JP2017105799A

JP2017105799A - ４−アミノカルバゾール化合物及びその用途

Info

Publication number: JP2017105799A
Application number: JP2017011702A
Authority: JP
Inventors: 松本　直樹; Naoki Matsumoto; 直樹松本; 高則宮崎; Takanori Miyazaki
Original assignee: Tosoh Corp
Current assignee: Tosoh Corp
Priority date: 2011-10-26
Filing date: 2017-01-25
Publication date: 2017-06-15
Anticipated expiration: 2032-10-25
Also published as: JP2014101275A; JP6115075B2; JP6260726B2

Abstract

【課題】適度なイオン化ポテンシャル、及び高い三重項準位を有し、発光効率に優れる化合物を提供する。
【解決手段】式（１）で表される４−アミノカルバゾール化合物。

（Ａｒ^１〜Ａｒ^４は、炭素数６〜３０のアリール基、チエニル基、フラニル基など、Ｒ^１〜Ｒ^７は、炭素数６〜３０のアリール基などを表す。）
【選択図】なし

Description

本発明は、新規な４−アミノカルバゾール化合物及びそれを用いた有機ＥＬ素子に関するものである。

有機ＥＬ素子は、有機薄膜を１対の電極で狭持した面発光型素子であり、薄型軽量、高視野角、高速応答性といった特徴を有し、各種表示素子への応用が期待されている。また、最近では、携帯電話のディスプレイ等、一部実用化も始まっている。当該有機ＥＬ素子は、陽極から注入された正孔と、陰極から注入された電子とが発光層で再結合する際に発する光を利用するものあり、その構造は正孔輸送層、発光層、電子輸送層等を積層した多層積層型が主流である。ここで、正孔輸送層や電子輸送層といった電荷輸送層は、それ自体は発光するわけではないが、発光層への電荷注入を容易にし、また、発光層に注入された電荷や発光層で生成した励起子のエネルギーを閉じ込めるといった役割を果たしている。従って、電荷輸送層は有機ＥＬ素子の低駆動電圧化および発光効率を向上させる上で非常に重要な役割を担っている。

正孔輸送材料には、適当なイオン化ポテンシャルと正孔輸送能を有するアミン化合物が用いられ、例えば、４，４’−ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニル］ビフェニル（以下、ＮＰＤと略す）がよく知られている。しかしながら、ＮＰＤを正孔輸送層に用いた素子の駆動電圧、発光効率は十分良いものではなく、新しい材料の開発が求められている。さらに、近年では発光層に燐光材料を用いた有機ＥＬ素子の開発も進められており、燐光を用いた素子では、三重項準位が高い正孔輸送材料が要求されている。三重項準位という点からもＮＰＤは十分ではなく、例えば、緑色の発光を有する燐光材料とＮＰＤを組み合わせた有機ＥＬ素子では、発光効率が低下することが報告されている（例えば、非特許文献１参照）。

このような背景から、最近では分子内にカルバゾール環を導入した材料が報告されている。具体的には、３−アミノカルバゾール化合物（例えば、特許文献１，２参照）及び２−アミノカルバゾール化合物（例えば、特許文献３，４参照）が挙げられる。

しかし、発明者らの測定によると、３−アミノカルバゾール化合物はＮＰＤに比べて高い三重項準位を有するものの、イオン化ポテンシャルがＮＰＤと比較して低いものであった。３−アミノカルバゾール化合物のイオン化ポテンシャルが低い原因は、カルバゾール環の９位の窒素原子によって、アミノ基が活性化されていることに由来すると思われる。材料のイオン化ポテンシャルは、有機ＥＬ素子の特性に影響する重要な物性値であり、特に、発光層と隣接する正孔輸送層に用いる場合、有機ＥＬ素子の発光効率に大きく影響する。例えば、イオン化ポテンシャルが低い材料を発光層と隣接する正孔輸送層に用いた場合、発光材料とのエキシプレックス形成により、有機ＥＬ素子の発光効率が低下する（例えば、非特許文献２参照）。従って、３−アミノカルバゾール化合物を正孔輸送層に用いた有機ＥＬ素子では、十分高い発光効率を得ることができなかった。

一方、２−アミノカルバゾール化合物は、ＮＰＤと同等若しくはＮＰＤより高いイオン化ポテンシャル、及びＮＰＤより高い三重項準位を有する。このため、緑色燐光材料を用いた素子において、２−アミノカルバゾール化合物は、ＮＰＤより高い発光効率を示すものの、さらに高い発光効率を示す化合物の開発が望まれていた。

特開２００６−２８１７６公報特開２００６−２９８８９８公報ＫＲ２００９−０１２９７９９特開２０１１−００１３４９公報

ＪｏｕｒｎａｌｏｆＡｐｐｌｉｅｄＰｈｙｓｉｃｓ，２００４年，９５巻，７７９８頁ＪｏｕｒｎａｌｏｆＰｈｙｓｉｃａｌＣｈｅｍｉｓｔｒｙＣ，２００８年，１１２巻，７７３５頁

本発明は上記の背景技術に鑑みてなされたものであり、その目的は、適度なイオン化ポテンシャル、及び高い三重項準位を有し、発光効率に優れる化合物を提供することにある。

本発明者らは鋭意検討した結果、下記一般式（１）で示される新規な４−アミノカルバゾール化合物が適度なイオン化ポテンシャル、及び高い三重項準位を有すること、並びに素子発光効率（電流効率）に優れることを見出し、本発明を完成させるにいたった。

（式中、Ａｒ^１〜Ａｒ^４は、各々独立して、炭素数６〜３０のアリール基、チエニル基、フラニル基、ピリジル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、４−カルバゾリル基、ジベンゾチエニルフェニル基、ジベンゾフラニルフェニル基、又は９−カルバゾリルフェニル基（これらの基は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数３〜１１のヘテロアリール基、炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基、炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）を表す。
Ｒ^１〜Ｒ^７は、各々独立して、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、又は炭素数９〜２６のヘテロアリールフェニル基（これらの基は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基、炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）、又は、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、シアノ基、水素原子、又はハロゲン原子を表す。
ｎは０〜２の整数を表す。
Ｘは炭素数６〜１７の（ｎ＋１）価の芳香族炭化水素基、炭素数３〜２０の（ｎ＋１）価のヘテロ芳香族基、又は炭素数９〜２６の（ｎ＋１）価のヘテロアリールフェニル基（これらの芳香環構造は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基、炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）を表す。）
即ち本発明は、以下に示すとおりの４−アミノカルバゾール化合物、及びその用途に関するものである。
［１］
一般式（１）

（式中、Ａｒ^１〜Ａｒ^４は、各々独立して、炭素数６〜３０のアリール基、チエニル基、フラニル基、ピリジル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、４−カルバゾリル基、ジベンゾチエニルフェニル基、ジベンゾフラニルフェニル基、又は９−カルバゾリルフェニル基（これらの基は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数３〜１１のヘテロアリール基、炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基、炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）を表す。
Ｒ^１〜Ｒ^７は、各々独立して、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、又は炭素数９〜２６のヘテロアリールフェニル基（これらの基は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基、炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）、又は、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、シアノ基、水素原子、又はハロゲン原子を表す。
ｎは０〜２の整数を表す。
Ｘは炭素数６〜１７の（ｎ＋１）価の芳香族炭化水素基、炭素数３〜２０の（ｎ＋１）価のヘテロ芳香族基、又は炭素数９〜２６の（ｎ＋１）価のヘテロアリールフェニル基（これらの芳香環構造は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基、炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）を表す。）
で表される４−アミノカルバゾール化合物。
［２］
Ｒ^１〜Ｒ^７が、各々独立して、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、シアノ基、水素原子、又はハロゲン原子であることを特徴とする上記［１］に記載の４−アミノカルバゾール化合物。
［３］
Ｒ^１〜Ｒ^７が、各々独立して、フェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニル基、ビフェニリル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、メチル基、メトキシ基、又は水素原子であることを特徴とする上記［１］または［２］に記載の４−アミノカルバゾール化合物。
［４］
Ｒ^１〜Ｒ^７が、各々独立して、フェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニル基、又は水素原子であることを特徴とする上記［１］乃至［３］のいずれか一項に記載の４−アミノカルバゾール化合物。
［５］
Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、及びＲ^７が水素原子であることを特徴とする上記［１］乃至［４］のいずれか一項に記載の４−アミノカルバゾール化合物。
［６］
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、及びＲ^７が水素原子であることを特徴とする上記［１］乃至［５］のいずれか一項に記載の４−アミノカルバゾール化合物。
［７］
Ａｒ^１〜Ａｒ^４が、各々独立して、炭素数６〜３０のアリール基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、４−カルバゾリル基、ジベンゾフラニルフェニル基、ジベンゾチエニルフェニル基、又は９−カルバゾリルフェニル基（これらの基は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数６〜３０のアリール基、及び炭素数３〜１１のヘテロアリール基からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）であることを特徴とする、上記［１］乃至［６］のいずれか一項に記載の４−アミノカルバゾール化合物。
［８］
Ａｒ^１〜Ａｒ^４が、各々独立して、フェニル基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、フルオレニル基、ベンゾフルオレニル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、ジベンゾフラニルフェニル基、ジベンゾチエニルフェニル基、又は９−カルバゾリルフェニル基（これらの基は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）、又は、４−カルバゾリル基（メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数６〜３０のアリール基、及び炭素数３〜１１のヘテロアリール基からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）であることを特徴とする、上記［１］乃至［７］のいずれか一項に記載の４−アミノカルバゾール化合物。
［９］
Ａｒ^１〜Ａｒ^４が、各々独立して、フェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニル基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、９，９’−ジメチルフルオレニル基、１１，１１’−ジメチルベンゾ［ａ］フルオレニル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、ジベンゾチエニルフェニル基、４−（９−カルバゾリル）フェニル基、９−フェニルカルバゾール−４−イル基、９−ビフェニリルカルバゾール−４−イル基、９−キノリルカルバゾール−４−イル基、または９−ジベンゾチエニルカルバゾール−４−イル基であることを特徴とする、上記［１］乃至［８］のいずれか一項に記載の４−アミノカルバゾール化合物。
［１０］
Ｘが、（ｎ＋１）価のベンゼン、（ｎ＋１）価のビフェニル、（ｎ＋１）価のナフタレン、（ｎ＋１）価のフェナントレン、（ｎ＋１）価のフルオレン、（ｎ＋１）価のナフチルベンゼン、（ｎ＋１）価のピリジン、（ｎ＋１）価のピリミジン、（ｎ＋１）価の１，３，５−トリアジン、（ｎ＋１）価のキノリン、（ｎ＋１）価のジベンゾチオフェン、（ｎ＋１）価のジベンゾフラン、（ｎ＋１）価のピリジルベンゼン、（ｎ＋１）価のイミダゾリルベンゼン、（ｎ＋１）価のベンゾイミダゾリルベンゼン、及び（ｎ＋１）価のベンゾチアゾリルベンゼン（これらの芳香環は、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）から選ばれる１種であることを特徴とする、上記［１］乃至［９］のいずれか一項に記載の４−アミノカルバゾール化合物。
［１１］
Ｘが、（ｎ＋１）価のベンゼン、（ｎ＋１）価のビフェニル、（ｎ＋１）価のキノリン、（ｎ＋１）価のジベンゾチオフェン、（ｎ＋１）価の１，３，５−トリアジン、及び（ｎ＋１）価のピリジルフェニル（これらの芳香環は、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリール基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）から選ばれる１種であることを特徴とする、上記［１］乃至［１０］のいずれか一項に記載の４−アミノカルバゾール化合物。
［１２］
Ｘが、（ｎ＋１）価のベンゼン、（ｎ＋１）価のビフェニル、（ｎ＋１）価のキノリン、（ｎ＋１）価のジベンゾチオフェン、（ｎ＋１）価の２，４−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、又は（ｎ＋１）価のピリジルベンゼンであることを特徴とする、上記［１］乃至［１１］のいずれか一項に記載の４−アミノカルバゾール化合物。
［１３］
ｎ＝０又は１であることを特徴とする、上記［１］乃至［１２］のいずれか一項に記載の４−アミノカルバゾール化合物。
［１４］
一般式（１）

（式中、Ａｒ^１〜Ａｒ^４は、各々独立して、炭素数６〜３０のアリール基、チエニル基、フラニル基、ピリジル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、４−カルバゾリル基、ジベンゾチエニルフェニル基、ジベンゾフラニルフェニル基、又は９−カルバゾリルフェニル基（これらの基は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数３〜１１のヘテロアリール基、炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基、炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）を表す。
Ｒ^１〜Ｒ^７は、各々独立して、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、又は炭素数９〜２６のヘテロアリールフェニル基（これらの基は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基、炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）、又は、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、シアノ基、水素原子、又はハロゲン原子を表す。
ｎは０〜２の整数を表す。
Ｘは炭素数６〜１７の（ｎ＋１）価の芳香族炭化水素基、炭素数３〜２０の（ｎ＋１）価のヘテロ芳香族基、又は炭素数９〜２６の（ｎ＋１）価のヘテロアリールフェニル基（これらの芳香環構造は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基、炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）を表す。）
で表される４−アミノカルバゾール化合物を含む、発光層、正孔輸送層および正孔注入層の中から選ばれる少なくとも一層を有することを特徴とする有機ＥＬ素子。
［１５］
一般式（１）

（式中、Ａｒ^１〜Ａｒ^４は、各々独立して、炭素数６〜３０のアリール基、チエニル基、フラニル基、ピリジル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、４−カルバゾリル基、ジベンゾチエニルフェニル基、ジベンゾフラニルフェニル基、又は９−カルバゾリルフェニル基（これらの基は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数３〜１１のヘテロアリール基、炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基、炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）を表す。
Ｒ^１〜Ｒ^７は、各々独立して、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、又は炭素数９〜２６のヘテロアリールフェニル基（これらの基は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基、炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）、又は、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、シアノ基、水素原子、又はハロゲン原子を表す。
ｎは０〜２の整数を表す。
Ｘは炭素数６〜１７の（ｎ＋１）価の芳香族炭化水素基、炭素数３〜２０の（ｎ＋１）価のヘテロ芳香族基、又は炭素数９〜２６の（ｎ＋１）価のヘテロアリールフェニル基（これらの芳香環構造は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基、炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）を表す。）
で表される４−アミノカルバゾール化合物を含む正孔輸送材料、又は正孔注入材料。

本発明の４−アミノカルバゾール化合物を含む少なくとも１つの層を有する燐光発光性または蛍光発光性有機ＥＬ素子は、従来公知のカルバゾール環を導入した材料を含む有機ＥＬ素子に比べて高い発光効率（電流効率）を示し、さらに駆動電圧が低いという顕著な効果が期待できる。

したがって、本発明によれば、輝度が高く、消費電力の少ない燐光発光性または蛍光発光性有機ＥＬ素子を提供することが可能となる。

以下、本発明に関し詳細に説明する。

本発明の一般式（１）

で表される４−アミノカルバゾール化合物において、Ａｒ^１〜Ａｒ^４は、各々独立して、炭素数６〜３０のアリール基、チエニル基、フラニル基、ピリジル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、４−カルバゾリル基、ジベンゾチエニルフェニル基、ジベンゾフラニルフェニル基、又は９−カルバゾリルフェニル基を表す。

なお、これらは、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数３〜１１のヘテロアリール基、炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基、炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい。

Ａｒ^１〜Ａｒ^４が置換基として有してもよい炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基としては、特に限定するものではないが、例えば、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ステアリル基、シクロプロピル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

Ａｒ^１〜Ａｒ^４が置換基として有してもよい炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基としては、特に限定するものではないが、例えば、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ステアリルオキシ基等が挙げられる。

Ａｒ^１〜Ａｒ^４が置換基として有してもよい炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基としては、特に限定するものではないが、例えば、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、２−フルオロエチル基等が挙げられる。

Ａｒ^１〜Ａｒ^４が置換基として有してもよい炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基としては、特に限定するものではないが、例えば、トリフルオロメトキシ基、トリクロロメトキシ基、２−フルオロエトキシ基等が挙げられる。

Ａｒ^１〜Ａｒ^４が置換基として有してもよい炭素数６〜３０のアリール基としては、特に限定するものではないが、例えば、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−シアノフェニル基、３−シアノフェニル基、４−シアノフェニル基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、ナフチル基、フルオレニル基、フェナントリル基、ベンゾフルオレニル基等が挙げられる。

Ａｒ^１〜Ａｒ^４が置換基として有してもよい炭素数６〜１８のアリールオキシ基としては、特に限定するものではないが、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２−メトキシフェノキシ基、３−メトキシフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、２−シアノフェノキシ基、３−シアノフェノキシ基、４−シアノフェノキシ基、４−メチルフェニルオキシ基、３−メチルフェニルオキシ基、４−ビフェニリルオキシ基、３−ビフェニルオキシ基、１−ナフチルオキシ基、２−ナフチルオキシ基等が挙げられる。

