JP2017161204A - 冷却装置、冷却装置の製造方法、及び電子機器 - Google Patents

冷却装置、冷却装置の製造方法、及び電子機器 Download PDF

Info

Publication number
JP2017161204A
JP2017161204A JP2016048773A JP2016048773A JP2017161204A JP 2017161204 A JP2017161204 A JP 2017161204A JP 2016048773 A JP2016048773 A JP 2016048773A JP 2016048773 A JP2016048773 A JP 2016048773A JP 2017161204 A JP2017161204 A JP 2017161204A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
lid
resin film
cooling device
recess
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2016048773A
Other languages
English (en)
Inventor
英次 助川
Eiji Sukegawa
英次 助川
木村 孝浩
Takahiro Kimura
孝浩 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP2016048773A priority Critical patent/JP2017161204A/ja
Publication of JP2017161204A publication Critical patent/JP2017161204A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

【課題】作動液への樹脂の溶出を抑制すること。【解決手段】凹部23と凸部24とを有する樹脂膜12と、凸部24の上面に接合され、凹部23を覆う蓋体14と、蓋体14で覆われた凹部23を含む流路22と、流路22に封入された作動液28と、凹部23の内面を覆って設けられ、作動液28への樹脂の溶出を抑制するバリア膜18と、を備える冷却装置100である。凹部23の内面を覆ってバリア膜18が設けられていることで、作動液28と樹脂膜12とが直接接することが抑制され、樹脂膜12の樹脂が作動液28に溶出することが抑制される。【選択図】図1

