JP2017215431A - 光源装置および画像投射装置 - Google Patents

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Minoru Okoba
稔 大古場
阿部 雅之
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阿部  雅之
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Yutaka Yamaguchi
裕 山口
小川 大輔
Daisuke Ogawa
大輔 小川
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Abstract

【課題】波長変換部材の割れ等を回避することが可能な光源装置を提供する。【解決手段】光源装置は、第1の光6を発する光源1と、第1の光が照射されることにより該第1の光とは波長が異なる第2の光を生成する波長変換部材4とを有する。波長変換部材に対して第1の光が照射される光照射領域6aに沿った少なくとも1方向において波長変換部材の幅5が光照射領域の幅7よりも小さく、かつ少なくとも1方向において波長変換部材の全体が光照射領域の内側に位置する。【選択図】図1

Description

本発明は、蛍光体等を利用した波長変換部材を有する光源装置に関し、画像投射装置に好適なものに関する。
上記のような光源装置として、レーザ光等の励起光を高密度に集光して蛍光体層(波長変換部材)に照射することで、励起光とは波長が異なる蛍光光を出射させるものがある。このような光源装置では、励起光を高密度に集光照射される蛍光体層において局所的に高温部分が発生し、蛍光体層とこれに接合された蛍光体層支持用の基板との線膨張率の違いから、蛍光体層の割れや剥離が発生するおそれがある。
特許文献1には、蛍光体層と基板との接合後のこれらの膨張係数差による蛍光体層の割れや剥離を防ぐために、蛍光体層と基板との間にこれらの中間の膨張係数を有する物質を介在させる方法が開示されている。
特開2011−129354号公報
しかしながら、特許文献1には、蛍光体層における励起光が照射されている部分と照射されていない部分との温度差による熱膨張量の差に起因する蛍光体層の割れや剥離についての対策については開示されていない。
また、基板と蛍光体層の熱膨張量の絶対量が異なるために基板と蛍光体層の接合領域の大きさによっては蛍光体層の端部に大きな応力が発生し、該応力によって接合領域に亀裂が発生するおそれもある。これらはいずれも特許文献1にて開示されたように蛍光体層と基板との間に中間の膨張係数を有する物質を介在させるだけでは十分に解決できない。
本発明は、そのような中間の膨張係数を有する物質を用いなくても、波長変換部材(蛍光体層等)の割れ等を回避することが可能な光源装置およびこれを用いた画像投射装置を提供する
本発明の一側面としての光源装置は、第1の光を発する光源と、第1の光が照射されることにより該第1の光とは波長が異なる第2の光を生成する波長変換部材とを有する。波長変換部材に対して第1の光が照射される光照射領域に沿った少なくとも1方向において波長変換部材の幅が光照射領域の幅よりも小さく、かつ少なくとも1方向において波長変換部材の全体が光照射領域の内側に位置することを特徴とする。
なお、上記光源装置と、該光源装置からの光を光変調素子により変調することで画像を投射する光学系とを有する画像投射装置も、本発明の他の一側面を構成する。
本発明によれば、少なくとも1方向において波長変換部材の幅を光照射領域の幅よりも小さくして該波長変換部材の全体を光照射領域の内側に位置させることで、波長変換部材の割れ等を回避することが可能な光源装置を実現することができる。そして、この光源装置を用いることで、安定的に明るい投射画像を表示可能な画像投射装置を実現することができる。
本発明の実施例1である光源装置の構成を示す側面図および斜視図。 従来の光源装置の構成を示す図。 本発明の実施例2における蛍光体層の温度と応力を示す図。 比較例における蛍光体層の温度と応力を示す図。 本発明の実施例3である光源装置における蛍光体層と光照射範囲との関係を示す図。 本発明の実施例4である光源装置における蛍光体層と光照射範囲との関係を示す図。 実施例4における蛍光体層の温度と応力を示す図。 本発明の実施例5であるプロジェクタの構成を示す図。 1つの塊としての波長変換部材を説明する図。
