において、互いの平面部を平行にして近接させた上記基板および上記支持体の少なくとも一方の外周端部の位置を検知する位置検知工程を包含しており、上記位置検知工程では、上記重ね合わせ室内において、上記外周端部を映し、上記重ね合わせ室の外部から、映した上記外周端部を検知する。
[Overlay method]
An overlaying method according to an embodiment of the present invention is an overlaying method in which a substrate and a support that supports the substrate are overlapped with each other in an overlaying chamber in which the substrate and the support are overlapped. Including a position detection step of detecting a position of at least one outer peripheral end of the substrate and the support that are brought close to each other in parallel with each other in the plane portion. The outer peripheral end is projected, and the projected outer peripheral end is detected from the outside of the superposition chamber.

上記の構成によれば、(i)重ね合わせ室内において近接させた基板および支持体の少なくとも一方の外周端部を内部検知部が映し、(ii)重ね合わせ室の外部から、内部検知部が映した当該外周端部を検知することにより、重ね合わせ室内において近接させた基板および支持体の少なくとも一方の外周端部の位置を好適に検知することができる。   According to the above configuration, (i) the inner detection unit projects at least one outer peripheral end of the substrate and the support that are brought close to each other in the superposition chamber, and (ii) the inner detection unit projects from the outside of the superposition chamber. By detecting the outer peripheral end portion, the position of the outer peripheral end portion of at least one of the substrate and the support that are brought close to each other in the overlapping chamber can be suitably detected.

これにより、(i)重ね合わせ室内に、基板または支持体の外周端部を直接検知する検知部を配置することが難しい場合や、(ii)重ね合わせ室の外部から、直接、重ね合わせ室内の基板または支持体の位置を検知することが難しい場合であっても、重ね合わせ室内において、互いの平面部を平行にして近接させた基板および支持体における位置ずれを好適に検知することができる。   As a result, (i) it is difficult to arrange a detection unit that directly detects the outer peripheral edge of the substrate or the support in the superposition chamber, or (ii) the superposition chamber directly from the outside of the superposition chamber. Even in the case where it is difficult to detect the position of the substrate or the support, it is possible to suitably detect a positional shift between the substrate and the support that are close to each other with their flat portions parallel to each other in the superposition chamber.

〔貼付方法〕
本発明の一実施形態に係る貼付方法は、本発明の一実施形態に係る重ね合わせ方法により基板および支持体を重ね合わせた後、基板および支持体を重ね合わせる重ね合わせ室の外部において、当該重ね合わせた基板および支持体を貼り合わせる。
[Attaching method]
A pasting method according to an embodiment of the present invention includes a method of superimposing a substrate and a support on each other by the overlaying method according to an embodiment of the present invention, and then stacking the substrate and the support outside the stacking chamber. The combined substrate and support are bonded together.

上記の方法によれば、重ね合わせ方法により重ね合わせた基板および支持体を貼り合わせることにより、所望の積層体を得ることができる。特に、重ね合わせ室の外部において基板および支持体を貼り合わせるため、重ね合わせの環境と、貼り合わせの環境とを夫々に適したものとすることができ、所望の積層体を好適に得ることができる。   According to said method, a desired laminated body can be obtained by bonding together the board | substrate and support body which were piled up by the superimposition method. In particular, since the substrate and the support are bonded to each other outside the stacking chamber, it is possible to make the stacking environment and the bonding environment suitable for each, and to obtain a desired stacked body suitably. it can.

〔実施形態1〕
以下、本発明の一実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、以下では、本発明の一実施形態に係る重ね合わせ装置が、貼付装置に組み込まれており、当該貼付装置が貼付システムに組み込まれている構成について説明しているが、本発明はこれに限定されない。
Embodiment 1
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following description, the superposition apparatus according to an embodiment of the present invention is incorporated in a pasting apparatus, and the configuration in which the pasting apparatus is incorporated in a pasting system is described. It is not limited.

(貼付システム1)
図1は、貼付システム1の概略構成を示す模式図である。図1に示すように、貼付システム1は、貼付装置2、プリアライナー3、第一外部搬送部4および第一外部搬送部走行路5、FOUPオープナー50、スピンナー52、ベークプレート51、第二外部搬送部54、第二外部搬送部走行路55、およびパスライン53を備えている。貼付装置2は、重ね合わせ装置6および貼付室7を備えている。
(Paste system 1)
FIG. 1 is a schematic diagram showing a schematic configuration of the sticking system 1. As shown in FIG. 1, the pasting system 1 includes a pasting device 2, a pre-aligner 3, a first external transport unit 4 and a first external transport unit running path 5, a FOUP opener 50, a spinner 52, a bake plate 51, a second external A transport unit 54, a second external transport unit travel path 55, and a pass line 53 are provided. The sticking device 2 includes a superposition device 6 and a sticking chamber 7.

サポートプレート(支持体)41は、第一外部搬送部走行路5を移動する第一外部搬送部4によって、まずプリアライナー3に搬送され、位置合わせされた後、受け渡し窓9を介して重ね合わせ装置6内に搬入される。基板42は、第二外部搬送部走行路55を移動する第二外部搬送部54によって、まずスピンナー52に、続いてベークプレート51に、最後にパスライン53に搬送される。スピンナー52は、処理対象の基板42に接着剤を塗布して接着層を形成する。ベークプレート51は、基板42に形成された接着層を硬化させる。そして、パスライン53において、基板42は、第一外部搬送部4に渡され、まずプリアライナー3に搬送され、位置合わせされた後、受け渡し窓9を介して重ね合わせ装置6内に搬入される。   The support plate (support) 41 is first transported to the pre-aligner 3 by the first external transport unit 4 moving on the first external transport unit travel path 5, aligned, and then superimposed via the delivery window 9. It is carried into the device 6. The substrate 42 is first transported to the spinner 52, subsequently to the bake plate 51, and finally to the pass line 53 by the second external transport unit 54 moving on the second external transport unit travel path 55. The spinner 52 applies an adhesive to the substrate 42 to be processed to form an adhesive layer. The bake plate 51 cures the adhesive layer formed on the substrate 42. In the pass line 53, the substrate 42 is transferred to the first external transfer unit 4, first transferred to the pre-aligner 3, aligned, and then transferred into the stacking device 6 through the transfer window 9. .

本実施形態では、重ね合わせ装置6内には、先にサポートプレート41が搬入され、その後、基板42が搬入される。但し、この順序は逆になってもよい。基板42およびサポートプレート41の両方が搬入された後、重ね合わせ装置6は、搬入されたサポートプレート41と基板42とを重ね合わせる。貼付装置2は、重ね合わせ装置6が重ね合わせた基板42およびサポートプレート41(積層体40)を、ゲート9を介して貼付室7に移動させ、貼付室7において、基板42とサポートプレート41とを貼り合わせる。   In the present embodiment, the support plate 41 is first carried into the superposing apparatus 6 and then the substrate 42 is carried. However, this order may be reversed. After both the substrate 42 and the support plate 41 are carried in, the superposing device 6 superimposes the carried support plate 41 and the substrate 42. The affixing device 2 moves the substrate 42 and the support plate 41 (laminated body 40) superimposed by the overlapping device 6 to the affixing chamber 7 via the gate 9, and in the affixing chamber 7, the substrate 42, the support plate 41, Paste together.

(貼付装置2)
図2は、貼付装置2の概略構成を示す模式図である。図2に示すように、貼付装置2は、重ね合わせ装置6と貼付室7とを備えており、重ね合わせ装置6は、重ね合わせ室6aを備えている。
(Paste device 2)
FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration of the sticking device 2. As shown in FIG. 2, the sticking device 2 includes a superimposing device 6 and a pasting chamber 7, and the superposing device 6 includes a superposing chamber 6a.

貼付装置2における重ね合わせ室6aと貼付室7との間には、開閉可能なゲート8が設けられている。また、貼付装置2は、重ね合わせ室6aと貼付室7との間で、ゲート8を介して物体を搬送するための内部搬送部10を備えている。   A gate 8 that can be opened and closed is provided between the overlapping chamber 6 a and the pasting chamber 7 in the pasting device 2. The sticking device 2 includes an internal transfer unit 10 for transferring an object via the gate 8 between the overlapping chamber 6a and the sticking chamber 7.

(重ね合わせ装置6)
重ね合わせ装置6は、重ね合わせ室6a内に、減圧ポンプ(減圧部)20、アライメントブロック(位置調整部)21、駆動ユニット(位置調整部)22、スペーサ(保持部)23、ステージ部24、第一支持ピン(支持部)25、仮止め部26および反射板(鏡部、内部検知部、位置検知部)27を備えるとともに、重ね合わせ室6aの外部に、サブフレーム14、カメラ(撮影部、外部検知部、位置検知部)28、光源(外部検知部、位置検知部)29およびコントローラ(画像処理部、外部検知部、位置検知部)30を備えている。また、重ね合わせ室6aには、カメラ28が重ね合わせ室6a内を撮影するための窓13が設けられている。
(Superposition device 6)
The superposition device 6 includes a decompression pump (decompression unit) 20, an alignment block (position adjustment unit) 21, a drive unit (position adjustment unit) 22, a spacer (holding unit) 23, a stage unit 24, a superposition chamber 6a. A first support pin (support part) 25, a temporary fixing part 26 and a reflector (mirror part, internal detection part, position detection part) 27 are provided, and a subframe 14 and a camera (photographing part) are provided outside the overlapping chamber 6a. , An external detection unit, a position detection unit 28, a light source (external detection unit, position detection unit) 29, and a controller (image processing unit, external detection unit, position detection unit) 30. The superposition chamber 6a is provided with a window 13 for the camera 28 to photograph the inside of the superposition chamber 6a.

(減圧ポンプ20)
減圧ポンプ20は、重ね合わせ室6a内を減圧する装置であり、好ましくは、重ね合わせ室6a内を真空または真空に近い状態まで減圧する装置であり得る。重ね合わせ室6a内を減圧することにより、貼付室7との間で積層体40の受け渡しを好適に行うことができる。また、仮止めの際に、基板42とサポートプレート41との間に気泡が入り込むことを抑制することができる。
(Decompression pump 20)
The decompression pump 20 is a device that decompresses the inside of the superposition chamber 6a, and may preferably be a device that decompresses the inside of the superposition chamber 6a to a vacuum or a state close to a vacuum. By depressurizing the inside of the overlapping chamber 6a, the laminate 40 can be suitably delivered to and from the pasting chamber 7. Further, bubbles can be prevented from entering between the substrate 42 and the support plate 41 during temporary fixing.

