JP2017111163A - モード合分波器およびその製造方法 - Google Patents
モード合分波器およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017111163A JP2017111163A JP2015242855A JP2015242855A JP2017111163A JP 2017111163 A JP2017111163 A JP 2017111163A JP 2015242855 A JP2015242855 A JP 2015242855A JP 2015242855 A JP2015242855 A JP 2015242855A JP 2017111163 A JP2017111163 A JP 2017111163A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- mode
- cores
- demultiplexer
- core
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
【課題】三次元光導波路を用いたモード合分波器における異なる層のコア間の屈折率差が、設計通りに形成できるモード合分波器およびその製造方法を提供する。
【解決手段】第1層コア101,102は、第2層コア103,104とは異なる屈折率とされている。また、第1層コア101,102は、所望の範囲(例えば最大でも400℃とする範囲)の温度の上昇により屈折率が減少する第1材料から構成され、第2層コア103,104は、第1材料より温度変化による屈折率変化が小さい第2材料から構成されている。例えば、第1材料は、シリコンと酸素とから構成され、第2材料は、シリコンと酸素と窒素と重水素とから構成されている。
【選択図】図1
【解決手段】第1層コア101,102は、第2層コア103,104とは異なる屈折率とされている。また、第1層コア101,102は、所望の範囲(例えば最大でも400℃とする範囲)の温度の上昇により屈折率が減少する第1材料から構成され、第2層コア103,104は、第1材料より温度変化による屈折率変化が小さい第2材料から構成されている。例えば、第1材料は、シリコンと酸素とから構成され、第2材料は、シリコンと酸素と窒素と重水素とから構成されている。
【選択図】図1
Description
本発明は、複数のコアから構成されるモード合分波器およびその製造方法に関する。
1本のマルチモード光ファイバで複数本のシングルモード光ファイバに相当する通信容量を可能とする、モード分割多重通信技術が開発され、この1つに空間多重伝送技術がある。空間多重伝送技術では、マルチモード光ファイバを伝送路とし、各々異なる各直線偏波(LP:Linearly Polarized)モードに独立した信号を多重しまた変調し、出力端ではモード毎に分離している。
空間多重伝送技術における送受信系では、各LPモードを合波、分波するためのモード合分波器が必要となるが、三次元光導波路を用いたモード合分波器は、低損失化、小型化、安定動作化が容易であり、有望なモード合分波器である(非特許文献1参照)。
このモード分波器は、図5(a)に示すように、下部クラッド層(不図示)と、下部クラッド層の平面に平行な第1層に配列された第1層コア201,202と、下部クラッド層の平面に平行で第1層とは異なる第2層に配置された第2層コア203,204と、第1層コア201,202および第2層コア203,204を覆って下部クラッド層の上に形成された上部クラッド層(不図示)とを備える。
第1層コア201,202は、第2層コア203,204より高い実効屈折率とされている。また、光ファイバとの結合部となる接続端221からモード分離部222までのモード結合領域223では、2つの第1層コア201,202および第2層コア203,204は、導波方向に垂直な断面上で隣り合うコア同士が互いに光結合可能な間隔で配置されている。例えば、第2層コア203および第2層コア204は、同じコア幅としている。
また、モード分離部222から先のモード分離領域224は、異なる層のコア同士は光結合しない状態とされている。実施の形態では、第1層コア201と第1層コア202との間隔が、モード分離部222より離れるに従い、暫時に広がる状態とすることで、モード分離領域224では、異なる層のコア同士は光結合しない状態としている。
また、第1層コア201,202は、第2層コア203,204とは異なる屈折率とされている。また、第1層コア201,202は、接続端221では、第2層コア203,204より狭いコア幅とされ、モード分離部222では、第1層コア201,202および第2層コア203,204は、互いに異なる実効屈折率となる状態のコア幅とされている。また、接続端221からモード分離部222にかけて暫時にコア幅が変化する状態に形成されている。例えば、暫時にコア幅が広がる状態としている。
このモード分波器は、図5(b)に示すように、3つのモード(LP01,LP11a,LP11b)を合分波する。図5(b)は、各ファイバモードを入射した際の伝搬特性の計算結果を示している。異なる屈折率を有するコアが積層された構造を特徴とし、テーパを用いたモード変換により、各LPモードが異なるシングルモードの光導波路と接続される。
このモード分波器は、異なる層に配置されているコア間の屈折率の差が大きいほど、モード間クロストークの小さな素子となる。なお、上述したモード合分波器の各層のコアは、屈折率制御可能な石英系材料より構成されている。この石英系材料は、プラズマCVD法によりシリコン(Si)と酸素(O)の原子組成比を調整して堆積されるSiOxである。SiOxを堆積することで形成したSiOx膜を、リソグラフィー技術およびエッチング技術によりパターニングしてコアとしている。
T. Hiraki, T. Tsuchizawa, H. Nishi, T. Yamamoto and K. Yamada, "Monolithically Integrated Mode Multiplexer/De-multiplexer on Three-dimensional SiOx-waveguide Platform", Proc. in OFC2015, W1A.2, 2015.