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明する。
後述する各実施例の光源装置は、画像投射装置(プロジェクタ)において光変調素子に導かれる照明光を発する光源装置である。プロジェクタ用の光源装置には、光源領域の面積と光の立体角との積であるエテンデューを小さくすることで投射画像の明るさを向上させるというプロジェクタに特有の要求を満足することが求められる。このため、波長変換部材を用いる各実施例の光源装置では、第1の光を波長変換部材上の小面積の光照射領域に照射してその光照射領域に高いエネルギ密度の光を入射させる必要があり、これに伴って前述した課題が生じる。
ただし、プロジェクタ用以外の光源装置にも同様の要求を満足することが求められる場合があるため、本発明の実施例にはプロジェクタ用以外の光源装置も含まれる。
図1には、実施例1の光源装置の構成を示している。図1の左側には光源装置を側面(−z方向)から見て示し、右側には斜めから見て示している。1は光源であり、2は集光レンズである。3は基板であり、4は基板3に接合されて支持された波長変換部材である。5はx方向(1方向)での波長変換部材4の幅を示す。6は光源1から発せられた第1の光であり、7は第1の光6が照射される光照射領域6aのx方向での幅である。
光源1から−y方向に発せられた第1の光6は、集光レンズ2によって集光されて基板3上の波長変換部材4に照射される。基板3および波長変換部材4は、xy面に平行に配置されている。xy面に平行で波長変換部材4の表面(図では上面)の位置(高さ)での第1の光6の断面が、波長変換部材4に対して第1の光6が照射される光照射領域に相当する。波長変換部材4は第1の光6の一部を反射するとともに、他の一部を波長変換して第1の光6とは異なる波長を有する第2の光(波長変換光:図示せず)を生成して放出する。例えば、第1の光6が青色光である場合に、波長変換部材4はその青色光の一部を反射するとともに波長変換光としての黄色光を放出する。これにより、光源装置からは、青色光と黄色光との合成光である白色光が出射する。
本実施例は、光照射領域(xy面)に沿った少なくとも1方向(x方向)において、波長変換部材4の幅5が光照射領域6aの幅7よりも小さく、かつ該少なくとも1方向において波長変換部材4の全体が光照射領域6の内側に位置することを特徴とする。さらに言えば、本実施例は、光照射領域に沿った全方向において、波長変換部材4の幅5が光照射領域6aの幅7よりも小さく、かつ該全方向において波長変換部材4の全体が光照射領域6の内側に位置することを特徴とする。
図2には、従来の光源装置の構成を示している。図2の左側には光源装置を側面(−z方向)から見て示し、右側には斜めから見て示している。図2においても、1は光源であり、2は集光レンズである。3は基板であり、4は基板3に接合されて支持された波長変換部材である。5′はx方向(1方向)での波長変換部材4の幅を示す。6は光源1から発せられた第1の光であり、7′は第1の光6が照射される光照射領域6bのx方向での幅である。
従来の光源装置では、光源1から発せられた第1の光6を集光レンズ2により集光することでx方向での光照射領域6bの幅7′を小さくするが、その幅7′よりも同方向での波長変換部材4の幅5′の方が長い。一般的には、光照射領域6bの幅2mmに対して、波長変換部材4の幅は10mm程度(面積は10mm)程度となる。これにより、前述した課題が生じる。
次に、本実施例において使用する部材について詳しく説明する。
〈光源1〉
光源1としては、固体光源としてのレーザ光源(固体レーザまたは半導体レーザ)や発光ダイオード(LED)が用いられる。例えば、GaN系の材料を用いた発光波長が約460nm程度の青色光を発する半導体レーザやLEDを用いることができる。本実施例では青色半導体レーザを用いる。ただし、紫外光を発するレーザ光源を用いてもよい。
〈集光レンズ2〉
集光レンズ2は、第1の光(青色光)を波長変換部材4に向けて集光してエテンデューを小さくするために用いられる。本実施例では、光学硝子により製作された集光レンズ2が用いられ、その表面には反射防止膜が形成されていることが望ましい。
〈基板3〉
