JP2017195276A - 保持装置の製造方法 - Google Patents
保持装置の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017195276A JP2017195276A JP2016084598A JP2016084598A JP2017195276A JP 2017195276 A JP2017195276 A JP 2017195276A JP 2016084598 A JP2016084598 A JP 2016084598A JP 2016084598 A JP2016084598 A JP 2016084598A JP 2017195276 A JP2017195276 A JP 2017195276A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- manufacturing
- heater
- intermediate product
- holding device
- ceramic plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 63
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 113
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 claims abstract description 46
- 238000011161 development Methods 0.000 claims abstract description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 40
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 18
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 10
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 abstract description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 2
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 37
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 19
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 7
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 4
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 4
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 4
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 3
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 3
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N Aluminum nitride Chemical compound [Al]#N PIGFYZPCRLYGLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000116 mitigating effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
Description
A−1.静電チャック100の構成:
図1は、第1実施形態における静電チャック100の外観構成を概略的に示す斜視図であり、図2は、第1実施形態における静電チャック100のXZ断面構成を概略的に示す説明図であり、図3は、第1実施形態における静電チャック100のXY断面構成を概略的に示す説明図である。図2には、図3のII−IIの位置における静電チャック100のXZ断面構成が示されており、図3には、図2のIII−IIIの位置における静電チャック100のXY断面構成が示されている。各図には、方向を特定するための互いに直交するXYZ軸が示されている。本明細書では、便宜的に、Z軸正方向を上方向といい、Z軸負方向を下方向というものとするが、静電チャック100は実際にはそのような向きとは異なる向きで設置されてもよい。
図4は、ヒータ50の詳細構成を示す説明図である。図4には、図3のX1部におけるヒータ50の構成(XY断面構成)が拡大して示されている。図3に示すように、ヒータ50は、セラミックス板10の吸着面S1をできるだけ満遍なく温めるため、Z方向視で、複数の円状部分CIを含む略同心円状に配置されている。ただし、電気的接続等の関係上、ヒータ50は、円状部分CIのみから構成される訳ではなく、2つの円状部分CIをつなぐ折り返し部分BEを有する。また、ヒータ50は、ピン挿通孔12やその他の貫通孔(例えば、吸着面S1にヘリウムガスを供給するための貫通孔)との干渉を避けるために、また、ベース板20からの吸熱が異なる部位(例えば、ベース板20に形成された貫通孔の直上部)を避けるために、円状部分CIから折れ曲がった回避部分AVを有する。そのため、ヒータ50のZ方向視の形状(XY断面形状)は、複数の角部CPが存在する形状となっている。ここで、ヒータ50の角部CPとは、図4に示すように、一の線状部分LPと他の線状部分LPとが交わる部分をいう。また、ヒータ50の線状部分LPとは、仮想的な直線または曲線(以下、「仮想線VL」という)に沿って延び、該仮想線VLを中心として所定の幅を有する部分をいう。例えば、図4に示す2つの角部CPの内の上側の角部CPは、仮想線VL1に沿って延びる曲線状部分LP1(円状部分CIの一部)と、仮想線VL2に沿って延びる曲線状部分LP2(回避部分AVの一部)とが交わる部分である。
次に、第1実施形態における静電チャック100の製造方法を説明する。図5は、第1実施形態における静電チャック100の製造方法を示すフローチャートである。
以上説明したように、第1実施形態の静電チャック100の製造方法は、セラミックスグリーンシート上に、ヒータ50の形成材料である感光性メタライズペーストを塗布する塗布工程と、セラミックスグリーンシート上に塗布された感光性メタライズペーストの露光及び現像を行うことにより、セラミックスグリーンシート上に、特定角部CPaにおける内側の縁IEが所定の曲率半径を有する曲線形状となった特定パターン形状を有する中間生成物を形成する露光現像工程と、セラミックスグリーンシートと中間生成物とを同時焼成することにより、セラミックス板10とヒータ50とを形成する焼成工程とを備える。そのため、第1実施形態の静電チャック100の製造方法によれば、以下に説明するように、ヒータ50にクラックが発生することを抑制することができる。
図9は、第2実施形態における静電チャック100の製造方法を示すフローチャートである。以下の説明では、第2実施形態の静電チャック100の製造方法において、上述した第1実施形態の静電チャック100の製造方法(図5)におけるステップと同一内容のステップについては、同一の符号を付すことによってその説明を適宜省略する。
本明細書で開示される技術は、上述の実施形態に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の形態に変形することができ、例えば次のような変形も可能である。
Claims (6)
- 第1の表面を有する板状のセラミックス板と、前記セラミックス板に設けられたメタライズ層と、を備え、前記セラミックス板の前記第1の表面上に対象物を保持する保持装置の製造方法において、
所定の部材上に、前記メタライズ層の形成材料である感光性メタライズペーストを塗布する塗布工程と、
前記所定の部材上に塗布された前記感光性メタライズペーストの露光及び現像を行うことにより、前記所定の部材上に一の線状部分と他の線状部分とが交わる少なくとも1つの角部における縁が所定の曲率半径を有する曲線形状となった特定パターン形状を有する中間生成物を形成する露光現像工程と、
前記中間生成物を焼成することにより、前記特定パターン形状を有する前記メタライズ層を形成する焼成工程と、
を備えることを特徴とする、保持装置の製造方法。 - 請求項1に記載の保持装置の製造方法において、
前記所定の曲率半径は、0.04(mm)以上であることを特徴とする、保持装置の製造方法。 - 請求項1または請求項2に記載の保持装置の製造方法において、