ところで、上述したモード合分波器では、異なる層に形成されるコア間の屈折率誤差の解消が課題となる。モード合分波器の挿入損失やモード間クロストークは、異なる層に配置されるコア間の屈折率差に顕著に依存する。ところが、異なる層のコアを形成するための各SiOx膜の成膜時に、わずかながら屈折率誤差が生じるため、異なる層のコア間の屈折率差を設計通りに形成することは極めて困難である。
作製時の屈折率誤差に対しては、SiOx膜の場合、作製した後に素子の特性を測定・確認しながら加熱処理を行うことで、屈折率を調整する手法がある。しかしながら、SiOxによるコアで構成される上記モード合分波器を作製後に加熱した場合、上層および下層のコアの屈折率が同様に変化するため、上下層間の屈折率の差はほとんど変化しない。このため、作製後の屈折率誤差の解消は困難である。このように、三次元光導波路を用いたモード合分波器は、異なる層のコア間の屈折率差を設計通りに形成することは、作成後の調整でも容易ではない。
本発明は、以上のような問題点を解消するためになされたものであり、三次元光導波路を用いたモード合分波器における異なる層のコア間の屈折率差が、設計通りに形成できるようにすることを目的とする。
本発明に係るモード合分波器は、下部クラッド層と、下部クラッド層の平面に平行な第1層に形成された第1層コアと、下部クラッド層の平面に平行で第1層とは異なる第2層に形成された第2層コアと、第1層コアおよび第2層コアを覆って下部クラッド層の上に形成された上部クラッド層と、異なる層のコア同士が互いに光結合可能な間隔で配置されたモード結合領域と、異なる層のコア同士は光結合しない状態とされたモード分離領域とを備え、第1層コアは、第2層コアとは異なる屈折率とされ、第1層コアは、温度の上昇により屈折率が減少する第1材料から構成され、第2層コアは、第1材料より温度変化による屈折率変化が小さい第2材料から構成されている。
上記モード合分波器において、第1材料は、シリコンと酸素とから構成され、第2材料は、シリコンと酸素と窒素と重水素とから構成されていればよい。
本発明に係るモード合分波器の製造方法は、上述したモード合分波器を製造する製造方法であって、下部クラッド層、第1層コア、第2層コア、および上部クラッド層から構成されたモード合分波器を作製した後、400℃未満の熱処理で第1層コアと第2層コアとの間の屈折率差を所望の値とする。
以上説明したことにより、本発明によれば、三次元光導波路を用いたモード合分波器における異なる層のコア間の屈折率差が、設計通りに形成できるという優れた効果が得られる。
以下、本発明の実施の形態について図1,図2を参照して説明する。図1は、本発明の実施の形態におけるモード合分波器の一部構成を示す平面図である。また、図2は、図1に示すモード合分波器のaa’線の断面(a)およびbb’線の断面(b)を示す断面図である。この三次元光導波路構造のモード合分波器は、下部クラッド層111、第1層コア101,102、第2層コア103,104、上部クラッド層112を備える。なお、図1では、下部クラッド層111および上部クラッド層112を省略している。
第1層コア101,102は、下部クラッド層111の平面に平行な第1層に形成され、第2層コア103,104は、下部クラッド層111の平面に平行で第1層とは異なる第2層に形成されている。また、上部クラッド層112は、第1層コア101,102および第2層コア103,104を覆って下部クラッド層111の上に形成されている。
また、このモード合分波器は、異なる層のコア同士が互いに光結合可能な間隔で配置されたモード結合領域123と、異なる層のコア同士は光結合しない状態とされたモード分離領域124とを備えている。光ファイバとの結合部となる接続端121からモード分離部122までのモード結合領域123では、2つの第1層コア101,102および第2層コア103,104は、導波方向に垂直な断面上で隣り合うコア同士が互いに光結合可能な間隔で配置されている。
実施の形態におけるモード合分波器では、接続端121における各固有モードモードは、断熱テーパによりそれぞれモード分離部122の固有モードモードに変換される。モード分離部122の各コアは、断熱的に分離することで、各モードの大部分の強度はそれぞれ第1層コア101,第1層コア102、第2層コア103+第2層コア104に分離される。最終的に、第1層コア101を入出力ポート131、第2層コア103と第2層コア104を2×1多重モード干渉型(multi-mode interferometer;MMI)105で合波して入出力ポート132、第1層コア102を入出力ポート133とする。
ここでは、第2層コア103および第2層コア104は、同じコア幅としている。また、モード分離部122から先のモード分離領域124は、異なる層のコア同士は光結合しない状態とされている。また、実施の形態では、第1層コア101と第1層コア102との間隔が、モード分離部122より離れるに従い、暫時に広がる状態とすることで、モード分離領域124では、異なる層のコア同士は光結合しない状態としている。なお、実施の形態におけるモード合分波器は、また、第1層コア101,102、2層コア103,104は、接続端121からモード分離部122にかけて暫時に幅が変化する状態に形成されていればよい。