基板3は、波長変換部材4を支持し、発光装置の筐体に対して固定されている。ただし、後述する実施例のように基板3が回転可能であってもよい。基板3は、波長変換部材4でのストークスシフト等により発生した熱を放熱するために、熱伝導率が高い材料により製作される。具体的には、アルミ、銅、鉄等の金属により製作された基板や、グラファイト、サファイア、ダイヤモンド等の非金属により製作された基板が用いられる。本実施例では、第1の光6を基板3上に設けられた波長変換部材4に直接照射するが、基板として透光性材料により製作されたものを用いる場合には該基板を通して波長変換部材に第1の光を照射してもよい。
〈波長変換部材4〉
波長変換部材4は、照射された第1の光を目的の波長を有する第2の光に変換する波長変換を行う。このような波長変換機能を有していれば、SHG素子、量子ドット素子、蛍光体またはこれらをバインダーに含ませたもの等、どのような波長変換部材を用いてもよい。ただし、効率と耐熱性の観点から無機蛍光体を用いることが望ましい。無機蛍光体を用いる場合には、多結晶の無機蛍光体や無機蛍光体粒子を無機バインダーに分散させた蛍光体層を波長変換部材4として用いたり、単結晶(板状)の無機蛍光体により形成された蛍光体層を波長変換素子4として用いたりすることができる。
蛍光体の種類としては、波長が約440nmから約470nmの青色光を励起光として励起されるものが一般に用いられ、本実施例でもそれを用いる。黄色蛍光光を発する蛍光体としては、Y3Al5O12:Ce3+、(Sr,Ba)2SiO4:Eu2+、Cax(Si,Al)12(O,N)16:Eu2+等を用いることができる。なお、Cax(Si,Al)12(O,N)16:Eu2+は、一般に、αサイアロン蛍光体と称され、発光色は黄色〜橙色である。
また、赤色蛍光光を発する蛍光体としては、CaAlSiN3:Eu2+、(Ca,Sr)AlSiN3:Eu2+、Ca2Si5N8:Eu2+、(Ca,Sr)2Si5N8:Eu2+、KSiF6:Mn4+、KTiF6:Mn4+等を用いることができる。さらに緑色蛍光光を発する蛍光体としては、Lu3Al5O12:Ce3+、(Lu,Y)3Al5O12:Ce3+、Y3(Ga,Al)5O12:Ce3+、Ca3Sc2Si3O12:Ce3+、CaSc2O4:Eu2+、(Ba,Sr)2SiO4:Eu2+、Ba3Si6O12N2:Eu2+、(Si,Al)6(O,N)8:Eu2+、Sr4Al14O25:Eu2+等を用いることができる。使用する蛍光体は、プロジェクタにより表示される投射画像の色バランスを考慮して適宜選択することができる。
蛍光体層の作成方法には、多結晶の無機蛍光体や無機蛍光体粒子を無機バインダーに分散させた硬化前の蛍光体層を基板上に塗布して硬化させる方法や、多結晶蛍光体を適当なサイズにダイシングして、基板3に無機接着剤により接着する方法等もある。また、回転する基板上に蛍光体層を形成する場合には、黄色蛍光光を発する蛍光体領域と赤色蛍光光を発する蛍光体領域等の2種類以上の蛍光体領域を分けて形成してもよい。
本実施例にいう1つの波長変換部材4とは、少なくとも1方向(x方向)での幅5が第1の光6の光照射領域6aの幅7よりも小さい1つの塊である。少なくとも1方向において波長変換部材4の全体を光照射領域6aの内側に位置させることで、波長変換素子4の割れや基板3からの剥離を生じにくくすることができる。
〈1つの塊としての波長変換部材4〉
本実施例にいう1つの塊とは、上述した波長変換機能を有する領域として連続しており、他の領域との間に別材料または空間が存在する単一の領域を意味する。例えば、図9(a)に示すように、波長変換機能を有する領域8が空間を挟んで互いに近接して複数存在する場合には、その個々の領域8が1つの塊としての波長変換部材4に相当する。また、図9(b)に示すように基板3からの高さ方向における基板3付近で複数の領域8が互いに繋がっている場合は、繋がっていない高さ位置での断面において個々の領域8(すなわち1つの塊としての波長変換部材4)の幅を規定する。
〈第1の光が照射される光照射領域6a〉
本実施例にいう光照射領域6aは、第1の光の照度がそのピーク照度に対して1/eの2乗、すなわち13.6%以上である領域を意味する。そして、この光照射領域6aの内側の長さを、光照射領域6aの幅7という。
以下、より具体的な実施例について説明する。
実施例1の実験例としての実施例2について説明する。本実施例では、波長変換部材(蛍光体層)4をYAG_Ce蛍光体の多結晶を用いて構成した。波長変換部材4は、直径が1mmで厚み(基板3からの高さ)が100μmの円柱形状を有する。すなわち、光照射領域6aに沿った全方向において波長変換部材4の幅5は1mmである。