Ａｒ^１〜Ａｒ^４が置換基として有してもよい炭素数３〜１１のヘテロアリール基としては、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子のうち少なくとも一つのヘテロ原子を含有する芳香族基であり、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、ピリジル基、２−メチルピリジル基、３−メチルピリジル基、４−メチルピリジル基、２−メトキシピリジル基、３−メトキシピリジル基、４−メトキシピリジル基、２−シアノピリジル基、３−シアノピリジル基、４−シアノピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、１，３，５−トリアジル基、ベンゾイミダゾリル基、インダゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、２，１，３−ベンゾチアジアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイソオキサゾリル基、２，１，３−ベンゾオキサジアゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリル基、キナゾリル基、ピロリル基、フリル基、チエニル基、インドリル基、ベンゾチエニル基等を挙げることができる。

Ａｒ^１〜Ａｒ^４が置換基として有してもよい炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基としては、特に限定するものではないが、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリブチルシリル基等が挙げられる。

Ａｒ^１〜Ａｒ^４が置換基として有してもよい炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基としては、特に限定するものではないが、例えば、トリフェニルシリル基、トリ（４−メチルフェニル）シリル基、トリ（３−メチルフェニル）シリル基、トリ（４−メチルフェニル）シリル基、トリ（４−ビフェニリル）シリル基等が挙げられる。

Ａｒ^１〜Ａｒ^４が置換基として有してもよいハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、又はヨウ素が挙げられる。

Ａｒ^１〜Ａｒ^４の具体例としては、フェニル基、４−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、２−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、３−エチルフェニル基、２−エチルフェニル基、４−ｎ−プロピルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、４−ｎ−ブチルフェニル基、４−イソブチルフェニル基、４−ｓｅｃ−ブチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、４−ｎ−ペンチルフェニル基、４−イソペンチルフェニル基、４−ネオペンチルフェニル基、４−ｎ−ヘキシルフェニル基、４−ｎ−オクチルフェニル基、４−ｎ−デシルフェニル基、４−ｎ−ドデシルフェニル基、４−シクロペンチルフェニル基、４−シクロヘキシルフェニル基、４−トリチルフェニル基、３−トリチルフェニル基、４−トリフェニルシリルフェニル基、３−トリフェニルシリルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、４−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、２−メトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、２−エトキシフェニル基、４−ｎ−プロポキシフェニル基、３−ｎ−プロポキシフェニル基、４−イソプロポキシフェニル基、２−イソプロポキシフェニル基、４−ｎ−ブトキシフェニル基、４−イソブトキシフェニル基、２−ｓｅｃ−ブトキシフェニル基、４−ｎ−ペンチルオキシフェニル基、４−イソペンチルオキシフェニル基、２−イソペンチルオキシフェニル基、４−ネオペンチルオキシフェニル基、２−ネオペンチルオキシフェニル基、４−ｎ−ヘキシルオキシフェニル基、２−（２−エチルブチル）オキシフェニル基、４−ｎ−オクチルオキシフェニル基、４−ｎ−デシルオキシフェニル基、４−ｎ−ドデシルオキシフェニル基、４−ｎ−テトラデシルオキシフェニル基、４−シクロヘキシルオキシフェニル基、２−シクロヘキシルオキシフェニル基、４−フェノキシフェニル基、３−フェノキシフェニル基、２−メチル−４−メトキシフェニル基、２−メチル−５−メトキシフェニル基、３−メチル−４−メトキシフェニル基、３−メチル−５−メトキシフェニル基、３−エチル−５−メトキシフェニル基、２−メトキシ−４−メチルフェニル基、３−メトキシ−４−メチルフェニル基、２，４−ジメトキシフェニル基、２，５−ジメトキシフェニル基、２，６−ジメトキシフェニル基、３，４−ジメトキシフェニル基、３，５−ジメトキシフェニル基、３，５−ジエトキシフェニル基、３，５−ジ−ｎ−ブトキシフェニル基、２−メトキシ−４−エトキシフェニル基、２−メトキシ−６−エトキシフェニル基、３，４，５−トリメトキシフェニル基、４−シアノフェニル基、３−シアノフェニル基、４−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、２−フルオロフェニル基、２，３−ジフルオロフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、２，５−ジフルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフェニル基、３，４−ジフルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、４−ビフェニリル基、３−ビフェニリル基、２−ビフェニリル基、２−メチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、３−メチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、２’−メチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、３’−メチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、４’−メチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、２，６−ジメチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、２，２’−ジメチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、２，３’−ジメチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、２，４’−ジメチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、３，２’−ジメチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、２’，３’−ジメチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、２’，４’−ジメチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、２’，５’−ジメチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、２’，６’−ジメチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、ｐ−ターフェニル基、ｍ−ターフェニル基、ｏ−ターフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、２−メチルナフタレン−１−イル基、４−メチルナフタレン−１−イル基、６−メチルナフタレン−２−イル基、４−（１−ナフチル）フェニル基、４−（２−ナフチル）フェニル基、３−（１−ナフチル）フェニル基、３−（２−ナフチル）フェニル基、３−メチル−４−（１−ナフチル）フェニル基、３−メチル−４−（２−ナフチル）フェニル基、４−（２−メチルナフタレン−１−イル）フェニル基、３−（２−メチルナフタレン−１−イル）フェニル基、４−フェニルナフタレン−１−イル基、４−（２−メチルフェニル）ナフタレン−１−イル基、４−（３−メチルフェニル）ナフタレン−１−イル基、４−（４−メチルフェニル）ナフタレン−１−イル基、６−フェニルナフタレン−２−イル基、４−（２−メチルフェニル）ナフタレン−２−イル基、４−（３−メチルフェニル）ナフタレン−２−イル基、４−（４−メチルフェニル）ナフタレン−２−イル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、９，９−ジエチル−２−フルオレニル基、９，９−ジ−ｎ−プロピル−２−フルオレニル基、９，９−ジ−ｎ−オクチル−２−フルオレニル基、９，９−ジフェニル−２−フルオレニル基、９，９’−スピロビフルオレニル基、９−フェナントリル基、２−フェナントリル基、ベンゾフルオレニル基、２−ピリジル基、３−メチル−２−ピリジル基、４−メチル−２−ピリジル基、５−メチル−２−ピリジル基、６−メチル−２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−メチル−３−ピリジル基、４−ピリジル基、２，２’−ビピリジン−３−イル基、２，２’−ビピリジン−４−イル基、２，２’−ビピリジン−５−イル基、２，３’−ビピリジン−３−イル基、２，３’−ビピリジン−４−イル基、２，３’−ビピリジン−５−イル基、２−チエニル基、３−チエニル基、２−フラニル基、３−フラニル基、２−ベンゾチエニル基、３−ベンゾチエニル基、２−ジベンゾチエニル基、４−ジベンゾチエニル基、２−ジベンゾフラニル基、４−ジベンゾフラニル基、４−（２−ピリジル）フェニル基、４−（３−ピリジル）フェニル基、４−（４−ピリジル）フェニル基、３−（２−ピリジル）フェニル基、３−（３−ピリジル）フェニル基、３−（４−ピリジル）フェニル基、４−（２−メチルベンゾイミダゾール−１−イル）フェニル基、４−（１−メチルベンゾイミダゾール−２−イル）フェニル基、３−（２−メチルベンゾイミダゾール−１−イル）フェニル基、３−（１−メチルベンゾイミダゾール−２−イル）フェニル基、４−（２−チエニル）フェニル基、４−（２−フラニル）フェニル基、４−（２−ジベンゾチエニル）フェニル基、３−（２−ジベンゾチエニル）フェニル基、４−（４−ジベンゾチエニル）フェニル基、３−（４−ジベンゾチエニル）フェニル基、４−（２−ジベンゾフラニル）フェニル基、３−（２−ジベンゾフラニル）フェニル基、４−（４−ジベンゾフラニル）フェニル基、３−（４−ジベンゾフラニル）フェニル基、５−フェニルチオフェン−２−イル基、５−フェニルピリジン−２−イル基、４−フェニルピリジン−２−イル基、５−フェニルピリジン−３−イル基、４−（９−カルバゾリル）フェニル基、３−（９−カルバゾリル）フェニル基等を例示することができるが、これらに限定されるものではない。

一般式（１）で表される４−アミノカルバゾール化合物の三重項準位が高く、正孔輸送特性が良好なことから、Ａｒ^１〜Ａｒ^４としては、炭素数６〜３０のアリール基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、４−カルバゾリル基、ジベンゾフラニルフェニル基、ジベンゾチエニルフェニル基、又は９−カルバゾリルフェニル基（これらの基は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数６〜３０のアリール基、及び炭素数３〜１１のヘテロアリール基からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）であることが好ましく、また、フェニル基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、フルオレニル基、ベンゾフルオレニル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、ジベンゾフラニルフェニル基、ジベンゾチエニルフェニル基、又は９−カルバゾリルフェニル基（これらの基は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）、又は、４−カルバゾリル基（メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数６〜３０のアリール基、及び炭素数３〜１１のヘテロアリール基からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）であることがより好ましく、また、フェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニル基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、９，９’−ジメチルフルオレニル基、１１，１１’−ジメチルベンゾ［ａ］フルオレニル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、ジベンゾチエニルフェニル基、４−（９−カルバゾリル）フェニル基、９−フェニルカルバゾール−４−イル基、９−ビフェニリルカルバゾール−４−イル基、９−キノリルカルバゾール−４−イル基、９−ジベンゾチエニルカルバゾール−４−イル基であることがさらに好ましい。

一般式（１）で表される４−アミノカルバゾール化合物において、Ｒ^１〜Ｒ^７は、各々独立して、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、炭素数９〜２６のヘテロアリールフェニル基、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、シアノ基、水素原子、又はハロゲン原子を表す。

なお、前記の炭素数６〜３０のアリール基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、及び炭素数９〜２６のヘテロアリールフェニル基については、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基、炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい。

Ｒ^１〜Ｒ^７が置換基として有してもよい炭素数６〜３０のアリール基としては、特に限定するものではないが、例えば、Ａｒ^１〜Ａｒ^４において示した炭素数６〜３０のアリール基と同じ置換基が挙げられる。

Ｒ^１〜Ｒ^７が置換基として有してもよい炭素数９〜２６のヘテロアリール基としては、特に限定するものではないが、一例として酸素原子、窒素原子及び硫黄原子のうち少なくとも一つのヘテロ原子を含有する芳香族基があげられる。その具体例としては、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、ピリジル基、２−メチルピリジル基、３−メチルピリジル基、４−メチルピリジル基、２−メトキシピリジル基、３−メトキシピリジル基、４−メトキシピリジル基、２−シアノピリジル基、３−シアノピリジル基、４−シアノピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、１，３，５−トリアジル基、ベンゾイミダゾリル基、インダゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、２，１，３−ベンゾチアジアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイソオキサゾリル基、２，１，３−ベンゾオキサジアゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリル基、キナゾリル基、アクリジニル基、１，１０−フェナントロリル基、ピロリル基、フリル基、チエニル基、インドリル基、ベンゾチエニル基、４−カルバゾリル基、９−カルバゾリル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基等を挙げることができる。

Ｒ^１〜Ｒ^７が置換基として有してもよい炭素数９〜２６のヘテロアリールフェニル基としては、特に限定するものではないが、例えば、ピリジルフェニル基、イミダゾリルフェニル基、ベンゾイミダゾリルフェニル基、ベンゾチアゾリルフェニル基、トリアジルフェニル基、ピロリルフェニル基、フラニルフェニル基、ジベンゾフラニルフェニル基、又はジベンゾチエニルフェニル基等を例示することができる。

Ｒ^１〜Ｒ^７が置換基として有してもよい炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基としては、特に限定するものではないが、例えば、前記のＡｒ^１〜Ａｒ^４において示した炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基と同じ置換基が挙げられる。

Ｒ^１〜Ｒ^７が置換基として有してもよい炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基としては、特に限定するものではないが、例えば、前記のＡｒ^１〜Ａｒ^４において示した炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基と同じ置換基が挙げられる。

Ｒ^１〜Ｒ^７が置換基として有してもよい炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基としては、特に限定するものではないが、例えば、前記のＡｒ^１〜Ａｒ^４において示した炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基と同じ置換基が挙げられる。

Ｒ^１〜Ｒ^７が置換基として有してもよい炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基としては、特に限定するものではないが、例えば、前記のＡｒ^１〜Ａｒ^４において示した炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基と同じ置換基が挙げられる。

Ｒ^１〜Ｒ^７が置換基として有してもよい炭素数６〜１８のアリールオキシ基としては、特に限定するものではないが、例えば、前記のＡｒ^１〜Ａｒ^４において示した炭素数６〜１８のアリールオキシ基と同じ置換基が挙げられる。

Ｒ^１〜Ｒ^７が置換基として有してもよい炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基としては、特に限定するものではないが、例えば、前記のＡｒ^１〜Ａｒ^４において示した炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基と同じ置換基が挙げられる。

Ｒ^１〜Ｒ^７が置換基として有してもよい炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基としては、特に限定するものではないが、例えば、前記のＡｒ^１〜Ａｒ^４において示した炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基と同じ置換基が挙げられる。

Ｒ^１〜Ｒ^７が置換基として有してもよいハロゲン原子としては、Ａｒ^１〜Ａｒ^４において示したハロゲン原子と同じ原子が挙げられる。

一般式（１）で表される４−アミノカルバゾール化合物の三重項準位が高く、正孔輸送特性が良好なことから、Ｒ^１〜Ｒ^７は、各々独立して、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、シアノ基、水素原子、又はハロゲン原子であることが好ましい。また、工業的な原料入手の容易さを考慮すると、Ｒ^１〜Ｒ^７は、各々独立して、フェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニル基、ビフェニリル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、メチル基、メトキシ基、又は水素原子であることがより好ましく、また、各々独立して、フェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニル基、又は水素原子であることがさらに好ましい。

なお、工業的製造方法を鑑みた場合、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、及びＲ^７が水素原子であることがいっそう好ましく、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、及びＲ^７が水素原子であることが、よりいっそう好ましい
一般式（１）で表される４−アミノカルバゾール化合物において、ｎは０〜２の整数を表す。このうち、三重項準位が高く、正孔輸送特性が良好なことから、ｎ＝０又は１であることが好ましく、ｎ＝０であることがより好ましい。

一般式（１）で表される４−アミノカルバゾール化合物において、
Ｘは炭素数６〜１７の（ｎ＋１）価の芳香族炭化水素基、炭素数３〜２０の（ｎ＋１）価のヘテロ芳香族基、又は炭素数９〜２６の（ｎ＋１）価のヘテロアリールフェニル基を表す。

なお、これらの基は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基、炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい。

Ｘにおける炭素数６〜１７の（ｎ＋１）価の芳香族炭化水素基としては、特に限定するものではないが、例えば、フェニル基、フェニレン基、ベンゼントリイル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、メチルベンゼンジイル基、メチルベンゼントリイル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、メトキシベンゼンジイル基、メトキシベンゼントリイル基、２−シアノフェニル基、３−シアノフェニル基、シアノベンゼンジイル基、シアノベンゼントリイル基、ビフェニリル基、ビフェニリレン基、ビフェニルトリイル基、ナフチル基、ナフチレン基、ナフタレントリイル基、フルオレニル基、フルオレンジイル基、フルオレントリイル基、ベンゾフルオレニル基、ベンゾフルオレンジイル基、ベンゾフルオレントリイル基、フェナントリル基、フェナントレンジイル基、フェナントレントリイル基等が挙げられる。

