JP2017142487A - 光変調器 - Google Patents

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  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)

Abstract

【課題】簡易な回路構成で光導波路アームにそれぞれ入力される電気信号の振幅差を小さくすることが可能な技術を提供することを目的とする。【解決手段】光変調器は、入射された連続光を分波させる光分波器120と、分波された連続光が伝搬する光導波路アーム100および光導波路アーム110と、光にπの位相差を付加する光位相πシフタ140と、光導波路アーム100および光導波路アーム110の後段に配置され、光導波路アーム100および光導波路アーム110を伝搬する連続光を合波させる光合波器130と、光導波路アーム100および光導波路アーム110にそれぞれ電気信号を入力する信号電極150および信号電極160と、信号電極150および信号電極160の少なくとも一方に、シャントに接続された接合容量190と、接合容量190に直流電圧を印加する直流電圧源200とを備えている。【選択図】図1

Description

本発明は、光変調器を制御する技術に関し、特にマッハツェンダー型光変調器に適用可能な技術に関するものである。
近年、データ通信量の急激な増大に対応して、光通信システムの大容量化が進められている。光通信システムのキーデバイスとして、半導体レーザが広く利用されており、光信号の伝送距離に応じて強度変調または位相変調を行っている。メトロネットワーク(都市内通信)またはFTTH(Fiber To The Home)ネットワークなどの100km以下の中・短距離光伝送システムでは小型なデバイスが求められており、強度変調レーザが広く利用されている。一方、コアネットワーク(都市間通信)などの100km以上の長距離光伝送システムでは、高速動作と長距離伝送を両立する位相変調レーザの利用が始まっている。
位相変調レーザとして、マッハツェンダー型光変調器(Mach−Zehnder Modulator、以下「MZM」と称す)が広く利用されている。位相変調MZMは、電気のデジタル信号を光のデジタル信号に変換するデバイスであり、半導体レーザからの連続(CW)光の出力を電気信号により量子井戸(Multi−Quantum Well)の屈折率を変化させることで位相変調を行っている。
MZMにおいて良好な光特性を得るには、Y分岐後の2本の光導波路アームに入力する電気信号の振幅差を小さくするのが良い。なぜならば、振幅差が大きい場合、光出力の低下、消光比の低下およびノイズの増大が問題となるからである。また、光導波路アームにそれぞれ入力される電気信号の位相差も小さくすることで、伝送後の信号判定エラーを低減することができる。
ただし、素子のチップレイアウトの制約上、信号電極の入力端から光導波路アームに電気信号が入力するまでの電極パターンは光導波路アーム毎に異なる。そのため、光導波路アームに入力される電気信号の振幅および位相は光導波路アーム毎に異なる事態を招来する。
電気信号の位相差については、MZM素子を実装するモジュール基板において電気長を調整することにより容易に小さくすることができる。しかし一方で、電気信号の振幅差については、前記モジュール基板のパターン変更による調整が難しい。なぜならば、電気信号の損失を小さくするために、低損失なモジュール基板が広く利用されているからである。したがって、MZM素子において電気信号の振幅差が小さくなるように素子の構成を工夫する必要がある。
そこで、電気信号の振幅差を小さくするために、例えば特許文献1に記載の技術では、入力信号調整領域を設け、2本の光導波路アームにそれぞれ入力する電気信号の振幅が等しくなるように調整している。
特開2014−178480号公報
しかしながら、特許文献1には、入力信号調整領域の具体的な構造および調整方法については開示されていない。
そこで、本発明は、簡易な回路構成で光導波路アームにそれぞれ入力される電気信号の振幅差を小さくすることが可能な技術を提供することを目的とする。
本発明に係る光変調器は、半導体レーザから入射された連続光に対して、電気信号により第1および第2の光導波路アームの量子井戸の屈折率を変化させることで位相変調を行うマッハツェンダー型の光変調器であって、前記入射された連続光を分波させる光分波器と、前記分波された連続光が伝搬する前記第1および第2の光導波路アームと、前記第1および第2の光導波路アーム上の少なくとも一方に配置され、光にπの位相差を付加する光位相シフタと、前記第1および第2の光導波路アームの後段に配置され、前記第1および第2の光導波路アームを伝搬する連続光を合波させる光合波器と、前記第1および第2の光導波路アームにそれぞれ電気信号を入力する第1および第2の信号電極と、前記第1および第2の信号電極の少なくとも一方に、シャントに接続された接合容量と、前記接合容量に直流電圧を印加する直流電圧源とを備えたものである。
本発明によれば、直流電圧源が接合容量に直流電圧を印加し接合容量の値を制御することで、第1の光導波路アームおよび第2の光導波路アームの少なくとも一方に入力される電気信号の振幅値が制御されるため、簡易な回路構成で第1および第2の光導波路アームにそれぞれ入力される電気信号の振幅差を小さくすることができる。