基板3としてAl基板を用いた。波長変換部材4の基板3への接着は、東亜合成株式会社製アロンセラミックD(登録商標)を用いた。光源1として青色半導体レーザを用い、第1の光6としての青色レーザ光を連続波(CW)にて出力120Wで波長変換部材4に向けて照射した。この際、集光レンズ2により光照射範囲6aが直径2mmとなるように集光した。すなわち、第1の光6の幅7は2mmとした。
図3(c)には、本実施例において第1の光6が照射された波長変換部材4および基板3を−z方向から見て示している。図3(a)には本実施例における波長変換部材4および基板3の相対温度分布を示し、図3(b)には波長変換部材4と基板3との界面に生じる応力の絶対値を示す。図3(b)中の10は界面の破壊限界線を示す。破壊限界線10は、剪断応力に比例した構造特有の基準値である。
一方、図4(c)には、従来の光源装置に相当する比較例(実験例)において第1の光6が照射された波長変換部材4(および基板3)を−z方向から見て示している。図4(a),(b)にはそれぞれ、本比較例において波長変換部材4の相対温度分布および波長変換部材4と基板3との界面に生じる応力の絶対値を示す。本比較例では、波長変換部材4は、直径が5mmで厚みが100μmの円柱形状を有する。すなわち、光照射領域6bに沿った全方向において波長変換部材4の幅5′は5mmである。第1の光6の仕様は実施例2と同じである。
図4(c)に示すように第1の光6が照射されると、波長変換部材4のうち光照射領域6bに含まれる光照射部分の温度が上昇し(図4(a))、その光照射部分は線膨張により伸びようとする。この際、波長変換部材4のうち光照射部分と第1の光6が照射されていない非照射部分との間の膨張量差により、光照射部分と非照射部分との境界付近に大きな応力が発生する(図4(b))。この応力が破壊限界線10を超えることで、波長変換部材4に脆性破壊による亀裂(割れ)を生じさせる。脆性破壊には時間的遅れによる脆性破壊もあり、時間とともに亀裂が成長する。このように、1つの塊としての波長変換部材4上に光照射部分と非照射部分とが存在することは、波長変換部材4の破壊要因となる。
これに対して、本実施例では、図3(c)に示すように、第1の光6が波長変換部材4の全体に照射され、さらに基板3のうち波長変換部材4の周辺部分にも照射されている。つまり、波長変換部材4の全体および基板3のうち波長変換部材4の周辺部分(少なくとも一部)が光照射領域6aの内側に位置している。1つの塊としての波長変換部材4の全体が光照射領域6aの内側に位置することで、波長変換部材4内に大きな温度差、つまりは膨張量差が発生せず、応力もほとんど発生しなかった(図3(a),(b))。このため、波長変換部材4に亀裂や基板3からの剥離が発生しなかった。また、基板3のうち波長変換部材4の周辺部分が光照射領域6aに含まれることで、波長変換部材4の直下の基板3の部分も含めた基板3の温度と波長変換部材4の温度差を小さくすることができ、応力の発生を抑制することができる。また、第2の光の放出起点(蛍光体ならば蛍光発光)領域を光で規定するのではなく、物質形状で規定できるため、精度の高いエテンデューの見積もりとそれを用いた光学設計が可能となる。
実施例3として、図5を用いて、円盤状に形成された基板3上に円環形状の1つの塊としての波長変換部材4を設けた例について説明する。基板3は、その中心軸3aを中心として周方向に不図示のモータ等の駆動源により回転駆動される。
波長変換部材4は、基板3の回転に伴って、光照射領域6aに対して、該光照射領域6aに沿った周方向(第1の方向)に回転(移動)する。そして、光照射領域6aに沿って周方向に直交する径方向(第2の方向)において波長変換部材4の幅5が光照射領域6aの幅7よりも小さく、かつ径方向において波長変換部材4の全体が光照射領域6aの内側に位置する。例えば、径方向において、波長変換部材4の幅5は1mmであり、光照射領域6aの幅(つまりは直径)は2mmである。
一点鎖線で示した2重円の内側の領域6cは、基板3上において該基板3の回転により光照射領域6aを通過する領域を示しており、円環形状の波長変換部材4の全体が該領域6cの内側に位置している。このため、基板3が回転している間は、1つの塊としての波長変換部材4の全体がほぼ同じ温度になる(温度上昇後の温度分布がほぼ一様になる)。したがって、波長変換部材4における亀裂や剥離の発生を回避することができる。