Ｘにおける炭素数３〜２０の（ｎ＋１）価のヘテロ芳香族基としては、特に限定するものではないが、例えば、酸素原子、窒素原子及び硫黄原子のうち少なくとも一つのヘテロ原子を含有する（ｎ＋１）価のヘテロ芳香族基があげられる。その具体例としては、イミダゾリル基、イミダゾールジイル基、イミダゾールトリイル基、ピラゾリル基、ピラゾールジイル基、ピラゾールトリイル基、チアゾリル基、チアゾールジイル基、チアゾールトリイル基、イソチアゾリル基、イソチアゾールジイル基、イソチアゾールトリイル基、オキサゾリル基、オキサゾールジイル基、オキサゾールトリイル基、イソオキサゾリル基、イソオキサゾールジイル基、イソオキサゾールトリイル基、ピリジル基、ピリジンジイル基、ピリジントリイル基、２−メチルピリジル基、３−メチルピリジル基、４−メチルピリジル基、メチルピリジンジイル基、メチルピリジントリイル基、２−メトキシピリジル基、３−メトキシピリジル基、４−メトキシピリジル基、メトキシピリジンジイル基、メトキシピリジントリイル基、２−シアノピリジル基、３−シアノピリジル基、４−シアノピリジル基、シアノピリジンジイル基、シアノピリジントリイル基、ピリミジル基、ピリミジンジイル基、ピリミジントリイル基、ピラジル基、ピラジンジイル基、ピラジントリイル基、１，３，５−トリアジル基、１，３，５−トリアジンジイル基、１，３，５−トリアジントリイル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾイミダゾールジイル基、ベンゾイミダゾールトリイル基、インダゾリル基、インダゾールジイル基、インダゾールトリイル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾチアゾールジイル基、ベンゾチアゾールトリイル基、ベンゾイソチアゾリル基、ベンゾイソチアゾールジイル基、ベンゾイソチアゾールトリイル基、２，１，３−ベンゾチアジアゾリル基、２，１，３−ベンゾチアジアゾールジイル基、２，１，３−ベンゾチアジアゾールトリイル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾオキサゾールジイル基、ベンゾオキサゾールトリイル基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾイソオキサゾールジイル基、ベンゾイソオキサゾールジイル基、２，１，３−ベンゾオキサジアゾリル基、２，１，３−ベンゾオキサジアゾールジイル基、２，１，３−ベンゾオキサジアゾールトリイル基、キノリル基、キノリンジイル基、キノリントリイル基、イソキノリル基、イソキノリンジイル基、イソキノリントリイル基、キノキサリル基、キノキサリンジイル基、キノキサリントリイル基、キナゾリル基、キナゾリンジイル基、キナゾリントリイル基、アクリジニル基、アクリジンジイル基、アクリジントリイル基、１，１０−フェナントロリル基、１，１０−フェナントロリンジイル基、１，１０−フェナントロリントリイル基、ピロリル基、ピロールジイル基、ピロールトリイル基、フリル基、フランジイル基、フラントリイル基、チエニル基、チオフェンジイル基、チオフェントリイル基、インドリル基、インドールジイル基、インドールトリイル基、ベンゾチエニル基、ベンゾチオフェンジイル基、ベンゾチオフェントリイル基、４−カルバゾリル基、カルバゾールジイル基、カルバゾールトリイル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾチオフェンジイル基、ジベンゾチオフェントリイル基、ジベンゾフラニル基、ジベンゾフランジイル基、ジベンゾフラントリイル基等を挙げることができる。

Ｘにおける炭素数９〜２６の（ｎ＋１）価のヘテロアリールフェニル基としては、特に限定するものではないが、例えば、ピリジルフェニリル基、ピリジルフェニルジイル基、ピリジルフェニルトリイル基、イミダゾリルフェニリル基、イミダゾリルフェニルジイル基、イミダゾリルフェニルトリイル基、ベンゾイミダゾリルフェニリル基、ベンゾイミダゾリルフェニルジイル基、ベンゾイミダゾリルフェニルトリイル基、ベンゾチアゾリルフェニリル基、ベンゾチアゾリルフェニルジイル基、ベンゾチアゾリルフェニルトリイル基、トリアジルフェニリル基、トリアジルフェニルジイル基、トリアジルフェニルトリイル基、ピロリルフェニリル基、ピロリルフェニルジイル基、ピロリルフェニルトリイル基、フラニルフェニリル基、フラニルフェニルジイル基、フラニルフェニルトリイル基、ジベンゾフラニルフェニリル基、ジベンゾフラニルフェニルジイル基、ジベンゾフラニルフェニルトリイル基、ジベンゾチエニルフェニリル基、ジベンゾチエニルフェニルジイル基、又はジベンゾチエニルフェニルトリイル基等を例示することができる。

Ｘが置換基として有してもよい炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基としては、特に限定するものではないが、例えば、Ａｒ^１〜Ａｒ^４における炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基と同じ置換基が挙げられる。

Ｘが置換基として有してもよい炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基としては、特に限定するものではないが、例えば、Ａｒ^１〜Ａｒ^４における炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基と同じ置換基が挙げられる。

Ｘが置換基として有してもよい炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基としては、特に限定するものではないが、例えば、Ａｒ^１〜Ａｒ^４における炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基と同じ置換基が挙げられる。

Ｘが置換基として有してもよい炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基としては、特に限定するものではないが、例えば、Ａｒ^１〜Ａｒ^４における炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基と同じ置換基が挙げられる。

Ｘが置換基として有してもよい炭素数６〜１２のアリール基としては、特に限定するものではないが、例えば、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−シアノフェニル基、３−シアノフェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基等が挙げられる。

Ｘが置換基として有してもよい炭素数６〜１８のアリールオキシ基、としては、特に限定するものではないが、例えば、前記のＡｒ^１〜Ａｒ^４が置換基として有してもよい炭素数６〜１８のアリールオキシ基と同じ置換基が挙げられる。

Ｘが置換基として有してもよい炭素数３〜２０のヘテロアリール基としては、特に限定するものではないが、例えば、前記のＲ^１〜Ｒ^７が置換基として有してもよい炭素数３〜２０のヘテロアリール基と同じ置換基が挙げられる。

Ｘが置換基として有してもよい炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基としては、特に限定するものではないが、例えば、前記のＡｒ^１〜Ａｒ^４が置換基として有してもよい炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基と同じ置換基が挙げられる。

Ｘが置換基として有してもよい炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基としては、特に限定するものではないが、例えば、前記のＡｒ^１〜Ａｒ^４が置換基として有してもよい炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基と同じ置換基が挙げられる。

Ｘの具体例としては、フェニル基、４−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、２−メチルフェニル基、４−エチルフェニル基、３−エチルフェニル基、２−エチルフェニル基、４−ｎ−プロピルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基、２−イソプロピルフェニル基、４−ｎ−ブチルフェニル基、４−イソブチルフェニル基、４−ｓｅｃ−ブチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、４−ｎ−ペンチルフェニル基、４−イソペンチルフェニル基、４−ネオペンチルフェニル基、４−ｎ−ヘキシルフェニル基、４−ｎ−オクチルフェニル基、４−ｎ−デシルフェニル基、４−ｎ−ドデシルフェニル基、４−シクロペンチルフェニル基、４−シクロヘキシルフェニル基、４−トリチルフェニル基、３−トリチルフェニル基、４−トリフェニルシリルフェニル基、３−トリフェニルシリルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、４−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、２−メトキシフェニル基、４−エトキシフェニル基、３−エトキシフェニル基、２−エトキシフェニル基、４−ｎ−プロポキシフェニル基、３−ｎ−プロポキシフェニル基、４−イソプロポキシフェニル基、２−イソプロポキシフェニル基、４−ｎ−ブトキシフェニル基、４−イソブトキシフェニル基、２−ｓｅｃ−ブトキシフェニル基、４−ｎ−ペンチルオキシフェニル基、４−イソペンチルオキシフェニル基、２−イソペンチルオキシフェニル基、４−ネオペンチルオキシフェニル基、２−ネオペンチルオキシフェニル基、４−ｎ−ヘキシルオキシフェニル基、２−（２−エチルブチル）オキシフェニル基、４−ｎ−オクチルオキシフェニル基、４−ｎ−デシルオキシフェニル基、４−ｎ−ドデシルオキシフェニル基、４−ｎ−テトラデシルオキシフェニル基、４−シクロヘキシルオキシフェニル基、２−シクロヘキシルオキシフェニル基、４−フェノキシフェニル基、３−フェノキシフェニル基、２−メチル−４−メトキシフェニル基、２−メチル−５−メトキシフェニル基、３−メチル−４−メトキシフェニル基、３−メチル−５−メトキシフェニル基、３−エチル−５−メトキシフェニル基、２−メトキシ−４−メチルフェニル基、３−メトキシ−４−メチルフェニル基、２，４−ジメトキシフェニル基、２，５−ジメトキシフェニル基、２，６−ジメトキシフェニル基、３，４−ジメトキシフェニル基、３，５−ジメトキシフェニル基、３，５−ジエトキシフェニル基、３，５−ジ−ｎ−ブトキシフェニル基、２−メトキシ−４−エトキシフェニル基、２−メトキシ−６−エトキシフェニル基、３，４，５−トリメトキシフェニル基、４−シアノフェニル基、３−シアノフェニル基、４−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、２−フルオロフェニル基、２，３−ジフルオロフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、２，５−ジフルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフェニル基、３，４−ジフルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、４−ビフェニリル基、３−ビフェニリル基、２−ビフェニリル基、２−メチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、３−メチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、２’−メチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、３’−メチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、４’−メチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、２，６−ジメチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、２，２’−ジメチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、２，３’−ジメチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、２，４’−ジメチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、３，２’−ジメチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、２’，３’−ジメチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、２’，４’−ジメチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、２’，５’−ジメチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、２’，６’−ジメチル−１，１’−ビフェニル−４−イル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、２−メチルナフタレン−１−イル基、４−メチルナフタレン−１−イル基、６−メチルナフタレン−２−イル基、４−（１−ナフチル）フェニル基、４−（２−ナフチル）フェニル基、３−（１−ナフチル）フェニル基、３−（２−ナフチル）フェニル基、３−メチル−４−（１−ナフチル）フェニル基、３−メチル−４−（２−ナフチル）フェニル基、４−（２−メチルナフタレン−１−イル）フェニル基、３−（２−メチルナフタレン−１−イル）フェニル基、４−フェニルナフタレン−１−イル基、４−（２−メチルフェニル）ナフタレン−１−イル基、４−（３−メチルフェニル）ナフタレン−１−イル基、４−（４−メチルフェニル）ナフタレン−１−イル基、６−フェニルナフタレン−２−イル基、４−（２−メチルフェニル）ナフタレン−２−イル基、４−（３−メチルフェニル）ナフタレン−２−イル基、４−（４−メチルフェニル）ナフタレン−２−イル基、２−フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、９，９−ジエチル−２−フルオレニル基、９，９−ジ−ｎ−プロピル−２−フルオレニル基、９，９−ジ−ｎ−オクチル−２−フルオレニル基、９，９−ジフェニル−２−フルオレニル基、９−フェナントリル基、２−フェナントリル基、ベンゾフルオレニル基、１−イミダゾリル基、２−フェニル−１−イミダゾリル基、２−フェニル−３，４−ジメチル−１−イミダゾリル基、２，３，４−トリフェニル−１−イミダゾリル基、２−（２−ナフチル）−３，４−ジメチル−１−イミダゾリル基、２−（２−ナフチル）−３，４−ジフェニル−１−イミダゾリル基、１−メチル−２−イミダゾリル基、１−エチル−２−イミダゾリル基、１−フェニル−２−イミダゾリル基、１−メチル−４−フェニル−２−イミダゾリル基、１−メチル−４，５−ジメチル−２−イミダゾリル基、１−メチル−４，５−ジフェニル−２−イミダゾリル基、１−フェニル−４，５−ジメチル−２−イミダゾリル基、１−フェニル−４，５−ジフェニル−２−イミダゾリル基、１−フェニル−４，５−ジビフェニリル−２−イミダゾリル基、１−メチル−３−ピラゾリル基、１−フェニル−３−ピラゾリル基、１−メチル−４−ピラゾリル基、１−フェニル−４−ピラゾリル基、１−メチル−５−ピラゾリル基、１−フェニル−５−ピラゾリル基、２−チアゾリル基、４−チアゾリル基、５−チアゾリル基、３−イソチアゾリル基、４−イソチアゾリル基、５−イソチアゾリル基、２−オキサゾリル基、４−オキサゾリル基、５−オキサゾリル基、３−イソオキサゾリル基、４−イソオキサゾリル基、５−イソオキサゾリル基、２−ピリジル基、３−メチル−２−ピリジル基、４−メチル−２−ピリジル基、５−メチル−２−ピリジル基、６−メチル−２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−メチル−３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジル基、２，２’−ビピリジン−３−イル基、２，２’−ビピリジン−４−イル基、２，２’−ビピリジン−５−イル基、２，３’−ビピリジン−３−イル基、２，３’−ビピリジン−４−イル基、２，３’−ビピリジン−５−イル基、５−ピリミジル基、ピラジル基、１，３，５−トリアジル基、４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル基、１−ベンゾイミダゾリル基、２−メチル−１−ベンゾイミダゾリル基、２−フェニル−１−ベンゾイミダゾリル基、１−メチル−２−ベンゾイミダゾリル基、１−フェニル−２−ベンゾイミダゾリル基、１−メチル−５−ベンゾイミダゾリル基、１，２−ジメチル−５−ベンゾイミダゾリル基、１−メチル−２−フェニル−５−ベンゾイミダゾリル基、１−フェニル−５−ベンゾイミダゾリル基、１，２−ジフェニル−５−ベンゾイミダゾリル基、１−メチル−６−ベンゾイミダゾリル基、１，２−ジメチル−６−ベンゾイミダゾリル基、１−メチル−２−フェニル−６−ベンゾイミダゾリル基、１−フェニル−６−ベンゾイミダゾリル基、１，２−ジフェニル−６−ベンゾイミダゾリル基、１−メチル−３−インダゾリル基、１−フェニル−３−インダゾリル基、２−ベンゾチアゾリル基、４−ベンゾチアゾリル基、５−ベンゾチアゾリル基、６−ベンゾチアゾリル基、７−ベンゾチアゾリル基、３−ベンゾイソチアゾリル基、４−ベンゾイソチアゾリル基、５−ベンゾイソチアゾリル基、６−ベンゾイソチアゾリル基、７−ベンゾイソチアゾリル基、２，１，３−ベンゾチアジアゾール−４−イル基、２，１，３−ベンゾチアジアゾール−５−イル基、２−ベンゾオキサゾリル基、４−ベンゾオキサゾリル基、５−ベンゾオキサゾリル基、６−ベンゾオキサゾリル基、７−ベンゾオキサゾリル基、３−ベンゾイソオキサゾリル基、４−ベンゾイソオキサゾリル基、５−ベンゾイソオキサゾリル基、６−ベンゾイソオキサゾリル基、７−ベンゾイソオキサゾリル基、２，１，３−ベンゾオキサジアゾリル−４−イル基、２，１，３−ベンゾオキサジアゾリル−５−イル基、２−キノリル基、３−キノリル基、５−キノリル基、６−キノリル基、１−イソキノリル基、４−イソキノリル基、５−イソキノリル基、２−キノキサリル基、３−フェニル−２−キノキサリル基、６−キノキサリル基、２，３−ジメチル−６−キノキサリル基、２，３−ジフェニル−６−キノキサリル基、２−キナゾリル基、４−キナゾリル基、２−アクリジニル基、９−アクリジニル基、１，１０−フェナントロリン−３−イル基、１，１０−フェナントロリン−５−イル基、２−チエニル基、３−チエニル基、２−フラニル基、３−フラニル基、１−メチルインドール−２−イル基、１−フェニルインドール−２−イル基、２−ベンゾチエニル基、２−ジベンゾチエニル基、４−ジベンゾチエニル基、２−ジベンゾフラニル基、４−ジベンゾフラニル基、４−（２−ピリジル）フェニル基、４−（３−ピリジル）フェニル基、４−（４−ピリジル）フェニル基、３−（２−ピリジル）フェニル基、３−（３−ピリジル）フェニル基、３−（４−ピリジル）フェニル基、４−（２−フェニルイミダゾール−１−イル）フェニル基、４−（１−フェニルイミダゾール−２−イル）フェニル基、４−（２，３，４−トリフェニルイミダゾール−１−イル）フェニル基、４−（１−メチル−４，５−ジフェニルイミダゾール−２−イル）フェニル基、４−（２−メチルベンゾイミダゾール−１−イル）フェニル基、４−（２−フェニルベンゾイミダゾール−１−イル）フェニル基、４−（１−メチルベンゾイミダゾール−２−イル）フェニル基、４−（２−フェニルベンゾイミダゾール−１−イル）フェニル基、３−（２−メチルベンゾイミダゾール−１−イル）フェニル基、３−（２−フェニルベンゾイミダゾール−１−イル）フェニル基、３−（１−メチルベンゾイミダゾール−２−イル）フェニル基、３−（２−フェニルベンゾイミダゾール−１−イル）フェニル基、４−（３，５−ジフェニルトリアジン−１−イル）フェニル基、４−（２−チエニル）フェニル基、４−（２−フラニル）フェニル基、５−フェニルチオフェン−２−イル基、５−フェニルピリジン−２−イル基、４−フェニルピリジン−２−イル基、５−フェニルピリジン−３−イル基、４−（９−カルバゾリル）フェニル基、３−（９−カルバゾリル）フェニル基等（及び、これらの基の２価、３価芳香族基を含む）を例示することができるが、これらに限定されるものではない。

一般式（１）で表される４−アミノカルバゾール化合物において、良好な素子特性を得られることから、Ｘは、（ｎ＋１）価のベンゼン、（ｎ＋１）価のビフェニル、（ｎ＋１）価のナフタレン、（ｎ＋１）価のフェナントレン、（ｎ＋１）価のフルオレン、（ｎ＋１）価のナフチルベンゼン、（ｎ＋１）価のピリジン、（ｎ＋１）価のピリミジン、（ｎ＋１）価の１，３，５−トリアジン、（ｎ＋１）価のキノリン、（ｎ＋１）価のジベンゾチオフェン、（ｎ＋１）価のジベンゾフラン、（ｎ＋１）価のピリジルベンゼン、（ｎ＋１）価のイミダゾリルベンゼン、（ｎ＋１）価のベンゾイミダゾリルベンゼン、及び（ｎ＋１）価のベンゾチアゾリルベンゼン（これらの芳香環は、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）から選ばれる１種であることが、良好な素子特性を得られる点で好ましく、（ｎ＋１）価のベンゼン、（ｎ＋１）価のビフェニル、（ｎ＋１）価のキノリン、（ｎ＋１）価のジベンゾチオフェン、（ｎ＋１）価の２，４−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、又は（ｎ＋１）価のピリジルベンゼン基であることがさらに好ましく、フェニル基、キノリル基、ジベンゾチエニル基、２，４−ジフェニル−１，３，５−トリアジニル基、ピリジルフェニル基であることがいっそう好ましい。