Description

本発明は、冷却装置、冷却装置の製造方法、及び電子機器に関する。
近年、電子機器の高性能化が進み、これにより、中央処理装置(CPU:Central Processing Unit)やメモリ、電源モジュールなどからの発熱量が増大している。このような電子機器を冷却する方法として、潜熱を用いた冷却方法がある。潜熱を用いた冷却装置として、樹脂シート上に金属箔が接着された一対の可撓性部材の金属箔同士を接合して内部に流路を形成し、当該流路に作動液を封入した冷却装置が知られている(例えば、特許文献1)。また、アルミニウム又はアルミニウム合金の平板の内部に流路を形成し、当該流路の内面に銅メッキが施された冷却装置が知られている(例えば、特許文献2)。
特開2005−123317号公報 特開平8−296986号公報
樹脂膜に流路を形成した場合、流路に封入された作動液に樹脂が溶出して、作動液の流動性が阻害されてしまうことがある。作動液の流動性が阻害されることで、冷却性能の低下を招く恐れがある。
本冷却装置、冷却装置の製造方法、及び電子機器は、作動液への樹脂の溶出を抑制することを目的とする。
1つの態様では、冷却装置は、凹部と凸部とを有する樹脂膜と、前記凸部の上面に接合され、前記凹部を覆う蓋体と、前記蓋体で覆われた前記凹部を含む流路と、前記流路に封入された作動液と、前記凹部の内面を覆って設けられ、前記作動液への樹脂の溶出を抑制するバリア膜と、を備える。
また、1つの態様では、冷却装置の製造方法は、凹部と凸部とを有する樹脂膜を形成する工程と、前記凹部の内面に作動液への樹脂の溶出を抑制するバリア膜を形成する工程と、前記凹部を覆うように前記凸部の上面に蓋体を接合させる工程と、前記樹脂膜と前記蓋体とを接合した後、前記蓋体で覆われた前記凹部を含む流路に前記作動液を封入する工程と、を備える。
また、1つの態様では、電子機器は、発熱する電子部品と、前記電子部品を冷却する冷却装置と、を備え、前記冷却装置は、凹部と凸部とを有する樹脂膜と、前記凸部の上面に接合され、前記凹部を覆う蓋体と、前記蓋体で覆われた前記凹部を含む流路と、前記流路に封入された作動液と、前記凹部の内面を覆って設けられ、前記作動液への樹脂の溶出を抑制するバリア膜と、を備える。
本明細書に記載の冷却装置、冷却装置の製造方法、及び電子機器によれば、作動液への樹脂の溶出を抑制することができる。
図1(a)は、実施例1に係る冷却装置の平面図、図1(b)は、図1(a)のA−A間の断面図である。 図2(a)から図2(d)は、実施例1に係る冷却装置の製造方法を示す断面図(その1)である。 図3(a)から図3(c)は、実施例1に係る冷却装置の製造方法を示す断面図(その2)である。 図4は、比較例1に係る冷却装置の断面図である。 図5は、実施例2に係る冷却装置の断面図である。 図6(a)から図6(d)は、実施例2に係る冷却装置の製造方法を示す断面図(その1)である。 図7(a)から図7(c)は、実施例2に係る冷却装置の製造方法を示す断面図(その2)である。 図8(a)は、実施例3に係る冷却装置の断面図、図8(b)は、図8(a)の領域Aの拡大図、図8(c)は、図8(a)の領域Bの拡大図である。 図9(a)から図9(c)は、実施例3に係る冷却装置の製造方法を示す断面図(その1)である。 図10(a)から図10(c)は、実施例3に係る冷却装置の製造方法を示す断面図(その2)である。 図11(a)及び図11(b)は、実施例3に係る冷却装置の製造方法を示す断面図(その3)である。 図12(a)から図12(d)は、図11(a)の工程を説明するための図である。 図13(a)から図13(d)は、波形状の例を示す断面図である。 図14は、実施例4に係る電子機器の断面図である。
以下、図面を参照して、本発明の実施例について説明する。
図1(a)は、実施例1に係る冷却装置100の平面図、図1(b)は、図1(a)のA−A間の断面図である。なお、図1(a)では蓋体14などを透視して図示し、図1(b)では図1(a)のA−A間の断面の一部を図示している。実施例1の冷却装置100は、例えば自励振動式のヒートパイプであるが、その他の場合でもよい。
図1(a)及び図1(b)のように、実施例1の冷却装置100は、基体10と、凹部23と凸部24とを有する樹脂膜12と、蓋体14と、を備える。基体10及び蓋体14としては、例えばポリエチレンテレフタレート樹脂(PET:Poly Ethylene Terephthalate)が用いられる。樹脂膜12としては、例えば光硬化性樹脂が用いられる。
樹脂膜12は、基体10の平坦上面に設けられている。蓋体14は、樹脂膜12の凹部23を覆うように、樹脂膜12の凸部24の上面に樹脂接着剤16によって接合されている。蓋体14で覆われた凹部23によって流路22が形成されている。凸部24は、流路22を画定する側壁部となる。樹脂接着剤16は、蓋体14と樹脂膜12の凸部24の上面との間にのみ設けられ、蓋体14と流路22との間には設けられていない。樹脂接着剤16としては、例えば紫外線硬化型接着剤が用いられる。流路22内には、注液部26から注入されて封止された作動液28が封入されている。作動液28は、例えば水であるが、水以外の冷媒であってもよい。例えば、作動液28はフッ素系液体(例えばフロリナート(登録商標)やノベック(登録商標)など)であってもよい。
流路22は、発熱体からの熱を受ける受熱部30と、受熱部30で受けた熱を放熱する放熱部32と、の間を往復する蛇行細管流路である。より具体的には、流路22は、両側に曲部22aを有して蛇行している。つまり、流路22は、受熱部30と放熱部32との間を延在する複数の直線部22bと、複数の直線部22bの両側に接続された曲部22aと、を有する。複数の直線部22bにおける流路22の幅W1は例えば0.5mm程度で、高さHは例えば250μm程度である。複数の直線部22bの間に位置する凸部24の幅W2は例えば0.5mm程度である。放熱部32では、受熱部30で受けた熱により気化された作動液28が凝縮される。なお、図1(b)では作動液28の量を流路22の半分程度としているが、作動液28は気化及び凝縮されることから、作動液28は流路22のある部分では全く存在せず、他の部分では流路22を完全に満たしていることが生じる。