また、実施の形態におけるモード合分波器では、第1層コア101,102は、第2層コア103,104より高い実効屈折率とされている。接続端121では、第1層コア101,102および第2層コア103,104の屈折率が大きい方がより狭い幅とされ、モード分離部122では、第1層コア101,102および第2層コア103,104は、互いに異なる実効屈折率となる状態のコア幅とされていればよい。また、コアの総数は、光ファイバの伝搬モード数以上とされていればよい。
また、第1層コア101,102は、第2層コア103,104とは異なる屈折率とされている。また、第1層コア101,102は、所望の範囲(例えば最大でも400℃とする範囲)の温度の上昇により屈折率が減少する第1材料から構成され、第2層コア103,104は、第1材料より温度変化による屈折率変化が小さい第2材料から構成されている。例えば、第1材料は、シリコンと酸素とから構成され、第2材料は、シリコンと酸素と窒素と重水素とから構成されている。
上述した構成とすることで、まず、各コアの非結合状態における実効屈折率が概ね等しい場合、各固有モードのモードプロファイルは、モード結合領域123において、接続端121に接続されるマルチモード光ファイバのLPモードと、各々が近似的にマッチング可能であり、各固有モードが各LPモードと1対1で結合可能となる。また、各コアの実効屈折率値が異なる場合、各固有モードのプロファイルは、モード結合領域123においてそれぞれ異なるコアに強度が集中するプロファイルにすることが可能となる。
第1状態を満たす接続端121と、第2状態を満たすモード分離部122の間(モード結合領域123)において、所定のコアは暫時に広がる状態として各固有モード間を断熱的に接続することで、マルチモード光ファイバの各LPモード光は、各々異なるコアに強度が集中するモードに変換され、各コアを入出力ポートとするようになり、モード合分波器とすることができる。
この動作原理は、従来の方向性結合器型とは異なり、分離可能なモード数は、モード分離部で用いた非結合状態における実効屈折率の種類数によって決定される。M種類(Mは自然数)のコアを用いてモード分離部を構成する場合、M個のLPモードを分離することができる。本発明によれば、モード結合領域を構成するコアの数、断面寸法、実効屈折率を変えることで、容易に空間多重度を増大させることができる。
実施の形態におけるモード合分波器は、3モード合分波器である。実施の形態では、第1層コア101,102と第2層コア103,104との間では、コア屈折率およびコアの厚さにより実効屈折率の違いを制御する。例えば、第1層コア101,102は、シリコン(Si)と酸素(O)と窒素(N)と重水素(D)とからなる材料であるSiON:Dから構成し、第2層コア103,104は、SiとOとからなる材料であるSiOxから構成する。
また、同一の層内の第1層コア101と第1層コア102との間、および第2層コア103と第2層コア104との間は、コア幅を設計して実効屈折率を制御する。例えば、いずれの層もコア厚さは2.5μmとし、各層において異なるコア屈折率とし、同一層内ではコア幅を変えている。
図2の(a)に示すように、接続端121の断面(端面)では、第1層コア101,102は、幅1.4μmとし、第2層コア103,104は、幅2.5μmとする。また、第1層コア101,102は、第2層コア103,104に比較して高い屈折率とする。この構成とすることで、接続端121では、非結合状態における実効屈折率が、第1層コア101≒第1層コア102≒第2層コア103≒第2層コア104となる。
このように構成した接続端121の各コアにおける固有モードフィールドパターンは、LP01,LP11a,LP11bモードと近似的にマッチングするフィールドパターンであり、LP01,LP11a,LP11bモードと1対1で結合可能であり、LP01、LP11a、LP11bモードを、異なるシングルモード導波路に分波することができる。
また、図2の(b)に示すように、モード分離部122では、高屈折率層の第1層コア101は、幅2.5μmとし、第1層コア102は、幅2.1μmとする。また、低屈折率層の第2層コア103および第2層コア104は、幅はいずれも幅2.5μmとする。この構成とすることで、モード分離部122における非結合状態における実効屈折率は、「第1層コア101>第1層コア102>第2層コア103,第2層コア104」となる。