背景技術で述べた通り、燐光を有する発光材料を用いた有機ＥＬ素子において、高い発光効率を得るためには、正孔輸送材料の三重項準位が発光材料の三重項準位よりも高い必要がある。

例えば、緑色の燐光発光を有する代表的な材料であるトリス（２−フェニルピリジン）イリジウム（以下、Ｉｒ（ｐｐｙ）_３と略す）と組み合わせて使用する場合、当該材料の三重項準位が２．４２ｅＶであることから（非特許文献１）、前記一般式（１）で表される４−アミノカルバゾール化合物の三重項準位は、特に限定するものではないが、２．４３ｅＶ以上であることが好ましく、２．５０ｅＶ以上であることが更に好ましい。

また、青色の燐光発光を有する代表的な材料であるビス［２−（４，６−ジフルオロフェニル）ピリジネート−Ｎ，Ｃ’］イリジウム（ＩＩＩ）ピコリレート（以下、ＦＩｒｐｉｃと略す）と組み合わせて使用する場合、当該材料の三重項準位が２．６５ｅＶであることから（ＡｐｐｌｉｅｄＰｈｙｓｉｃｓＬｅｔｔｅｒｓ，２００３，第８２巻，２４２２頁）、前記一般式（１）で表される４−アミノカルバゾール化合物の三重項準位は、特に限定するものではないが、２．６６ｅＶ以上であることが好ましく、２．７０ｅＶ以上であることが更に好ましい。

以下に、一般式（１）で表される４−アミノカルバゾール化合物について、具体例の構造式を例示するが、これらの具体例に限定されるものではない。

前記一般式（１）で表される４−アミノカルバゾール化合物は、例えば、４位がハロゲン化された９Ｈ−カルバゾール化合物を原料として用い、公知の方法（ＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎＬｅｔｔｅｒｓ，１９９８年，第３９巻，２３６７頁）によって合成することができる。具体的には、下記のルートａ及びルートｂにより合成することができる。

ルートａ
ルートａは、下記の反応工程を含む。一般式（２）で表される４位がハロゲン化された９Ｈ−カルバゾール化合物と、一般式（３）で表されるハロゲン原子を有する化合物とを、塩基の存在下、銅触媒又はパラジウム触媒を用いて反応させ、一般式（４）で表される４−ハロゲン化−９−置換カルバゾール化合物を得る。更に、得られた一般式（４）で表される４−ハロゲン化−９−置換カルバゾール化合物と、一般式（５）で表される２級アミン化合物又は一般式（６）で表される１級アミン化合物とを、塩基の存在下、銅触媒又はパラジウム触媒を用いて反応させる。

（式（２）、（３）、（４）、（５）、及び（６）中、Ａｒ^１〜Ａｒ^４、Ｒ^１〜Ｒ^７、Ｘ、及びｎは前記と同義であり、Ａ、Ｂ、Ｃ、及びＤは各々独立してハロゲン原子［ヨウ素、臭素、塩素、又はフッ素］を表す。）
ルートｂ
ルートｂは、下記の反応工程を含む。一般式（２）で表される４位がハロゲン化された９Ｈ−カルバゾール化合物と、一般式（７）で表されるハロゲン化化合物とを、塩基の存在下、銅触媒又はパラジウム触媒を用いて反応させ、一般式（８）で表される４位及び９位の置換基Ｘがハロゲン化されたカルバゾール化合物を得る。更に、塩基の存在下、銅触媒又はパラジウム触媒を用いて２級アミン化合物を反応させる。

（式（２）、（５）、（７）、及び（８）中、Ａｒ^１〜Ａｒ^４、Ｒ^１〜Ｒ^７、及びＸは前記と同義であり、Ａ、Ｂ、Ｃ、及びＤは各々独立してハロゲン原子［ヨウ素、臭素、塩素、又はフッ素］を表す。ｍは０〜２の整数を表す。）
一般式（１）で表される４−アミノカルバゾール化合物の合成方法は、ルートａ及びルートｂに限定されるものでなく、他のルートによって合成することも可能である。

本発明の前記一般式（１）で表される４−アミノカルバゾール化合物は、有機ＥＬ素子の発光層、正孔輸送層又は正孔注入層の構成材料として使用することができる。

特に、前記一般式（１）で表される４−アミノカルバゾール化合物は、蛍光発光材料又は燐光発光材料を発光層に用いた素子において、少なくとも１つの正孔注入層、正孔輸送層又は発光層の構成材料として好ましく用いることができる。

前記一般式（１）で表される４−アミノカルバゾール化合物を有機ＥＬ素子の正孔注入層及び／又は正孔輸送層として使用する際の発光層には、従来から使用されている公知の蛍光若しくは燐光発光材料を使用することができる。発光層は１種類の発光材料のみで形成されていても、ホスト材料中に１種類以上の発光材料がドープされていてもよい。

前記一般式（１）で表される４−アミノカルバゾール化合物からなる正孔注入層及び／又は正孔輸送層を形成する際には、必要に応じて２種類以上の材料を含有若しくは積層させてもよく、例えば、酸化モリブデン等の酸化物、７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン、２，３，５，６−テトラフルオロ−７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン、ヘキサシアノヘキサアザトリフェニレン等の公知の電子受容性材料を含有若しくは積層させてもよい。

また、本発明の前記一般式（１）で表される４−アミノカルバゾール化合物は有機ＥＬ素子の発光層としても使用することができる。前記一般式（１）で表される４−アミノカルバゾール化合物を有機ＥＬ素子の発光層として使用する場合には、４−アミノカルバゾール化合物を単独で使用、公知の発光ホスト材料にドープして使用、又は公知の発光ドーパントをドープして使用することができる。

前記一般式（１）で表される４−アミノカルバゾール化合物を含有する正孔注入層、正孔輸送層又は発光層を形成する方法としては、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法等の公知の方法を適用することができる。

以下、本発明を実施例に基づき更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。

^１Ｈ−ＮＭＲ及び^１３Ｃ−ＮＭＲ測定は、バリアン社製のＧｅｍｉｎｉ２００を用いて行った。

ＦＤＭＳ測定は、日立製作所製のＭ−８０Ｂを用いて行った。

三重項準位は、日立ハイテクノロジーズ社製のＦ２５００形分光蛍光光度計を使用して評価した。

イオン化ポテンシャルは、北斗電工製のＨＡ−５０１及びＨＢ−１０４を使用したサイクリックボルタンメトリーで評価した。

ガラス転移温度の測定は、マックサイエンス製ＤＳＣ−３１００を用い、１０℃／分の昇温条件下にて行った。

有機ＥＬ素子の発光特性は、作製した素子に直流電流を印加し、ＴＯＰＣＯＮ社製のＬＵＭＩＮＡＮＣＥＭＥＴＥＲ（ＢＭ−９）の輝度計を用いて評価した。

合成例１（２−ニトロ−６−クロロビフェニル［式（９）］の合成）
窒素気流下、１Ｌの三口フラスコに、２，３−ジクロロニトロベンゼン７５．０ｇ（３９０．６ｍｍｏｌ）、フェニルボロン酸４７．６ｇ（３９０．６ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム９．０ｇ（７．８ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン２５０ｍＬ、４０ｗｔ％のりん酸三カリウム水溶液５１８ｇ（９７６．５ｍｍｏｌ）を加え、８時間加熱還流した。室温まで冷却した後、水層と有機層を分液し、有機層を飽和塩化アンモニウム水溶液と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒留去した。得られた固体をエタノールで再結晶し、２−ニトロ−６−クロロビフェニルの薄黄色針状結晶を６２．８ｇ単離した（収率６８％）。

化合物の同定は、^１Ｈ−ＮＭＲ測定、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定により行った。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；７．６６−７．７４（ｍ，２Ｈ），７．４１−７．４５（ｍ，４Ｈ），７．２２−７．２７（ｍ，２Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；１３５．７１，１３４．６８，１３３．９１，１３３．２９，１２８．９１，１２８．７１，１２８．６８，１２８．５５，１２８．４６，１２１．９６
合成例２（４−クロロカルバゾール［式（１０）］の合成）
窒素気流下、５００ｍＬのナス型フラスコに合成例１で得られた２−ニトロ−６−クロロビフェニル６０．０ｇ（２５７．４ｍｍｏｌ）を仕込み、１４０℃に加熱後、亜リン酸トリエチル１０６ｇを２時間で滴下した。滴下後、１４０℃で更に２時間攪拌し、減圧下に亜リン酸トリエチルを留去した。残渣にトルエンを加え、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン）で精製することにより、４−クロロカルバゾールの白色粉末を１８．９ｇ（９３．７２ｍｍｏｌ）単離した（収率３６％）。

^１Ｈ−ＮＭＲ（Ａｃｅｔｏｎｅ−ｄ６）；１０．７１（ｂｒ−ｓ，１Ｈ），８．５２（ｄ，１Ｈ），７．１５−７．５９（ｍ，６Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（Ａｃｅｔｏｎｅ−ｄ６）；１４１．８０，１４０．７１，１２８．３７，１２６．７６，１２６．６１，１２２．９９，１２２．３３，１２０．５７，１１９．８８，１１９．７５，１１１．４５，１１０．１５
合成例３（４−クロロ−９−（４−ビフェニリル）カルバゾールの合成）
窒素気流下、２００ｍＬの三口フラスコに合成例２で得られた４−クロロカルバゾール１０．０ｇ（４９．５ｍｍｏｌ）、４−ブロモビフェニル１１．６ｇ（５２．０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム９．５ｇ（６９．４ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン１００ｍＬ、酢酸パラジウム１１１ｍｇ（０．４９ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン３４９ｍｇ（１．７３ｍｍｏｌ）を添加して１３０℃で１４時間攪拌した。室温まで冷却後、純水５０ｍＬを加え、有機層を分離した。有機層を純水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒留去した。得られた粉末をエタノールで洗浄し、４−クロロ−９−（４−ビフェニリル）カルバゾールの薄茶色粉末を１２．５ｇ（３５．４ｍｍｏｌ）単離した（収率７１％）。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；８．６８（ｄ，１Ｈ），７．８０（ｄ，２Ｈ），７．６７（ｄ，２Ｈ），７．２２−７．５９（ｍ，１１Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；１４２．０４，１４１．０５，１４０．８３，１４０．０８，１３６．２９，１２８．９７，１２８．７９，１２８．５８，１２７．７４，１２７．６１，１２７．１４，１２６．４８，１２６．１３，１２３．１３，１２２．３２，１２０．７５，１２０．６２，１２０．３３，１０９．６５，１０８．２０
合成例４（４−クロロ−９−（３−キノリル）カルバゾールの合成）
窒素気流下、１００ｍＬの三口フラスコに合成例２で得られた４−クロロカルバゾール５．０ｇ（２４．７ｍｍｏｌ）、３−ブロモキノリン５．１ｇ（２４．７ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム４．７ｇ（３４．７ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン２５ｍＬ、酢酸パラジウム２７６ｍｇ（１．２３ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン８６９ｍｇ（４．３ｍｍｏｌ）を添加して１４０℃で２４時間攪拌した。室温まで冷却後、純水２０ｍＬを加え、有機層を分離した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエンとヘキサンの混合溶媒（体積比＝３：１））で精製し、４−クロロ−９−（３−キノリル）カルバゾールの茶色ガラス状固体を４．６ｇ（１４．０ｍｍｏｌ）単離した（収率５６％）。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；９．０９（ｓ，１Ｈ），８．７０（ｄ，１Ｈ），８．３１（ｓ，１Ｈ），８．２６（ｄ，１Ｈ），７．９０（ｄ，１Ｈ），７．８２（ｄ，１Ｈ），７．６６（ｔ，１Ｈ），７．２２−７．５１（ｍ，６Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；１８３．４５，１４９．５９，１４７．２３，１４２．０６，１４１．０７，１３３．３８，１３０．８４，１３０．２７，１２９．５９，１２９．０２，１２８．１８，１２７．７８，１２６．８３，１２６．４８，１２３．３５，１２２．６１，１２１．４１，１２０．９５，１０９．１６，１０７．７３
合成例５（４−クロロ−９−（２−ジベンゾチエニル）カルバゾールの合成）
窒素気流下、５０ｍＬの三口フラスコに合成例２で得られた４−クロロカルバゾール２．６ｇ（１２．９ｍｍｏｌ）、２−ブロモジベンゾチオフェン３．４ｇ（１２．９ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム３．５ｇ（２５．９ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン１３ｍＬ、酢酸パラジウム２９ｍｇ（０．１２ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン９１ｍｇ（０．４５ｍｍｏｌ）を添加して１４０℃で１８時間攪拌した。室温まで冷却後、純水１０ｍＬを加え、有機層を分離した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエンとヘキサンの混合溶媒（体積比＝１：２））で精製し、４−クロロ−９−（２−ジベンゾチエニル）カルバゾールの茶色ガラス状固体を３．５ｇ（９．１ｍｍｏｌ）単離した（収率７０％）。

化合物の同定は、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により行った。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；８．７１（ｄ，１Ｈ），８．２７（ｄ，１Ｈ），８．０４−８．１６（ｍ，３Ｈ），７．８３−７．９４（ｍ，２Ｈ），７．２５−７．６１（ｍ，７Ｈ）
合成例６（４−クロロ−９−［４−（２−ピリジル）フェニル］カルバゾールの合成）
窒素気流下、１００ｍＬの三口フラスコに合成例２で得られた４−クロロカルバゾール５．０ｇ（２４．７ｍｍｏｌ）、４−（２−ピリジル）ブロモベンゼン６．０ｇ（２６．０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム４．７ｇ（３４．７ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン２５ｍＬ、酢酸パラジウム５５ｍｇ（０．２４ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン１７４ｍｇ（０．８６ｍｍｏｌ）を添加して１４０℃で１４時間攪拌した。室温まで冷却後、純水２０ｍＬを加え、有機層を分離した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエンとヘキサンの混合溶媒（体積比＝２：１））で精製し、４−クロロ−９−［４−（２−ピリジル）フェニル］カルバゾールの茶色ガラス状固体を４．５ｇ（１２．７ｍｍｏｌ）単離した（収率５１％）。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；８．６６−８．７５（ｍ，２Ｈ）８．２０（ｄ，２Ｈ），７．７７（ｄ，２Ｈ），７．６１（ｄ，２Ｈ），７．２２−７．４６（ｍ，７Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；１５６．３３，１４９．８４，１４１．９２，１４０．９３，１３８．９３，１３７．７６，１３６．９２，１２８．７９，１２８．４９，１２７．５０，１２６．５３，１２６．１９，１２３．１５，１２２．５０，１２２．３９，１２０．８６，１２０．６９，１２０．５６，１２０．４２，１０９．６５，１０８．２０
合成例７（４−クロロ−９−（４−クロロフェニル）カルバゾールの合成）
窒素気流下、１００ｍＬの三口フラスコに、合成例２で得られた４−クロロカルバゾール５．０ｇ（２４．７ｍｍｏｌ）、ｐ−ブロモクロロベンゼン５．１ｇ（２７．２ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム４．７ｇ（３４．７ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン５０ｍＬ、酢酸パラジウム５５ｍｇ（０．２４ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン１７４ｍｇ（０．８６ｍｍｏｌ）を添加して１３０℃で２４時間攪拌した。室温まで冷却後、純水３０ｍＬを加え、有機層を分離した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン）で精製し、４−クロロ−９−（４−クロロフェニル）カルバゾールの白色固体を４．４ｇ（１４．１ｍｍｏｌ）単離した（収率５６％）。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；８．６４（ｄ，１Ｈ），７．５３（ｄ，２Ｈ），７．１５−７．４５（ｍ，８Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；１４１．８６，１４０．８７，１３５．７３，１３３．６２，１３０．２５，１２８．８８，１２８．６９，１２６．６１，１２６．２６，１２３．２０，１２２．３８，１２０．９８，１２０．６９，１２０．５６，１０９．３６，１０７．９３
合成例８（４−クロロ−９−フェニルカルバゾールの合成）
窒素気流下、２００ｍＬの三口フラスコに、合成例２で得られた４−クロロカルバゾール１７．０ｇ（８４．３ｍｍｏｌ）、ブロモベンゼン１５．８ｇ（１０１．１ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１９．５ｇ（１４１．６ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン８５ｍＬ、酢酸パラジウム２２７ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン７１４ｍｇ（３．５ｍｍｏｌ）を添加して１３０℃で２４時間攪拌した。室温まで冷却後、純水６０ｍＬを加え、有機層を分離した。有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン）で精製し、無色オイル状の４−クロロ−９−フェニルカルバゾールを１４．３ｇ（５１．６ｍｍｏｌ）単離した（収率６１％）。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；８．６７（ｄ，１Ｈ），７．２３−７．６５（ｍ，１１Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；１４２．０４，１４１．０５，１３７．１５，１２９．９４，１２８．７３，１２７．９３，１２７．３９，１２６．４１，１２６．０６，１２３．０７，１２２．２１，１２０．６４，１２０．５１，１２０．２３，１０９．５６，１０８．１１
合成例９（４−クロロ−９−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）カルバゾールの合成）
窒素気流下、１００ｍＬの三口フラスコに、水素化ナトリウム（油性、６０％）０．５３ｇ（１３．４ｍｍｏｌ）を仕込み、脱水ジメチルホルムアミド１５ｍＬを加えて攪拌した。スラリー状の溶液に、脱水ジメチルホルムアミド１５ｍＬに溶解させた４−クロロカルバゾール２．２ｇ（１１．２ｍｍｏｌ）を滴下し、３０分攪拌した。更に、反応液に脱水ジメチルホルムアミド４０ｍＬに溶解させた２−クロロ−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン３．０ｇ（１１．２ｍｍｏｌ）を滴下した。室温で２時間攪拌後、メタノール１０ｍＬ、純水１００ｍＬを加え、反応を停止した。純水添加時に析出した白色粉末を回収し、純水とエタノールで洗浄した。得られた粉末をｏ−キシレンで再結晶し、４−クロロ−９−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）カルバゾールの白色結晶を３．１ｇ（７．２ｍｍｏｌ）単離した（収率６４％）。