樹脂膜12の上面に沿ってバリア膜18が設けられている。すなわち、樹脂膜12の凹部23の底面及び側面と凸部24の上面とを覆ってバリア膜18が設けられている。蓋体14の下面にバリア膜20が設けられている。すなわち、蓋体14の流路22に面する領域にはバリア膜20が設けられている。バリア膜18は、樹脂膜12の樹脂が作動液28に溶出することを抑制する機能を有する。バリア膜20は、蓋体14の樹脂が作動液28に溶出することを抑制する機能を有する。バリア膜18、20は、例えば有機膜と無機膜との積層膜であり、無機膜が流路22に露出している。有機膜としては、例えばアクリル樹脂などを用いることができる。無機膜としては、例えば酸化シリコン膜(SiO)や窒化シリコン膜(Si)、酸化アルミニウム膜(Al)などを用いることができる。なお、バリア膜18、20は、無機膜だけからなる場合でもよいが、フレキシブル性の点からは有機膜と無機膜との積層膜の場合が好ましい。また、バリア膜18、20は、金属膜からなる場合でもよいが、フレキシブル性や実施例1の冷却装置100を移動体通信端末などに用いた場合における電磁波透過性の点からは金属膜でない場合が好ましい。
次に、実施例1に係る冷却装置100の製造方法について説明する。図2(a)から図3(c)は、実施例1に係る冷却装置100の製造方法を示す断面図である。図2(a)のように、基体10の上面にプライマー34を塗布する。基体10としては、上述したように例えばPETが用いられる。基体10の大きさは例えば縦×横が120mm×60mm程度であり、厚さは例えば25μm〜125μm程度である。プライマー34の厚さは例えば10μm程度である。プライマー34上に液状の光硬化性樹脂36を塗布し、上面を平坦にする。光硬化性樹脂36の厚さは例えば300μm程度である。光硬化性樹脂36としては、例えば紫外線硬化性樹脂が用いられ、例えばエポキシアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、又はアクリル樹脂アクリレートなどが用いられる。
図2(b)のように、凹凸形状を有する金型38を光硬化性樹脂36に押し付けつつ、基体10側から紫外線(UV光)を光硬化性樹脂36に照射して光硬化性樹脂36を硬化させる。これにより、金型38の凹凸形状が光硬化性樹脂36に転写される。基体10側から光硬化性樹脂36に紫外線を照射させることから、基体10には紫外線を透過する材料が用いられる。
図2(c)のように、光硬化性樹脂36を硬化させた後、金型38を光硬化性樹脂36から取り外す。これにより、光硬化性樹脂36からなり、凹部23と凸部24とを有する樹脂膜12が形成される。樹脂膜12の上面に、例えばスパッタリング法又はプラズマCVD(Chemical Vapor Deposition)法を用いてバリア膜18を形成する。バリア膜18は、凹部23の底面及び側面と凸部24の上面とを覆って形成される。バリア膜18としては、上述したように例えばアクリル樹脂などの有機膜とSiO、Si、Alなどの無機膜との積層膜が用いられる。バリア膜18の厚さは例えば数nm程度である。
図2(d)のように、樹脂膜12の凸部24の上面に、例えばディスペンサーとロボットとの組み合わせを用いて、脱泡した樹脂接着剤16を塗布する。樹脂接着剤16としては、上述したように例えば紫外線硬化型接着剤が用いられ、例えばアクリル樹脂又はエポキシ樹脂などが用いられる。
図3(a)のように、図2(a)から図2(d)の工程と並行して、蓋体14の上面にプライマー44を塗布する。蓋体14としては、上述したように例えばPETが用いられる。蓋体14の大きさは例えば縦×横が120mm×60mm程度であり、厚さは例えば25μm〜125μm程度である。プライマー44の厚さは例えば10μm程度である。プライマー44の上面に、例えばスパッタリング法又はプラズマCVD法を用いてバリア膜20を形成する。バリア膜20としては、上述したように例えばアクリル樹脂などの有機膜とSiO、Si、Alなどの無機膜との積層膜が用いられる。バリア膜20の厚さは例えば数nm程度である。
図3(b)のように、蓋体14と凹部23の間にバリア膜20が介在するように、蓋体14を樹脂膜12の凸部24の上面の樹脂接着剤16に押し付けつつ、蓋体14側から紫外線を樹脂接着剤16に照射して樹脂接着剤16を硬化させる。蓋体14側から樹脂接着剤16に紫外線を照射させることから、蓋体14及びバリア膜20には紫外線を透過する材料が用いられる。
図3(c)のように、樹脂接着剤16を硬化させて樹脂膜12と蓋体14とを接合させることで、蓋体14で覆われた凹部23を含む流路22が形成される。その後、流路22に作動液28を注入して封止することで、実施例1の冷却装置100が形成される。
ここで、比較例1に係る冷却装置500について説明する。図4は、比較例1に係る冷却装置500の断面図である。図4のように、比較例1の冷却装置500では、樹脂膜12の上面に沿ってバリア膜18が設けられてなく且つ蓋体14の下面にバリア膜20が設けられていない。すなわち、流路22の内面にバリア膜18、20が設けられていない。また、樹脂接着剤16は、蓋体14の下面全体に設けられている。すなわち、蓋体14と流路22との間にも樹脂接着剤16が設けられている。その他の構成は、実施例1と同じであるため説明を省略する。
比較例1では、樹脂膜12の凹部23の底面及び側面にバリア膜18が設けられていない。このため、作動液28が樹脂膜12に直接接することになり、作動液28の流動に伴って、樹脂膜12の樹脂が作動液28に溶出することが生じ得る。作動液28に樹脂が溶出すると、作動液28の流動性が阻害され、その結果、冷却性能の低下を引き起こす恐れがある。
一方、実施例1では、樹脂膜12の凹部23の底面及び側面にバリア膜18が設けられている。これにより、作動液28と樹脂膜12とが直接接することが抑制され、樹脂膜12の樹脂が作動液28に溶出することが抑制される。その結果、冷却性能の低下が抑制される。
以上のように、実施例1によれば、図1(b)のように、樹脂膜12の凹部23の内面に、作動液28への樹脂の溶出を抑制するバリア膜18が設けられている。これにより、樹脂膜12の樹脂が作動液28に溶出することを抑制でき、その結果、冷却性能の低下を抑制することができる。
また、実施例1によれば、図2(c)のように、凹部23と凸部24とを有する樹脂膜12を形成し、凹部23の内面にバリア膜18を形成する。図3(b)のように、凹部23を覆うように凸部24の上面に蓋体14を接合させる。図3(c)のように、樹脂膜12と蓋体14とを接合した後、蓋体14で覆われた凹部23を含む流路22に作動液28を封入する。このような工程によって冷却装置100を製造することで、樹脂膜12の樹脂が作動液28に溶出することを抑制でき、その結果、冷却性能の低下を抑制することができる。
また、実施例1によれば、図1(b)のように、樹脂接着剤16は、蓋体14と樹脂膜12の凸部24との間に設けられ、蓋体14と流路22との間には設けられていない。比較例1のように蓋体14と流路22との間に樹脂接着剤16が設けられている場合には、作動液28が樹脂接着剤16に接して、樹脂接着剤16の樹脂が作動液28に溶出することがある。これは、上述したように作動液28が気化及び凝縮されることで流路22の一部を完全に満たす場合があることや、冷却装置が移動体通信端末などに使用されて天地が逆転することで作動液28が樹脂接着剤16側に偏る場合があるためである。実施例1では蓋体14と流路22との間に樹脂接着剤16が設けられていないため、作動液28が樹脂接着剤16に接することが抑制され、樹脂接着剤16の樹脂が作動液28に溶出することを抑制できる。