前記特定パターン形状は、一の線状部分と他の線状部分とが交わる少なくとも1つの角部における少なくとも内側の縁が所定の曲率半径を有する曲線形状となったパターン形状であることを特徴とする、保持装置の製造方法。 - 請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の保持装置の製造方法において、
前記特定パターン形状は、一の線状部分と他の線状部分とが110度以上、140度以下の角度で交わる少なくとも1つの角部における縁が所定の曲率半径を有する曲線形状となったパターン形状であることを特徴とする、保持装置の製造方法。 - 請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の保持装置の製造方法において、
前記所定の部材は、前記セラミックス板の形成材料であるセラミックスグリーンシートであり、
前記焼成工程は、前記セラミックスグリーンシートと前記中間生成物とを同時焼成することにより、前記セラミックス板と前記特定パターン形状を有する前記メタライズ層とを形成する工程であることを特徴とする、保持装置の製造方法。 - 請求項1から請求項4までのいずれか一項に記載の保持装置の製造方法において、
前記所定の部材は、キャリア部材であり、
前記製造方法は、さらに、
前記キャリア部材上に形成された前記中間生成物を、前記セラミックス板の形成材料であるセラミックスグリーンシート上に転写する転写工程を備え、
前記焼成工程は、前記セラミックスグリーンシートと前記中間生成物とを同時焼成することにより、前記セラミックス板と前記特定パターン形状を有する前記メタライズ層とを形成する工程であることを特徴とする、保持装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016084598A JP2017195276A (ja) | 2016-04-20 | 2016-04-20 | 保持装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016084598A JP2017195276A (ja) | 2016-04-20 | 2016-04-20 | 保持装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017195276A true JP2017195276A (ja) | 2017-10-26 |
Family
ID=60156157
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016084598A Pending JP2017195276A (ja) | 2016-04-20 | 2016-04-20 | 保持装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2017195276A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021077666A (ja) * | 2019-11-05 | 2021-05-20 | 日本特殊陶業株式会社 | 加熱装置 |
JP2021093428A (ja) * | 2019-12-09 | 2021-06-17 | 京セラ株式会社 | 試料保持具 |
KR20210089779A (ko) * | 2019-03-18 | 2021-07-16 | 엔지케이 인슐레이터 엘티디 | 정전 척 |
-
2016
- 2016-04-20 JP JP2016084598A patent/JP2017195276A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210089779A (ko) * | 2019-03-18 | 2021-07-16 | 엔지케이 인슐레이터 엘티디 | 정전 척 |
US20210320025A1 (en) * | 2019-03-18 | 2021-10-14 | Ngk Insulators, Ltd. | Electrostatic chuck |
KR102497965B1 (ko) | 2019-03-18 | 2023-02-08 | 엔지케이 인슐레이터 엘티디 | 정전 척 |
US12243764B2 (en) * | 2019-03-18 | 2025-03-04 | Ngk Insulators, Ltd. | Electrostatic chuck |
JP2021077666A (ja) * | 2019-11-05 | 2021-05-20 | 日本特殊陶業株式会社 | 加熱装置 |
JP7411383B2 (ja) | 2019-11-05 | 2024-01-11 | 日本特殊陶業株式会社 | 加熱装置 |
JP2021093428A (ja) * | 2019-12-09 | 2021-06-17 | 京セラ株式会社 | 試料保持具 |
JP7261151B2 (ja) | 2019-12-09 | 2023-04-19 | 京セラ株式会社 | 試料保持具 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6463936B2 (ja) | 半導体製造装置用部品の製造方法 | |
US9236338B2 (en) | Built-up substrate, method for manufacturing same, and semiconductor integrated circuit package | |
US10483136B2 (en) | Ceramic heater and electrostatic chuck | |
JP6867556B2 (ja) | 保持装置の製造方法、保持装置用の構造体の製造方法および保持装置 | |
TWI826965B (zh) | 貫通電極基板及其製造方法、以及安裝基板 | |
JP2023052130A (ja) | パッケージング基板及びこれを含む半導体装置 | |
JP2017195276A (ja) | 保持装置の製造方法 | |
TW202033071A (zh) | 配線基板及其製造方法 | |
JP6317183B2 (ja) | 半導体製造装置用部品 | |
JP2022133442A (ja) | パッケージング基板及びこれを含む半導体装置 | |
JP3677301B2 (ja) | セラミック回路基板及びセラミック回路基板の製造方法 | |
JP2020188043A (ja) | 保持装置の製造方法 | |
JP2024119230A (ja) | 静電チャック及びその製造方法 | |
US9691644B2 (en) | Supporting unit, substrate treating device including the same, and method of manufacturing the supporting unit | |
JP7111522B2 (ja) | 静電チャック | |
JP2018022759A (ja) | 保持装置の製造方法 | |
JP2022143488A (ja) | 静電チャック及び基板固定装置 | |
US20150179594A1 (en) | Package substrate and method for manufacturing the same | |
JP4407781B2 (ja) | セラミック回路基板の製造方法 | |
JP7670316B2 (ja) | 静電チャック、基板固定装置 | |
JP7455751B2 (ja) | 接合基板、金属回路基板及び回路基板 | |
JP2023113866A (ja) | パッケージング基板及びこれを含む半導体装置 | |
JP6882040B2 (ja) | 保持装置 | |
JP2025020443A (ja) | 貫通電極基板及びその製造方法 | |
JPH0818234A (ja) | 積層セラミック回路基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190412 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200117 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200128 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200317 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200414 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20201110 |