(アライメントブロック21、駆動ユニット22)
図3は、アライメントブロック21および駆動ユニット22の概略構成を示す模式図であり、(a)は上面図を示し、(b)は側方断面図を示す。重ね合わせ室6a内に搬入された基板42およびサポートプレート41は、まず、第一支持ピン25上に載置される。アライメントブロック21は、位置合わせの対象となる基板42またはサポートプレート41が第一支持ピン25上に載置された状態で、駆動ユニット22によってX−Y平面に平行な方向、つまり、水平方向に駆動されることにより、基板42またはサポートプレートに当接し、基板42およびサポートプレート41を位置合わせする(基板42およびサポートプレート41の位置を調整する)。
(Alignment block 21, drive unit 22)
3A and 3B are schematic views showing a schematic configuration of the alignment block 21 and the drive unit 22, wherein FIG. 3A is a top view and FIG. 3B is a side sectional view. The substrate 42 and the support plate 41 carried into the overlapping chamber 6a are first placed on the first support pins 25. The alignment block 21 is placed in a direction parallel to the XY plane by the drive unit 22, that is, in a horizontal direction, with the substrate 42 or the support plate 41 to be aligned placed on the first support pins 25. By being driven, the substrate 42 abuts on the support plate and aligns the substrate 42 and the support plate 41 (the positions of the substrate 42 and the support plate 41 are adjusted).

図3の(a)に示すように、重ね合わせ装置6において、アライメントブロック21は5箇所に設けられており、5方向から基板42またはサポートプレート41に当接する。詳細には、重ね合わせ装置6には、基板42またはサポートプレート41上の互いに対向する位置に配置されたアライメントブロック21の組が2組と、ノッチ位置を決めるためのアライメントブロック21が1個設けられており、一方の組のアライメントブロック21同士を結ぶ直線と、他方の組のアライメントブロック21同士を結ぶ直線とは直交している。但し、アライメントブロック21の数および配置は、基板42およびサポートプレート41の位置を調整し得るものであれば、これに限定されない。   As shown in FIG. 3A, in the superimposing apparatus 6, the alignment blocks 21 are provided at five locations, and abut against the substrate 42 or the support plate 41 from five directions. More specifically, the superposition apparatus 6 is provided with two sets of alignment blocks 21 arranged at positions facing each other on the substrate 42 or the support plate 41 and one alignment block 21 for determining the notch position. The straight line that connects one set of alignment blocks 21 and the straight line that connects the other set of alignment blocks 21 are orthogonal to each other. However, the number and arrangement of the alignment blocks 21 are not limited to this as long as the positions of the substrate 42 and the support plate 41 can be adjusted.

図3の(b)に示すように、アライメントブロック21における基板42またはサポートプレート41に当接する部位には、基板42またはサポートプレート41が疵付くことを防ぐためのクッション部(例えば、ゴム板、テフロンコート等)21bが設けられている。また、アライメントブロック21は、バネ21aを介して駆動ユニット22に接続していてもよい。   As shown in FIG. 3B, a cushion portion (for example, a rubber plate, for preventing the substrate 42 or the support plate 41 from sticking to the portion of the alignment block 21 that contacts the substrate 42 or the support plate 41. Teflon coat etc.) 21b is provided. Moreover, the alignment block 21 may be connected to the drive unit 22 via the spring 21a.

また、アライメントブロック21は、駆動ユニット22によって駆動される。駆動ユニット22は、プリアライナー3からの情報に基づいて、アライメントブロック21を水平方向に駆動することにより、基板42およびサポートプレート41を位置合わせする。   The alignment block 21 is driven by the drive unit 22. The drive unit 22 aligns the substrate 42 and the support plate 41 by driving the alignment block 21 in the horizontal direction based on information from the pre-aligner 3.

(スペーサ23)
スペーサ23は、位置合わせを行ったサポートプレート41(基板42の位置合わせを先に行う場合には、基板42)を、その水平位置を変化させずに重ね合わせを行うまで保持しておく部材である。図4は、スペーサ23を上面側から見た図である。スペーサ23は、サポートプレート41の周縁部の一部をその下側から支持することによって、サポートプレート41を安定に保持する。スペーサ23は、X−Y方向、つまり、水平方向に移動可能である。サポートプレート41がステージ部24に載ってスペーサ23の上部まで運ばれるときには、スペーサ23をサポートプレート41と一切重ならない位置に移動させておく。本明細書では、この状態のとき、スペーサ23が「抜き位置」にあると呼ぶ。サポートプレート41がスペーサ23よりも上に運び込まれた後、スペーサ23によってサポートプレート41を支持できるように、スペーサ23をサポートプレート41と重なる位置に戻す。本明細書では、この状態のとき、スペーサ23が「挿入位置」にあると呼ぶ。図4は、スペーサ23が「挿入位置」にある状態を示している。スペーサ23が挿入位置にあるときの、スペーサ23のサポートプレート41を支持する各部材とサポートプレート41との重なりの幅dは、非限定的に、サポートプレート41の周縁から内側にかけて1〜5mm程度であり得る。好適には5mmである。また、スペーサ23の大きさは、例えば、横幅dが5mmであり得るが、これに限定されるものではない。
(Spacer 23)
The spacer 23 is a member that holds the aligned support plate 41 (the substrate 42 when the substrate 42 is first aligned) until the overlapping is performed without changing the horizontal position. is there. FIG. 4 is a view of the spacer 23 as viewed from the upper surface side. The spacer 23 stably holds the support plate 41 by supporting a part of the peripheral edge of the support plate 41 from below. The spacer 23 is movable in the XY direction, that is, in the horizontal direction. When the support plate 41 is placed on the stage portion 24 and carried to the upper portion of the spacer 23, the spacer 23 is moved to a position where it does not overlap the support plate 41 at all. In this specification, in this state, the spacer 23 is referred to as being in the “extraction position”. After the support plate 41 is carried above the spacer 23, the spacer 23 is returned to a position overlapping the support plate 41 so that the support plate 41 can be supported by the spacer 23. In this specification, it is called that the spacer 23 is in the “insertion position” in this state. FIG. 4 shows a state where the spacer 23 is in the “insertion position”. When the spacer 23 is in the insertion position, the width d 3 of the overlap between the support plate 41 and each member that supports the support plate 41 of the spacer 23 is 1-5 mm from the periphery of the support plate 41 to the inside. Can be a degree. It is preferably 5 mm. In addition, the size of the spacer 23 may be, for example, a width d 4 of 5 mm, but is not limited thereto.

スペーサ23の材質は特に限定されるものではなく、例えば、ステンレス鋼(SUS)を面取りし、ポリテトラフルオロエチレン等で樹脂コートしたものを使用することができる。   The material of the spacer 23 is not particularly limited. For example, a material obtained by chamfering stainless steel (SUS) and coating it with polytetrafluoroethylene or the like can be used.

(ステージ部24)
ステージ部24には、ヒータ(図示せず)が内蔵されており、第一支持ピン25によって支持された基板42に塗布された接着層を熱流動させることができる。ステージ部24の温度は、例えば、接着層の接着材料である熱可塑性樹脂の低温粘着性(タック性)により少なくとも室温以上の温度になるまで加熱されることが好ましく、ガラス転移点(Tg)以上の温度になるまで加熱されることがより好ましい。接着層を熱可塑性樹脂のガラス転移点以上の温度まで加熱することによって、接着層の熱流動性が向上し、容易に変形するようになる。接着層、即ち、接着材料である熱可塑性樹脂の材質にもよるが、ステージ部24の温度は23〜220℃であることが好ましく、加熱時間、つまり押圧時間は3〜300秒間であることが好ましく、5〜180秒間であることがより好ましい。
(Stage 24)
A heater (not shown) is built in the stage unit 24, and the adhesive layer applied to the substrate 42 supported by the first support pins 25 can be thermally flowed. The temperature of the stage portion 24 is preferably heated to a temperature of at least room temperature or higher due to, for example, the low-temperature tackiness (tackiness) of the thermoplastic resin that is the adhesive material of the adhesive layer, and the glass transition point (Tg) or higher. It is more preferable to heat until it reaches the temperature. By heating the adhesive layer to a temperature equal to or higher than the glass transition point of the thermoplastic resin, the thermal fluidity of the adhesive layer is improved and the adhesive layer is easily deformed. Although depending on the adhesive layer, that is, the material of the thermoplastic resin as the adhesive material, the temperature of the stage portion 24 is preferably 23 to 220 ° C., and the heating time, that is, the pressing time is 3 to 300 seconds. Preferably, it is 5 to 180 seconds.

(第一支持ピン25)
第一支持ピン25は、ステージ部24から突出可能に設けられており、サポートプレート41および基板42を個別に底面から支持する。そして、第一支持ピン25がサポートプレート41または基板42を支持している状態で、第一支持ピン25の突出量を調整することにより、サポートプレート41または基板42を所定の位置(例えば、アライメントブロック21によって位置合わせされる位置、スペーサ23上の位置、または、サポートプレート41または基板42に近接する位置)へ移動させることができる。第一支持ピン25の素材は、特に限定されないが、熱伝導性のよいアルミニウム等によって構成することができるが、これに限定されず、ステンレス等を用いてもよい。
(First support pin 25)
The first support pins 25 are provided so as to protrude from the stage portion 24, and individually support the support plate 41 and the substrate 42 from the bottom surface. Then, with the first support pin 25 supporting the support plate 41 or the substrate 42, the support plate 41 or the substrate 42 is adjusted to a predetermined position (for example, alignment) by adjusting the protruding amount of the first support pin 25. It can be moved to a position aligned by the block 21, a position on the spacer 23, or a position close to the support plate 41 or the substrate 42). The material of the first support pin 25 is not particularly limited, but can be made of aluminum having good thermal conductivity, but is not limited thereto, and stainless steel or the like may be used.