実施例4として、図6(a),(b)を用いて説明する。本実施例でも、実施例3と同様に円盤状に形成された基板3上に波長変換部材4が設けられ、基板3が回転駆動される。ただし、本実施例では、基板3上に1つの塊としての波長変換部材4が複数設けられており、それら複数の塊としての波長変換部材4が基板3上にて円環形状をなすように周方向および径方向に配置されている。径方向において光照射領域6aの幅(つまりは直径)は実施例3と同様に2mmであるが、1つ1つの波長変換部材4の幅(直径)5は実施例3の波長変換部材4(幅1mm)に比べてさらに小さい。なお、図では1つの波長変換部材4を円形に形成した場合を示しているが、矩形等、他の形状に形成してもよい。
図6(a)には、円環形状をなすように配置された複数の波長変換部材4の全てが図5にも示した基板3の回転によって光照射領域6aを通過する領域6c内に位置する例を示している。この例では、複数の波長変換部材4の全てが、基板3の全ての回転位置のいずれかにおいて光照射領域6aの内側に位置する。
一方、図6(b)には、円環形状をなすように配置された複数の波長変換部材4のうち一部が領域6c内に位置し、他の一部が領域6c外に位置する例を示している。この例では、基板3のどの回転位置においても全体が光照射領域6aの外側に位置する波長変換素子4および一部だけが光照射領域6aの内側に位置する波長変換部材4が存在する。しかし、基板3のいずれかの回転位置にて全体が光照射領域6aの内側に位置する波長変換素子4も少なくとも1つ(実際には複数)存在する。
図6(a)の例では全ての波長変換部材4のそれぞれにおける温度上昇後の温度分布がほぼ一様となり、図6(b)の例でも領域6c内に位置する波長変換素子4の温度上昇後の温度分布はほぼ一様となる。このため、領域6c内に位置する、つまりは光照射領域6a内で蛍光光の発光に寄与する各波長変換素子4における亀裂や剥離の発生が回避される。このように、図6(a)に示した例も図6(b)に示した例のいずれも、本発明の実施例に含まれる。
図7(c)には、図6(b)に示した例における第1の光6が照射された複数の波長変換部材4および基板3を−z方向から見て示している。図7(a)には、この例における複数の波長変換部材4および基板3の相対温度分布を示し、図7(b)には波長変換部材4と基板3との界面に生じる応力の絶対値を示す。図7(b)中の10は界面の破壊限界線を示す。複数の波長変換部材4には、全体が光照射領域6aの内側に位置する波長変換素子4aと、全体が光照射領域6aの外側に位置する波長変換素子4bと、一部だけが光照射領域6aの内側に位置する波長変換部材4cとが含まれている。
図7(a)に示すように、全体が光照射領域6aの内側に位置する波長変換素子4aの温度上昇後の温度分布は一様であり、また全体が光照射領域6aの外側に位置する波長変換素子4aはそもそも温度上昇がほとんどない。これに対して、一部だけが光照射領域6aの内側に位置する波長変換部材4cには、光照射部分と非照射部分とに温度差が生じ、基板3との界面に破壊限界線10を超える応力が発生する。しかし、仮に波長変換部材4cに亀裂が生じてそれが時間とともに成長しても、その亀裂が全体が光照射領域6aの内側に位置する波長変換素子4aにまで影響することはない。
このように、光照射領域6aの内側にそれぞれが独立した塊である波長変換素子4bを複数設けることで、その一部に生じた亀裂や剥離による影響を大きく受けることなく効率良く波長変換が可能な光源装置を実現することができる。
次に、図8を用いて、本発明の実施例5であるプロジェクタ(画像投射装置)200について説明する。プロジェクタ200は、実施例1〜4で説明した光源装置100を備えている。光源装置100から発せられた白色光102(点線で示す赤色光102r、緑色光102gおよび青色光102b)は以下に説明するプロジェクタ用光学系に入射する。まず、赤色、緑色および青色光102r,102g,青色光102bは偏光変換素子103に入射し、ここで一様な偏光方向を有する直線偏光としての赤色、緑色および青色照明光(点線で示す)104r,104g,104bに変換される。
これら照明光104r,104g,104bはダイクロイックミラー105により赤色照明光104rおよび青色照明光104bと緑色照明光104gとに分離される。緑色照明光104gは、偏光分離素子(以下、PBSという)108および位相補償板112を透過して光変調素子111gに到達する。赤色および青色照明光104r,104bは、偏光板106を透過して色選択性位相板107に入射する。色選択性位相板107は、赤色照明光104rの偏光方向をそのまま維持しつつ青色照明光104bの偏光方向を90°回転させる。色選択性位相板107から出射した赤色照明光104rは、PBS109および位相補償板112rを透過して光変調素子111rに到達する。色選択性位相板107から出射した青色照明光104bは、PBS109で反射して位相補償板112bを透過して光変調素子111bに到達する。各光変調素子は、反射型液晶パネルまたはデジタルマイクロミラーデバイスにより構成される。光変調素子として、透過型液晶パネルを用いることも可能である。
