JP2017214650A - Cvdのための固有の断面を有するジェット噴流層型リアクタ装置 - Google Patents
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- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 49
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 43
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims abstract description 14
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000000446 fuel Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 36
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 36
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 36
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 2
- 241000013033 Triso Species 0.000 abstract description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 abstract 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 abstract 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 49
- 238000005243 fluidization Methods 0.000 description 21
- 230000008859 change Effects 0.000 description 9
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 6
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000002296 pyrolytic carbon Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 239000003380 propellant Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 2
- 229940090046 jet injector Drugs 0.000 description 2
- 239000003758 nuclear fuel Substances 0.000 description 2
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N uranium(0) Chemical compound [U] JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007833 carbon precursor Substances 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000739 chaotic effect Effects 0.000 description 1
- 238000001124 conductive atomic force microscopy Methods 0.000 description 1
- 230000000994 depressogenic effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 239000013529 heat transfer fluid Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000011824 nuclear material Substances 0.000 description 1
- 239000011236 particulate material Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- JFALSRSLKYAFGM-OIOBTWANSA-N uranium-235 Chemical compound [235U] JFALSRSLKYAFGM-OIOBTWANSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21C—NUCLEAR REACTORS
- G21C3/00—Reactor fuel elements and their assemblies; Selection of substances for use as reactor fuel elements
- G21C3/02—Fuel elements
- G21C3/04—Constructional details
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- G21C3/20—Details of the construction within the casing with coating on fuel or on inside of casing; with non-active interlayer between casing and active material with multiple casings or multiple active layers
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/4417—Methods specially adapted for coating powder
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/442—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using fluidised bed process
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
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- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21C—NUCLEAR REACTORS
- G21C21/00—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of reactors or parts thereof
- G21C21/02—Manufacture of fuel elements or breeder elements contained in non-active casings