また、実施例1によれば、図1(b)のように、蓋体14は樹脂製であり、蓋体14の流路22に面する領域を覆ってバリア膜20が設けられている。これにより、蓋体14の樹脂が作動液28に溶出することを抑制できる。なお、基体10及び蓋体14は、樹脂製である場合に限られず、金属製などの場合でもよい。しかしながら、フレキシブル性や、実施例1の冷却装置100を移動体通信端末などに用いた場合における電磁波透過性などを考慮すると、基体10及び蓋体14は樹脂製である場合が好ましい。
なお、実施例1では、図1(b)のように、樹脂膜12の凸部24の側面と樹脂接着剤16の側面とが略同一面である場合を例に示したがこれに限られない。樹脂接着剤16と作動液28とが接することが抑制され、樹脂接着剤16の樹脂が作動液28に溶出することを抑制する点からは、樹脂接着剤16の側面は凸部24の側面に対して内側に凹んでいる場合が好ましい。
なお、樹脂膜12の樹脂が作動液28に溶出することを抑制する点から、バリア膜18は樹脂膜12の凹部23の底面及び側面の全面を覆っている場合が好ましいが、一部を覆っていない場合でもよい。また、蓋体14の樹脂が作動液28に溶出することを抑制する点から、バリア膜20は蓋体14の流路22に面する領域全面を覆っている場合が好ましいが、一部を覆っていない場合でもよい。
なお、実施例1では、蓋体14の下面が平坦である場合を例に示したが、流路22に対応する部分が凹み、樹脂膜12の凸部24に対応する部分が凸状となった凹凸形状をしている場合でもよい。
なお、実施例1では、樹脂膜12は、紫外線によって硬化する紫外線硬化性樹脂からなる場合を例に示したが、可視光によって硬化する可視光線硬化性樹脂からなる場合でもよい。この場合、基体10としては、可視光を透過する性質を有する材料、例えばガラスなどを用いることができる。また、樹脂膜12は、光硬化性樹脂からなる場合に限られず、熱硬化性樹脂からなる場合でもよい。この場合、基体10としては、紫外線や可視光を透過しない性質を有する材料を用いてもよい。
なお、実施例1においては、樹脂接着剤16は、紫外線硬化型接着剤の場合に限られず、熱硬化型接着剤の場合でもよい。この場合、蓋体14としては、紫外線を透過しない性質を有する材料を用いてもよい。
図5は、実施例2に係る冷却装置200の断面図である。図5のように、実施例2の冷却装置200は、樹脂膜12の凸部24の上面に、流路22から離れ且つ流路22に連通していない凹部25が設けられている。樹脂接着剤16は、凹部25に埋め込まれている。凹部25の幅W1は例えば0.2mm程度で、深さDは例えば0.05mm程度である。凹部25と凹部23との間の幅W2は例えば0.15mm程度である。樹脂膜12の上面に設けられたバリア膜18と蓋体14の下面に設けられたバリア膜20とによって、流路22の内面はバリア膜で完全に覆われている。その他の構成は、実施例1と同じであるため説明を省略する。
図6(a)から図7(c)は、実施例2に係る冷却装置200の製造方法を示す断面図である。図6(a)のように、基体10の上面にプライマー34を塗布する。プライマー34上に液状の光硬化性樹脂36を塗布し、上面を平坦にする。
図6(b)のように、凹部48と凸部50の凹凸形状を有し、凹部48の底面における外周部48aが中央部48bよりも凹んだ形状をした金型38aを準備する。そして、金型38aを光硬化性樹脂36の上面に押し付ける。
図6(c)のように、金型38aを光硬化性樹脂36に押し付けつつ、基体10側から紫外線を光硬化性樹脂36に照射して光硬化性樹脂36を硬化させる。これにより、金型38aの凹凸形状が光硬化性樹脂36に転写される。
図6(d)のように、光硬化性樹脂36を硬化させた後、金型38aを光硬化性樹脂36から取り外す。これにより、光硬化性樹脂36からなり、凹部23と凸部24とを有する樹脂膜12が形成される。凸部24の上面の中央部には凹部25が形成される。凹部25は、凹部23から離れて設けられ、凹部23に連通していない。樹脂膜12の上面にバリア膜18を形成する。樹脂膜12の凸部24の上面に形成された凹部25内に脱泡した樹脂接着剤16を塗布する。このとき、樹脂接着剤16が凸部24の上面のうちの凹部25以外の領域には塗布されないようにする。
図7(a)のように、図6(a)から図6(d)の工程と並行して、蓋体14の上面にプライマー44を塗布する。プライマー44の上面にバリア膜20を形成する。
図7(b)のように、蓋体14と凹部23の間にバリア膜20が介在するように、蓋体14を樹脂膜12の凹部25内の樹脂接着剤16に押し付けつつ、蓋体14側から紫外線を樹脂接着剤16に照射して樹脂接着剤16を硬化させる。
図7(c)のように、樹脂接着剤16を硬化させて樹脂膜12と蓋体14とを接合させることで、蓋体14で覆われた凹部23を含む流路22が形成される。その後、流路22に作動液28を注入して封止することで、実施例2の冷却装置200が形成される。
実施例2によれば、図5のように、樹脂膜12の凸部24の上面に流路22から離れた凹部25が設けられている。そして、樹脂接着剤16は、凹部25に埋め込まれている。これにより、樹脂接着剤16が作動液28に接触し難くなり、樹脂接着剤16の樹脂が作動液28に溶出することを抑制できる。
また、実施例2によれば、図6(b)から図6(d)のように、凹凸形状を有し、凹凸形状の凹部48の底面における外周部48aが中央部48bよりも凹んだ金型38aを準備する。金型38aを光硬化性樹脂36に押し付けることで、凸部24の上面に凹部23から離れた凹部25を有する樹脂膜12を形成する。図6(d)のように、凸部24の上面のうちの凹部25以外の領域に設けられないように凹部25に樹脂接着剤16を埋め込む。そして、図7(b)及び図7(c)のように、凹部25に埋め込まれた樹脂接着剤16を用いて凸部24の上面に蓋体14を接合させる。このような工程を含んで冷却装置200を製造することで、凹部25内の樹脂接着剤16を用いて蓋体14と樹脂膜12とを接合させるため、樹脂接着剤16が作動液28に接触し難くなる。このため、樹脂接着剤16の樹脂が作動液28に溶出することを抑制できる。