光変調素子111g,111r,111bは入射した緑色、赤色および青色照明光104g,104r,104bを画像変調して緑色、赤色および青色画像光115g,115b,115rに変換する。これら画像光115g,115b,115rは、PBS108,109および合成プリズム118を介して合成され、投射レンズ120によりスクリーン等の被投射面に投射される。これにより、投射画像としてのカラー画像が表示される。
このように実施例1〜4で説明した光源装置100を用いることにより、エテンデューの関係から光照射領域の面積を小さくする必要があるプロジェクタにおいて、安定的に明るい投射画像を表示可能とすることができる。
以上説明した各実施例は代表的な例にすぎず、本発明の実施に際しては、各実施例に対して種々の変形や変更が可能である。
1 光源
3 基板
4 波長変換部材
5 波長変換部材の幅
6 第1の光
6a 光照射領域
7 光照射領域の幅

Claims (12)

  1. 第1の光を発する光源と、
    前記第1の光が照射されることにより該第1の光とは波長が異なる第2の光を生成する波長変換部材とを有し、
    前記波長変換部材に対して前記第1の光が照射される光照射領域に沿った少なくとも1方向において前記波長変換部材の幅が前記光照射領域の幅よりも小さく、かつ前記少なくとも1方向において前記波長変換部材の全体が前記光照射領域の内側に位置することを特徴とする光源装置。
  2. 前記波長変換部材は、1つの塊として形成されていることを特徴とする請求項1に記載の光源装置。
  3. 前記光照射領域に沿った全方向において前記波長変換部材の幅が前記光照射領域の幅よりも小さく、かつ前記全方向において前記波長変換部材の全体が前記光照射領域の内側に位置することを特徴とする請求項1または2に記載の光源装置。
  4. 前記波長変換部材は、前記光照射領域に対して、該光照射領域に沿った第1の方向に移動し、
    前記光照射領域に沿って前記第1の方向に直交する第2の方向において前記波長変換部材の幅が前記光照射領域の幅よりも小さく、かつ前記第2の方向において前記波長変換部材の全体が前記光照射領域の内側に位置することを特徴とする請求項1または2に記載の光源装置。
  5. 前記波長変換部材を支持する基板を有し、
    前記少なくとも1方向において前記波長変換部材の全体と前記基板の少なくとも一部が前記光照射領域の内側に位置することを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の光源装置。
  6. 前記基板により複数の前記波長変換部材が支持されており、
    前記複数の波長変換部材のうち少なくとも1つの波長変換部材は、前記少なくとも1方向において前記光照射領域の幅よりも小さい幅を有し、かつ前記少なくとも1方向において前記少なくとも1つの波長変換部材の全体が前記光照射領域の内側に位置することを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の光源装置。
  7. 前記波長変換部材は、蛍光体を含む蛍光体層として形成されていることを特徴とする請求項1から6のいずれか一項に記載の光源装置。
  8. 前記蛍光体は、無機蛍光体であることを特徴とする請求項7に記載の光源装置。
  9. 前記蛍光体は、単結晶の無機蛍光体であることを特徴とする請求項8に記載の光源装置。
  10. 前記蛍光体は、多結晶の無機蛍光体または無機蛍光体粒子であることを特徴とする請求項8に記載の光源装置。
  11. 前記蛍光体層は、前記多結晶の無機蛍光体または前記無機蛍光体粒子と無機バインダーとにより構成されていることを特徴とする請求項10に記載の光源装置。
  12. 請求項1から11のいずれか一項に記載の光源装置と、
    該光源装置からの光を光変調素子により変調することで画像を投射する光学系とを有することを特徴とする画像投射装置。
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