各コアは、例えば、電子サイクロトロン共鳴(Electron Cyclotron Resonance:ECR)プラズマを用いた化学的気相成長(Chemical Vapor Deposition:CVD)法により、堆積時の温度150℃の条件で形成できる膜をパターニングすることで形成すればよい。ECRCVDを用いた堆積時のSiOx膜およびSiON:D膜の屈折率誤差は、最大:±0.002である。このため、上記設計値を狙って作製したモード合分波器では、コア間屈折率差は最大で0.004程度の誤差が生じる。
上述したことにより、上層のSiOxによる第2層コア103,104は、設計値より高い屈折率:1.505、下層のSiON:Dによる第1層コア101,102は、設計値通りの屈折率:1.515を狙って作製する。上記成膜技術を用いた場合、SiOx膜の屈折率は作製後熱処理温度に対してほぼ線形に減少し、SiON:Dの屈折率変化は非常に小さくほぼ無視できることが分かっている。従って、設計値よりも高い屈折率値のSiOx膜を成膜し、作製した後に特性をモニタしながら熱処理温度を調整することで、SiOxコア−SiON:Dコア間の屈折率差を、設計値に調整することが可能となる。
実施の形態では、実際に作製される各コアの屈折率は、上層の第2層コア103,104が1.503〜1.507、下層の第1層コア101,102が1.513〜1.517の範囲内となる。
このように作製した実施の形態におけるモード合分波器を、作製後に加熱した場合の各層コアの屈折率の変化を図3に示す。実線は目的とする設計値、破線は最大プロセス誤差±0.002における値である。熱処理によりSiOxの屈折率のみを減少させることでコア間屈折率差を設計値:0.015とすることができる。実施の形態の場合、必要な加熱温度は、約180℃〜395℃の範囲であることが分かる。
作製後に屈折率を調整する場合は、モード合分波器の特性をモニタしながら加熱温度を徐々に増加させる。モニタする特性は、挿入損失やモード間クロストークなど適当なものを選べば良いが、ここでは、挿入損失をモニタする場合を説明する。図4に、LP01モードを入射した際の挿入損失と熱処理温度の関係を示す。作製直後では、SiOxよりなる第2層コア103,104の屈折率が1.505、SiON:Dよりなる第1層コア101,102コアが1.513である。
加熱により、実質的に、第2層コア103,104の屈折率のみが減少する。加熱温度の上昇に伴い上下層間コア間屈折率差が設計値に近づくため、挿入損失が低減する。最も挿入損失が低くなる温度付近が設計したコア間屈折率差となる。
実施の形態では、SiOxの屈折率は加熱温度に対してほぼ線形に変化するとしたが必ずしも線形であるとは限らない。屈折率変化の熱処理温度依存性は膜中の水素含有量などによって異なるため、成膜手法によって異なる。このため、あらかじめ、用いるSiOxの屈折率と加熱温度の関係を知っておく必要がある。
SiOxは、処理温度が高くなると、温度増大に対する屈折率変化が減少から増大に転じ得る。例えば、屈折率1.51〜1.52程度のSiOxにおいては、加熱温度が400℃で屈折率が増大に転じることを、発明者らの実験により確認している。この場合、400℃以上の温度においては屈折率差調整ができない。このため、熱処理温度は400℃未満が望ましい。また、このようなモード合分波器は、シリコン、ゲルマニウムなどの半導体を用いたアクティブ素子とモノリシックに集積される場合が多いが、これら集積されているアクティブ素子への熱ダメージを防ぐ観点からも、熱処理温度は400℃未満が望ましい。
以上に説明したように、実施の形態では、下部クラッド層111、第1層コア101,102、第2層コア103,104、および上部クラッド層112から構成されたモード合分波器を作製した後、400℃未満の熱処理で第1層コア101,102と第2層コア103,104との間の屈折率差を所望の値(設計値)としている。
ここで、第1層コア101,102は、温度の上昇により屈折率が減少する第1材料から構成し、第2層コア103,104は、第1材料より温度変化による屈折率変化が小さい第2材料から構成することが重要である。第1材料は、シリコンと酸素とから構成したSiOxとし、第2材料は、シリコンと酸素と窒素と重水素とから構成したSiON:Dとすればよい。
以上に説明したように、本発明によれば、第1層コアは、所望の温度範囲の温度の上昇により屈折率が減少する第1材料から構成し、第2層コアは、第1材料より温度変化による屈折率変化が小さい第2材料から構成したので、三次元光導波路を用いたモード合分波器における異なる層のコア間の屈折率差が、設計通りに形成できるようになる。
なお、本発明は以上に説明した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想内で、当分野において通常の知識を有する者により、多くの変形および組み合わせが実施可能であることは明白である。例えば、上述では、SiOx、SiON:Dを用いているが、材料はこれに限るものではない。一方が、所望とする所定範囲の温度の加熱によって屈折率が変動し、この加熱により他方の屈折率が、実質的に変動しない材料の組み合わせであればよい。ただし、両者とも屈折率制御が可能な材料である必要がある。