化合物の同定は、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により行った。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；８．７２（ｄ，１Ｈ），８．７１（ｄ，４Ｈ），７．９１−８．０１（ｍ，２Ｈ），７．３７−７．６５（ｍ，１０Ｈ）
合成例１０（４−クロロ−６−フェニル−９−ビフェニリルカルバゾールの合成）
窒素気流下、５０ｍｌの三口フラスコに、合成例３で得た４−クロロ−９−（４−ビフェニリル）カルバゾール１．８ｇ（５．２ｍｍｏｌ）を仕込み、ジメチルホルムアミド１０ｍＬ、Ｎ−ブロモスクシンイミド０．９３ｇ（５．２ｍｍｏｌ）を添加した。室温で２時間攪拌し、純水１０ｍＬを加え析出した白色粉末をろ取した。粉末を純水及びメタノールで洗浄し、減圧下で乾燥した。白色粉末状の生成物は、原料である４−クロロ−９−（４−ビフェニリル）カルバゾールと４−クロロ−６−ブロモ−９−（４−ビフェニリル）カルバゾール及び４−クロロ−３，６−ジブロモ−９−（４−ビフェニリル）カルバゾールの混合物であった（４−クロロ−６−ブロモ−９−（４−ビフェニリル）カルバゾールの純度は７２％であった）。窒素気流下、上記の混合物０．９０ｇを１０ｍＬの三口フラスコに仕込み、フェニルボロン酸０．２６ｇ（２．１ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム０．１１ｇ（０．０９ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン５ｍＬ、２０ｗｔ％の炭酸カリウム水溶液２．５ｇ（４．８ｍｍｏｌ）を加え、１４時間加熱還流した。室温まで冷却した後、水層と有機層を分液し、有機層を純水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで有機層を乾燥後、減圧下に溶媒留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン）で精製し、４−クロロ−６−フェニル−９−（４−ビフェニリル）カルバゾールの白色粉末を０．５１ｇ（１．０ｍｍｏｌ）単離した（収率１９％）。

化合物の同定は、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により行った。

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；８．３９（ｓ，１Ｈ），７．２３−７．８２（ｍ，１９Ｈ）
合成例１１（Ｎ−（４−ブロモフェニル）−Ｎ−ビフェニリルアミンの合成）
窒素気流下、１００ｍＬの三口フラスコに、Ｎ−フェニル−Ｎ−ビフェニリルアミン１５．０ｇ（６１．１ｍｍｏｌ）を仕込み、ジメチルホルムアミド１００ｍＬ、Ｎ−ブロモスクシンイミド１０．８ｇ（６１．１ｍｍｏｌ）を添加し、室温で２時間攪拌した。トルエン１０ｍＬ、純水１０ｍＬを加え、水層と有機層に分液した。有機層を純水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒留去した。得られた固体をトルエンで再結晶し、Ｎ−（４−ブロモフェニル）−Ｎ−ビフェニリルアミンの灰色粉末を１３．４ｇ（４１．４ｍｍｏｌ）単離した（収率６７％）。

^１Ｈ−ＮＭＲ（Ａｃｅｔｏｎｅ−ｄ６）；７．５５−７．６４（ｍ，５Ｈ），７．２７−７．４５（ｍ，５Ｈ），７．２１（ｄ，２Ｈ），７．１１（ｄ，２Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（Ａｃｅｔｏｎｅ−ｄ６）；１４３．１８，１４２．６１，１４０．７６，１３３．４０，１３２．０８，１２８．８８，１２７．７４１２６．６２，１２６．２６，１１８．９０，１１８．０５，１１１．３３
合成例１２（Ｎ−ビフェニリル−Ｎ−（ｍ−ターフェニル）アミンの合成）
窒素気流下、３００ｍＬの三口フラスコに合成例１１で得られたＮ−（４−ブロモフェニル）−Ｎ−ビフェニリルアミン１２．０ｇ（３７．１ｍｍｏｌ）、３−ビフェニリルボロン酸７．７ｇ（３８．９ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム２．１ｇ（１．８ｍｍｏｌ）、トルエン６０ｍＬ、エタノール１０ｍＬ、４０ｗｔ％のりん酸三カリウム水溶液４９ｇ（９２．８ｍｍｏｌ）を加え、５時間加熱還流した。室温まで冷却した後、水層と有機層を分液し、有機層を純水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで有機層を乾燥後、減圧下に溶媒留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエンとヘキサンの混合溶媒（体積比＝１：１））で精製し、Ｎ−ビフェニリル−Ｎ−（ｍ−ターフェニル）アミンの薄黄色粉末を１０．２ｇ（２５．６ｍｍｏｌ）単離した（収率６９％）。

^１Ｈ−ＮＭＲ（Ａｃｅｔｏｎｅ−ｄ６）；７．８９（ｓ，１Ｈ），７．３７−７．７３（ｍ，１７Ｈ），７．２６−７．３２（ｍ，５Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（Ａｃｅｔｏｎｅ−ｄ６）；１４３．２９，１４３．０９，１４１．６８，１４１．５３，１４０．８５，１３２．９３，１３２．７８，１２９．４３，１２８．９１，１２８．８４，１２７．９１，１２７．７０，１２７．４５，１２７．１２，１２６．５１，１２６．２０，１２５．２９，１２５．１８，１２４．９２，１１７．７３，１１７．６５，１１７．５９
合成例１３（Ｎ−ビフェニル−Ｎ−（４−（４−ジベンゾチエニル）フェニル）アミンの合成）
窒素気流下、３００ｍｌの三口フラスコに合成例１１で得られたＮ−（４−ブロモフェニル）−Ｎ−ビフェニリルアミン７．０ｇ（２１．６ｍｍｏｌ）、ジベンゾチオフェン−４−ボロン酸５．９ｇ（２５．９ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム１．２ｇ（１．０ｍｍｏｌ）、トルエン３５ｍＬ、エタノール５ｍＬ、４０ｗｔ％のりん酸三カリウム水溶液２８ｇ（５４．１ｍｍｏｌ）を加え、３時間加熱還流した。室温まで冷却した後、水層と有機層を分液し、有機層を純水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。無水硫酸マグネシウムで有機層を乾燥後、減圧下に溶媒留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエンとヘキサンの混合溶媒（体積比＝１：１））で精製し、Ｎ−ビフェニリル−Ｎ−（４−（４−ジベンゾチエニル）フェニル）アミンの薄黄色粉末を５．２ｇ（１２．１ｍｍｏｌ）単離した（収率５６％）。

^１Ｈ−ＮＭＲ（Ａｃｅｔｏｎｅ−ｄ６）；８．２２−８．３２（ｍ，２Ｈ），７．９０−７．９５（ｍ，１Ｈ），７．７７（ｓ，１Ｈ），７．２７−７．７０（ｍ，１７Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（Ａｃｅｔｏｎｅ−ｄ６）；１４３．７８，１４２．８１，１４０．８２，１３９．４１，１３７．９８，１３７．０３，１３６．３７，１３５．９８，１３３．２２，１３２．１５，１２９．１７，１２８．８８，１２７．７６，１２７．０８，１２６．６６，１２６．５９，１２６．２６，１２５．５８，１２４．７０，１２２．７２，１２２．０１，１２０．２０，１１８．０９，１１７．１９
実施例１（化合物（Ａ５）の合成）
窒素気流下、１００ｍＬの三口フラスコに、合成例３で得られた４−クロロ−９−（４−ビフェニリル）カルバゾール３．５ｇ（９．９ｍｍｏｌ）、Ｎ−フェニル−Ｎ−ビフェニリルアミン２．４ｇ（９．９ｍｍｏｌ）、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド１．３ｇ（１３．８ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン３５ｍＬ、酢酸パラジウム２２ｍｇ（０．０９ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン６９ｍｇ（０．３４ｍｍｏｌ）を添加して１４０℃で１２時間攪拌した。室温まで冷却後、純水を２５ｍＬ添加し攪拌した。水層と有機層を分液し、さらに有機層を純水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエンとヘキサンの混合溶媒（体積比＝１：２））で精製し、化合物（Ａ５）の白色ガラス状固体を３．４ｇ（６．０ｍｍｏｌ）単離した（収率６０％）。

化合物の同定は、ＦＤＭＳ、^１Ｈ−ＮＭＲ測定、^１３Ｃ−ＮＭＲ測定により行った。

ＦＤＭＳ：５６２
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；７．８９（ｄ，１Ｈ），７．８０（ｄ，２Ｈ），７．６１−７．７０（ｍ，３Ｈ），７．２１−７．５５（ｍ，２２Ｈ），６．９９−７．１０（ｍ，２Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；１４６．７１，１４２．７９，１４１．０２，１４０．９３，１４０．７１，１４０．６０，１４０．１９，１３６．６８，１３４．５０，１２９．０１，１２８．７１，１２８．５７，１２７．８２，１２７．７１，１２７．１７，１２６．９９，１２６．６８，１２６．５９，１２５．９３，１２３．１６，１２２．０３，１２１．６６，１２１．３１，１２０．７８，１２０．３１，１０９．３９，１０７．６９
実施例２（化合物（Ａ８）の合成）
窒素気流下、１００ｍＬの三口フラスコに、合成例３で得られた４−クロロ−９−（４−ビフェニリル）カルバゾール３．５ｇ（９．９ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ビス（４−ビフェニリル）アミン３．１ｇ（９．９ｍｍｏｌ）、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド１．３ｇ（１３．８ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン３５ｍＬ、酢酸パラジウム２２ｍｇ（０．０９ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン６９ｍｇ（０．３４ｍｍｏｌ）を添加して１４０℃で１２時間攪拌した。室温まで冷却後、純水を２０ｍＬ添加し攪拌した。水層と有機層を分液し、さらに有機層を純水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエンとヘキサンの混合溶媒（体積比＝１：２））で精製し、化合物（Ａ８）の薄黄色ガラス状固体を３．４ｇ（５．３ｍｍｏｌ）単離した（収率５３％）。

ＦＤＭＳ：６３８
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；７．８８（ｄ，１Ｈ），７．８１（ｄ，２Ｈ），７．６６（ｔ，４Ｈ），７．２０−７．５６（ｍ，２５Ｈ），６．９９−７．１０（ｍ，２Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；１４６．４９，１４２．５７，１４０．８１，１４０．７２，１４０．５０，１４０．３９，１３９．９９，１３６．４７，１３４．２９，１２８．７８，１２８．４９，１２８．３６，１２７．６１，１２７．５０，１２６．９７，１２６．７７，１２６．４６，１２６．３８，１２５．７１，１２２．９６，１２１．８１，１２１．４６，１２１．１１，１２０．５８，１２０．０８，１０９．１９，１０７．４９
実施例３（化合物（Ａ１５）の合成）
窒素気流下、５０ｍＬの三口フラスコに、合成例３で得られた４−クロロ−９−（４−ビフェニリル）カルバゾール４．６ｇ（１３．０ｍｍｏｌ）、Ｎ−（ｐ−トリル）−Ｎ−（９，９’−ジメチルフルオレン−２−イル）アミン４．２ｇ（１４．３ｍｍｏｌ）、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド１．７ｇ（１８．２ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン２５ｍＬ、酢酸パラジウム５８ｍｇ（０．２６ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン１８４ｍｇ（０．９１ｍｍｏｌ）を添加して１４０℃で１０時間攪拌した。室温まで冷却後、純水を２０ｍＬ添加し攪拌した。水層と有機層を分液し、さらに有機層を純水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエンとヘキサンの混合溶媒（体積比＝１：２））で精製し、化合物（Ａ１５）の薄黄色ガラス状固体を６．０ｇ（９．９ｍｍｏｌ）単離した（収率７５％）。

化合物の同定は、ＦＤＭＳ、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により行った。

ＦＤＭＳ：６１６
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；７．８４（ｄ，１Ｈ），６．９９−７．６８（ｍ，２６Ｈ），２．２６（ｓ，３Ｈ），１．３９（ｓ，６Ｈ）
実施例４（化合物（Ａ２７８）の合成）
窒素気流下、５０ｍＬの三口フラスコに、合成例３で得られた４−クロロ−９−（４−ビフェニリル）カルバゾール４．０ｇ（１１．３ｍｍｏｌ）、Ｎ−（２−ジベンゾフラニル）−Ｎ−フェニルアミン３．２ｇ（１２．４ｍｍｏｌ）、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド１．５ｇ（１５．８ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン２０ｍＬ、酢酸パラジウム５０ｍｇ（０．２２ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン１５５ｍｇ（０．７７ｍｍｏｌ）を添加して１４０℃で１２時間攪拌した。室温まで冷却後、純水を１５ｍＬ添加し攪拌した。水層と有機層を分液し、さらに有機層を純水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエンとヘキサンの混合溶媒（体積比＝１：２））で精製し、化合物（Ａ２７８）の白色ガラス状固体を４．６ｇ（８．０ｍｍｏｌ）単離した（収率７１％）。

化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。

ＦＤＭＳ：５７６
実施例５（化合物（Ａ２８６）の合成）
窒素気流下、５０ｍＬの三口フラスコに、合成例８で得られた４−クロロ−９−フェニルカルバゾール０．４８ｇ（１．７ｍｍｏｌ）、合成例１２で得られたＮ−ビフェニリル−Ｎ−（ｍ−ターフェニル）アミン０．７０ｇ（１．７ｍｍｏｌ）、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド０．２３ｇ（２．４ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン１０ｍＬ、酢酸パラジウム８ｍｇ（０．０３ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン２４ｍｇ（０．１２ｍｍｏｌ）を添加して１４０℃で１４時間攪拌した。室温まで冷却後、純水を１０ｍＬ添加し攪拌した。水層と有機層を分液し、さらに有機層を純水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエンとヘキサンの混合溶媒（体積比＝１：２））で精製し、化合物（Ａ２８６）の薄黄色ガラス状固体を０．７７ｇ（１．２ｍｍｏｌ）単離した（収率７１％）。

化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。

ＦＤＭＳ：６３８
実施例６（化合物（Ａ２８９）の合成）
窒素気流下、１００ｍＬの三口フラスコに、合成例８で得られた４−クロロ−９−フェニルカルバゾール４．０ｇ（１４．４ｍｍｏｌ）、Ｎ−フェニル−Ｎ−（１１，１１’−ジメチルベンゾ［ａ］フルオレン−９−イル）アミン４．８ｇ（１４．４ｍｍｏｌ）、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド１．９ｇ（２０．１ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン３０ｍＬ、酢酸パラジウム６４ｍｇ（０．２８ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン１９７ｍｇ（０．９８ｍｍｏｌ）を添加して１４０℃で１２時間攪拌した。室温まで冷却後、純水を１０ｍＬ添加し攪拌した。水層と有機層を分液し、さらに有機層を純水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエンとヘキサンの混合溶媒（体積比＝１：２））で精製し、化合物（Ａ２８９）の薄黄色ガラス状固体を５．４ｇ（９．５ｍｍｏｌ）単離した（収率６６％）。