(押圧ピン26)
押圧ピン26は、重ね合わされた基板42およびサポートプレート41(積層体40)をZ方向において下側に向かって押圧するものである。押圧ピン26の先端部は、第一支持ピン25の夫々の先端部に対向するように配置されている。このように、第一支持ピン25と押圧ピン26とを配置することにより、位置を調整したサポートプレート41の領域と、位置を調整した基板42の一部の領域とを重ね合わせ、挟み込むことにより押圧することができる。このため、位置調整をしたサポートプレート41および基板42の中心点を中心として均等に押圧力を加えることができる。従って、サポートプレート41と基板42とが位置ずれすることを防止することができ、首尾よく仮止めすることができる。
(Pressing pin 26)
The pressing pin 26 presses the stacked substrate 42 and support plate 41 (laminated body 40) downward in the Z direction. The distal end portion of the pressing pin 26 is disposed so as to oppose each distal end portion of the first support pin 25. In this way, by arranging the first support pin 25 and the pressing pin 26, the region of the support plate 41 whose position has been adjusted and the partial region of the substrate 42 whose position has been adjusted are overlapped and sandwiched. Can be pressed. For this reason, it is possible to apply a pressing force evenly with the center point of the support plate 41 and the substrate 42 adjusted in position as the center. Therefore, it is possible to prevent the position of the support plate 41 and the substrate 42 from being displaced, and the temporary fixing can be successfully performed.

なお、押圧ピン26は、サポートプレート41(または基板42)の上面に当接されたときにおいて、バネ(付勢部材)26aによって、Z方向に向かって下側に付勢される。また、複数の押圧ピン26は、支持軸26bによって、Z方向において同時に上下に移動可能である。ここで、押圧ピン26が下方に移動しておらず、そのためスペーサ23に保持されているサポートプレート41とは接触しない位置にあることを、本明細書では、押圧ピン26が「待機位置」にあるという。これに対し、押圧ピン26が下方に移動し、その結果、スペーサ23に保持されているサポートプレート41をバネ26aによって付勢することができる位置にあることを、本明細書では、押圧ピン26が「押圧位置」にあるという。   When the pressing pin 26 is in contact with the upper surface of the support plate 41 (or the substrate 42), the pressing pin 26 is urged downward in the Z direction by a spring (biasing member) 26a. The plurality of pressing pins 26 can be simultaneously moved up and down in the Z direction by the support shaft 26b. Here, in this specification, the pressing pin 26 is in the “standby position” that the pressing pin 26 is not moved downward and is therefore not in contact with the support plate 41 held by the spacer 23. That is. On the other hand, in the present specification, the pressing pin 26 indicates that the pressing pin 26 moves downward and, as a result, is in a position where the support plate 41 held by the spacer 23 can be urged by the spring 26a. Is in the “pressing position”.

(反射板27、カメラ28、光源29およびコントローラ30)
反射板27、カメラ28、光源29およびコントローラ30は、重ね合わせ装置6において、基板42およびサポートプレート41の外周端部の位置を検知する位置検知部を構成する。
(Reflector 27, camera 28, light source 29 and controller 30)
The reflection plate 27, the camera 28, the light source 29, and the controller 30 constitute a position detection unit that detects the positions of the outer peripheral ends of the substrate 42 and the support plate 41 in the superposition device 6.

図5の(a)は、位置検知部がサポートプレート41の外周端部の位置を検知するときの重ね合わせ装置6の状態を示す模式図である。位置検知部は、重ね合わせ室6a内において、サポートプレート41がスペーサ23に保持されている状態において、サポートプレート41の外周端部の位置を検知する。まず、光源29が、スペーサ23に保持されているサポートプレート41を照らし、サポートプレート41の底面部41b側の外周端部を反射板27に映す。そして、カメラ28が、窓13を介して、反射板27に映っているサポートプレート41の外周端部を撮影し、図5の(b)に示すような画像を得る。そして、コントローラ30が、得られた画像を画像処理(例えば、公知のエッジ検出処理)することによって、サポートプレート41の外周端部の位置を検知することができる。なお、図5の(b)に示す例のように、検知する外周端部は、サポートプレート41の向きを特定するためのノッチ(切欠部)41aを含む部位Vであってもよい。   FIG. 5A is a schematic diagram illustrating a state of the superposition device 6 when the position detection unit detects the position of the outer peripheral end portion of the support plate 41. The position detection unit detects the position of the outer peripheral end portion of the support plate 41 in a state where the support plate 41 is held by the spacer 23 in the overlapping chamber 6a. First, the light source 29 illuminates the support plate 41 held by the spacer 23, and projects the outer peripheral end portion of the support plate 41 on the bottom surface portion 41 b side on the reflection plate 27. Then, the camera 28 photographs the outer peripheral end portion of the support plate 41 reflected on the reflecting plate 27 through the window 13 and obtains an image as shown in FIG. The controller 30 can detect the position of the outer peripheral end portion of the support plate 41 by performing image processing (for example, known edge detection processing) on the obtained image. Note that, as in the example illustrated in FIG. 5B, the outer peripheral end portion to be detected may be a portion V including a notch (notch portion) 41 a for specifying the orientation of the support plate 41.

図5の(c)は、基板42の外周端部の位置を検知するときの重ね合わせ装置6の状態を示す模式図である。位置検知部は、重ね合わせ室6a内において、基板42およびサポートプレート41を、互いの平面部(基板42の上面部42bおよびサポートプレート41の底面部41b)を平行にして近接させた状態において、基板42の外周端部の位置を検知する。なお、サポートプレート41は、基板42を支持するため、基板42と同じが、基板42よりも大きくなっている。   FIG. 5C is a schematic diagram showing a state of the superposition device 6 when the position of the outer peripheral end portion of the substrate 42 is detected. In the superposition chamber 6a, the position detection unit is configured such that the substrate 42 and the support plate 41 are close to each other with their flat portions (the upper surface portion 42b of the substrate 42 and the bottom surface portion 41b of the support plate 41) in parallel. The position of the outer peripheral end of the substrate 42 is detected. The support plate 41 is the same as the substrate 42 in order to support the substrate 42, but is larger than the substrate 42.

まず、光源29が、互いの平面部を平行にして近接させた基板42およびサポートプレート41を照らし、基板42の底面部42c側の外周端部を反射板27に映す。そして、カメラ28が、窓13を介して、反射板27に映っている基板42の外周端部を撮影することによって、図5の(d)に示すような画像を得る。そして、重ね合わせ装置6は、この画像中を画像処理(例えば、公知のエッジ検出処理)することによって、基板42の外周端部の位置を検知することができる。なお、図5の(d)に示す例のように、検知する外周端部は、基板42の向きを特定するためのノッチ(切欠部)42aを含む部位Vであってもよい。   First, the light source 29 illuminates the substrate 42 and the support plate 41 that are close to each other with their flat portions parallel to each other, and the outer peripheral end of the substrate 42 on the bottom surface portion 42 c side is reflected on the reflection plate 27. Then, the camera 28 captures an image of the outer peripheral end portion of the substrate 42 reflected on the reflecting plate 27 through the window 13 to obtain an image as shown in FIG. The superimposing device 6 can detect the position of the outer peripheral edge of the substrate 42 by performing image processing (for example, known edge detection processing) on the image. Note that, as in the example illustrated in FIG. 5D, the outer peripheral end portion to be detected may be a portion V including a notch (notch portion) 42 a for specifying the orientation of the substrate 42.

なお、光源29の光量は、サポートプレート41の外周端部の位置を検知するときと、基板42の外周端部の位置を検知するときとで変化させることが好ましい。例えば、一実施形態において、サポートプレート41の外周端部の位置を検知するときは、光源29の光量を低減することにより、図5の(b)に示すように、サポートプレート41と、バックグランドとの間のコントラストが高い画像を得ることができる。また、基板42の外周端部の位置を検知するときは、光源29の光量を増大することにより、図5の(d)に示すように、基板42とサポートプレート41との間のコントラストが高い画像を得ることができる。   Note that the amount of light from the light source 29 is preferably changed between when the position of the outer peripheral end of the support plate 41 is detected and when the position of the outer peripheral end of the substrate 42 is detected. For example, in one embodiment, when detecting the position of the outer peripheral end portion of the support plate 41, the light amount of the light source 29 is reduced to reduce the light amount of the light source 29, as shown in FIG. A high contrast image can be obtained. Further, when detecting the position of the outer peripheral edge of the substrate 42, the contrast between the substrate 42 and the support plate 41 is high as shown in FIG. 5D by increasing the light amount of the light source 29. An image can be obtained.

図6は、位置検知部の動作をさらに説明する模式図である。重ね合わせ装置6が、サポートプレート41(または基板42)の外周端部の位置を検知するとき、図6に示すように、反射板27は、サポートプレート41(または基板42)の底面部41b(または底面部42c)側の外周端部の像Sを移す。反射板27は、好ましくは、重ね合わせ室6a内に少なくとも3つ配置されており、サポートプレート41(または基板42)の外周端部のおける少なくとも3つの部位Vの像Sを映す。そして、各反射板27に対応するカメラ28によって、各反射板27上の像Sを撮影して各部位Vの画像を取得する。そして、コントローラ30が、当該各画像を画像処理することにより、各部位Vの位置を検知する。さらに、コントローラ30は、検知した各部位Vの位置を、予め定められた基準位置と比較することにより、サポートプレート41(または基板42)の外周端部の位置の、基準位置からのずれ量を特定する。これにより、位置検知部は、サポートプレート41(または基板42)の位置が、予め定められた基準位置からずれているか否かを判定することができる。   FIG. 6 is a schematic diagram for further explaining the operation of the position detection unit. When the superimposing device 6 detects the position of the outer peripheral end portion of the support plate 41 (or the substrate 42), as shown in FIG. 6, the reflecting plate 27 has the bottom surface portion 41b (or the substrate 42) of the support plate 41 (or the substrate 42). Alternatively, the image S of the outer peripheral end on the bottom surface portion 42c) side is moved. Preferably, at least three reflectors 27 are arranged in the overlapping chamber 6a, and images the images S of at least three portions V at the outer peripheral end of the support plate 41 (or the substrate 42). Then, the image 28 on each reflector 27 is captured by the camera 28 corresponding to each reflector 27 to obtain an image of each part V. And the controller 30 detects the position of each site | part V by image-processing each said image. Further, the controller 30 compares the detected position of each part V with a predetermined reference position, thereby calculating a deviation amount of the position of the outer peripheral end of the support plate 41 (or the substrate 42) from the reference position. Identify. Thereby, the position detection unit can determine whether the position of the support plate 41 (or the substrate 42) is deviated from a predetermined reference position.

ここで、サポートプレート41および基板42が円形である場合、少なくとも3つの部位Vの位置を検知することにより、重ね合わせ装置6は、サポートプレート41および基板42の位置を好適に特定することができるとともに、サポートプレート41および基板42の位置が、予め定められた基準位置からずれているか否かを好適に判定することができる。   Here, when the support plate 41 and the substrate 42 are circular, by detecting the positions of at least three portions V, the superposition apparatus 6 can suitably specify the positions of the support plate 41 and the substrate 42. At the same time, it can be suitably determined whether or not the positions of the support plate 41 and the substrate 42 are deviated from a predetermined reference position.