101,102…第1層コア、103,104…第2層コア、105…2×1多重モード干渉型(multi-mode interferometer;MMI)、111…下部クラッド層、112…上部クラッド層、121…接続端、122…モード分離部、123…モード結合領域、131,132,133…入出力ポート。
Claims (3)
- 下部クラッド層と、
前記下部クラッド層の平面に平行な第1層に形成された第1層コアと、
前記下部クラッド層の平面に平行で前記第1層とは異なる第2層に形成された第2層コアと、
前記第1層コアおよび前記第2層コアを覆って前記下部クラッド層の上に形成された上部クラッド層と、
異なる層のコア同士が互いに光結合可能な間隔で配置されたモード結合領域と、
異なる層のコア同士は光結合しない状態とされたモード分離領域と
を備え、
前記第1層コアは、前記第2層コアとは異なる屈折率とされ、
前記第1層コアは、温度の上昇により屈折率が減少する第1材料から構成され、
前記第2層コアは、前記第1材料より温度変化による屈折率変化が小さい第2材料から構成されている
ことを特徴とするモード合分波器。 - 請求項1記載のモード合分波器において、
前記第1材料は、シリコンと酸素とから構成され、
前記第2材料は、シリコンと酸素と窒素と重水素とから構成されている
ことを特徴とするモード合分波器。 - 請求項1または2記載のモード合分波器を製造するモード合分波器の製造方法であって、
前記下部クラッド層、前記第1層コア、前記第2層コア、および前記上部クラッド層から構成されたモード合分波器を作製した後、
400℃未満の熱処理で前記第1層コアと前記第2層コアとの間の屈折率差を所望の値とする
ことを特徴とするモード合分波器の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015242855A JP2017111163A (ja) | 2015-12-14 | 2015-12-14 | モード合分波器およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015242855A JP2017111163A (ja) | 2015-12-14 | 2015-12-14 | モード合分波器およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017111163A true JP2017111163A (ja) | 2017-06-22 |
Family
ID=59080175
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015242855A Pending JP2017111163A (ja) | 2015-12-14 | 2015-12-14 | モード合分波器およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2017111163A (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0627337A (ja) * | 1992-07-07 | 1994-02-04 | Hitachi Cable Ltd | 光フィルタ及びその出射光の周波数調整方法 |
US5768452A (en) * | 1996-04-17 | 1998-06-16 | Lucent Technologies Inc. | Radiolytic method for trimming planar waveguide couplers |
JP2003525195A (ja) * | 2000-02-29 | 2003-08-26 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | SiON光学的導波管のための材料及びそのような導波管を製造する方法 |
JP2015108698A (ja) * | 2013-12-04 | 2015-06-11 | 日本電信電話株式会社 | モード結合器 |
-
2015
- 2015-12-14 JP JP2015242855A patent/JP2017111163A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0627337A (ja) * | 1992-07-07 | 1994-02-04 | Hitachi Cable Ltd | 光フィルタ及びその出射光の周波数調整方法 |
US5768452A (en) * | 1996-04-17 | 1998-06-16 | Lucent Technologies Inc. | Radiolytic method for trimming planar waveguide couplers |