実施の形態1に係る光変調器の構成図である。 図1のA−A’線断面図である。 図1のB−B’線断面図である。 出射光の出力と位相との関係図である。 接合容量の値と逆バイアスとの関係図である。 接合容量の断面図である。 2本の光導波路アームに入力される電気信号の振幅差Aと周波数との関係図である。 2本の光導波路アームに入力される電気信号の位相差θと周波数との関係図である。 実施の形態1に係る光変調器の他の構成を示す構成図である。 実施の形態1に係る光変調器の他の構成を示す構成図である。 接合容量の他の構成を示す断面図である。 接合容量の他の構成を示す断面図である。 実施の形態2に係る光変調器の構成図である。 実施の形態2に係る光変調器の他の構成を示す構成図である。 実施の形態2に係る光変調器の他の構成を示す構成図である。 実施の形態2に係る光変調器の他の構成を示す構成図である。 実施の形態3に係る光変調器の構成図である。 実施の形態3に係る光変調器の他の構成を示す構成図である。 実施の形態3に係る光変調器の他の構成を示す構成図である。 実施の形態3に係る光変調器の他の構成を示す構成図である。
<実施の形態1>
本発明の実施の形態1について、図面を用いて以下に説明する。図1は、実施の形態1に係る光変調器の構成図である。
図1に示すように、実施の形態1に係る光変調器は、マッハツェンダー型光変調器(MZM)であり、入射端子170と、光分波器120と、光導波路アーム100,110と、光位相πシフタ140と、光合波器130と、出射端子180と、信号電極150,160と、接合容量190と、直流電圧源200とを備えている。
入射端子170は、半導体レーザからの連続光が入射される。光分波器120は、半導体レーザから入射された連続光を分波させる。光分波器120により分波された連続光は、光導波路アーム100および光導波路アーム110を伝搬する。光位相πシフタ140(光位相シフタ)は、光導波路アーム100(第2の光導波路アーム)上の終端側に配置され、光にπの位相差を付加することで光の位相をπ反転させる。光合波器130は、光導波路アーム100および光導波路アーム110の後段、より具体的には、光位相πシフタ140の後段に配置され、光導波路アーム100および光導波路アーム110(第1の光導波路アーム)を伝搬する連続光を合波させる。出射端子180は、光合波器130により合波された連続光を出射する。
信号電極150(第2の信号電極)および信号電極160(第1の信号電極)は、光導波路アーム100および光導波路アーム110にそれぞれ電気信号を入力する。接合容量190は、信号電極160に対してシャントに接続されている。直流電圧源200は、接合容量190に直流電圧を印加し接合容量190の値を制御する。なお、光位相πシフタ140は、光導波路アーム100上の終端側の代わりに、光導波路アーム110上の終端側に配置されてもよい。
次に、実施の形態1に係る光変調器の動作について説明する。光変調器は、半導体レーザから入射された連続光に対して、電気信号により光導波路アーム100および光導波路アーム110の量子井戸の屈折率を変化させることで位相変調を行う。
以下、光変調器の動作について詳細に説明する。半導体レーザから入射端子170に入射された連続光は、光分波器120により同相で2分波され、光導波路アーム100および光導波路アーム110をそれぞれ伝搬する。図2は、図1のA−A’線断面図であり、すなわち、端面A−A’の断面構造を示す図である。図2に示すように、半絶縁性基板105上にn型半導体層103、活性層102およびp型半導体層101が順に積層され、これらを覆うように絶縁膜104が形成されている。光導波路アーム100は、p型半導体層101、活性層102およびn型半導体層103の3層構造である。光導波路アーム110は、p型半導体層111、活性層112およびn型半導体層103の3層構造である。光導波路アーム100および光導波路アーム110を伝搬する光は、それぞれ活性層102および活性層112中を伝搬する。
信号電極150および信号電極160には差動の電気信号が入力され、信号電極150および信号電極160の特性インピーダンスと同じ抵抗値で終端される。信号電極150はシグナル(Signal)電極151とグランド(GND)電極152で構成され、信号電極160はシグナル電極161とグランド電極162で構成される。
光導波路アーム100および光導波路アーム110を伝搬する光は、図1に示した端面B−B’から端面C−C’までの間において、電気信号に基づいて変調される。図3は、図1のB−B’線断面図であり、すなわち、端面B−B’の断面構造を示す図である。図3に示すように、光導波路アーム100および光導波路アーム110と信号電極150および信号電極160は、端面B−B’から端面C−C’までの間においてのみ接続される。そして、電気信号に基づいて、活性層102および活性層112内に形成した量子井戸の屈折率を変化させることで、光の位相を変化させる。尚、端面B−B’から端面C−C’までの断面構造は図3に示した断面構造と同じである。
具体的には、変調前の端面B−B’における光導波路アーム100および光導波路アーム110を伝搬する光の位相は同相であるが、変調後の端面C−C’における光の位相が逆相となるように制御する。このとき、端面C−C’における光導波路アーム100における光の位相は(0、π)、光導波路アーム110における光の位相は(π、0)となる。