なお、一つの部位Vは、ノッチ41a(またはノッチ42a)を含んでいることが好ましく、コントローラ30は、ノッチ41a(またはノッチ42a)の位置を検知することが好ましい。これにより、重ね合わせ装置6は、サポートプレート41および基板42の向きがずれているか否かを併せて判定することができる。   One part V preferably includes a notch 41a (or notch 42a), and the controller 30 preferably detects the position of the notch 41a (or notch 42a). Thereby, the superimposing apparatus 6 can determine whether or not the directions of the support plate 41 and the substrate 42 are shifted.

このように、重ね合わせ装置6は、位置検知部によって、重ね合わせ室6a内のサポートプレート41または基板42の外周端部の位置を好適に検知することができるため、サポートプレート41および基板42の位置ずれを検知することができる。特に、重ね合わせ装置6は、重ね合わせ室6a内において、基板42およびサポートプレート41を、互いの平面部を平行にして近接させた状態で、基板42の外周端部の位置を検知することができる。これにより、重ね合わせ装置6は、重ね合わせ室6a内において、互いの平面部を平行にして近接させた基板42およびサポートプレート41における位置ずれを好適に検知することができる。   As described above, the overlay device 6 can preferably detect the position of the outer peripheral end portion of the support plate 41 or the substrate 42 in the overlay chamber 6a by the position detection unit. Misalignment can be detected. In particular, the superposing device 6 can detect the position of the outer peripheral end portion of the substrate 42 in the superposing chamber 6a in a state where the substrate 42 and the support plate 41 are brought close to each other with their plane portions parallel to each other. it can. As a result, the superposition device 6 can suitably detect a positional shift in the substrate 42 and the support plate 41 in which the flat portions of the superposition chamber 6a are close to each other in the superposition chamber 6a.

反射板27は、例えば、鏡、プリズム等の光学部材であり得るが、サポートプレート41および基板42の外周端部を映すものであれば特に限定されない。また、他の実施形態において、反射板27の替わりに、屈折等の光学現象を利用して、サポートプレート41および基板42の外周端部を映す光学部材を用いてもよい。内部検知部としてこのような光学部材を用いることにより、例えば、重ね合わせ室6aが真空または真空に近い状態であり、内部カメラ等を設けることが難しい場合にも、好適に重ね合わせ室6a内のサポートプレート41または基板42の外周端部を検知することができる。   The reflection plate 27 may be an optical member such as a mirror or a prism, but is not particularly limited as long as it reflects the outer peripheral ends of the support plate 41 and the substrate 42. In another embodiment, instead of the reflecting plate 27, an optical member that reflects the outer peripheral ends of the support plate 41 and the substrate 42 using an optical phenomenon such as refraction may be used. By using such an optical member as the internal detection unit, for example, even when the superposition chamber 6a is in a vacuum or a state close to a vacuum and it is difficult to provide an internal camera or the like, The outer peripheral edge of the support plate 41 or the substrate 42 can be detected.

反射板27は、図6に示すように、各部位Vを映すことができる位置に設けられていればよい。一実施形態において、反射板27は、図3に示すように、駆動ユニット22に取り付けられていてもよい。反射板27が駆動ユニット22に取り付けられていることによって、位置合わせされたサポートプレート41(または基板42)の各部位Vを好適に映すことができる。また、反射板27を固定するための新たな部材を省略することができる。   As shown in FIG. 6, the reflection plate 27 may be provided at a position where each part V can be reflected. In one embodiment, the reflection plate 27 may be attached to the drive unit 22 as shown in FIG. Since the reflection plate 27 is attached to the drive unit 22, each portion V of the aligned support plate 41 (or the substrate 42) can be suitably reflected. Further, a new member for fixing the reflecting plate 27 can be omitted.

カメラ28は、対象物を撮影することにより、画像を取得することができるものであればよく、例えば、CCDカメラ等を用いることができるが、これに限定されない。光源29は、対象物を照らすことができるものであればよく、例えば、LED光源等を用いることができるが、これに限定されない。コントローラ30は、カメラ28および光源29を制御するとともに、画像処理を行うことができるものであればよく、集積回路(ICチップ)等に形成された論理回路(ハードウェア)によって実現してもよいし、CPU(Central Processing Unit)を用いてソフトウェアによって実現してもよい。カメラ28、光源29およびコントローラ30は、例えば、サブフレーム14に固定されている。   The camera 28 may be any camera as long as it can acquire an image by photographing an object. For example, a CCD camera or the like can be used, but the present invention is not limited to this. The light source 29 may be anything as long as it can illuminate the object. For example, an LED light source or the like can be used, but is not limited thereto. The controller 30 only needs to be able to control the camera 28 and the light source 29 and perform image processing, and may be realized by a logic circuit (hardware) formed in an integrated circuit (IC chip) or the like. However, it may be realized by software using a CPU (Central Processing Unit). The camera 28, the light source 29, and the controller 30 are fixed to the subframe 14, for example.

また、一変形例において、位置検知部は、図5の(c)の状態において、基板42およびサポートプレート41の両方の外周端部の位置を検知するように構成されていてもよい。この場合、例えば、図5の(c)の状態において、(i)光源29の光量を小さくして、図5の(b)に示すような画像を取得するとともに、(ii)光源29の光量を大きくして、図5の(d)に示すような画像を取得して、コントローラ30が、これらの画像を画像処理することにより、基板42およびサポートプレート41の両方の外周端部の位置を検知してもよい。   Moreover, in one modification, the position detection part may be comprised so that the position of the outer peripheral edge part of both the board | substrate 42 and the support plate 41 may be detected in the state of (c) of FIG. In this case, for example, in the state of FIG. 5C, (i) the light amount of the light source 29 is reduced to obtain an image as shown in FIG. 5B, and (ii) the light amount of the light source 29 5 is acquired, and the controller 30 obtains images as shown in FIG. 5D, and the controller 30 performs image processing on these images, thereby determining the positions of the outer peripheral ends of both the substrate 42 and the support plate 41. It may be detected.

(貼付室7)
貼付室(貼付部)7は、重ね合わせ装置6が重ね合わせたサポートプレート41および基板42(積層体40)を貼り合わせることにより、積層体40を完成させる。貼付室7は、第二支持ピン31、プレスプレート32および33を備えている。また、貼付室7は、図示しない減圧ポンプによって真空または真空に近い状態に減圧可能なようになっていることが好ましい。
(Paste room 7)
The sticking chamber (sticking part) 7 completes the laminated body 40 by sticking the support plate 41 and the substrate 42 (laminated body 40) superposed by the superposing device 6. The affixing chamber 7 includes a second support pin 31 and press plates 32 and 33. Moreover, it is preferable that the sticking chamber 7 can be depressurized to a vacuum or a state close to vacuum by a decompression pump (not shown).

第二支持ピン31は、重ね合わせ室6において重ね合わせられたサポートプレート41と基板42とを、内部搬送部10から受け取り支持する。なお、第二支持ピン31は、例えば、第一支持ピン25と同様に、サポートプレート41および基板42の中心点を中心とする円上に等間隔に配置されるように構成されている。   The second support pins 31 receive and support the support plate 41 and the substrate 42 superimposed in the superposition chamber 6 from the internal transport unit 10. The second support pins 31 are configured to be arranged at equal intervals on a circle centered on the center point of the support plate 41 and the substrate 42, for example, like the first support pin 25.

貼付室7内に設けられたプレスプレート32および33には、ヒータ(不図示)が内蔵されている。これにより、第二支持ピン31に支持されたサポートプレート41と基板42とプレスプレート32および33の間において、サポートプレート41と基板42とを加熱しながら、挟み込むようにして押圧することができる。   A heater (not shown) is incorporated in the press plates 32 and 33 provided in the sticking chamber 7. As a result, the support plate 41 and the substrate 42 supported by the second support pins 31 can be pressed while being sandwiched between the support plate 41 and the substrate 42 and the press plates 32 and 33 while being heated.

(内部搬送部10)
重ね合わせ室6には、第一支持ピン25および押圧ピン26によって挟み込むことで、仮止めしたサポートプレート41および基板42(積層体40)を、貼付室7との間で受け渡しを行う内部搬送部(図7中の10)が設けられている。
(Internal transfer unit 10)
An internal transfer unit that transfers the temporary-fixed support plate 41 and substrate 42 (laminated body 40) to and from the pasting chamber 7 by being sandwiched between the first support pin 25 and the pressing pin 26 in the overlapping chamber 6. (10 in FIG. 7) is provided.

重ね合わせ室6および貼付室7は、一つの処理室の内部を二つの処理室に仕切る壁を設けた構造とすることができる。このほかにも重ね合わせ室6および貼付室7は、重ね合わせ室6と貼付室7とがそれぞれの側面において隙間なく互いに接している構造であってもよい。重ね合わせ室6および貼付室7の境界には、重ね合わせ室6および貼付室7間で積層体40の受け渡しを行うためのゲート8が設けられている。ゲート8はシャッターによって開閉が制御されている。また、重ね合わせ室6には、貼付装置2と第一外部搬送部4との間でサポートプレート41、基板42および積層体40の受け渡しを行うための開閉可能な受け渡し窓9が設けられている。上述したように、重ね合わせ室6および貼付室7にはそれぞれ、減圧ポンプが設けられており、各室の内部圧の状態を独立に制御することができる。   The stacking chamber 6 and the sticking chamber 7 can have a structure in which a wall that partitions the inside of one processing chamber into two processing chambers is provided. In addition, the superposition chamber 6 and the sticking chamber 7 may have a structure in which the superposition chamber 6 and the sticking chamber 7 are in contact with each other without a gap on each side surface. A gate 8 for delivering the laminate 40 between the overlapping chamber 6 and the pasting chamber 7 is provided at the boundary between the overlapping chamber 6 and the pasting chamber 7. The gate 8 is controlled to be opened and closed by a shutter. The superposition chamber 6 is provided with an openable / closable delivery window 9 for delivering the support plate 41, the substrate 42 and the laminated body 40 between the sticking device 2 and the first external transport unit 4. . As described above, each of the overlapping chamber 6 and the pasting chamber 7 is provided with a decompression pump, and the state of the internal pressure in each chamber can be controlled independently.