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- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21C—NUCLEAR REACTORS
- G21C3/00—Reactor fuel elements and their assemblies; Selection of substances for use as reactor fuel elements
- G21C3/42—Selection of substances for use as reactor fuel
- G21C3/58—Solid reactor fuel Pellets made of fissile material
- G21C3/62—Ceramic fuel
- G21C3/623—Oxide fuels
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
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Abstract
Description
流動化するのが比較的容易である粉体、すなわち、(流動層内に大きな気泡を含まない)均一な流動化を伴う粉体に相当する領域Aの粉体と、
十分に流動化することができる粉体である領域Bの粉体と、
流動化するのが非常に難しい凝集性粉体に相当する領域Cの粉体であって、これらの粉体は、流動層内で一様に動かず、そのことが、流動化テストに従ったほぼ同様のまたは同じであるにもかかわらず、流量に対して、流動層における損失水頭の重大な変動を生じさせる粉体と、
ジェット噴流層の好適な条件で流動化することができる比較的高密度の粉体である領域Dの粉体と、
に区別してもよい。
第一には、蒸着が実行されるべきチャージは、見掛け密度および粒度分布に関して蒸着の効果によって著しく変化すると見なされることであり、
第二には、蒸着が実行されるべきチャージは、このチャージが、例えば、非常に高価であり、および/または臨界のリスクをもたらす可能性があることにより、必然的に質量に制限があるという事実があるということであり、
第三には、噴流層/エマージングガスインジェクタの界面での閉塞のリスクを制限するための要求があるということである。
移行容積Vo(図1Bおよび図1Cの略図における寸法Z0とZ1との間に位置する噴流層の容積)を制限すること、
および/または噴流層のデッドエリアと呼ばれるものと、蒸着に用いられる気相を最小限にすること、
および/またはチャージに対する十分な流動化を確実にすると同時に、損失水頭を制限すること、
を好ましくは同時に可能にする固有の断面のリアクタが求められている。
高さh1は、好ましくは、半径r2の10分の1よりも大きく、
および/またはd2の5倍よりも小さい。
R1= 2.65+0.00533z2;
R2 = 2.62+0.176z-3.81x10-3z2+9.6x10-5z3;
で表され、ここで、ynおよびxnは、図5に定義されているように、基準点(x,y)における点Inの座標であり、Y軸は、平面YX内で、円筒形ボディ12の側部の突出部と一体化しており、また、X軸は、Y軸に垂直で、かつシリンダ12と凸状部14との間の交点Bを通って延びている。原点I0は、これら2つの軸の交点に位置している。
n=1を除いて、α>10°、および
n=N(N≧2)の場合に、αn<80°
ただし、VP 0およびVCone 0は、それぞれ、断面(ここでは、凸状)Pのケースと、円錐台に等しい平らな断面のケースとの容積V0を表す。
であると仮定すると、f(x)は、座標xの関数と見なされた断面Pの関数であり、平らな断面の容積と比較した所与の断面の容積の利得を推定することが可能である。
θ1は、
・円筒形部分12の下方端部の箇所Bを通って延びる水平方向軸と、
・このような断面が、少なくとも1つの二次導関数のゼロ点を有する場合の、凸状の、または、大部分が凸状の断面の変曲点Iの接線と、
の間に形成された角度であり、
θ2は、
・既に定義されている水平方向軸と、
・箇所Bでの凸状断面の接線と、
の間に形成された角度であり、
θ3は、同じ水平方向軸と、箇所Aにおける円錐状断面(ガス噴射パイプ18の出口の周辺に位置する箇所)との間に形成された角度であり、この円錐状断面は、箇所Aを箇所Bに接続し、図3に点線で示されており、
βは、垂直方向軸YY’と、箇所Aでの凸状断面の接線との間に形成された角度である。
ガス噴射パイプの噴射半径である半径r1と、
半径r2、すなわち、ジェット噴流層リアクタの円筒形部分12の流動層の半径であって、軸YY’に垂直な平面内で、円筒形部分の半径に実質的に相当する半径と、
ガス噴射の寸法(寸法Z0)と、そこから層の部分が、垂直方向軸に沿って一定である寸法(寸法Z1)との間の高さh1、または、移行高さと、
がある。
θ3=60°である円錐状の公知の直線状断面を有する層(図4A)と、
角度β=0の凸状断面を備えた噴射部を有する層(図4B)と
による損失水頭の漸進的変化の比較である。
5°〜45°、より好ましくは、10°〜35°の間で構成されるβ;
および/または傾斜面で流動化される層を構成する粉体の自発的なフローの角度よりも大きなθ1(これは、自発的に流れる粉体の容量を意味し、そうするために、この粉体の堆積部が、最初は水平で平らな面に形成され、その後、徐々に大きくなる角度に従って漸進的に変化するように、この平らな面の傾斜が形成される。自発的なフローの角度は、粉体が自発的に流れようとしている場合の角度である);例えば、θ1≧10°;
および/または流動化される層を構成する粉体の自発的なフローの角度よりも大きなθ2;θ2≦90°;
および/またはr1:5D(ただし、Dは、流動化される粒子の直径である)≦r1≦r2/5;
および/またはh1>r2/10である。
h1=68.2mm、
d2=2xr2=70mm、
であることが分かる。
Claims (14)
- 円筒形領域(12)と、
前記円筒形領域の底部におけるガス噴射パイプ(18)と、
前記パイプ(18)の上方端部を前記円筒形領域(12)の底部に接続する移行領域とを具備し、
前記移行領域が、前記パイプ(18)内の流体のフローの軸(YY’)を通って延びる平面内において凸状の、または、大部分が凸状の断面を有するジェット噴流層リアクタ。 - 前記パイプ(18)内の流体のフローの軸(YY’)と、接線が前記パイプ(18)と交わる箇所における前記凸状の、または大部分が凸状の断面の前記接線との間の角度βは、少なくとも5°に等しく、好ましくは、45°よりも小さい、請求項1に記載のジェット噴流層リアクタ。
- 前記角度βは、少なくとも10°に等しく、好ましくは、35°よりも小さい、先行する請求項に記載のジェット噴流層リアクタ。
- 前記凸状または大部分が凸状の断面は変曲点を有し、一方の、流体のフローの方向に垂直であり、かつ前記円筒形部分(12)の底部を通って延びる軸と、他方の、前記凸状断面の変曲点Iの箇所の接線との間の角度θ1は、10°以上である、請求項1乃至請求項3の一項に記載のジェット噴流層リアクタ。
- 一方の、流体のフローの方向に垂直であり、かつ前記円筒形部分(12)の前記底部を通って延びる軸と、他方の、前記ガス噴射パイプ(18)の端部および前記円筒形部分(12)の前記底部を通って延びる直線との間の角度θ2は、90°よりも小さい、請求項1乃至請求項4の一項に記載のジェット噴流層リアクタ。