さらに、光位相πシフタ140により、光導波路アーム100を伝搬する光の位相をπ反転させる。そして、光合波器130により、光導波路アーム100および光導波路アーム110をそれぞれ伝搬する光を合波することで、位相が(0、π)に変調された光が出射端子180から出射する。このようにして、電気信号はMZMから出射される光の位相として現れることにより、電気−光変換が行われる。
光導波路アーム100および光導波路アーム110にそれぞれ入力される電気信号、つまり端面B−B’における電気信号に振幅差がない場合は、光導波路アーム100および光導波路アーム110を伝搬する光の位相は変調後の端面C−C’において逆相(位相差π)となる。しかしながら、電気信号に振幅差がある場合は、光の位相差はπ−δ(δは正)となり、逆相関係にはならない。その結果、光合波器130において同相で合波することができず、光の位相差δ分だけ出射光の出力が低下してしまう。
図4は、出射光の出力と位相との関係図である。図4に示すように、電気信号の振幅差がない場合は、出射光は位相(0、π)で出力が最大となる。しかし、電気信号に振幅差がある場合は、図1に示した端面C−C’における光の位相差がπ−δとなることから、出射光の位相は(δ/2、π−δ/2)となり、光出力が低下する。さらに、光出力の低下に伴い、消光比も低下する。また、光位相の変化量に対する光出力の変化量は小さい方がノイズの影響は小さく、図4より、光位相が(0、π)のときに最小となる。したがって、電気信号に振幅差がある場合はノイズの影響も大きくなる。以上、(1)光出力、(2)消光比および(3)ノイズ耐性の観点から、光導波路アーム100および光導波路アーム110に入力される、つまり図1に示した端面B−B’における電気信号の振幅差を小さくすることが重要である。
しかしながら、図1に示したように、素子のチップレイアウトの制約上、信号電極150および信号電極160の入力端から光導波路アーム100および光導波路アーム110に電気信号が入力されるまでの電極パターンは光導波路アーム毎に異なる。そのため、光導波路アーム100および光導波路アーム110にそれぞれ入力される電気信号に振幅差が生じてしまう。
そこで、図1に示したように、直流電圧源200から供給される電圧の大きさに応じて、入力側の信号電極160に対してシャントに接続された接合容量190の値を変化させる(制御する)ことで、光導波路アーム110に入力される電気信号の振幅を制御する。
図5は、接合容量190の値と逆バイアスとの関係図である。図5に示すように、接合容量190の値は逆バイアスに対して非線形に変化する。したがって、直流電圧源200から供給される電圧の値に基づいて、光導波路アーム110に入力される電気信号の振幅を制御することで、光導波路アーム100および光導波路アーム110にそれぞれ入力される電気信号の振幅差を小さくすることができる。
次に、接合容量190の構造について説明する。図6は、接合容量190の断面図である。図6に示すように、接合容量190は、半絶縁性基板105、p型半導体層191、n型半導体層193、絶縁膜194およびDC電極195を備え、p型半導体層191とn型半導体層193とのp−n接合を含む構造である。
接合容量190の動作について説明する。直流電圧源200により、接合容量190に逆バイアスを印加することによりp−n接合界面の空乏層領域を変化させることで、接合容量190の値が変化する(制御される)。したがって、直流電圧源200から供給される電圧の大きさに基づいて、接合容量190の値を制御することができるため、光導波路アーム100および光導波路アーム110に入力される、つまり図1に示した端面B−B’における電気信号の振幅差を小さくことができる。
図7は、光導波路アーム100および光導波路アーム110に入力される電気信号の振幅差Aと周波数との関係図である。ここでは、振幅差Aを、振幅値A110(光導波路アーム110に入力される電気信号の振幅値)−振幅値A100(光導波路アーム100に入力される電気信号の振幅値)と定義する。図中、実線が実施の形態1に係る光変調器におけるA、点線が従来の光変調器におけるAを示す。
図7に示すように、従来の光変調器ではA110>A100であることから、実施の形態1に係る光変調器では、信号電極160に対してシャントに接続された接合容量190により電気信号の損失量を制御する。その結果、直流電圧源200から供給される電圧の値を最適に設定することで、実施の形態1に係る光変調器では、光導波路アーム100および光導波路アーム110にそれぞれ入力される電気信号の振幅差が改善することを確認できた。
図8は、光導波路アーム100および光導波路アーム110に入力される電気信号の位相差θと周波数との関係図である。ここでは、位相差θを、位相θ110(光導波路アーム110に入力される電気信号の位相)−位相θ100(光導波路アーム100に入力される電気信号の位相)と定義する。図中、実線が実施の形態1に係る光変調器におけるθ、点線が従来の光変調器におけるθを示す。
図8に示すように、A110>A100、かつθ110>θ100の場合、信号電極160に対してシャントに接続された接合容量190により位相θ110が遅れるため、従来の光変調器と比較して実施の形態1に係る光変調器では光導波路アーム100および光導波路アーム110に入力される電気信号の位相差が改善することを確認できた。