貼付室7が減圧可能な構成であるため、減圧雰囲気下において基板42とサポートプレート41とを接着層を介して貼り合わせることができる。減圧雰囲気下において接着層に基板42を圧着させることによって、基板42表面の凹凸パターンの窪みに空気が存在しない状態において、接着層を当該窪みに入り込ませることができるため、接着層と基板42との間の気泡の発生をより確実に防止することが可能である。   Since the sticking chamber 7 has a configuration capable of reducing the pressure, the substrate 42 and the support plate 41 can be bonded to each other through an adhesive layer in a reduced pressure atmosphere. By pressure-bonding the substrate 42 to the adhesive layer in a reduced-pressure atmosphere, the adhesive layer can enter the recess in a state where no air is present in the recess of the uneven pattern on the surface of the substrate 42. It is possible to more reliably prevent the generation of bubbles during the interval.

ゲート8は、シャッターが開いた状態で、位置合わせがなされた積層体40を重ね合わせ室6から貼付室7に移動させることができるように、また、接合後の積層体40を貼付室7から重ね合わせ室6に移動させることができるように形成されている。重ね合わせ室6および貼付室7の何れも減圧させた状態でシャッターを開けることにより、接合前の積層体40を重ね合わせ室6から貼付室7に減圧下で移動させることができる構造となっている。   The gate 8 can move the aligned laminated body 40 from the superposition chamber 6 to the sticking chamber 7 in a state where the shutter is opened. It is formed so that it can be moved to the superposition chamber 6. By opening the shutter in a state where both the superposition chamber 6 and the pasting chamber 7 are decompressed, the laminate 40 before joining can be moved from the superposition chamber 6 to the pasting chamber 7 under reduced pressure. Yes.

図7は、内部搬送部10を含めた貼付装置2の内部構成を上方から見た構成図である。内部搬送部10は、積層体40を重ね合わせ室6と貼付室7との間で移動させることができる構成である限り、具体的な機構に特に制限はない。本実施の形態では、図7に示すように、内部搬送部10は、内部搬送アーム11およびアーム回動軸12によって構成されている。内部搬送部10は、積層体40をその下面から支持できる内部搬送アーム11のアーム回動軸12を回転中心とした回動によって、積層体40を移動させる機構となっている。詳しくは後述するが、本実施の形態では、回動の回動軸が共通する2つの内部搬送部10が設けられている。アーム回動軸12は重ね合わせ室6側に設けられているが、貼付室7側に設けられた構成であってもよい。重ね合わせ室6と第一外部搬送部4との間での受け渡しのストロークを短くすることができるという観点から、アーム回動軸12は、受け渡し窓9が形成されている側面に近い側に形成されていることが好ましい。図7中、「B」で示す二点鎖線は、内部搬送アーム11の待機位置を表しており、「C」で示す二点鎖線は、内部搬送アーム11の貼付室7での位置(貼付部受け渡し位置)を表している。   FIG. 7 is a configuration diagram of the internal configuration of the sticking device 2 including the internal conveyance unit 10 as viewed from above. As long as the internal conveyance part 10 is the structure which can move the laminated body 40 between the stacking chamber 6 and the sticking chamber 7, there is no restriction | limiting in particular in a specific mechanism. In the present embodiment, as shown in FIG. 7, the internal transfer unit 10 includes an internal transfer arm 11 and an arm rotation shaft 12. The internal transport unit 10 is a mechanism that moves the stacked body 40 by rotation about the arm rotation shaft 12 of the internal transport arm 11 that can support the stacked body 40 from the lower surface. As will be described in detail later, in the present embodiment, two internal conveyance units 10 having a common rotation axis are provided. The arm rotation shaft 12 is provided on the stacking chamber 6 side, but may be configured on the sticking chamber 7 side. The arm rotation shaft 12 is formed on the side close to the side surface on which the delivery window 9 is formed, from the viewpoint that the delivery stroke between the superposition chamber 6 and the first external transfer unit 4 can be shortened. It is preferable that In FIG. 7, a two-dot chain line indicated by “B” represents a standby position of the internal transfer arm 11, and a two-dot chain line indicated by “C” indicates the position of the internal transfer arm 11 in the sticking chamber 7 (sticking portion). (Delivery position).

内部搬送アーム11の回動速度は状況に応じた速度を設定することができる。そのため、内部搬送アーム11が積層体40を保持しているときには、内部搬送アーム11を低速で回動させることができ、積層体40を保持していないときには、内部搬送アーム11を高速で回動させることができる。また、内部搬送アーム11の回動の立ち上がりと停止とがスムーズになるように加減速を制御することができる。   The rotation speed of the internal transfer arm 11 can be set according to the situation. Therefore, when the internal transfer arm 11 holds the stacked body 40, the internal transfer arm 11 can be rotated at a low speed, and when the stacked body 40 is not held, the internal transfer arm 11 rotates at a high speed. Can be made. In addition, acceleration / deceleration can be controlled so that the turning up and stopping of the internal transfer arm 11 is smooth.

図7に示すように、ゲート8は、シャッターが開いた状態において、回動する内部搬送アーム11がゲート8を通過して積層体40を貼付部受け渡し位置Cにまで運べるような幅の開口となっている。ゲート8の開閉には従来公知の手段を用いることができ、例えばゲートバルブ構造を適用することができる。   As shown in FIG. 7, the gate 8 has an opening having a width that allows the rotating internal transfer arm 11 to pass through the gate 8 and carry the laminated body 40 to the pasting portion delivery position C when the shutter is opened. It has become. Conventionally known means can be used to open and close the gate 8, and for example, a gate valve structure can be applied.

(基板42)
基板42は、サポートプレート41に支持された(貼り付けられた)状態で、薄化、搬送、実装等のプロセスに供される。基板42は、ウエハ基板に限定されず、例えば、サポートプレート41による支持が必要なセラミックス基板、薄いフィルム基板、フレキシブル基板等の任意の基板であってもよい。
(Substrate 42)
The substrate 42 is supported (attached) to the support plate 41 and subjected to processes such as thinning, conveyance, and mounting. The substrate 42 is not limited to a wafer substrate, and may be an arbitrary substrate such as a ceramic substrate, a thin film substrate, or a flexible substrate that needs to be supported by the support plate 41, for example.

基板42の形状は、例えば、円形であり得るが、これに限定されない。また、基板42は、基板42の向きを特定するための切り欠きであるノッチ42aを有していることが好ましい。   The shape of the substrate 42 may be, for example, a circle, but is not limited thereto. Moreover, it is preferable that the board | substrate 42 has the notch 42a which is a notch for pinpointing the direction of the board | substrate 42. FIG.

(サポートプレート41)
サポートプレート41は、基板42を支持する支持体であり、接着層を介して基板42に貼り付けられる。そのため、サポートプレート41は、基板42の薄化、搬送、実装等のプロセス時に、基板42の破損または変形を防ぐために必要な強度を有していればよく、より軽量であることが望ましい。以上の観点から、サポートプレート41は、ガラス、シリコン、アクリル系樹脂、セラミック等で構成されていることがより好ましい。サポートプレート41の形状は、例えば、円形であり得るが、これに限定されない。
(Support plate 41)
The support plate 41 is a support that supports the substrate 42 and is attached to the substrate 42 through an adhesive layer. Therefore, the support plate 41 only needs to have a strength necessary to prevent breakage or deformation of the substrate 42 during a process such as thinning, transporting, and mounting of the substrate 42, and is desirably lighter. From the above viewpoint, the support plate 41 is more preferably made of glass, silicon, acrylic resin, ceramic, or the like. The shape of the support plate 41 can be circular, for example, but is not limited thereto.

また、サポートプレート41は、サポートプレート41の向きを特定するための切り欠きであるノッチ41aを有していることが好ましい。   The support plate 41 preferably has a notch 41a that is a notch for specifying the orientation of the support plate 41.

(積層体40)
積層体40は、基板42と、基板42を支持するサポートプレート41とを、基板42およびサポートプレート41の少なくとも何れかに積層された接着層を介して重ね合わせることによって形成される。なお、本実施形態では、接着層は、基板42側に形成されている。
(Laminated body 40)
The stacked body 40 is formed by superimposing a substrate 42 and a support plate 41 that supports the substrate 42 via an adhesive layer that is stacked on at least one of the substrate 42 and the support plate 41. In the present embodiment, the adhesive layer is formed on the substrate 42 side.

接着層は、基板42とサポートプレート41とを接着する層であり、基板42とサポートプレート41と少なくとも何れかに接着剤を塗布することにより形成される。接着層を構成する接着剤は、例えば、加熱することによって熱流動性が向上する熱可塑性樹脂を接着材料として含んでいればよい。熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、マレイミド系樹脂、炭化水素系樹脂、熱可塑性エラストマー、および、ポリサルホン系樹脂等が挙げられる。   The adhesive layer is a layer that adheres the substrate 42 and the support plate 41, and is formed by applying an adhesive to at least one of the substrate 42 and the support plate 41. The adhesive which comprises an adhesive layer should just contain the thermoplastic resin which heat-fluidity improves by heating, for example as an adhesive material. Examples of the thermoplastic resin include acrylic resins, styrene resins, maleimide resins, hydrocarbon resins, thermoplastic elastomers, and polysulfone resins.

接着層の形成方法、即ち、基板42またはサポートプレート41に接着剤を塗布する塗布方法、あるいは、基材に接着剤を塗布して接着テープを形成する形成方法は、特に限定されるものではないが、接着剤の塗布方法としては、例えば、スピンコート法、ディッピング法、ローラーブレード法、スプレー法、スリットノズル法による塗布法等が挙げられる。   The method for forming the adhesive layer, that is, the method for applying the adhesive to the substrate 42 or the support plate 41, or the method for forming the adhesive tape by applying the adhesive to the base material is not particularly limited. However, examples of the method for applying the adhesive include a spin coating method, a dipping method, a roller blade method, a spray method, and a coating method using a slit nozzle method.

接着層の厚さは、貼り付けの対象となる基板42およびサポートプレート41の種類、貼り付け後の基板に施される処理等に応じて適宜設定すればよいが、10〜150μmの範囲内であることが好ましく、15〜100μmの範囲内であることがより好ましい。   The thickness of the adhesive layer may be appropriately set according to the types of the substrate 42 and the support plate 41 to be pasted, the processing applied to the substrate after pasting, etc., but within the range of 10 to 150 μm. It is preferable that it is within a range of 15 to 100 μm.