ここで、凹部25の幅W1及び凹部25と凹部23との間の幅W2と、蓋体14と樹脂膜12との間の剥がれと、の関係について説明する。なお、流路22の幅(凹部23の幅)と凸部24の幅とは同じ大きさであり、流路22及び凸部24の長さをL、本数をnとする。流路22の内圧P1と内圧P1を受ける蓋体14の面積S1の積(P1×S1)が、蓋体14と樹脂膜12の接着強度P2と接着面積S2の積(P2×S2)よりも小さい場合、蓋体14と樹脂膜12との間の剥がれが抑制される。P1×S1=P1×(W1+W2+W2)×L×nであり、P2×S2=P2×W1×L×nである。例えば、内圧P1が1MPa、接着強度P2が16MPa、W1が0.3mm、W2が0.1mm、Lが0.5mm、nが30本の場合、P1×S1は0.5MPa・mm、P2×S2は4.8MPa・mmとなる。よって、蓋体14と樹脂膜12との間の剥がれは抑制される。内圧P1は冷却装置の動作条件によって異なるが一般的には2MPa程度の大きさまでである。例えば、内圧P1が2MPa、接着強度P2が16MPa、W1が0.1mm、W2が0.2mm、Lが0.5mm、nが30本であるとすると、P1×S1は1MPa・mm、P2×S2は1.6MPa・mmとなる。以上のように、P1×(W1+W2+W2)×L×n<P2×W1×L×nを満たす範囲で、W1とW2の範囲を設定することで、蓋体14と樹脂膜12との間の剥がれを抑制できる。
図8(a)は、実施例3に係る冷却装置300の断面図、図8(b)は、図8(a)の領域Aの拡大図、図8(c)は、図8(a)の領域Bの拡大図である。図8(a)から図8(c)のように、実施例3の冷却装置300は、樹脂膜12の凸部24の上面に、流路22から離れ且つ流路22に連通していない凹部25が設けられている。樹脂接着剤16は、凹部25に埋め込まれている。凸部24の上面のうちの凹部25以外の領域に凸凹形状である波形状60が設けられている。蓋体14aは、基体54と樹脂膜56との積層膜である。基体54としては、例えばPETが用いられる。樹脂膜56としては、例えば光硬化性樹脂が用いられる。樹脂膜56の樹脂膜12との接合面に凸凹形状である波形状62が設けられている。波形状60と波形状62とはかみ合っている。波形状60及び波形状62の幅Wは例えば0.03mm程度であり、高さHは例えば0.025mm程度である。その他の構成は、実施例1と同じであるため説明を省略する。
図9(a)から図11(b)は、実施例3に係る冷却装置300の製造方法を示す断面図である。なお、図9(a)から図9(c)の工程と図10(a)から図10(c)の工程とは並行して行われる。図9(a)のように、基体10の上面にプライマー34を塗布する。プライマー34上に液状の光硬化性樹脂36を塗布し、上面を平坦にする。凹部48と凸部50の凹凸形状を有し、凹部48の底面における外周部48aが中央部48bよりも凹み且つ外周部48aに波形状64が設けられた形状をした金型38bを準備する。そして、金型38bを光硬化性樹脂36の上面に押し付ける。
図9(b)のように、金型38bを光硬化性樹脂36に押し付けつつ、基体10側から紫外線を光硬化性樹脂36に照射して光硬化性樹脂36を硬化させる。これにより、金型38bの凹凸形状が光硬化性樹脂36に転写される。
図9(c)のように、光硬化性樹脂36を硬化させた後、金型38bを光硬化性樹脂36から取り外す。これにより、光硬化性樹脂36からなり、凹部23と凸部24とを有する樹脂膜12が形成される。凸部24の上面の中央部には凹部25が形成される。凹部25は、凹部23から離れて設けられ、凹部23に連通していない。凸部24の上面のうちの凹部25以外の領域に波形状60が形成される。樹脂膜12の上面にバリア膜18を形成する。樹脂膜12の凸部24の上面に形成された凹部25内に脱泡した樹脂接着剤16を埋め込む。
図10(a)のように、基体54の上面にプライマー44を塗布する。プライマー44上に液状の光硬化性樹脂59を塗布し、上面を平坦にする。光硬化性樹脂59としては、例えば紫外線硬化性樹脂が用いられ、例えばエポキシアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、又はアクリル樹脂アクリレートなどが用いられる。平坦状の主面に波形状68が設けられた金型66を準備する。そして、金型66を光硬化性樹脂59の上面に押し付ける。
図10(b)のように、金型66を光硬化性樹脂59に押し付けつつ、基体54側から紫外線を光硬化性樹脂59に照射して光硬化性樹脂59を硬化させる。これにより、金型66の波形状68が光硬化性樹脂59に転写される。
図10(c)のように、光硬化性樹脂59を硬化させた後、金型66を光硬化性樹脂59から取り外す。これにより、光硬化性樹脂59からなり、上面に波形状62を有する樹脂膜56が形成される。基体54と樹脂膜56とによって蓋体14aが形成される。樹脂膜56の上面にバリア膜20を形成する。
図11(a)のように、樹脂膜12に形成された波形状60と蓋体14aに形成された波形状62とがかみ合うように位置合わせをする。その後、蓋体14aを樹脂膜12の凹部25内の樹脂接着剤16に押し付けつつ、蓋体14a側から紫外線を樹脂接着剤16に照射して樹脂接着剤16を硬化させる。
ここで、図12(a)から図12(d)を用いて、図11(a)の工程を説明する。図12(a)のように、基体10を真空チャックステージ70に吸着させ、蓋体14aの基体54を真空チャックステージ72に吸着させる。真空チャックステージ72は、XYZ方向及び回転方向に移動可能となっている。真空チャックステージ72をXYZ方向及び回転方向に移動させて、基体10に形成されているマーカーと基体54に形成されているマーカーとの位置合わせを行う。例えば、図12(b)のように、基体10に田の字型のマーカー74が形成され、図12(c)のように、基体54に十字型のマーカー76が形成され、図12(d)のように、マーカー74とマーカー76とを位置合わせする。なお、マーカー74、76は、プライマー34、44を塗布する前に基体10、54に形成される。
位置合わせが終了した後、真空チャックステージ72を真空チャックステージ70に近づけて、蓋体14aを樹脂膜12に押し付ける。その後、樹脂膜12と蓋体14aとが動かないようにクリップなどで固定し、真空チャックステージ70及び真空チャックステージ72から取り外す。そして、樹脂接着剤16に紫外線を照射して樹脂接着剤16を硬化させる。
図11(b)のように、樹脂接着剤16を硬化させて樹脂膜12と蓋体14aとを接合させることで、蓋体14aで覆われた凹部23を含む流路22が形成される。その後、流路22に作動液28を注入して封止することで、実施例3の冷却装置300が形成される。
実施例3によれば、図8(a)から図8(c)のように、樹脂膜12の凸部24の上面のうちの凹部25以外の領域に波形状60が設けられ、蓋体14aのうちの樹脂膜12との接合面に波形状62が設けられている。波形状60と波形状62とはかみ合っている。これにより、凹部25と流路22との間の距離が波形状によって長くなるため、樹脂接着剤16が作動液28に接触し難くなり、樹脂接着剤16の樹脂が作動液28に溶出することを抑制できる。