なお、電気信号の位相差θについては、MZM素子を実装するモジュール基板において電気長を調整することにより容易に小さくすることができる。しかし、予め素子での位相差θを小さくすることで、モジュール基板における電気長の調整量を低減することができ、その結果、モジュール基板のサイズを小さくすることができるという利点がある。
また、電気信号の振幅の制御に接合容量190を用いることから、逆バイアス印加時の逆方向電流は小さく、消費電力の増大を抑制できるという利点がある。
以上のように、実施の形態1に係る光変調器では、直流電圧源200が接合容量190に直流電圧を印加し接合容量190の値を制御することで、光導波路アーム110に入力される電気信号の振幅値が制御されるため、簡易な回路構成で光導波路アーム100および光導波路アーム110にそれぞれ入力される電気信号の振幅差を小さくすることができる。また、電気信号の振幅の制御に接合容量190を用いることから、逆バイアス印加時の逆方向電流は小さく、消費電力の増大を抑制できる。
接合容量190は、p型半導体層191とn型半導体層193とのp−n接合を含む構造であり、逆バイアス印加により接合容量190の値が制御されるため、光導波路アーム100および光導波路アーム110に入力される電気信号の振幅差を小さくことができる。
次に、実施の形態1に係る光変調器の他の構成について説明する。図9は、実施の形態1に係る光変調器の他の構成を示す構成図である。図9に示すように、接合容量190と直流電圧源200との間に高周波において開放のインピーダンスを有する回路部品が配置されている。より具体的には、接合容量190と直流電圧源200との間に前記回路部品であるインダクタ201が直列に接続されている。これにより、直流電圧源200側のインピーダンスは高周波で開放となることから、直流電圧源200の回路が高周波特性に及ぼす影響を小さくすることができ、高周波特性の劣化を抑制することができる。
図10は、実施の形態1に係る光変調器の他の構成を示す構成図である。図10に示すように、接合容量190と直流電圧源200との間に前記回路部品であるkΩ以上の高抵抗202が直列に接続されている。これにより、直流電圧源200側のインピーダンスは高周波で開放となることから、直流電圧源200の回路が高周波特性に及ぼす影響を小さくすることができ、高周波特性の劣化を抑制することができる。さらに、インダクタ201の代わりに高抵抗202を用いることで、光変調器モジュールのサイズを小さくすることができる。
接合容量190と直流電圧源200との間に、高周波において開放のインピーダンスを有する回路部品が配置されるため、直流電圧源の回路が高周波特性に及ぼす影響を小さくすることができ、高周波特性の劣化を抑制することができる。
次に、接合容量190の他の構成について説明する。図11は、接合容量190の他の構成を示す断面図である。図11に示すように、接合容量190は、半絶縁性基板105、n型半導体層193、絶縁膜194およびDC電極195を備え、信号電極であるシグナル電極161および信号電極であるグランド電極162とn型半導体層193とのショットキー接合を含む構造である。
直流電圧源200により、接合容量190に逆バイアスを印加することでショットキー接合界面の空乏層領域を変化させることで、接合容量190の値が変化する。したがって、直流電圧源200から供給される電圧の大きさにより、接合容量190の値を制御することができるため、光導波路アーム100および光導波路アーム110に入力される、つまり図1に示した端面B−B’における電気信号の振幅差を小さくことができる。
以上のように、接合容量190は、シグナル電極161およびグランド電極162とn型半導体層193とのショットキー接合を含む構造であり、逆バイアス印加により接合容量の値が制御されるため、光導波路アーム100および光導波路アーム110に入力される電気信号の振幅差を小さくことができる。
図12は、接合容量190の他の構成を示す断面図である。図12に示すように、接合容量190は、半絶縁性基板105、p型半導体層191、i型活性層192、n型半導体層193、絶縁膜194およびDC電極195を備え、p型半導体層191とi型活性層192とn型半導体層193とのp−i−n接合を含む構造である。直流電圧源200により、接合容量190に逆バイアスを印加することでp−i−n接合界面の空乏層領域を変化させることで、接合容量190の値が変化する。したがって、直流電圧源200から供給される電圧の大きさに基づいて、接合容量190の値を制御することができるため、光導波路アーム100および光導波路アーム110に入力される、つまり図1に示した端面B−B’における電気信号の振幅差を小さくことができる。
また、接合容量190は、光導波路アーム100および光導波路アーム110のエピタキシャル構造と同じ構造とすることで、素子の製造工程の増大を抑制することができる。
以上のように、接合容量190は、p型半導体層191とi型活性層192とn型半導体層193とのp−i−n接合を含む構造であり、逆バイアス印加により接合容量190の値が制御されるため、光導波路アーム100および光導波路アーム110に入力される電気信号の振幅差を小さくことができる。