なお、基板42からサポートプレート41を剥離するときには、接着層に溶剤を供給して接着層を溶解すればよい。これにより、基板42とサポートプレート41とを分離することができる。このとき、サポートプレート41に、その厚さ方向に貫通する貫通孔が形成されていれば、この貫通孔を介して接着層に溶剤を容易に供給することができるので、より好ましい。   When the support plate 41 is peeled from the substrate 42, a solvent may be supplied to the adhesive layer to dissolve the adhesive layer. Thereby, the board | substrate 42 and the support plate 41 can be isolate | separated. At this time, if the support plate 41 is formed with a through hole penetrating in the thickness direction, it is more preferable because the solvent can be easily supplied to the adhesive layer through the through hole.

また、基板42とサポートプレート41との間には、両者の貼り付けを妨げない限り、接着層以外の他の層がさらに形成されていてもよい。例えば、サポートプレート41と接着層との間に、光を照射することによって変質する分離層が形成されていてもよい。分離層が形成されていることにより、基板の薄化、搬送、実装等のプロセス後に光を照射することで、基板42とサポートプレート41とを容易に分離することができる。   Further, a layer other than the adhesive layer may be further formed between the substrate 42 and the support plate 41 as long as the attachment of the both is not prevented. For example, a separation layer that is altered by irradiating light may be formed between the support plate 41 and the adhesive layer. By forming the separation layer, the substrate 42 and the support plate 41 can be easily separated by irradiating light after processes such as thinning, transporting, and mounting of the substrate.

〔動作〕
図8は、貼付装置2による貼付方法の流れを説明するフローチャートである。なお、S1〜S13は、重ね合わせ装置6による重ね合わせ方法に相当する。また、図9〜18は、貼付装置2による貼付方法の各工程における貼付装置2の状態を示す模式図である。なお、図9〜18では、簡略化のため、貼付装置2が備える部材の一部を省略している。
[Operation]
FIG. 8 is a flowchart for explaining the flow of the pasting method by the pasting device 2. Note that S <b> 1 to S <b> 13 correspond to a superposition method by the superposition device 6. 9 to 18 are schematic diagrams showing states of the sticking device 2 in each step of the sticking method by the sticking device 2. In addition, in FIGS. 9-18, a part of member with which the sticking apparatus 2 is provided is abbreviate | omitted for the simplification.

(S1:サポートプレート41を重ね合わせ室6aに搬入)
第一外部搬送部4を用い、重ね合わせ室6の受け渡し窓9を介して、サポートプレート41を搬入する。搬入されたサポートプレート41は、第一支持ピン25上に載置される(図9参照)。なお、この段階において、スペーサ23は抜き位置にしておき、押圧ピン26は待機位置にしておくことが好ましい。
(S1: The support plate 41 is carried into the overlapping chamber 6a)
The support plate 41 is carried in through the delivery window 9 of the superposition chamber 6 using the first external transport unit 4. The loaded support plate 41 is placed on the first support pin 25 (see FIG. 9). At this stage, it is preferable that the spacer 23 is in the removal position and the pressing pin 26 is in the standby position.

(S2:サポートプレート41をアライメント)
次に、駆動ユニット22によってアライメントブロック21をX−Y平面に平行に移動させ、アライメントブロック21を、第一支持ピン25上に支持されたサポートプレート41に当接させることにより、サポートプレート41の外周端部の位置が、プリアライナー3からの情報に基づきサポートプレート41をアライメントする(図10参照)。
(S2: Align support plate 41)
Next, the alignment block 21 is moved parallel to the XY plane by the drive unit 22, and the alignment block 21 is brought into contact with the support plate 41 supported on the first support pins 25. The position of the outer peripheral edge aligns the support plate 41 based on information from the pre-aligner 3 (see FIG. 10).

(S3:サポートプレート41をスペーサ23上に移動)
次に、第一支持ピン25が、Z方向において、スペーサ23よりも上側であり、押圧ピン26に接触しない位置にまでサポートプレート41を移動させる。そして、スペーサ23を挿入位置に移動させた後、第一支持ピン25は、Z方向において、スペーサ23よりも下側に移動する。これにより、位置合わせを終えたサポートプレート41の水平方向の位置を変えずにスペーサ23によって保持する(保持工程、図11参照)。
(S3: Move the support plate 41 onto the spacer 23)
Next, the support plate 41 is moved to a position where the first support pin 25 is above the spacer 23 in the Z direction and does not contact the pressing pin 26. And after moving the spacer 23 to an insertion position, the 1st support pin 25 moves below the spacer 23 in a Z direction. Accordingly, the support plate 41 that has been aligned is held by the spacer 23 without changing the horizontal position (holding step, see FIG. 11).

(S4:サポートプレート41の外周端部の位置を検知)
次に、位置検知部(反射板27、カメラ28、光源29およびコントローラ30)によって、スペーサ23上に保持したサポートプレート41の外周端部の位置を検知する(第二位置検知工程、図5の(a)参照)。上述したように、位置検知部は、(i)スペーサ23上に保持したサポートプレート41の底面部41b側の外周端部を反射板27に映し、(ii)反射板27に映された、サポートプレート41の底面部41b側の外周端部の像をカメラ28によって撮影し、(iii)得られた画像をコントローラ30が画像解析することにより、スペーサ23上に保持したサポートプレート41の外周端部の位置を検知することができる。
(S4: Detect the position of the outer peripheral edge of the support plate 41)
Next, the position detection unit (reflector 27, camera 28, light source 29, and controller 30) detects the position of the outer peripheral end of the support plate 41 held on the spacer 23 (second position detection step, FIG. 5). (See (a)). As described above, the position detection unit (i) reflects the outer peripheral end of the support plate 41 held on the spacer 23 on the bottom surface 41b side on the reflection plate 27, and (ii) the support reflected on the reflection plate 27. An image of the outer peripheral end of the bottom surface 41b of the plate 41 is taken by the camera 28, and (iii) the controller 30 performs image analysis on the obtained image, whereby the outer peripheral end of the support plate 41 held on the spacer 23 Can be detected.

このとき、位置検知部は、サポートプレート41の外周端部における少なくとも2つの部位の位置を検知することが好ましい。また、当該2つの部位のうち一つの部位は、サポートプレート41のノッチ41aを含むことが好ましい。   At this time, it is preferable that the position detection unit detects the positions of at least two parts in the outer peripheral end of the support plate 41. Further, it is preferable that one of the two parts includes a notch 41 a of the support plate 41.

(S5:サポートプレート41の外周端部の位置がずれているか否かを判定)
次に、位置検知部は、検知したサポートプレート41の外周端部の位置が、予め定められた基準位置からずれているか否かを判定する。例えば、コントローラ30が、検知したサポートプレート41の外周端部の位置の、基準位置からのずれ量を特定し、ずれ量が閾値を超えるか否かを判定することにより、検知したサポートプレート41の外周端部の位置が基準位置からずれているか否かを判定する。
(S5: Determine whether or not the position of the outer peripheral end of the support plate 41 is shifted)
Next, the position detection unit determines whether or not the detected position of the outer peripheral end portion of the support plate 41 is deviated from a predetermined reference position. For example, the controller 30 identifies the amount of deviation of the detected position of the outer peripheral end of the support plate 41 from the reference position, and determines whether or not the amount of deviation exceeds a threshold value. It is determined whether or not the position of the outer peripheral edge is shifted from the reference position.

そして、検知したサポートプレート41の外周端部の位置が基準位置からずれていた場合はS2に進み、ずれていなかった場合はS6に進む。   If the detected position of the outer peripheral end of the support plate 41 is deviated from the reference position, the process proceeds to S2, and if not deviated, the process proceeds to S6.

(S6:基板42を重ね合わせ室6aに搬入)
次に、サポートプレート41の場合と同様に、この状態において、第一外部搬送部4を用い、重ね合わせ室6の受け渡し窓9を介して、基板42を搬入する。搬入されたサポートプレート41は、第一支持ピン25上に載置される(図12参照)。
(S6: The substrate 42 is carried into the overlapping chamber 6a)
Next, as in the case of the support plate 41, in this state, the substrate 42 is carried in via the transfer window 9 of the overlapping chamber 6 using the first external transfer unit 4. The loaded support plate 41 is placed on the first support pin 25 (see FIG. 12).

(S7またはS9:基板42をアライメント)
次に、駆動ユニット22によってアライメントブロック21をX−Y平面に平行に移動させ、アライメントブロック21を、第一支持ピン25上に支持された基板42に当接させることにより、基板42の外周端部の位置が、プリアライナー3からの情報に基づき基板42をアライメントする(図13参照)。
(S7 or S9: Align substrate 42)
Next, the alignment block 21 is moved in parallel to the XY plane by the drive unit 22, and the alignment block 21 is brought into contact with the substrate 42 supported on the first support pins 25, whereby the outer peripheral end of the substrate 42. The position of the part aligns the substrate 42 based on the information from the pre-aligner 3 (see FIG. 13).

(S8:重ね合わせ室6aを減圧)
その後、受け渡し窓9を閉じた後に、減圧ポンプ20により、重ね合わせ室6aの減圧を開始する。重ね合わせ室6aの減圧は、仮止めが終了した時点における重ね合わせ室6の減圧状態および貼付室7の減圧状態が、互いにほぼ同じ状態になるように行えばよい。好適には、10Pa以下である。また、ステージ部24の加熱を開始し、基板42の上面に形成された接着層を熱流動させる。
(S8: Depressurize the overlapping chamber 6a)
Thereafter, after the delivery window 9 is closed, the decompression pump 20 starts decompressing the overlapping chamber 6a. The depressurization of the superposition chamber 6a may be performed so that the depressurization state of the superposition chamber 6 and the depressurization state of the sticking chamber 7 at the time when the temporary fixing is finished are substantially the same. Preferably, it is 10 Pa or less. In addition, heating of the stage unit 24 is started, and the adhesive layer formed on the upper surface of the substrate 42 is caused to heat flow.

(S10:基板42をサポートプレート41直下に移動)
次に、第一支持ピン25が、基板42の上面部42bを、S3においてスペーサ23に保持されたサポートプレート41の底面部41bに近接させる(支持工程、図14参照)。これにより、基板42およびサポートプレート41は、互いの平面部(42b、41b)を平行にして近接させた状態となる。
(S10: Move the substrate 42 directly below the support plate 41)
Next, the first support pins 25 bring the upper surface portion 42b of the substrate 42 closer to the bottom surface portion 41b of the support plate 41 held by the spacer 23 in S3 (support step, see FIG. 14). Thereby, the board | substrate 42 and the support plate 41 will be in the state which mutually made the flat part (42b, 41b) parallel.