ＦＤＭＳ：５７６
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；８．１５（ｄ，１Ｈ），７．８９（ｄ，１Ｈ），７．７８−７．８３（ｍ，３Ｈ），７．２０−７．６０（ｍ，１７Ｈ），７．０６（ｄ，２Ｈ），６．９１−７．９９（ｍ，２Ｈ）１．６５（ｓ，６Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；１５６．３１，１４７．３４，１４６．６２，１４６．２４，１４２．２８，１４１．１５，１４０．３８，１３７．１２，１３６．２４，１３３．１８，１３２．９２，１２９．３９，１２９．３２，１２９．１５，１２８．７１，１２７．９１，１２７．１９，１２７．０１，１２６．３１，１２５．４２，１２５．１６，１２３．７９，１２３．３５，１２２．７１，１２１．１１，１２０．４０，１１９．８９，１１９．７９，１１９．４５，１１８．０４，１１６．０４，１０８．６８，１０６．６１，４８．１４，２５．９３
実施例７（化合物（Ａ２９２）の合成）
窒素気流下、５０ｍＬの三口フラスコに、合成例８で得られた４−クロロ−９−フェニルカルバゾール０．７２ｇ（２．６ｍｍｏｌ）、合成例１３で得られたＮ−ビフェニリル−Ｎ−（４−（４−ジベンゾチエニル）フェニル）アミン１．２ｇ（２．８ｍｍｏｌ）、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド０．３５ｇ（３．６ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン１０ｍＬ、酢酸パラジウム１７ｍｇ（０．０７ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン５５ｍｇ（０．２７ｍｍｏｌ）を添加して１４０℃で１４時間攪拌した。室温まで冷却後、純水を１０ｍＬ添加し攪拌した。水層と有機層を分液し、さらに有機層を純水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエンとヘキサンの混合溶媒（体積比＝１：２））で精製し、化合物（Ａ２９２）の薄黄色ガラス状固体を１．２ｇ（１．９ｍｍｏｌ）単離した（収率７４％）。

化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。

ＦＤＭＳ：６６８
実施例８（化合物（Ａ１２４）の合成）
窒素気流下、５０ｍＬの三口フラスコに、合成例９で得られた４−クロロ−９−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）カルバゾール３．０ｇ（６．９ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ビス（４−ビフェニリル）アミン２．２ｇ（６．９ｍｍｏｌ）、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド０．９３ｇ（９．７ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン２０ｍＬ、酢酸パラジウム３１ｍｇ（０．１３ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン９７ｍｇ（０．４８ｍｍｏｌ）を添加して１４０℃で８時間攪拌した。室温まで冷却後、純水を１０ｍＬ添加し攪拌した。析出した茶色粉末をろ取し、純水とエタノールで洗浄した。茶色粉末を減圧下で乾燥後、ｏ−キシレンで再結晶し、化合物（Ａ１２４）の灰色粉末を２．９ｇ（４．０ｍｍｏｌ）単離した（収率５９％）。

化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。

ＦＤＭＳ：７１７
実施例９（化合物（Ａ１３９）の合成）
窒素気流下、５０ｍＬの三口フラスコに、合成例５で得られた４−クロロ−９−（２−ジベンゾチエニル）カルバゾール４．０ｇ（１０．４ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ビス（４−ビフェニリル）アミン３．３ｇ（１０．４ｍｍｏｌ）、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド１．４ｇ（１４．６ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン２０ｍＬ、酢酸パラジウム７０ｍｇ（０．３１ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン２２１ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を添加して１４０℃で６時間攪拌した。水層と有機層を分液し、さらに有機層を純水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエンとヘキサンの混合溶媒（体積比＝１：２））で精製し、化合物（Ａ１３９）の薄黄色ガラス状固体を４．２ｇ（６．３ｍｍｏｌ）単離した（収率６０％）。

ＦＤＭＳ：６６８
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；８．３４（ｓ，１Ｈ），８．０７（ｔ，２Ｈ），７．９０（ｄ，２Ｈ），７．６４（ｄ，１Ｈ），７．２４−７．５６（ｍ，２４Ｈ），７．００−７．１２（ｍ，２Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；１４７．３０，１４３．８２，１４１．９５，１４１．６６，１４１．２９，１４０．８７，１３９．４１，１３７．７２，１３５．６２，１３５．１２，１３４．９０，１２９．３０，１２８．４０，１２８．０２，１２７．６３，１２７．７２，１２７．１７，１２６．７７，１２６．５７，１２５．３６，１２４．７７，１２３．７９，１２３．６６，１２２．６３，１２２．５１，１２２．１９，１２１．８８，１２１．３５，１２１．３０，１２０．９１，１０９．８７，１０８．１３
実施例１０（化合物（Ａ１４８）の合成）
窒素気流下、５０ｍＬの三口フラスコに、合成例５で得られた４−クロロ−９−（２−ジベンゾチエニル）カルバゾール４．０ｇ（１０．４ｍｍｏｌ）、Ｎ−フェニル−Ｎ−（２−ジベンゾチエニル）アミン３．１ｇ（１１．４ｍｍｏｌ）、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド１．４ｇ（１４．６ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン２０ｍＬ、酢酸パラジウム７０ｍｇ（０．３１ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン２２１ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を添加して１４０℃で１０時間攪拌した。水層と有機層を分液し、さらに有機層を純水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエンとヘキサンの混合溶媒（体積比＝１：２））で精製し、化合物（Ａ１４８）の白色ガラス状固体を４．４ｇ（７．２ｍｍｏｌ）単離した（収率７０％）。

ＦＤＭＳ：６２２
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；８．３４（ｓ，１Ｈ），８．０７（ｔ，２Ｈ），７．９８（ｓ，１Ｈ），７．８６−７．９２（ｍ，３Ｈ），７．７８（ｄ，１Ｈ），７．６３−７．６９（ｍ，２Ｈ），６．９１−７．５３（ｍ，１６Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；１４７．４６，１４４．７３，１４２．７０，１４１．１３，１４０．８２，１３９．７５，１３８．２５，１３６．５９，１３６．１８，１３４．８５，１３４．５２，１３３．８２，１３２．６９，１２８．７９，１２６．８８，１２６．４８，１２６．１３，１２５．６７，１２５．３６，１２４．２３，１２３．６４，１２３．５７，１２２．８９，１２２．７９，１２２．６０，１２２．５４，１２２．３４，１２１．３９，１２１．３１，１２１．１３，１２１．０８，１２０．６９，１２０．５６，１２０．２５，１１９．８５，１１９．７０，１１５．０７，１０８．７２，１０６．６６
実施例１１（化合物（Ａ１５３）の合成）
窒素気流下、５０ｍＬの三口フラスコに、合成例５で得られた４−クロロ−９−（２−ジベンゾチエニル）カルバゾール４．０ｇ（１０．４ｍｍｏｌ）、Ｎ−フェニル−Ｎ−（４−（９−カルバゾリル）フェニル）アミン３．８ｇ（１１．４ｍｍｏｌ）、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド１．４ｇ（１４．６ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン２０ｍＬ、酢酸パラジウム７０ｍｇ（０．３１ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン２２１ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を添加して１４０℃で１２時間攪拌した。水層と有機層を分液し、さらに有機層を純水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエンとヘキサンの混合溶媒（体積比＝１：２））で精製し、化合物（Ａ１５３）の白色ガラス状固体を５．２ｇ（７．６ｍｍｏｌ）単離した（収率７４％）。

ＦＤＭＳ：６８１
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；８．３４（ｄ，１Ｈ），８．０３−８．１２（ｍ，４Ｈ），７．９０（ｄ，２Ｈ），７．６５（ｄ，１Ｈ），６．９９−７．５０（ｍ，２３Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；１４６．６９，１４６．３６，１４２．７４，１４０．９１，１４０．７１，１４０．５４，１３９．７７，１３８．３４，１３６．６２，１３４．５０，１３３．７７，１３０．０５，１２８．９３，１２７．６０，１２６．９２，１２６．５７，１２５．６７，１２５．５４，１２５．２９，１２４．２４，１２３．６９，１２２．６１，１２２．５６，１２２．３６，１２２．２８，１２１．３９，１２１．３０，１２１．０６，１２０．６７，１２０．２９，１１９．９４，１１９．７２，１１９．１２，１０９．３７，１０８．８６，１０７．０７
実施例１２（化合物（Ａ３１８）の合成）
窒素気流下、５０ｍＬの三口フラスコに、合成例１０で得られた４−クロロ−６−フェニル−９−ビフェニリルカルバゾール５００ｍｇ（１．１ｍｍｏｌ）、Ｎ−フェニル−Ｎ−（２−ジベンゾチエニル）アミン３０２ｍｇ（１．１ｍｍｏｌ）、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド１４７ｍｇ（１．５ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン１０ｍＬ、酢酸パラジウム７ｍｇ（０．０３ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン２１ｍｇ（０．１０ｍｍｏｌ）を添加して１４０℃で１０時間攪拌した。水層と有機層を分液し、さらに有機層を純水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエンとヘキサンの混合溶媒（体積比＝１：２））で精製し、化合物（Ａ３１８）の白色ガラス状固体を４１１ｍｇ（０．６１ｍｍｏｌ）単離した（収率５６％）。

化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。

ＦＤＭＳ：６６８
実施例１３（化合物（Ｂ１）の合成）
窒素気流下、２００ｍＬの三口フラスコに、合成例３で得られた４−クロロ−９−（４−ビフェニリル）カルバゾール７．０ｇ（１９．８ｍｍｏｌ）、アニリン０．８７ｇ（９．４ｍｍｏｌ）、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド５．３ｇ（５５．４ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン７０ｍＬ、酢酸パラジウム４４ｍｇ（０．１９ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン１３９ｍｇ（０．６９ｍｍｏｌ）を添加して１４０℃で１２時間攪拌した。室温まで冷却後、純水を４０ｍＬ添加し攪拌した。水層と有機層を分液し、さらに有機層を純水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエンとヘキサンの混合溶媒（体積比＝１：２））で精製し、化合物（Ｂ１）の白色ガラス状固体を５．０ｇ（６．８ｍｍｏｌ）単離した（収率７２％）。

ＦＤＭＳ：７２７
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；７．７８−７．８３（ｍ，６Ｈ），７．６２−７．６９（ｍ，８Ｈ），７．０８−７．５１（ｍ，１８Ｈ），６．７７−６．９８（ｍ，５Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；１４３．３２，１４２．１１，１４１．５１１４１．０７，１４０．８１，１３７．４１，１２９．９２，１２９．５５，１２９．０９，１２８．３８，１２８．２７，１２７．７６，１２７．３９，１２６．１８，１２４．２２，１２２．５２，１２０．６９，１２０．３２，１０９．８３，１０７．７４
実施例１４（化合物（Ｂ２）の合成）
窒素気流下、２００ｍＬの三口フラスコに、合成例３で得られた４−クロロ−９−（４−ビフェニリル）カルバゾール７．０ｇ（１９．８ｍｍｏｌ）、４−メチルアニリン１．０ｇ（９．４ｍｍｏｌ）、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド５．３ｇ（５５．４ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン７０ｍＬ、酢酸パラジウム８８ｍｇ（０．３９ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン２７９ｍｇ（１．３８ｍｍｏｌ）を添加して１４０℃で１４時間攪拌した。室温まで冷却後、純水を４０ｍＬ添加し攪拌した。水層と有機層を分液し、さらに有機層を純水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエンとヘキサンの混合溶媒）で精製し、化合物（Ｂ２）の薄黄色ガラス状固体を２．９ｇ（３．９ｍｍｏｌ）単離した（収率４２％）。

ＦＤＭＳ：７４１
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；７．７７−７．８５（ｍ，６Ｈ），７．６１−７．６９（ｍ，８Ｈ），７．２４−７．５１（ｍ，１４Ｈ），７．０５（ｔ，２Ｈ），６．８１−６．９５（ｍ，６Ｈ），２．２０（ｓ，３Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；１４６．０２，１４２．７４，１４２．１７，１４０．８７，１４０．４１，１４０．２５，１３６．８６，１２９．８３，１２８．９７，１２８．４７，１２７．８０，１２７．６７，１２７．１６，１２６．７０，１２５．４３，１２３．７９，１２２．０７，１２０．０３，１１９．５６，１０９．１４，１０６．７４，２０．８２
実施例１５（化合物（Ｂ２７）の合成）
窒素気流下、５０ｍＬの三口フラスコに、合成例４で得られた４−クロロ−９−（３−キノリル）カルバゾール４．０ｇ（１２．１ｍｍｏｌ）、４−メチルアニリン６５２ｍｇ（６．０ｍｍｏｌ）、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド１．６ｇ（１７．０ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン２０ｍＬ、酢酸パラジウム２７ｍｇ（０．１２ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン８５ｍｇ（０．４２ｍｍｏｌ）を添加して１４０℃で１７時間攪拌した。室温まで冷却後、純水を１５ｍＬ添加し攪拌した。水層と有機層を分液し、さらに有機層を純水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエンと酢酸エチルの混合溶媒）で精製し、化合物（Ｂ２７）の茶色ガラス状固体を２．６ｇ（３．７ｍｍｏｌ）単離した（収率６１％）。

ＦＤＭＳ：６９１
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；９．１８（ｓ，２Ｈ），８．３５（ｓ，２Ｈ），８．２５（ｄ，２Ｈ），７．８６（ｄ，４Ｈ），７．７８（ｄ，２Ｈ），７．６１（ｔ，２Ｈ），７．１８−７．３６（ｍ，８Ｈ），７．０６（ｄ，２Ｈ），６．８５−６．９８（ｍ，６Ｈ），２．２２（ｓ，３Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；１４９．９５，１４７．１５，１４５．９１，１４２．７８，１４２．４１，１４０．９１，１３３．３６，１３１．３７，１３０．１０，１２９．９４，１２９．６３，１２８．３１，１２７．８２，１２７．６７，１２７．０８，１２５．８２，１２３．９３，１２２．３２，１２０．７３，１２０．００，１１９．７６，１０８．７２，１０６．２３，２０．８８
実施例１６（化合物（Ｂ３０）の合成）
窒素気流下、５０ｍＬの三口フラスコに、合成例５で得られた４−クロロ−９−（２−ジベンゾチエニル）カルバゾール２．７ｇ（７．０ｍｍｏｌ）、アニリン２９７ｍｇ（３．２ｍｍｏｌ）、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド９４７ｍｇ（９．８ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン１３ｍＬ、酢酸パラジウム１５ｍｇ（０．０７ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン４９ｍｇ（０．２４ｍｍｏｌ）を添加して１４０℃で２０時間攪拌した。室温まで冷却後、純水を１０ｍＬ添加し攪拌した。水層と有機層を分液し、さらに有機層を純水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエンとヘキサンの混合溶媒）で精製し、化合物（Ｂ３０）の白色粉末を０．９ｇ（１．１ｍｍｏｌ）単離した（収率３５％）。

ＦＤＭＳ：７８７
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；８．３３（ｓ，２Ｈ），７．９９−８．０８（ｍ，４Ｈ），７．８４−７．８８（ｍ，４Ｈ），７．６４（ｄ，２Ｈ），７．１０−７．５０（ｍ，１６Ｈ），６．７９−６．９９（ｍ，５Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；１４８．０５，１４３．２０，１４１．６６，１４１．３８，１４０．２７，１３８．７１，１３７．１０，１３５．０７，１３４．４６，１２９．３７，１２７．３９，１２６．９０，１２６．３１，１２５．６９，１２４．７４，１２４．１５，１２３．６８，１２３．０５，１２１．９２，１２０．８６，１２０．１６，１１９．６７，１０９．１６，１０７．０３
実施例１７（化合物（Ｂ３６）の合成）
窒素気流下、５０ｍＬの三口フラスコに、合成例６で得られた４−クロロ−９−［４−（２−ピリジル）フェニル］カルバゾール４．０ｇ（１１．２ｍｍｏｌ）、アニリン４７７ｍｇ（５．１ｍｍｏｌ）、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド１．５ｇ（１５．８ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン２５ｍＬ、酢酸パラジウム２５ｍｇ（０．１１ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン７９ｍｇ（０．３９ｍｍｏｌ）を添加して１４０℃で１０時間攪拌した。室温まで冷却後、純水を１５ｍＬ添加し攪拌した。水層と有機層を分液し、さらに有機層を純水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエンと酢酸エチルの混合溶媒）で精製し、化合物（Ｂ３６）の茶色ガラス状固体を２．５ｇ（３．４ｍｍｏｌ）単離した（収率６６％）。

ＦＤＭＳ：７２９
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；８．７１（ｄ，２Ｈ），８．２０（ｄ，４Ｈ），７．８３（ｄ，２Ｈ），７．６６−７．７５（ｍ，８Ｈ），７．４０（ｄ，２Ｈ），７．０７−７．３２（ｍ，１２Ｈ），６．７７−６．９８（ｍ，５Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；１５６．４５，１４９．８４，１４８．０３，１４２．５９，１４１．５９，１４０．８０，１３８．６０，１３８．２９，１３６．９３，１２９．３７，１２８．４４，１２７．６７，１２６．９２，１２５．６９，１２３．６６，１２２．４５，１２２．０３，１２０．５６，１２０．２５，１２０．０６，１１９．８１，１０９．２８，１０７．２０
実施例１８（化合物（Ｃ５）の合成）
窒素気流下、１００ｍＬの三口フラスコに、合成例７で得られた４−クロロ−９−（４−クロロフェニル）カルバゾール３．０ｇ（９．６ｍｍｏｌ）、Ｎ−（４−メチルフェニル）−Ｎ−ビフェニリルアミン５．２ｇ（２０．２ｍｍｏｌ）、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド２．５ｇ（２６．９ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン５０ｍＬ、酢酸パラジウム４３ｍｇ（０．１９ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン１３５ｍｇ（０．６７ｍｍｏｌ）を添加して１４０℃で１２時間攪拌した。室温まで冷却後、純水を３０ｍＬ添加し攪拌した。水層と有機層を分液し、さらに有機層を純水と飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエンとヘキサンの混合溶媒）で精製し、化合物（Ｃ５）の無色ガラス状固体を４．７ｇ（６．２ｍｍｏｌ）単離した（収率６４％）。