また、実施例3によれば、図9(a)から図9(c)のように、凹凸形状の凹部48の底面における外周部48aに波形状64が設けられた金型38bを準備する。金型38bを光硬化性樹脂36に押し付けることで、凸部24の上面のうちの凹部25以外の領域に波形状60を有する樹脂膜12を形成する。図10(a)から図10(c)のように、波形状68を有する金型66を光硬化性樹脂59に押し付けることで波形状62を有する蓋体14aを形成する。そして、図11(a)及び図11(b)のように、樹脂膜12の波形状60と蓋体14aの波形状62とがかみ合うように、凹部25内の樹脂接着剤16を用いて樹脂膜12の凸部24の上面に蓋体14aを接合させる。このような工程を含んで冷却装置300を製造することで、凹部25と流路22との間の距離が波形状によって長くなる。このため、樹脂接着剤16が作動液28に接触し難くなり、樹脂接着剤16の樹脂が作動液28に溶出することを抑制できる。
図13(a)から図13(d)は、波形状60、62の例を示す断面図である。実施例3では、図13(a)のように、三角形状をした波形状60、62である場合を例に示したが、これに限られない。図13(b)のように、矩形形状をした波形状60、62の場合でもよいし、図13(c)のように、直角三角形形状をした波形状60、62の場合でもよいし、図13(d)のように、台形形状をした波形状60、62の場合でもよい。
なお、実施例3では、樹脂膜56は、紫外線によって硬化する紫外線硬化性樹脂からなる場合を例に示したが、可視光によって硬化する可視光線硬化性樹脂からなる場合でもよい。また、樹脂膜56は、光硬化性樹脂からなる場合に限られず、熱硬化性樹脂からなる場合でもよい。
図14は、実施例4に係る電子機器400の断面図である。実施例4の電子機器400は、例えば携帯電話、スマートフォン、タブレット型端末、又はパーソナルコンピュータなどである。図14のように、実施例4の電子機器400は、発熱体80と、放熱体82と、プリント基板84と、実施例1の冷却装置100と、を備える。発熱体80及び放熱体82は、プリント基板84上に設けられている。発熱体80は、例えばCPU(Central Processing Unit)などの発熱する電子部品である。放熱体82は、例えば複数のフィンを有するヒートシンクである。冷却装置100の発熱体80に相対する部分が受熱部30となり、放熱体82に相対する部分が放熱部32となる。なお、実施例4では、実施例1の冷却装置100を備える場合を例に示したが、実施例2の冷却装置200又は実施例3の冷却装置300を備える場合でもよい。
以上、本発明の実施例について詳述したが、本発明はかかる特定の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
なお、以上の説明に関して更に以下の付記を開示する。
(付記1)第1凹部と凸部とを有する樹脂膜と、前記凸部の上面に接合され、前記第1凹部を覆う蓋体と、前記蓋体で覆われた前記第1凹部を含む流路と、前記流路に封入された作動液と、前記第1凹部の内面を覆って設けられ、前記作動液への樹脂の溶出を抑制するバリア膜と、を備える冷却装置。
(付記2)前記バリア膜は前記第1凹部の底面及び側面の全面を覆っている、付記1記載の冷却装置。
(付記3)前記樹脂膜と前記蓋体とを接合する樹脂接着剤を備え、前記樹脂接着剤は、前記蓋体と前記樹脂膜の前記凸部との間に設けられ、前記蓋体と前記流路との間には設けられていない、付記1または2記載の冷却装置。
(付記4)前記樹脂膜の前記凸部の上面に前記流路から離れて設けられた第2凹部を備え、前記樹脂接着剤は前記第2凹部に埋め込まれている、付記3記載の冷却装置。
(付記5)前記樹脂膜の前記凸部の上面のうちの前記第2凹部以外の領域に第1波形状が設けられ、前記蓋体の前記樹脂膜との接合面に第2波形状が設けられ、前記第1波形状と前記第2波形状とはかみ合っている、付記4記載の冷却装置。
(付記6)前記蓋体は樹脂製であり、前記蓋体の前記流路に面する領域を覆って設けられ、前記作動液への樹脂の溶出を抑制する第2バリア膜を備える、付記1から5のいずれか一項記載の冷却装置。
(付記7)前記第2バリア膜は前記蓋体の前記流路に面する領域全面を覆っている付記6記載の冷却装置。
(付記8)第1凹部と凸部とを有する樹脂膜を形成する工程と、前記第1凹部の内面に作動液への樹脂の溶出を抑制する第1バリア膜を形成する工程と、前記第1凹部を覆うように前記凸部の上面に蓋体を接合させる工程と、前記樹脂膜と前記蓋体とを接合した後、前記蓋体で覆われた前記第1凹部を含む流路に前記作動液を封入する工程と、を備える冷却装置の製造方法。
(付記9)樹脂製の前記蓋体に第2バリア膜を形成する工程を備え、前記蓋体を接合させる工程は、前記蓋体と前記流路との間に前記第2バリア膜が介在するように、前記凸部の上面に前記蓋体を接合させる、付記8記載の冷却装置の製造方法。
(付記10)前記樹脂膜を形成する工程は、凹凸形状を有し且つ前記凹凸形状の凹部の底面における外周部が中央部よりも凹んだ金型を樹脂に押し付けることで、前記凸部の上面に前記第1凹部から離れた第2凹部を有する前記樹脂膜を形成し、前記凸部の上面のうちの前記第2凹部以外の領域に設けられないように前記第2凹部に樹脂接着剤を埋め込む工程を備え、前記蓋体を接合させる工程は、前記第2凹部に埋め込まれた前記樹脂接着剤を用いて前記凸部の上面に前記蓋体を接合させる、付記8または9記載の冷却装置の製造方法。
(付記11)前記樹脂膜を形成する工程は、前記凹凸形状の凹部の底面の前記外周部に波形状が設けられた前記金型を前記樹脂に押し付けることで、前記凸部の上面のうちの前記第2凹部以外の領域に第1波形状を有する前記樹脂膜を形成し、波形状を有する金型を樹脂に押し付けることで第2波形状を有する前記蓋体を形成する工程を備え、前記蓋体を接合させる工程は、前記樹脂膜の前記第1波形状と前記蓋体の前記第2波形状とがかみ合うように前記凸部の上面に前記蓋体を接合させる、付記10記載の冷却装置の製造方法。
(付記12)発熱する電子部品と、前記電子部品を冷却する冷却装置と、を備え、前記冷却装置は、凹部と凸部とを有する樹脂膜と、前記凸部の上面に接合され、前記凹部を覆う蓋体と、前記蓋体で覆われた前記凹部を含む流路と、前記流路に封入された作動液と、前記凹部の内面を覆って設けられ、前記作動液への樹脂の溶出を抑制するバリア膜と、を備える電子機器。
10 基体
12 樹脂膜
14、14a 蓋体
16 樹脂接着剤
18、20 バリア膜
22 流路
23、25 凹部
24 凸部
28 作動液
30 受熱部
32 放熱部
36、59 光硬化性樹脂
38、38a、38b 金型
48 凹部
48a 外周部
48b 中央部
50 凸部
54 基体
56 樹脂膜
60、62 波形状
64、68 波形状
66 金型
80 発熱体
82 放熱体
84 プリント基板