(S11:基板42の外周端部の位置を検知)
次に、位置検知部(反射板27、カメラ28、光源29およびコントローラ30)によって、サポートプレート41に、互いの平面部を平行にして近接させた基板42の外周端部の位置を検知する(位置検知工程、図5の(c)参照)。上述したように、位置検知部は、(i)サポートプレート41に、互いの平面部を平行にして近接させた基板42の底面部42b側の外周端部を反射板27に映し、(ii)反射板27に映された、基板42の底面部42b側の外周端部の像をカメラ28によって撮影し、(iii)得られた画像をコントローラ30が画像解析することにより、サポートプレート41に、互いの平面部を平行にして近接させた基板42の外周端部の位置を検知することができる。
(S11: Detect the position of the outer peripheral edge of the substrate 42)
Next, the position detection unit (the reflection plate 27, the camera 28, the light source 29, and the controller 30) detects the position of the outer peripheral end of the substrate 42 that is close to the support plate 41 with the flat portions thereof being parallel to each other (see FIG. Position detection step, see FIG. 5 (c)). As described above, the position detection unit (i) projects the outer peripheral end portion on the bottom surface portion 42b side of the substrate 42 close to the support plate 41 in parallel with each other in the plane, and (ii) An image of the outer peripheral end portion of the substrate 42 on the bottom surface portion 42b side reflected on the reflecting plate 27 is taken by the camera 28, and (iii) the obtained image is analyzed by the controller 30 so that the support plate 41 It is possible to detect the position of the outer peripheral end portion of the substrate 42 in which the flat portions of the substrates are brought close to each other in parallel.

このとき、位置検知部は、基板42の外周端部における少なくとも2つの部位の位置を検知することが好ましい。また、当該2つの部位のうち一つの部位は、基板42のノッチ42aを含むことが好ましい。   At this time, it is preferable that the position detection unit detects the positions of at least two portions in the outer peripheral end of the substrate 42. Further, it is preferable that one of the two parts includes a notch 42 a of the substrate 42.

(S12:基板42の外周端部の位置がずれているか否かを判定)
次に、位置検知部は、検知した基板42の外周端部の位置が、予め定められた基準位置からずれているか否かを判定する。例えば、コントローラ30が、検知した基板42の外周端部の位置の、基準位置からのずれ量を特定し、ずれ量が閾値を超えるか否かを判定することにより、検知した基板42の外周端部の位置が基準位置からずれているか否かを判定する。
(S12: Determine whether or not the position of the outer peripheral edge of the substrate 42 is shifted)
Next, the position detection unit determines whether the detected position of the outer peripheral end of the substrate 42 is deviated from a predetermined reference position. For example, the controller 30 specifies the amount of deviation of the detected position of the outer peripheral edge of the substrate 42 from the reference position, and determines whether or not the amount of deviation exceeds a threshold, thereby detecting the outer peripheral edge of the detected substrate 42. It is determined whether the position of the part is deviated from the reference position.

そして、検知した基板42の外周端部の位置が基準位置からずれていた場合はS9に進み、ずれていなかった場合はS13に進む。   If the detected position of the outer peripheral edge of the substrate 42 has deviated from the reference position, the process proceeds to S9, and if not, the process proceeds to S13.

(S13:基板42とサポートプレート41とを仮止め)
次に、スペーサ23を抜き位置に移動させると共に、押圧ピン26を支持軸26bによって、待機位置から押圧位置に移動させることで、スペーサ23によって支持されたサポートプレート41が、バネ26aによってZ方向の下側に向かって付勢されるように力を加える。これにより、押圧ピン26のバネ26aによって加えられた力により、第一支持ピン25と押圧ピン26とよって挟み込むようにして、サポートプレート41と基板42とを押圧する(図15参照)。これにより、サポートプレート41と基板42とを重ね合わせ、仮止めする。
(S13: Temporarily fix the substrate 42 and the support plate 41)
Next, the spacer 23 is moved to the extraction position and the pressing pin 26 is moved from the standby position to the pressing position by the support shaft 26b, so that the support plate 41 supported by the spacer 23 is moved in the Z direction by the spring 26a. Apply force to urge downward. Thus, the support plate 41 and the substrate 42 are pressed by the force applied by the spring 26a of the pressing pin 26 so as to be sandwiched between the first support pin 25 and the pressing pin 26 (see FIG. 15). Thereby, the support plate 41 and the substrate 42 are overlapped and temporarily fixed.

(S14:積層体40を貼付室7へ搬送)
サポートプレート41を基板42と重ね合わせた後、押圧ピン26を待機位置に戻す。また、第一支持ピン25をZ方向の下側に移動させる。これにより、重ね合わせたサポートプレート41および基板42(積層体40)を、内部搬送部10に受け渡す(図16参照)。
(S14: Transport the laminate 40 to the affixing chamber 7)
After the support plate 41 is overlapped with the substrate 42, the pressing pin 26 is returned to the standby position. Further, the first support pin 25 is moved downward in the Z direction. Thereby, the superposed support plate 41 and the substrate 42 (laminated body 40) are delivered to the internal transport unit 10 (see FIG. 16).

次に、ゲート8のシャッターを開き、重ね合わせ室6から貼付室7へと内部搬送部10によって、重ね合わせたサポートプレート41と基板42とを搬送する。ここで、重ね合わせたサポートプレート41と基板42とは、貼付室7において、第二支持ピン31上によって支持される(図17参照)。   Next, the shutter of the gate 8 is opened, and the superposed support plate 41 and the substrate 42 are transported from the superposition chamber 6 to the sticking chamber 7 by the internal transport unit 10. Here, the superposed support plate 41 and the substrate 42 are supported on the second support pins 31 in the sticking chamber 7 (see FIG. 17).

(S15:基板42とサポートプレート41とを貼付)
次に、第二支持ピン31に支持した状態において、プレスプレート33をZ方向において下降させることにより、サポートプレート41の上面に接触させる。続いて、第二支持ピン31と、プレスプレート33とを同じ速度で降下させる。これにより、プレスプレート32および33の間に、サポートプレート41と基板42とを挟み込み、押圧しながら加熱する(図18参照)。これにより、サポートプレート41と基板42とを貼り付け、積層体40を完成させることができる。
(S15: Attaching the substrate 42 and the support plate 41)
Next, in a state where it is supported by the second support pin 31, the press plate 33 is lowered in the Z direction to contact the upper surface of the support plate 41. Subsequently, the second support pin 31 and the press plate 33 are lowered at the same speed. Thus, the support plate 41 and the substrate 42 are sandwiched between the press plates 32 and 33 and heated while being pressed (see FIG. 18). Thereby, the support plate 41 and the board | substrate 42 can be affixed and the laminated body 40 can be completed.

本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications are possible within the scope shown in the claims, and embodiments obtained by appropriately combining technical means disclosed in different embodiments. Is also included in the technical scope of the present invention.

本発明は、真空における基板および支持体の貼り合わせの精度を向上させることができるため、工業製品の製造分野に幅広く利用することができる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can improve the accuracy of bonding a substrate and a support in a vacuum, and thus can be widely used in the field of manufacturing industrial products.

1 貼付システム
2 貼付装置
3 保持室
4 第一外部搬送部
5 第一外部搬送部走行路
6 重ね合わせ装置
6a 重ね合わせ室
7 貼付室(貼付部)
8 ゲート
9 受け渡し窓
10 内部搬送部
11 内部搬送アーム
12 アーム回動軸
13 窓
14 サブフレーム
17a、17b 撮像部
18a、18b 領域
19 位置特定部
20 減圧ポンプ(減圧部)
21 アライメントブロック(位置調整部)
21a バネ
21b クッション部
22 駆動ユニット(位置調整部)
23 スペーサ(保持部)
24 ステージ部
25 第一支持ピン(支持部)
26 押圧ピン
26a バネ
26b 支持軸
27 反射板(鏡部、内部検知部、位置検知部)
28 カメラ(撮影部、外部検知部、位置検知部)
29 光源(外部検知部、位置検知部)
30 コントローラ(画像処理部、外部検知部、位置検知部)
31 第二支持ピン
32 プレスプレート
33 プレスプレート
40 積層体
41 サポートプレート(支持体)
41a ノッチ(切欠部)
41b 底面部(平面部)
42 基板
42a ノッチ(切欠部)
42b 上面部(平面部)
42c 底面部
S 像
V 部位
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Pasting system 2 Pasting apparatus 3 Holding chamber 4 1st external conveyance part 5 1st external conveyance part traveling path 6 Superposition apparatus 6a Superposition room 7 Pasting room (paste part)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 8 Gate 9 Delivery window 10 Internal conveyance part 11 Internal conveyance arm 12 Arm rotation shaft 13 Window 14 Sub-frame 17a, 17b Imaging part 18a, 18b Area | region 19 Position specification part 20 Decompression pump (decompression part)
21 Alignment block (position adjustment part)
21a Spring 21b Cushion part 22 Drive unit (position adjustment part)
23 Spacer (holding part)
24 Stage unit 25 First support pin (support unit)
26 Pressing pin 26a Spring 26b Support shaft 27 Reflector (mirror part, internal detection part, position detection part)
28 Cameras (shooting unit, external detection unit, position detection unit)
29 Light source (external detector, position detector)
30 controller (image processing unit, external detection unit, position detection unit)
31 Second support pin 32 Press plate 33 Press plate 40 Laminated body 41 Support plate (support body)
41a Notch (notch)
41b Bottom part (flat part)
42 Substrate 42a Notch (Notch)
42b Upper surface part (plane part)
42c Bottom part S image V part

Claims (19)