また、接合容量190は、p型半導体層191とi型活性層192とn型半導体層193とのp−i−n接合を含み、かつ光導波路アーム100および光導波路アーム110のエピタキシャル構造と同じ構造であり、逆バイアス印加により接合容量190の値が制御されるため、素子の製造工程の増大を抑制することができる。
<実施の形態2>
次に、実施の形態2に係る光変調器について説明する。図13は、実施の形態2に係る光変調器の構成図である。なお、実施の形態2において、実施の形態1で説明したものと同一の構成要素については同一符号を付して説明は省略する。
実施の形態1に係る光変調器は、接合容量190および直流電圧源200を1つずつ備えていたが、実施の形態2に係る光変調器は、接合容量および直流電圧源を2つずつ備えている。具体的には、図13に示すように、実施の形態2に係る光変調器は、接合容量190A(第1の接合容量)および接合容量190B(第2の接合容量)と、直流電圧源200A(第1の直流電圧源)および直流電圧源200B(第2の直流電圧源)とを備えている。接合容量190Aおよび接合容量190Bは、信号電極160および信号電極150に対してそれぞれシャントに接続された1つの接合容量190aおよび接合容量190bからなる。直流電圧源200Aおよび直流電圧源200Bは、接合容量190Aおよび接合容量190Bにそれぞれ直流電圧を印加し接合容量190Aおよび接合容量190Bの値をそれぞれ制御する1つの直流電圧源200aおよび直流電圧源200bからなる。
次に、実施の形態2に係る光変調器の動作について説明する。直流電圧源200aから供給される電圧の大きさにより接合容量190aの値を変化させることで光導波路アーム110に入力される電気信号の振幅を制御し、直流電圧源200bから供給される電圧の大きさにより接合容量190bの値を変化させることで光導波路アーム100に入力される電気信号の振幅を制御する。実施の形態1に係る光変調器では、図1に示したように、信号電極160に対してシャントに接続した接合容量190のみで光導波路アーム100および光導波路アーム110に入力する、つまり端面B−B’における電気信号の振幅差を小さくするため、電気信号の振幅差に関する調整パラメータは1つとなる。
それに対し、実施の形態2に係る光変調器では、図13に示すように、信号電極160に対してシャントに接続した接合容量190aと、信号電極150に対してシャントに接続した接合容量190bにより光導波路アーム100および光導波路アーム110に入力する、つまり端面B−B’における電気信号の振幅差を小さくするため、電気信号の振幅差に関する調整パラメータは2つとなる。
したがって、実施の形態2に係る光変調器では、電気信号の振幅差に関する調整パラメータが多いことから、実施の形態1に係る光変調器と比較して、光導波路アーム100および光導波路アーム110に入力する、つまり端面B−B’における電気信号の振幅差をさらに小さくすることができる。
以上のように、実施の形態2に係る光変調器では、直流電圧源200Aおよび直流電圧源200Bが接合容量190Aおよび接合容量190Bにそれぞれ直流電圧を印加し接合容量190Aおよび接合容量190Bの値を制御することで、光導波路アーム110および光導波路アーム100にそれぞれ入力される電気信号の振幅値が制御されるため、簡易な回路構成で光導波路アーム100および光導波路アーム110にそれぞれ入力される電気信号の振幅差を小さくすることができる。また、電気信号の振幅の制御に接合容量190Aおよび接合容量190Bを用いることから、逆バイアス印加時の逆方向電流は小さく、消費電力の増大を抑制できる。
次に、実施の形態2に係る光変調器の他の構成について説明する。図14は、実施の形態2に係る光変調器の他の構成を示す構成図である。図14に示すように、接合容量190Aおよび接合容量190Bは、信号電極160および信号電極150に対してそれぞれシャントに接続された複数(例えば2つ)の接合容量190a,190cおよび接合容量190b,190dからなる。直流電圧源200Aおよび直流電圧源200Bは、接合容量190Aおよび接合容量190Bの値をそれぞれ制御する複数(例えば2つ)の直流電圧源200a,201aおよび直流電圧源200b,201bからなる。このように、図13の場合と比べて、電気信号の振幅差に関する調整パラメータが増えることで、電気信号の振幅差をさらに小さくすることができる。
図15は、実施の形態2に係る光変調器の他の構成を示す構成図である。図15に示すように、接合容量190aと直流電圧源200aとの間にインダクタ201aが、接合容量190bと直流電圧源200bとの間にインダクタ201bが直列に接続されている。なお、インダクタ201a,201bが高周波において開放のインピーダンスを有する回路部品である。これにより、直流電圧源200aおよび直流電圧源200b側のインピーダンスは高周波で開放となることから、直流電圧源200aおよび直流電圧源200bの回路が高周波特性に及ぼす影響を小さくすることができ、高周波特性の劣化を抑制することができる。