Claims (9)

  1. 第1凹部と凸部とを有する樹脂膜と、
    前記凸部の上面に接合され、前記第1凹部を覆う蓋体と、
    前記蓋体で覆われた前記第1凹部を含む流路と、
    前記流路に封入された作動液と、
    前記第1凹部の内面を覆って設けられ、前記作動液への樹脂の溶出を抑制するバリア膜と、を備える冷却装置。
  2. 前記樹脂膜と前記蓋体とを接合する樹脂接着剤を備え、
    前記樹脂接着剤は、前記蓋体と前記樹脂膜の前記凸部との間に設けられ、前記蓋体と前記流路との間には設けられていない、請求項1記載の冷却装置。
  3. 前記樹脂膜の前記凸部の上面に前記流路から離れて設けられた第2凹部を備え、
    前記樹脂接着剤は前記第2凹部に埋め込まれている、請求項2記載の冷却装置。
  4. 前記樹脂膜の前記凸部の上面のうちの前記第2凹部以外の領域に第1波形状が設けられ、
    前記蓋体の前記樹脂膜との接合面に第2波形状が設けられ、
    前記第1波形状と前記第2波形状とはかみ合っている、請求項3記載の冷却装置。
  5. 前記蓋体は樹脂製であり、
    前記蓋体の前記流路に面する領域を覆って設けられ、前記作動液への樹脂の溶出を抑制する第2バリア膜を備える、請求項1から4のいずれか一項記載の冷却装置。
  6. 第1凹部と凸部とを有する樹脂膜を形成する工程と、
    前記第1凹部の内面に作動液への樹脂の溶出を抑制するバリア膜を形成する工程と、
    前記第1凹部を覆うように前記凸部の上面に蓋体を接合させる工程と、
    前記樹脂膜と前記蓋体とを接合した後、前記蓋体で覆われた前記第1凹部を含む流路に前記作動液を封入する工程と、を備える冷却装置の製造方法。
  7. 前記樹脂膜を形成する工程は、凹凸形状を有し且つ前記凹凸形状の凹部の底面における外周部が中央部よりも凹んだ金型を樹脂に押し付けることで、前記凸部の上面に前記第1凹部から離れた第2凹部を有する前記樹脂膜を形成し、
    前記凸部の上面のうちの前記第2凹部以外の領域に設けられないように前記第2凹部に樹脂接着剤を埋め込む工程を備え、
    前記蓋体を接合させる工程は、前記第2凹部に埋め込まれた前記樹脂接着剤を用いて前記凸部の上面に前記蓋体を接合させる、請求項6記載の冷却装置の製造方法。
  8. 前記樹脂膜を形成する工程は、前記凹凸形状の凹部の底面の前記外周部に波形状が設けられた前記金型を前記樹脂に押し付けることで、前記凸部の上面のうちの前記第2凹部以外の領域に第1波形状を有する前記樹脂膜を形成し、
    波形状を有する金型を樹脂に押し付けることで第2波形状を有する前記蓋体を形成する工程を備え、
    前記蓋体を接合させる工程は、前記樹脂膜の前記第1波形状と前記蓋体の前記第2波形状とがかみ合うように前記凸部の上面に前記蓋体を接合させる、請求項7記載の冷却装置の製造方法。
  9. 発熱する電子部品と、
    前記電子部品を冷却する冷却装置と、を備え、
    前記冷却装置は、凹部と凸部とを有する樹脂膜と、前記凸部の上面に接合され、前記凹部を覆う蓋体と、前記蓋体で覆われた前記凹部を含む流路と、前記流路に封入された作動液と、前記凹部の内面を覆って設けられ、前記作動液への樹脂の溶出を抑制するバリア膜と、を備える電子機器。
JP2016048773A 2016-03-11 2016-03-11 冷却装置、冷却装置の製造方法、及び電子機器 Pending JP2017161204A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016048773A JP2017161204A (ja) 2016-03-11 2016-03-11 冷却装置、冷却装置の製造方法、及び電子機器