- 前記ガス噴射パイプ(18)の前記端部と、前記リアクタの前記円筒形部分(12)の前記底部との間の距離(h1)は、この円筒形部分における前記層の半径(r2)の1/10より大きい、請求項1乃至請求項5の一項に記載のジェット噴流層リアクタ。
- 前記凸状の、または大部分が凸状の断面は、一連のN(N≧2)個の直線状セグメント(dn)によって定義される、請求項1乃至請求項6の一項に記載のジェット噴流層リアクタ。
- 先行する請求項のうちの一項に記載のジェット噴流層リアクタへの前記粒子の導入と、
前記ガス噴射パイプ(18)を介して、前記粒子に対して実行される蒸着の前駆体を輸送するガスの導入と、
を含む粒子に蒸着する方法。 - 前記噴射パイプの半径r1、が、5D(D=前記粒子の直径)と、1/5r2の間で構成され、ここでr2は、前記円筒形部分内の前記層の半径である、請求項8に記載の方法。
- 前記凸状断面は変曲点を有し、一方の、流体のフローの方向に垂直であり、かつ前記円筒形部分(12)の前記底部を通って延びている軸と、他方の、前記凸状、または、大部分が凸状の断面の変曲点Iの箇所の接線との間の角度θ1は、傾斜面で流動化される前記層を構成する前記粉体の自発的なフローの角度よりも大きい、請求項8または請求項9に記載の方法。
- 一方の、前記流体のフローの方向に垂直であり、かつ前記円筒形部分(12)の底部を通って延びる軸と、他方の、前記ガス噴射パイプ(18)の端部および前記円筒形部分(12)の底部を通って延びている直線との間の角度θ2は、傾斜面で流動化される前記層を構成する前記粉体の自発的なフローの角度よりも大きい、請求項8乃至請求項10の一項に記載の方法。
- 前記粒子の少なくとも一部は、500μm程度の直径を有し、および/または流動化ガスと、前記流動化される粉体との間の固有質量の差は、5g/cm3以上である、請求項8乃至請求項11の一項に記載の方法。
- 複数の連続的な蒸着が前記粒子に対して実行される、請求項8乃至請求項12の一項に記載の方法。
- 前記粒子は、HTR型の原子炉に使用される燃料粒子である、請求項8乃至請求項12の一項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR1155760 | 2011-06-28 | ||
FR1155760A FR2977259B1 (fr) | 2011-06-28 | 2011-06-28 | Dispositif a profil specifique de reacteur de type lit a jet pour depot par cvd |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014517711A Division JP2014524976A (ja) | 2011-06-28 | 2012-06-28 | Cvdのための固有の断面を有するジェット噴流層型リアクタ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017214650A true JP2017214650A (ja) | 2017-12-07 |
JP6356306B2 JP6356306B2 (ja) | 2018-07-11 |
Family
ID=46506332
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014517711A Withdrawn JP2014524976A (ja) | 2011-06-28 | 2012-06-28 | Cvdのための固有の断面を有するジェット噴流層型リアクタ装置 |
JP2017088088A Active JP6356306B2 (ja) | 2011-06-28 | 2017-04-27 | Cvdのための固有の断面を有するジェット噴流層型リアクタ装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014517711A Withdrawn JP2014524976A (ja) | 2011-06-28 | 2012-06-28 | Cvdのための固有の断面を有するジェット噴流層型リアクタ装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10068674B2 (ja) |
EP (1) | EP2726644B1 (ja) |
JP (2) | JP2014524976A (ja) |
CA (1) | CA2840254C (ja) |
FR (1) | FR2977259B1 (ja) |
WO (1) | WO2013001024A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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- 2011-06-28 FR FR1155760A patent/FR2977259B1/fr not_active Expired - Fee Related
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2012
- 2012-06-28 WO PCT/EP2012/062609 patent/WO2013001024A1/fr active Application Filing
- 2012-06-28 JP JP2014517711A patent/JP2014524976A/ja not_active Withdrawn
- 2012-06-28 EP EP12733642.8A patent/EP2726644B1/fr active Active
- 2012-06-28 US US14/129,916 patent/US10068674B2/en active Active
- 2012-06-28 CA CA2840254A patent/CA2840254C/fr active Active
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- 2017-04-27 JP JP2017088088A patent/JP6356306B2/ja active Active
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WO2013001024A1 (fr) | 2013-01-03 |
JP2014524976A (ja) | 2014-09-25 |
FR2977259A1 (fr) | 2013-01-04 |
EP2726644B1 (fr) | 2015-07-01 |
US20140193570A1 (en) | 2014-07-10 |
EP2726644A1 (fr) | 2014-05-07 |
FR2977259B1 (fr) | 2013-08-02 |
CA2840254C (fr) | 2019-08-06 |
JP6356306B2 (ja) | 2018-07-11 |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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