ＦＤＭＳ：７５７
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；７．８４（ｄ，１Ｈ），７．４８−７．５８（ｍ，６Ｈ），７．２０−７．３７（ｍ，１８Ｈ），６．９６−７．１５（ｍ，１２Ｈ），２．３４（ｓ，３Ｈ），２．２６（ｓ，３Ｈ）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）；１４７．３５，１４７．３０，１４６．９３，１４４．９７，１４４．７４，１４３．０１，１４１．３７，１４１．１５，１４０．８３，１４０．５８，１３５．６５，１３３．８４，１３３．４９，１３２．０３，１３１．００，１３０．３４，１２９．９０，１２８．８２，１２８．６８，１２８．２０，１２８．００，１２７．６９，１２６．９７，１２６．７３，１２６．５２，１２５．７５，１２４．２４，１２３．５５，１２３．１８，１２３．０５，１２１．５７，１２０．８４，１２０．４５，１２０．００，１０９．３８，１０７．３６，２１．１３，２０．９９
実施例１９（化合物（Ｃ１１）の合成）
窒素気流下、２００ｍＬの三口フラスコに、合成例７で得られた４−クロロ−９−（４−クロロフェニル）カルバゾール６．０ｇ（１９．２ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ビス（４−ビフェニリル）アミン１３．０ｇ（４０．５ｍｍｏｌ）、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド５．１ｇ（５４．０ｍｍｏｌ）、ｏ−キシレン６０ｍＬ、酢酸パラジウム８６ｍｇ（０．３８ｍｍｏｌ）、トリ（ｔｅｒｔ−ブチル）ホスフィン２７２ｍｇ（１．３ｍｍｏｌ）を添加して１４０℃で１４時間攪拌した。室温まで冷却後、純水を４０ｍＬ添加し攪拌した。析出した茶色粉末をろ取し、純水とエタノールで洗浄した。茶色粉末を減圧下で乾燥後、ｏ−キシレンで再結晶し、化合物（Ｃ１１）の薄黄色粉末を１０．５ｇ（１１．９ｍｍｏｌ）単離した（収率６２％）。

化合物の同定は、ＦＤＭＳ測定により行った。

ＦＤＭＳ：８８２
実施例２０（化合物（Ａ８）の三重項準位評価）
化合物（Ａ８）を２−メチルテトラヒドロフランに０．０００１ｍｏｌ／Ｌの濃度で溶解させた溶液を調整し、液体窒素冷却下にて燐光スペクトルを測定した。燐光スペクトルの極大波長は４８０ｎｍであった。燐光スペクトルの極大波長から見積もった三重項準位を表１に示す。

実施例２１（化合物（Ａ１５）の三重項準位評価）
化合物（Ａ１５）について、実施例２０と同様の方法で燐光スペクトルを測定した。燐光スペクトルの極大波長は４８２ｎｍであった。燐光スペクトルの極大波長から見積もった三重項準位を表１に示す。

実施例２２（化合物（Ａ２７８）の三重項準位評価）
化合物（Ａ２７８）について、実施例２０と同様の方法で燐光スペクトルを測定した。燐光スペクトルの極大波長は４４８ｎｍであった。燐光スペクトルの極大波長から見積もった三重項準位を表１に示す。

実施例２３（化合物（Ａ２８６）の三重項準位評価）
化合物（Ａ２８６）について、実施例２０と同様の方法で燐光スペクトルを測定した。燐光スペクトルの極大波長は４８６ｎｍであった。燐光スペクトルの極大波長から見積もった三重項準位を表１に示す。

実施例２４（化合物（Ａ２９２）の三重項準位評価）
化合物（Ａ２９２）について、実施例２０と同様の方法で燐光スペクトルを測定した。燐光スペクトルの極大波長は４８３ｎｍであった。燐光スペクトルの極大波長から見積もった三重項準位を表１に示す。

実施例２５（化合物（Ａ１２４）の三重項準位評価）
化合物（Ａ１２４）について、実施例２０と同様の方法で燐光スペクトルを測定した。燐光スペクトルの極大波長は４７９ｎｍであった。燐光スペクトルの極大波長から見積もった三重項準位を表１に示す。

実施例２６（化合物（Ａ１３９）の三重項準位評価）
化合物（Ａ１３９）について、実施例２０と同様の方法で燐光スペクトルを測定した。燐光スペクトルの極大波長は４８０ｎｍであった。燐光スペクトルの極大波長から見積もった三重項準位を表１に示す。

実施例２７（化合物（Ａ１４８）の三重項準位評価）
化合物（Ａ１４８）について、実施例２０と同様の方法で燐光スペクトルを測定した。燐光スペクトルの極大波長は４４９ｎｍであった。燐光スペクトルの極大波長から見積もった三重項準位を表１に示す。

実施例２８（化合物（Ａ１５３）の三重項準位評価）
化合物（Ａ１５３）について、実施例２０と同様の方法で燐光スペクトルを測定した。燐光スペクトルの極大波長は４４５ｎｍであった。燐光スペクトルの極大波長から見積もった三重項準位を表１に示す。

実施例２９（化合物（Ａ３１８）の三重項準位評価）
化合物（Ａ３１８）について、実施例２０と同様の方法で燐光スペクトルを測定した。燐光スペクトルの極大波長は４５７ｎｍであった。燐光スペクトルの極大波長から見積もった三重項準位を表１に示す。

実施例３０（化合物（Ｂ１）の三重項準位評価）
化合物（Ｂ１）について、実施例２０と同様の方法で燐光スペクトルを測定した。燐光スペクトルの極大波長は４５０ｎｍであった。燐光スペクトルの極大波長から見積もった三重項準位を表１に示す。

実施例３１（化合物（Ｂ２）の三重項準位評価）
化合物（Ｂ２）について、実施例２０と同様の方法で燐光スペクトルを測定した。燐光スペクトルの極大波長は４５０ｎｍであった。燐光スペクトルの極大波長から見積もった三重項準位を表１に示す。

実施例３２（化合物（Ｂ３０）の三重項準位評価）
化合物（Ｂ３０）について、実施例２０と同様の方法で燐光スペクトルを測定した。燐光スペクトルの極大波長は４４２ｎｍであった。燐光スペクトルの極大波長から見積もった三重項準位を表１に示す。

実施例３３（化合物（Ｂ３６）の三重項準位評価）
化合物（Ｂ３６）について、実施例２０と同様の方法で燐光スペクトルを測定した。燐光スペクトルの極大波長は４５２ｎｍであった。燐光スペクトルの極大波長から見積もった三重項準位を表１に示す。

比較例１（ＮＰＤの三重項準位評価）
ＮＰＤについて、実施例２０と同様の方法で燐光スペクトルを測定した。燐光スペクトルの極大波長は５２５ｎｍであった。燐光スペクトルの極大波長から見積もった三重項準位を表１に示す。

参考例１（化合物（ｃ）の三重項準位評価）
化合物（ｃ）について、実施例２０と同様の方法で燐光スペクトルを測定した。燐光スペクトルの極大波長は４９０ｎｍであった。燐光スペクトルの極大波長から見積もった三重項準位を表１に示す。

本発明の化合物は、ＮＰＤ及び化合物（ｃ）よりも高い三重項準位を有していた。

実施例３４（化合物（Ａ５）のイオン化ポテンシャルの評価）
過塩素酸テトラブチルアンモニウムの濃度が０．１ｍｏｌ／Ｌである無水ジクロロメタン溶液に化合物（Ａ５）を０．００１ｍｏｌ／Ｌの濃度で溶解させ、サイクリックボルタンメトリーでイオン化ポテンシャルを測定した。作用電極にはグラッシーカーボン、対極に白金線、参照電極にＡｇＮＯ_３のアセトニトリル溶液に浸した銀線を用いた。標準物質としてフェロセンを用い、フェロセンの酸化還元電位を基準とした際の化合物（Ａ５）のイオン化ポテンシャルは０．４３Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋であった。この値は、従来から正孔輸送材料として知られているＮＰＤのイオン化ポテンシャル（０．３１Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋）と比較して若干高く、正孔輸送材料として好ましいイオン化ポテンシャルであった。

実施例３５（化合物（Ａ８）のイオン化ポテンシャルの評価）
実施例３４と同様の方法で化合物（Ａ８）のイオン化ポテンシャルを評価した。フェロセンの酸化還元電位を基準とした際の化合物（Ａ８）のイオン化ポテンシャルは０．４４Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋であり、従来から正孔輸送材料として知られているＮＰＤのイオン化ポテンシャル（０．３１Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋）と比較して若干高く、正孔輸送材料として好ましいイオン化ポテンシャルであった。

実施例３６（化合物（Ａ１５）のイオン化ポテンシャルの評価）
実施例３４と同様の方法で化合物（Ａ１５）のイオン化ポテンシャルを評価した。フェロセンの酸化還元電位を基準とした際の化合物（Ａ１５）のイオン化ポテンシャルは０．４０Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋であり、従来から正孔輸送材料として知られているＮＰＤのイオン化ポテンシャル（０．３１Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋）と比較して若干高く、正孔輸送材料として好ましいイオン化ポテンシャルであった。

実施例３７（化合物（Ａ２７８）のイオン化ポテンシャルの評価）
実施例３４と同様の方法で化合物（Ａ２７８）のイオン化ポテンシャルを評価した。フェロセンの酸化還元電位を基準とした際の化合物（Ａ２７８）のイオン化ポテンシャルは０．４５Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋であり、従来から正孔輸送材料として知られているＮＰＤのイオン化ポテンシャル（０．３１Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋）と比較して若干高く、正孔輸送材料として好ましいイオン化ポテンシャルであった。

実施例３８（化合物（Ａ２８６）のイオン化ポテンシャルの評価）
実施例３４と同様の方法で化合物（Ａ２８６）のイオン化ポテンシャルを評価した。フェロセンの酸化還元電位を基準とした際の化合物（Ａ２８６）のイオン化ポテンシャルは０．４４Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋であり、従来から正孔輸送材料として知られているＮＰＤのイオン化ポテンシャル（０．３１Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋）と比較して若干高く、正孔輸送材料として好ましいイオン化ポテンシャルであった。

実施例３９（化合物（Ａ２８９）のイオン化ポテンシャルの評価）
実施例３４と同様の方法で化合物（Ａ２８９）のイオン化ポテンシャルを評価した。フェロセンの酸化還元電位を基準とした際の化合物（Ａ２８９）のイオン化ポテンシャルは０．３９Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋であり、従来から正孔輸送材料として知られているＮＰＤのイオン化ポテンシャル（０．３１Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋）と比較して若干高く、正孔輸送材料として好ましいイオン化ポテンシャルであった。

実施例４０（化合物（Ａ２９２）のイオン化ポテンシャルの評価）
実施例３４と同様の方法で化合物（Ａ２９２）のイオン化ポテンシャルを評価した。フェロセンの酸化還元電位を基準とした際の化合物（Ａ２９２）のイオン化ポテンシャルは０．４３Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋であり、従来から正孔輸送材料として知られているＮＰＤのイオン化ポテンシャル（０．３１Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋）と比較して若干高く、正孔輸送材料として好ましいイオン化ポテンシャルであった。

実施例４１（化合物（Ａ１２４）のイオン化ポテンシャルの評価）
実施例３４と同様の方法で化合物（Ａ１２４）のイオン化ポテンシャルを評価した。フェロセンの酸化還元電位を基準とした際の化合物（Ａ１２４）のイオン化ポテンシャルは０．４４Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋であり、従来から正孔輸送材料として知られているＮＰＤのイオン化ポテンシャル（０．３１Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋）と比較して若干高く、正孔輸送材料として好ましいイオン化ポテンシャルであった。

実施例４２（化合物（Ａ１３９）のイオン化ポテンシャルの評価）
実施例３４と同様の方法で化合物（Ａ１３９）のイオン化ポテンシャルを評価した。フェロセンの酸化還元電位を基準とした際の化合物（Ａ１３９）のイオン化ポテンシャルは０．４５Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋であり、従来から正孔輸送材料として知られているＮＰＤのイオン化ポテンシャル（０．３１Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋）と比較して若干高く、正孔輸送材料として好ましいイオン化ポテンシャルであった。

実施例４３（化合物（Ａ１４８）のイオン化ポテンシャルの評価）
実施例３４と同様の方法で化合物（Ａ１４８）のイオン化ポテンシャルを評価した。フェロセンの酸化還元電位を基準とした際の化合物（Ａ１４８）のイオン化ポテンシャルは０．４５Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋であり、従来から正孔輸送材料として知られているＮＰＤのイオン化ポテンシャル（０．３１Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋）と比較して若干高く、正孔輸送材料として好ましいイオン化ポテンシャルであった。

実施例４４（化合物（Ａ１５３）のイオン化ポテンシャルの評価）
実施例３４と同様の方法で化合物（Ａ１５３）のイオン化ポテンシャルを評価した。フェロセンの酸化還元電位を基準とした際の化合物（Ａ１５３）のイオン化ポテンシャルは０．４７Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋であり、従来から正孔輸送材料として知られているＮＰＤのイオン化ポテンシャル（０．３１Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋）と比較して若干高く、正孔輸送材料として好ましいイオン化ポテンシャルであった。

実施例４５（化合物（Ａ３１８）のイオン化ポテンシャルの評価）
実施例３４と同様の方法で化合物（Ａ３１８）のイオン化ポテンシャルを評価した。フェロセンの酸化還元電位を基準とした際の化合物（Ａ３１８）のイオン化ポテンシャルは０．４４Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋であり、従来から正孔輸送材料として知られているＮＰＤのイオン化ポテンシャル（０．３１Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋）と比較して若干高く、正孔輸送材料として好ましいイオン化ポテンシャルであった。

実施例４６（化合物（Ｂ１）のイオン化ポテンシャルの評価）
実施例３４と同様の方法で化合物（Ｂ１）のイオン化ポテンシャルを評価した。フェロセンの酸化還元電位を基準とした際の化合物（Ｂ１）のイオン化ポテンシャルは０．４８Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋であり、従来から正孔輸送材料として知られているＮＰＤのイオン化ポテンシャル（０．３１Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋）と比較して若干高く、正孔輸送材料として好ましいイオン化ポテンシャルであった。

実施例４７（化合物（Ｂ２）のイオン化ポテンシャルの評価）
実施例３４と同様の方法で化合物（Ｂ２）のイオン化ポテンシャルを評価した。フェロセンの酸化還元電位を基準とした際の化合物（Ｂ２）のイオン化ポテンシャルは０．４６Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋であり、従来から正孔輸送材料として知られているＮＰＤのイオン化ポテンシャル（０．３１Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋）と比較して若干高く、正孔輸送材料として好ましいイオン化ポテンシャルであった。

実施例４８（化合物（Ｂ２７）のイオン化ポテンシャルの評価）
実施例３４と同様の方法で化合物（Ｂ２７）のイオン化ポテンシャルを評価した。フェロセンの酸化還元電位を基準とした際の化合物（Ｂ２７）のイオン化ポテンシャルは０．４８Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋であり、従来から正孔輸送材料として知られているＮＰＤのイオン化ポテンシャル（０．３１Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋）と比較して若干高く、正孔輸送材料として好ましいイオン化ポテンシャルであった。

実施例４９（化合物（Ｂ３０）のイオン化ポテンシャルの評価）
実施例３４と同様の方法で化合物（Ｂ３０）のイオン化ポテンシャルを評価した。フェロセンの酸化還元電位を基準とした際の化合物（Ｂ３０）のイオン化ポテンシャルは０．４８Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋であり、従来から正孔輸送材料として知られているＮＰＤのイオン化ポテンシャル（０．３１Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋）と比較して若干高く、正孔輸送材料として好ましいイオン化ポテンシャルであった。

実施例５０（化合物（Ｂ３６）のイオン化ポテンシャルの評価）
実施例３４と同様の方法で化合物（Ｂ３６）のイオン化ポテンシャルを評価した。フェロセンの酸化還元電位を基準とした際の化合物（Ｂ３６）のイオン化ポテンシャルは０．４８Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋であり、従来から正孔輸送材料として知られているＮＰＤのイオン化ポテンシャル（０．３１Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋）と比較して若干高く、正孔輸送材料として好ましいイオン化ポテンシャルであった。