基板と、上記基板を支持する支持体とを重ね合わせる重ね合わせ装置であって、
上記基板と上記支持体とを重ね合わせる重ね合わせ室と、
上記重ね合わせ室内において、互いの平面部を平行にして近接させた上記基板および上記支持体の少なくとも一方の外周端部の位置を検知する位置検知部と、を備えており、
上記位置検知部は、
上記重ね合わせ室内において、上記外周端部を映す内部検知部と、
上記重ね合わせ室の外部から、上記内部検知部が映した上記外周端部を検知する外部検知部とを備えていることを特徴とする重ね合わせ装置。
A superposing apparatus for superposing a substrate and a support for supporting the substrate,
An overlapping chamber for overlapping the substrate and the support;
A position detection unit that detects the position of the outer peripheral end of at least one of the substrate and the support that are close to each other in parallel with each other in the overlapping chamber;
The position detector is
In the superposition chamber, an internal detection unit that reflects the outer peripheral end,
A superposition apparatus comprising: an external detection unit configured to detect the outer peripheral end portion reflected by the internal detection unit from the outside of the superposition chamber.
上記重ね合わせ室を減圧環境にする減圧部をさらに備えており、
上記内部検知部は、鏡部を有しており、
上記鏡部は、上記減圧環境下において、上記外周端部を映すことを特徴とする請求項1に記載の重ね合わせ装置。
A pressure reducing unit that makes the superposition chamber a reduced pressure environment;
The internal detection part has a mirror part,
The superimposing apparatus according to claim 1, wherein the mirror portion reflects the outer peripheral end portion in the reduced pressure environment.
上記外部検知部は、
上記内部検知部が映した上記外周端部の画像を撮影する撮影部と、
上記画像から、上記外周端部の位置を特定する画像処理部と、を備えていることを特徴とする請求項1または2に記載の重ね合わせ装置。
The external detector is
An imaging unit that captures an image of the outer peripheral edge imaged by the internal detection unit;
The superposition apparatus according to claim 1, further comprising: an image processing unit that identifies a position of the outer peripheral end portion from the image.
上記基板および上記支持体の上面視における形状は、円形であり、
上記位置検知部は、上記外周端部における少なくとも3つの部位の位置を検知し、当該少なくとも3つの部位の位置の、基準位置からのずれ量を特定することを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の重ね合わせ装置。
The shape of the substrate and the support in a top view is a circle,
The said position detection part detects the position of the at least 3 site | part in the said outer periphery edge part, and specifies the deviation | shift amount from the reference | standard position of the position of the said at least 3 site | part of Claim 1-3 The superposition apparatus according to any one of the above.
上記基板および上記支持体の少なくとも一方の外周端部には、当該基板または支持体の向きを特定するための切欠部が設けられており、
上記少なくとも3つの部位のうちの1つは、当該切欠部を含むことを特徴とする請求項4に記載の重ね合わせ装置。
At least one outer peripheral end of the substrate and the support is provided with a notch for specifying the orientation of the substrate or the support,
The superposition apparatus according to claim 4, wherein one of the at least three portions includes the cutout portion.
上記基板および上記支持体のうちの一方を保持する保持部と、上記基板及び上記支持体のうちの他方を支持する支持部とを、上記重ね合わせ室内に備えており、
上記支持部は、上記保持部が保持している上記基板または上記支持体の底面部に、上記支持部が支持している上記基板または上記支持体の上面部を近接させるようになっており、
上記内部検知部は、上記支持部が支持している上記基板または上記支持体の底面部側の外周端部を映すことを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載の重ね合わせ装置。
A holding portion for holding one of the substrate and the support, and a support portion for supporting the other of the substrate and the support, provided in the superposition chamber,
The support part is adapted to bring the upper surface part of the substrate or the support body supported by the support part close to the bottom surface part of the substrate or the support body held by the holding part,
The superposition according to any one of claims 1 to 5, wherein the internal detection unit reflects an outer peripheral end of the substrate supported by the support or the bottom of the support. apparatus.
上記位置検知部は、さらに、上記支持部が上記基板および上記支持体を近接させる前に、上記保持部が保持している上記基板または上記支持体の外周端部の位置を検知するようになっており、
上記内部検知部は、上記支持部が上記基板および上記支持体を近接させる前に、上記保持部が保持している上記基板または上記支持体の底面部側の外周端部を映すことを特徴とする請求項6に記載の重ね合わせ装置。
The position detection unit further detects the position of the substrate or the outer peripheral end of the support held by the holding unit before the support unit brings the substrate and the support close to each other. And
The internal detection unit projects the outer peripheral end of the substrate held by the holding unit or the bottom side of the support before the supporting unit brings the substrate and the support close to each other. The overlay apparatus according to claim 6.
上記位置検知部が検知した上記基板または上記支持体の外周端部の位置が基準位置からずれていた場合に、当該ずれていた上記基板または上記支持体の位置を調整する位置調整部を備えていることを特徴とする請求項1〜7の何れか1項に記載の重ね合わせ装置。   When the position of the outer peripheral end of the substrate or the support detected by the position detection unit is deviated from a reference position, a position adjustment unit is provided for adjusting the position of the substrate or the support that has been deviated. The superposition apparatus according to any one of claims 1 to 7, wherein 上記位置調整部に、上記内部検知部が取り付けられていることを特徴とする請求項8に記載の重ね合わせ装置。   The overlay apparatus according to claim 8, wherein the internal detection unit is attached to the position adjustment unit. 請求項1〜9の何れか1項に記載の重ね合わせ装置と、
上記重ね合わせ室の外部において、上記重ね合わせ装置が重ね合わせた上記基板および上記支持体を貼り合わせる貼付部とを備えていることを特徴とする貼付装置。
The superposition device according to any one of claims 1 to 9,
A pasting device, comprising: a pasting unit for pasting the substrate and the support on which the superposing device is superposed outside the superposing chamber.
基板と、上記基板を支持する支持体とを重ね合わせる重ね合わせ方法であって、
上記基板と上記支持体とを重ね合わせる重ね合わせ室内において、互いの平面部を平行にして近接させた上記基板および上記支持体の少なくとも一方の外周端部の位置を検知する位置検知工程を包含しており、
上記位置検知工程では、上記重ね合わせ室内において、上記外周端部を映し、上記重ね合わせ室の外部から、映した上記外周端部を検知することを特徴とする重ね合わせ方法。
A method of superimposing a substrate and a support that supports the substrate,
A position detection step of detecting a position of an outer peripheral end portion of at least one of the substrate and the support that are close to each other with the planar portions parallel to each other in an overlapping chamber in which the substrate and the support are overlapped; And
In the position detection step, the outer peripheral end portion is projected in the superposition chamber, and the projected outer peripheral end portion is detected from the outside of the superposition chamber.
上記重ね合わせ室内を減圧環境にして、上記位置検知工程を行ない、
上記位置検知工程では、上記重ね合わせ室内において、上記外周端部を鏡部に映すことを特徴とする請求項11に記載の重ね合わせ方法。
Perform the position detection step with the superposition chamber in a reduced pressure environment,
12. The overlaying method according to claim 11, wherein, in the position detection step, the outer peripheral end is reflected on a mirror in the overlay chamber.
上記基板、および上記支持体の上面視における形状は、円形であり、
上記位置検知工程では、上記外周端部における少なくとも3つの部位の位置を検知し、当該少なくとも3つの部位の位置の、基準位置からのずれ量を特定することを特徴とする請求項11または12に記載の重ね合わせ方法。
The shape of the substrate and the support in a top view is a circle,
The position detection step detects the positions of at least three parts in the outer peripheral end, and specifies the amount of deviation from the reference position of the positions of the at least three parts. The overlay method described.
上記基板および上記支持体の少なくとも一方の外周端部には、当該基板または支持体の向きを特定するための切欠部が設けられており、
上記位置検知工程では、上記少なくとも3つの部位のうちの1つの部位の位置として、当該切欠部の位置を検知することを特徴とする請求項13に記載の重ね合わせ方法。
At least one outer peripheral end of the substrate and the support is provided with a notch for specifying the orientation of the substrate or the support,
The superposition method according to claim 13, wherein, in the position detection step, the position of the notch is detected as the position of one of the at least three parts.
上記位置検知工程前に、上記重ね合わせ室内において、上記基板および上記支持体のうちの一方を保持する保持工程と、上記保持工程後、上記位置検知工程前に、上記基板および上記支持体のうちの他方を支持し、支持した上記基板または上記支持体の上面部を、上記保持工程において保持した上記基板または上記支持体の底面部に近接させる支持工程と、を包含しており、
上記位置検知工程では、上記支持工程において支持した上記基板または上記支持体の底面部側の外周端部を映すことを特徴とする請求項11〜14の何れか1項に記載の重ね合わせ方法。
Before the position detection step, in the superposition chamber, a holding step of holding one of the substrate and the support, and after the holding step and before the position detection step, of the substrate and the support Supporting the other of the substrate, and supporting the substrate or the upper surface of the support close to the bottom of the substrate or the support held in the holding step,
The superposition method according to any one of claims 11 to 14, wherein in the position detection step, an outer peripheral end portion on a bottom surface side of the substrate or the support body supported in the support step is reflected.
上記支持工程前に、上記保持工程において保持した上記基板または上記支持体の外周端部の位置を検知する第二位置検知工程を包含しており、
上記第二位置検知工程では、上記保持工程において保持した上記基板または上記支持体の底面部側の外周端部を映すことを特徴とする請求項15に記載の重ね合わせ装置。
Before the support step, includes a second position detection step of detecting the position of the outer edge of the substrate or the support held in the holding step,
The overlay apparatus according to claim 15, wherein, in the second position detection step, an outer peripheral end portion on a bottom surface side of the substrate or the support body held in the holding step is reflected.
上記第二位置検知工程において検知した上記基板または上記支持体の外周端部の位置が基準位置からずれていた場合に、当該ずれていた上記基板または上記支持体の位置を調整し、再度、上記第二位置検知工程を行うことを特徴とする請求項16に記載の重ね合わせ方法。   When the position of the outer peripheral edge of the substrate or the support detected in the second position detection step is shifted from the reference position, the position of the shifted substrate or the support is adjusted, and again, The superposition method according to claim 16, wherein a second position detecting step is performed. 上記位置検知工程において検知した上記基板または上記支持体の外周端部の位置が基準位置からずれていた場合に、当該ずれていた上記基板または上記支持体の位置を調整し、再度、上記位置検知工程を行うことを特徴とする請求項11〜17の何れか1項に記載の重ね合わせ方法。   When the position of the outer peripheral edge of the substrate or the support detected in the position detection step is shifted from the reference position, the position of the shifted substrate or the support is adjusted, and the position detection is performed again. The superposition method according to claim 11, wherein a process is performed. 請求項11〜18の何れか1項に記載の重ね合わせ方法により上記基板および上記支持体を重ね合わせた後、上記重ね合わせ室の外部において、当該重ね合わせた上記基板および上記支持体を貼り合わせることを特徴とする貼付方法。   The substrate and the support are superposed by the superposition method according to any one of claims 11 to 18, and then the superposed substrate and the support are bonded to each other outside the superposition chamber. The sticking method characterized by this.
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