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016048773A JP2017161204A (ja) 2016-03-11 2016-03-11 冷却装置、冷却装置の製造方法、及び電子機器

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2017161204A true JP2017161204A (ja) 2017-09-14

Family

ID=59857793

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016048773A Pending JP2017161204A (ja) 2016-03-11 2016-03-11 冷却装置、冷却装置の製造方法、及び電子機器

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2017161204A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020196332A1 (ja) * 2019-03-22 2020-10-01 日立化成株式会社 冷却構造体
WO2020196333A1 (ja) * 2019-03-22 2020-10-01 日立化成株式会社 冷却構造体
WO2020196330A1 (ja) * 2019-03-22 2020-10-01 日立化成株式会社 冷却構造体
WO2020196335A1 (ja) * 2019-03-22 2020-10-01 日立化成株式会社 冷却構造体
JPWO2020196331A1 (ja) * 2019-03-22 2021-10-21 昭和電工マテリアルズ株式会社 冷却構造体
JPWO2020196334A1 (ja) * 2019-03-22 2021-10-21 昭和電工マテリアルズ株式会社 冷却構造体

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020196332A1 (ja) * 2019-03-22 2020-10-01 日立化成株式会社 冷却構造体
WO2020196333A1 (ja) * 2019-03-22 2020-10-01 日立化成株式会社 冷却構造体
WO2020196330A1 (ja) * 2019-03-22 2020-10-01 日立化成株式会社 冷却構造体
WO2020196335A1 (ja) * 2019-03-22 2020-10-01 日立化成株式会社 冷却構造体
JPWO2020196331A1 (ja) * 2019-03-22 2021-10-21 昭和電工マテリアルズ株式会社 冷却構造体
JPWO2020196330A1 (ja) * 2019-03-22 2021-10-21 昭和電工マテリアルズ株式会社 冷却構造体
JPWO2020196334A1 (ja) * 2019-03-22 2021-10-21 昭和電工マテリアルズ株式会社 冷却構造体
JPWO2020196332A1 (ja) * 2019-03-22 2021-10-21 昭和電工マテリアルズ株式会社 冷却構造体
JP7164020B2 (ja) 2019-03-22 2022-11-01 昭和電工マテリアルズ株式会社 冷却構造体
JP7164019B2 (ja) 2019-03-22 2022-11-01 昭和電工マテリアルズ株式会社 冷却構造体
JP7164022B2 (ja) 2019-03-22 2022-11-01 昭和電工マテリアルズ株式会社 冷却構造体
JP7164018B2 (ja) 2019-03-22 2022-11-01 昭和電工マテリアルズ株式会社 冷却構造体

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2017161204A (ja) 冷却装置、冷却装置の製造方法、及び電子機器
US11257690B2 (en) 3DIC package comprising perforated foil sheet
JP6233377B2 (ja) 電子機器の製造方法
US10866032B2 (en) Polymer-based pulsating heat pipe and manufacturing method thereof
US11380603B2 (en) Method for making a heat dissipation structure
CN106816419B (zh) 薄膜上芯片封装
KR102082252B1 (ko) 칩 패키지 구조체 및 그 제조 방법
JP6024297B2 (ja) 電子機器、電子機器の製造方法
TW201524326A (zh) 散熱裝置、其製作方法及具有散熱裝置的柔性電路板
US20140060780A1 (en) Flat heat pipe and fabrication method thereof
JP5120032B2 (ja) 電子装置
JP6327029B2 (ja) 内部に連通空間を備える積層構造体及びその製造方法
JP2007093032A (ja) シート状ヒートパイプおよびその製造方法
US20210015002A1 (en) Vapor chamber with circuit unit
CN107660099B (zh) 平板薄膜式散热装置
CN115968491A (zh) 弹性构件和包括该弹性构件的显示设备
JP2013219194A (ja) 半導体装置
US20100059212A1 (en) Heat control device and method of manufacturing the same
JP2017155981A (ja) 冷却装置、冷却装置の製造方法、及び電子機器
KR102213176B1 (ko) 2차 몰딩에 의한 SiP모듈의 제조방법 및 SiP모듈
JP2014135374A (ja) 伝熱基板
JP2018071884A (ja) 自励振動ヒートパイプ及び電子機器
CN210093799U (zh) 超薄型散热板
CN107919335B (zh) 半导体封装件
KR20200033702A (ko) 열 전도 부재