実施例５１（化合物（Ｃ５）のイオン化ポテンシャルの評価）
実施例３４と同様の方法で化合物（Ｃ５）のイオン化ポテンシャルを評価した。フェロセンの酸化還元電位を基準とした際の化合物（Ｃ５）のイオン化ポテンシャルは０．４０Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋であり、従来から正孔輸送材料として知られているＮＰＤのイオン化ポテンシャル（０．３１Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋）と比較して若干高く、正孔輸送材料として好ましいイオン化ポテンシャルであった。

実施例５２（化合物（Ｃ１１）のイオン化ポテンシャルの評価）
実施例３４と同様の方法で化合物（Ｃ１１）のイオン化ポテンシャルを評価した。フェロセンの酸化還元電位を基準とした際の化合物（Ｃ１１）のイオン化ポテンシャルは０．４５Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋であり、従来から正孔輸送材料として知られているＮＰＤのイオン化ポテンシャル（０．３１Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋）と比較して若干高く、正孔輸送材料として好ましいイオン化ポテンシャルであった。

比較例２（化合物（ａ）のイオン化ポテンシャルの評価）
実施例３４と同様の方法でカルバゾール環の３位にアミノ基が結合した化合物（ａ）のイオン化ポテンシャルを評価した。化合物（ａ）のイオン化ポテンシャルは０．１３Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋であり、従来から正孔輸送材料として知られているＮＰＤのイオン化ポテンシャル（０．３１Ｖｖｓ．Ｆｃ／Ｆｃ^＋）と比較すると低く、正孔輸送材料としては好ましくないイオン化ポテンシャルであった。

実施例５３（化合物（Ａ１３９）のガラス転移温度測定）
化合物（Ａ１３９）５ｍｇをＡｌパンに入れ、窒素雰囲気下、１０℃／分の昇温条件でガラス転移温度を測定した。標準試料には、Ａｌ_２Ｏ_３を使用した。化合物（Ａ１３９）のガラス転移温度は１４３℃であり、ＮＰＤ（９６℃）及び化合物（ｂ）（１００℃）と比較して薄膜状態の安定性が高いことがわかった。

実施例５４（化合物（Ａ１４８）のガラス転移温度測定）
実施例５３と同様の方法で化合物（Ａ１４８）のガラス転移温度を測定した。化合物（Ａ１４８）のガラス転移温度は１４２℃であり、ＮＰＤ（９６℃）及び化合物（ｂ）（１００℃）と比較して薄膜状態の安定性が高いことがわかった。

実施例５５（化合物（Ａ１５３）のガラス転移温度測定）
実施例５３と同様の方法で化合物（Ａ１５３）のガラス転移温度を測定した。化合物（Ａ１５３）のガラス転移温度は１５０℃であり、ＮＰＤ（９６℃）及び化合物（ｂ）（１００℃）と比較して薄膜状態の安定性が高いことがわかった。

実施例５６（化合物（Ｂ１）のガラス転移温度測定）
実施例５３と同様の方法で化合物（Ｂ１）のガラス転移温度を測定した。化合物（Ｂ１）のガラス転移温度は１６９℃であり、ＮＰＤ（９６℃）及び化合物（ｂ）（１００℃）と比較して薄膜状態の安定性が高いことがわかった。

実施例５７（化合物（Ｂ３０）のガラス転移温度測定）
実施例５３と同様の方法で化合物（Ｂ３０）のガラス転移温度を測定した。化合物（Ｂ３０）のガラス転移温度は１９１℃であり、ＮＰＤ（９６℃）及び化合物（ｂ）（１００℃）と比較して薄膜状態の安定性が高いことがわかった。

実施例５８（化合物（Ａ５）の素子評価）
厚さ２００ｎｍのＩＴＯ透明電極（陽極）を積層したガラス基板をアセトンおよび純水による超音波洗浄、イソプロピルアルコールによる沸騰洗浄を行った。さらに紫外線オゾン洗浄を行い、真空蒸着装置へ設置後、５×１０^−４Ｐａ以下になるまで真空ポンプにて排気した。まず、ＩＴＯ透明電極上に銅フタロシアニンを蒸着速度０．１ｎｍ／秒で蒸着し、１０ｎｍの正孔注入層とした。引続き、ＮＰＤを蒸着速度０．３ｎｍ／秒で２５ｎｍ蒸着し、その後、化合物（Ａ５）を蒸着速度０．１ｎｍ／秒で５ｎｍ蒸着し２層の正孔輸送層とした。続いて、燐光ドーパント材料であるトリス（２−フェニルピリジン）イリジウム（Ｉｒ（ｐｐｙ）_３）とホスト材料である４，４’−ビス（Ｎ−カルバゾリル）ビフェニル（ＣＢＰ）を重量比が１：１１．５になるように蒸着速度０．２５ｎｍ／秒で共蒸着し、３０ｎｍの発光層とした。次に、ＢＡｌｑ（ビス（２−メチル−８−キノリノラト）（ｐ−フェニルフェノラト）アルミニウム）を蒸着速度０．３ｎｍ／秒で蒸着し、５ｎｍのエキシトンブロック層とした後、さらにＡｌｑ_３（トリス（８−キノリノラト）アルミニウム）を０．３ｎｍ／秒で蒸着し、４５ｎｍの電子輸送層とした。引続き、電子注入層として沸化リチウムを蒸着速度０．０１ｎｍ／秒で０．５ｎｍ蒸着し、さらにアルミニウムを蒸着速度０．２５ｎｍ／秒で１００ｎｍ蒸着して陰極を形成した。窒素雰囲気下、封止用のガラス板をＵＶ硬化樹脂で接着し、評価用の有機ＥＬ素子とした。このように作製した素子に２０ｍＡ／ｃｍ^２の電流を印加し、駆動電圧および電流効率を測定した。結果を表２に示す。

実施例５９（化合物（Ａ８）の素子評価）
化合物（Ａ５）を化合物（Ａ８）に変更した以外は実施例５８と同様の操作を行い有機ＥＬ素子を作製した。２０ｍＡ／ｃｍ^２の電流を印加した際の駆動電圧および電流効率を表２に示す。

実施例６０（化合物（Ａ１５）の素子評価）
化合物（Ａ５）を化合物（Ａ１５）に変更した以外は実施例５８と同様の操作を行い有機ＥＬ素子を作製した。２０ｍＡ／ｃｍ^２の電流を印加した際の駆動電圧および電流効率を表２に示す。

実施例６１（化合物（Ａ２７８）の素子評価）
化合物（Ａ５）を化合物（Ａ２７８）に変更した以外は実施例５８と同様の操作を行い有機ＥＬ素子を作製した。２０ｍＡ／ｃｍ^２の電流を印加した際の駆動電圧および電流効率を表２に示す。

実施例６２（化合物（Ａ１３９）の素子評価）
化合物（Ａ５）を化合物（Ａ１３９）に変更した以外は実施例５８と同様の操作を行い有機ＥＬ素子を作製した。２０ｍＡ／ｃｍ^２の電流を印加した際の駆動電圧および電流効率を表２に示す。

実施例６３（化合物（Ａ１４８）の素子評価）
化合物（Ａ５）を化合物（Ａ１４８）に変更した以外は実施例５８と同様の操作を行い有機ＥＬ素子を作製した。２０ｍＡ／ｃｍ^２の電流を印加した際の駆動電圧および電流効率を表２に示す。

実施例６４（化合物（Ａ１５３）の素子評価）
化合物（Ａ５）を化合物（Ａ１５３）に変更した以外は実施例５８と同様の操作を行い有機ＥＬ素子を作製した。２０ｍＡ／ｃｍ^２の電流を印加した際の駆動電圧および電流効率を表２に示す。

実施例６５（化合物（Ｂ２）の素子評価）
化合物（Ａ５）を化合物（Ｂ２）に変更した以外は実施例５８と同様の操作を行い有機ＥＬ素子を作製した。２０ｍＡ／ｃｍ^２の電流を印加した際の駆動電圧および電流効率を表２に示す。

実施例６６（化合物（Ｂ２７）の素子評価）
化合物（Ａ５）を化合物（Ｂ２７）に変更した以外は実施例５８と同様の操作を行い有機ＥＬ素子を作製した。２０ｍＡ／ｃｍ^２の電流を印加した際の駆動電圧および電流効率を表２に示す。

実施例６７（化合物（Ｂ３０）の素子評価）
化合物（Ａ５）を化合物（Ｂ３０）に変更した以外は実施例５８と同様の操作を行い有機ＥＬ素子を作製した。２０ｍＡ／ｃｍ^２の電流を印加した際の駆動電圧および電流効率を表２に示す。

実施例６８（化合物（Ｂ３６）の素子評価）
化合物（Ａ５）を化合物（Ｂ３６）に変更した以外は実施例５８と同様の操作を行い有機ＥＬ素子を作製した。２０ｍＡ／ｃｍ^２の電流を印加した際の駆動電圧および電流効率を表２に示す。

実施例６９（化合物（Ｃ５）の素子評価）
化合物（Ａ５）を化合物（Ｃ５）に変更した以外は実施例５８と同様の操作を行い有機ＥＬ素子を作製した。２０ｍＡ／ｃｍ^２の電流を印加した際の駆動電圧および電流効率を表２に示す。

比較例３
化合物（Ａ５）をＮＰＤに変更した以外は実施例５８と同様の操作を行い有機ＥＬ素子を作製した。結果を２０ｍＡ／ｃｍ^２の電流を印加した際の駆動電圧および電流効率を表２に示す。

比較例４
化合物（Ａ５）を化合物（ａ）に変更した以外は実施例５８と同様の操作を行い有機ＥＬ素子を作製した。２０ｍＡ／ｃｍ^２の電流を印加した際の駆動電圧および電流効率を表２に示す。

参考例２
化合物（Ａ５）を化合物（ｂ）に変更した以外は実施例５８と同様の操作を行い有機ＥＬ素子を作製した。２０ｍＡ／ｃｍ^２の電流を印加した際の駆動電圧および電流効率を表２に示す。

本発明の４−アミノカルバゾール化合物はＮＰＤ、化合物（ａ）及び化合物（ｂ）に比べて高い電流効率（発光効率）を示した。また、４−アミノカルバゾール化合物を用いた素子では、駆動電圧を低く抑えることができた。

本発明の４−アミノカルバゾール化合物を含む少なくとも１つの層を有する燐光発光性または蛍光発光性の有機ＥＬ素子は、従来公知のカルバゾール環を導入した材料を含む有機ＥＬ素子に比べて、高い発光効率（電流効率）を示し、さらに駆動電圧が低いという顕著な効果を示した。

したがって、本発明の４−アミノカルバゾール化合物は、輝度が高く、消費電力の少ない燐光発光性または蛍光発光性の有機ＥＬ素子を提供できる。

Claims

一般式（１）

（式中、Ａｒ^１〜Ａｒ^４は、各々独立して、炭素数６〜３０のアリール基、チエニル基、フラニル基、ピリジル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、４−カルバゾリル基、ジベンゾチエニルフェニル基、ジベンゾフラニルフェニル基、又は９−カルバゾリルフェニル基（これらの基は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数３〜１１のヘテロアリール基、炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基、炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも一つの置換基を有していてもよい）を表す。Ｒ^１〜Ｒ^７は、水素原子である。
ｎは０を表す。
Ｘは炭素数６〜１７の（ｎ＋１）価の芳香族炭化水素基、炭素数３〜２０の（ｎ＋１）価のヘテロ芳香族基、又は炭素数９〜２６の（ｎ＋１）価のヘテロアリールフェニル基（これらの基は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基、炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）を表す。）
で表される４−アミノカルバゾール化合物。
Ａｒ^１〜Ａｒ^４が、各々独立して、炭素数６〜３０のアリール基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、４−カルバゾリル基、ジベンゾフラニルフェニル基、ジベンゾチエニルフェニル基、又は９−カルバゾリルフェニル基（これらの基は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数６〜３０のアリール基、及び炭素数３〜１１のヘテロアリール基からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）であることを特徴とする、請求項１に記載の４−アミノカルバゾール化合物。
Ａｒ^１〜Ａｒ^４が、各々独立して、フェニル基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、フルオレニル基、ベンゾフルオレニル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、ジベンゾフラニルフェニル基、ジベンゾチエニルフェニル基、又は９−カルバゾリルフェニル基（これらの基は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）、又は、４−カルバゾリル基（メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数６〜３０のアリール基、及び炭素数３〜１１のヘテロアリール基からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の４−アミノカルバゾール化合物。
Ａｒ^１〜Ａｒ^４が、各々独立して、フェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニル基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、９，９’−ジメチルフルオレニル基、１１，１１’−ジメチルベンゾ［ａ］フルオレニル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、ジベンゾチエニルフェニル基、４−（９−カルバゾリル）フェニル基、９−フェニルカルバゾール−４−イル基、９−ビフェニリルカルバゾール−４−イル基、９−キノリルカルバゾール−４−イル基、または９−ジベンゾチエニルカルバゾール−４−イル基であることを特徴とする、請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載の４−アミノカルバゾール化合物。
Ｘが、（ｎ＋１）価のベンゼン、（ｎ＋１）価のビフェニル、（ｎ＋１）価のナフタレン、（ｎ＋１）価のフェナントレン、（ｎ＋１）価のフルオレン、（ｎ＋１）価のナフチルベンゼン、（ｎ＋１）価のピリジン、（ｎ＋１）価のピリミジン、（ｎ＋１）価の１，３，５−トリアジン、（ｎ＋１）価のキノリン、（ｎ＋１）価のジベンゾチオフェン、（ｎ＋１）価のジベンゾフラン、（ｎ＋１）価のピリジルベンゼン、（ｎ＋１）価のイミダゾリルベンゼン、（ｎ＋１）価のベンゾイミダゾリルベンゼン、及び（ｎ＋１）価のベンゾチアゾリルベンゼン（これらの芳香環は、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）から選ばれる１種であることを特徴とする、請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の４−アミノカルバゾール化合物。
Ｘが、（ｎ＋１）価のベンゼン、（ｎ＋１）価のビフェニル、（ｎ＋１）価のキノリン、（ｎ＋１）価のジベンゾチオフェン、（ｎ＋１）価の１，３，５−トリアジン、及び（ｎ＋１）価のピリジルベンゼン（これらの芳香環は、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリール基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）から選ばれる１種であることを特徴とする、請求項１乃至請求項５のいずれか一項に記載の４−アミノカルバゾール化合物。
Ｘが、（ｎ＋１）価のベンゼン、（ｎ＋１）価のビフェニル、（ｎ＋１）価のキノリン、（ｎ＋１）価のジベンゾチオフェン、（ｎ＋１）価の２，４−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、又は（ｎ＋１）価のピリジルベンゼンであることを特徴とする、請求項１乃至請求項６のいずれか一項に記載の４−アミノカルバゾール化合物。
一般式（１）

（式中、Ａｒ^１〜Ａｒ^４は、各々独立して、炭素数６〜３０のアリール基、チエニル基、フラニル基、ピリジル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、４−カルバゾリル基、ジベンゾチエニルフェニル基、ジベンゾフラニルフェニル基、又は９−カルバゾリルフェニル基（これらの基は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数３〜１１のヘテロアリール基、炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基、炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）を表す。
Ｒ^１〜Ｒ^７は、水素原子である。
ｎは０を表す。
Ｘは炭素数６〜１７の（ｎ＋１）価の芳香族炭化水素基、炭素数３〜２０の（ｎ＋１）価のヘテロ芳香族基、又は炭素数９〜２６の（ｎ＋１）価のヘテロアリールフェニル基（これらの基は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基、炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）を表す。）
で表される４−アミノカルバゾール化合物を含む、発光層、正孔輸送層および正孔注入層の中から選ばれる少なくとも一つの層を有することを特徴とする有機ＥＬ素子。
一般式（１）

（式中、Ａｒ^１〜Ａｒ^４は、各々独立して、炭素数６〜３０のアリール基、チエニル基、フラニル基、ピリジル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、ジベンゾフラニル基、４−カルバゾリル基、ジベンゾチエニルフェニル基、ジベンゾフラニルフェニル基、又は９−カルバゾリルフェニル基（これらの基は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数３〜１１のヘテロアリール基、炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基、炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）を表す。
Ｒ^１〜Ｒ^７は、水素原子である。
ｎは０を表す。
Ｘは炭素数６〜１７の（ｎ＋１）価の芳香族炭化水素基、炭素数３〜２０の（ｎ＋１）価のヘテロ芳香族基、又は炭素数９〜２６の（ｎ＋１）価のヘテロアリールフェニル基（これらの芳香環構造は、各々独立して、メチル基、エチル基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、炭素数３〜１８の直鎖、分岐、若しくは環状のアルコキシ基、炭素数１〜３のハロゲン化アルキル基、炭素数１〜３のハロゲン化アルコキシ基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数３〜２０のヘテロアリール基、炭素数３〜１８のトリアルキルシリル基、炭素数１８〜４０のトリアリールシリル基、シアノ基、及びハロゲン原子からなる群より少なくとも一つの置換基を有していてもよい）を表す。）
で表される４−アミノカルバゾール化合物を含む正孔輸送材料、又は正孔注入材料。