JP2003525195A (ja) * | 2000-02-29 | 2003-08-26 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | SiON光学的導波管のための材料及びそのような導波管を製造する方法 |
JP2015108698A (ja) * | 2013-12-04 | 2015-06-11 | 日本電信電話株式会社 | モード結合器 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
TATSUROU HIRAKI ET AL.: "Monolithically Integrated Mode Multiplexer/De-multiplexer on Three-dimensional SiOx-waveguide Platfo", PROCEEDINGS OF OFC 2015, JPN6018030756, 22 March 2015 (2015-03-22), US, pages W1A.2 * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3784720B2 (ja) | 導波路型光干渉計 | |
JP4385224B2 (ja) | 光導波路デバイス及び光導波路モジュール | |
US7555175B2 (en) | Arrayed waveguide grating optical multiplexer/demultiplexer | |
JP4932029B2 (ja) | 導波路型可変光減衰器 | |
JP5949610B2 (ja) | 波長合分波器及び光集積回路装置 | |
Wang et al. | A 32-channel hybrid wavelength-/mode-division (de) multiplexer on silicon | |
WO2000011508A1 (en) | Array waveguide diffraction grating optical multiplexer/demultiplexer | |
US20120201492A1 (en) | Optical branching element and optical branching circuit, and manufacturing method thereof | |
CN102253448A (zh) | 一种阵列波导光栅实现均匀偏振补偿的方法 | |
US7228043B2 (en) | Optical waveguide circuit and manufacturing method thereof | |
JP2008275708A (ja) | 偏波制御光回路 | |
KR20020092209A (ko) | 광도파로 장치 및 그 제조 방법 | |
JP6346079B2 (ja) | モード合分波器 | |
JP2017111163A (ja) | モード合分波器およびその製造方法 | |
JP5561304B2 (ja) | 光素子 | |
JP2014170049A (ja) | 光干渉器 | |
JP4375256B2 (ja) | 導波路型温度無依存光合分波器 | |
WO2011078033A1 (ja) | 平面光波回路及び平面光波回路の製造方法 | |
Itoh et al. | Ultra small 100 GHz 40 ch athermal AWG module using 2.5%-Δ silica-based waveguides | |
US20040240770A1 (en) | Reducing the polarization dependent coupling coefficient in planar waveguide couplers | |
JP4699435B2 (ja) | 光モジュール | |
Wang et al. | Silicon hybrid wavelength/mode-division-demultiplexer with 64 channels for on-chip optical interconnects | |
JP2009265123A (ja) | 光波長フィルタ | |
JP2007093721A (ja) | 光波長合分波器 | |
JP4626153B2 (ja) | 光導波路回路の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171213 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180731 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180814 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20190226 |