図16は、実施の形態2に係る光変調器の他の構成を示す構成図である。図16に示すように、接合容量190aと直流電圧源200aとの間にkΩ以上の高抵抗202aが、接合容量190bと直流電圧源200bとの間にkΩ以上の高抵抗202bが直列に接続されている。なお、高抵抗202a,202bが高周波において開放のインピーダンスを有する回路部品である。これにより、直流電圧源200aおよび直流電圧源200b側のインピーダンスは高周波で開放となることから、直流電圧源200aおよび直流電圧源200bの回路が高周波特性に及ぼす影響を小さくすることができ、高周波特性の劣化を抑制することができる。さらに、インダクタ201aおよびインダクタ201bの代わりに高抵抗202aおよび高抵抗202bを用いることで、光変調器モジュールのサイズを小さくすることができる。
また、接合容量190A,190Bの構造は、実施の形態1で説明した図6、図11または図12の構造と同様であることから説明を省略するが、実施の形態2においても、図6、図11または図12の場合と同様の効果が得られる。
<実施の形態3>
次に、実施の形態3に係る光変調器について説明する。図17は、実施の形態3に係る光変調器の構成図である。なお、実施の形態3において、実施の形態2で説明したものと同一の構成要素については同一符号を付して説明は省略する。
実施の形態2に係る光変調器では、光位相πシフタ140は光導波路アーム100および光導波路アーム110の少なくとも一方の後段に配置されていたが、実施の形態3に係る光変調器では、光位相πシフタ141および光位相πシフタ142は光導波路アーム100および光導波路アーム110の前段にそれぞれ配置されている。
実施の形態3に係る光変調器は、実施の形態2の場合と同様に、接合容量および直流電圧源を2つずつ備えている。具体的には、図17に示すように、実施の形態3に係る光変調器は、接合容量190A(第1の接合容量)および接合容量190B(第2の接合容量)と、直流電圧源200A(第1の直流電圧源)および直流電圧源200B(第2の直流電圧源)とを備えている。接合容量190Aおよび接合容量190Bは、信号電極160および信号電極150に対してそれぞれシャントに接続された1つの接合容量190aおよび接合容量190bからなる。直流電圧源200Aおよび直流電圧源200Bは、接合容量190Aおよび接合容量190Bにそれぞれ直流電圧を印加し接合容量190Aおよび接合容量190Bの値をそれぞれ制御する1つの直流電圧源200aおよび直流電圧源200bからなる。
次に、実施の形態3に係る光変調器の動作について説明する。直流電圧源200aから供給される電圧の大きさにより接合容量190aの値を変化させることで光導波路アーム110に入力される電気信号の振幅を制御する。直流電圧源200bから供給される電圧の大きさにより接合容量190bの値を変化させることで光導波路アーム100に入力される電気信号の振幅を制御する。実施の形態1に係る光変調器では、図1に示したように、信号電極160に対してシャントに接続された接合容量190のみで光導波路アーム100および光導波路アーム110に入力される電気信号の振幅差、つまり端面B−B’における電気信号の振幅差を小さくするため、電気信号の振幅差に関する調整パラメータは1つとなる。
それに対し、実施の形態3に係る光変調器では、図17に示すように、信号電極160に対してシャントに接続された接合容量190aと、信号電極150に対してシャントに接続された接合容量190bにより光導波路アーム100および光導波路アーム110に入力される電気信号の振幅差、つまり端面B−B’における電気信号の振幅差を小さくするため、電気信号の振幅差に関する調整パラメータは2つとなる。
したがって、実施の形態3に係る光変調器では、電気信号の振幅差に関する調整パラメータが多いことから、実施の形態1に係る光変調器と比較して、光導波路アーム100および光導波路アーム110に入力する電気信号の振幅差、つまり端面B−B’における電気信号の振幅差をさらに小さくすることができる。
以上のように、実施の形態3に係る光変調器では、直流電圧源200Aおよび直流電圧源200Bが接合容量190Aおよび接合容量190Bにそれぞれ直流電圧を印加し接合容量190Aおよび接合容量190Bの値をそれぞれ制御することで、光導波路アーム110および光導波路アーム100にそれぞれ入力される電気信号の振幅値が制御される。したがって、簡易な回路構成で光導波路アーム100および光導波路アーム110にそれぞれ入力される電気信号の振幅差を小さくすることができる。また、電気信号の振幅の制御に接合容量190Aおよび接合容量190Bを用いることから、逆バイアス印加時の逆方向電流は小さく、消費電力の増大を抑制できる。
次に、接合容量に印加される直流電圧の調整方法の例について説明する。素子に内在する電気信号の振幅差に加え、光送信モジュールとして実装する際の製造ばらつきに由来する電気信号の振幅差も含んで調整することを考える。光送信モジュールとして実装後には、電気信号の振幅差をモニタすることが難しくなる。このような場合、変調後の光出力を受信し、位相変調信号のコンステレーションが最適になる直流電圧、または伝送時のビットエラー率が最善となる直流電圧を接合容量に印加することで調整が可能になる。
また、接合容量190Aおよび接合容量190Bの構造は、実施の形態1で説明した図6、図11または図12の構造と同様であることから説明を省略するが、実施の形態3においても、図6、図11または図12の場合と同様の効果が得られる。
なお、実施の形態3では、接合容量を実施の形態1の場合のように第1および第2の接合容量のうちの片方だけにすることが可能である。
次に、実施の形態3に係る光変調器の他の構成について説明する。図18は、実施の形態3に係る光変調器の他の構成(以下、「構成2」ともいう)の構成図である。
図17に示した実施の形態3に係る光変調器(以下、「構成1」ともいう)では、接合容量190A(第1の接合容量)および接合容量190B(第2の接合容量)と、直流電圧源200A(第1の直流電圧源)および直流電圧源200B(第2の直流電圧源)が信号電極160および信号電極150の入力側にそれぞれ配置された。
構成2では、構成1に加えて信号電極160および信号電極150の終端側である信号電極181および信号電極171にも接合容量190D(第3の接合容量)および接合容量190C(第4の接合容量)と、直流電圧源200D(第3の直流電圧源)および直流電圧源200C(第4の直流電圧源)がそれぞれ配置された。
具体的には、図18に示すように、構成2では、接合容量190Cおよび接合容量190Dは、信号電極171(第4の信号電極)および信号電極181(第3の信号電極)に対してそれぞれシャントに接続された1つの接合容量190cおよび接合容量190dからなる。直流電圧源200Cおよび直流電圧源200Dは、接合容量190Cおよび接合容量190Dにそれぞれ直流電圧を印加し接合容量190Cおよび接合容量190Dの値をそれぞれ制御する1つの直流電圧源200cおよび直流電圧源200dからなる。信号電極171および信号電極181は、光導波路アーム100および光導波路アーム110にそれぞれ電気信号を入力する。
次に、構成2の動作について説明する。図17に示した構成1では、直流電圧源200aから供給される電圧の大きさにより接合容量190aの値を変化させることで光導波路アーム110に入力される電気信号の振幅を制御する。直流電圧源200bから供給される電圧の大きさにより接合容量190bの値を変化させることで光導波路アーム100に入力される電気信号の振幅を制御する。
図17に示すように、信号電極160に対してシャントに接続された接合容量190aと、信号電極150に対してシャントに接続された接合容量190bにより光導波路アーム100および光導波路アーム110に入力される電気信号の振幅差、つまり端面B−B’における電気信号の振幅差を小さくしている。
図18に示すように、構成2では、信号電極150および信号電極160の終端側、すなわち、信号電極171および信号電極181にそれぞれ設けられた接合容量190Cおよび接合容量190Dに加え、説明のため終端抵抗211および終端抵抗212も示した。通常、各終端抵抗の大きさは50Ωである。なお、終端抵抗211および終端抵抗212は、他の実施の形態でも実際には配置されているが、高周波信号線に終端抵抗を設けることは公知であるため、図18以外では図示を省略している。
図17に示すように、構成1では、信号電極150と信号電極160との間で、光導波路アーム100および光導波路アーム110上に設けられた部分から終端側の部分で信号線のパターンが異なっている。そのため、信号電極150および信号電極160から終端抵抗を視た場合のインピーダンスが、信号電極150および信号電極160のシグナル電極の間で異なっている。これにより、信号電極150および信号電極160のシグナル電極の高周波特性が異なりアンバランスになる。
図18に示すように、構成2では、信号電極150および信号電極160の終端側に接合容量190Cおよび接合容量190Dが設けられた。したがって、信号電極150および信号電極160から終端抵抗を視た場合のインピーダンスの大きさの差が小さくなるように、直流電圧の印加により調整することができるため、信号電極150および信号電極160のシグナル電極の高周波特性の差を低減することができる。
また、接合容量190Cおよび接合容量190Dの構造は、実施の形態1で説明した図6、図11または図12の構造と同様であることから説明を省略するが、実施の形態3の構成2においても、図6、図11または図12の場合と同様の効果が得られる。
また、図19に示すように、信号電極150および信号電極160と、信号電極171および信号電極181は、光導波路アーム100および光導波路アーム110における同じ側の側方に配置されることも可能である。図19は、実施の形態3に係る光変調器の他の構成を示す構成図である。この場合にも、図18に示した構成2の場合と同様の効果が得られる。また、図20に示すように、信号電極150および信号電極160の終端側に接合容量を設けない場合でも、信号電極150および信号電極160とこれらの終端側は、光導波路アーム100および光導波路アーム110における同じ側の側方に配置されることも可能である。図20は、実施の形態3に係る光変調器の他の構成を示す構成図である。この場合にも、図19に示した構成の場合と同様の効果が得られる。
なお、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。
100,110 光導波路アーム、120 光分波器、130 光合波器、140,141,142 光位相πシフタ、150,160,171,181 信号電極、190,190A,190B,190C,190D 接合容量、191 p型半導体層、192 i型活性層、193 n型半導体層、200,200A,200B,200C,200D 直流電圧源、201,201a,201b インダクタ、202,202a,202b 高抵抗。

Claims (16)

  1. 半導体レーザから入射された連続光に対して、電気信号により第1および第2の光導波路アームの量子井戸の屈折率を変化させることで位相変調を行うマッハツェンダー型の光変調器であって、
    前記入射された連続光を分波させる光分波器と、
    前記分波された連続光が伝搬する前記第1および第2の光導波路アームと、
    前記第1および第2の光導波路アーム上の少なくとも一方に配置され、光にπの位相差を付加する光位相シフタと、
    前記第1および第2の光導波路アームの後段に配置され、前記第1および第2の光導波路アームを伝搬する連続光を合波させる光合波器と、
    前記第1および第2の光導波路アームにそれぞれ電気信号を入力する第1および第2の信号電極と、
    前記第1および第2の信号電極の少なくとも一方に、シャントに接続された接合容量と、
    前記接合容量に直流電圧を印加する直流電圧源と、
    を備えた、光変調器。
  2. 前記第1および第2の光導波路アームに入力された電気信号をそれぞれ終端する第3および第4の信号電極と、
    前記第3および第4の信号電極に対してそれぞれシャントに接続された第3および第4の接合容量と、
    前記第3および第4の接合容量に直流電圧を印加する直流電圧源とをさらに備えた、請求項1記載の光変調器。
  3. 前記光位相シフタは、前記第1および第2の光導波路アーム上のいずれか一方の終端側に配置され、
    前記接合容量は、前記第1の信号電極に対してシャントに接続され、
    前記直流電圧源が前記接合容量に直流電圧を印加し前記接合容量の値を制御することで、前記第1の光導波路アームに入力される前記電気信号の振幅値が制御される、請求項1記載の光変調器。
  4. 前記光位相シフタは、前記第1および第2の光導波路アーム上のいずれか一方の終端側に配置され、
    前記接合容量は、前記第1および第2の信号電極に対してそれぞれシャントに接続された第1および第2の接合容量を有し、
    前記直流電圧源は、前記第1および第2の接合容量にそれぞれ直流電圧を印加する第1および第2の直流電圧源を有し、
    前記第1および第2の直流電圧源が前記第1および第2の接合容量にそれぞれ直流電圧を印加し前記第1および第2の接合容量の値をそれぞれ制御することで、前記第1および第2の光導波路アームにそれぞれ入力される前記電気信号の振幅値が制御される、請求項1記載の光変調器。
  5. 前記接合容量と前記直流電圧源との間に、高周波において開放のインピーダンスを有する回路部品が配置される、請求項1記載の光変調器。
  6. 前記第1および第2の接合容量と前記第1および第2の直流電圧源との間に、高周波において開放のインピーダンスを有する回路部品がそれぞれ配置される、請求項4記載の光変調器。
  7. 前記接合容量は、p型半導体層とn型半導体層とのp−n接合を含む構造であり、逆バイアス印加により前記接合容量の値が制御される、請求項1記載の光変調器。
  8. 前記第1および第2の接合容量は、p型半導体層とn型半導体層とのp−n接合を含む構造であり、逆バイアス印加により前記第1および第2の接合容量の値が制御される、請求項4記載の光変調器。
  9. 前記接合容量は、前記信号電極とn型半導体層とのショットキー接合を含む構造であり、逆バイアス印加により前記接合容量の値が制御される、請求項1記載の光変調器。
  10. 前記第1および第2の接合容量は、それぞれ前記第1および第2の信号電極とn型半導体層とのショットキー接合を含む構造であり、逆バイアス印加により前記第1および第2の接合容量の値が制御される、請求項4記載の光変調器。
  11. 前記接合容量は、p型半導体層とi型活性層とn型半導体層とのp−i−n接合を含む構造であり、逆バイアス印加により前記接合容量の値が制御される、請求項1記載の光変調器。
  12. 前記第1および第2の接合容量は、p型半導体層とi型活性層とn型半導体層とのp−i−n接合を含む構造であり、逆バイアス印加により前記第1および第2の接合容量の値が制御される、請求項4記載の光変調器。
  13. 前記接合容量は、p型半導体層とi型活性層とn型半導体層とのp−i−n接合を含み、かつ前記第1および第2の光導波路アームのエピタキシャル構造と同じ構造であり、逆バイアス印加により前記接合容量の値が制御される、請求項1記載の光変調器。
  14. 前記第1および第2の接合容量は、p型半導体層とi型活性層とn型半導体層とのp−i−n接合を含み、かつ前記第1および第2の光導波路アームのエピタキシャル構造と同じ構造であり、逆バイアス印加により前記第1および第2の接合容量の値が制御される、請求項4記載の光変調器。
  15. 前記第1および第2の信号電極と、前記第3および第4の信号電極は、前記第1および第2の光導波路アームにおける同じ側の側方に配置された、請求項2記載の光変調器。
  16. 前記第1および第2の信号電極と、前記第1および第2の信号電極の終端側は、前記第1および第2の光導波路アームにおける同じ側の側方に配置された、請求項1記載の光変調器。
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