JP2017101305A - Fixture for barrel plating, plating method using the same, and method for producing electronic component - Google Patents

Fixture for barrel plating, plating method using the same, and method for producing electronic component Download PDF

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智和 嶋田
Tomokazu Shimada
智和 嶋田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a fixture for barrel plating, even in the case where the compact objects to be plated are subjected to plating, capable of using stirring media with a size larger than that of the objects to be plated, efficiently stirring the objects to be plated to suppress the sticking of the objects to be plated each other, and capable of performing stable plating, a plating method, and a method for producing an electronic component.SOLUTION: Provided is a fixture for barrel plating including: a container body 10 stored with the objects 1 to be plated, conductive media 2 and stirring media 3, in which a rotary shaft X is tiltedly rotated to a horizontal direction H, having a bottom and a square-cylindrical shape, and in which a tilted part 8 is provided between the bottom part 5 and side parts 7; and a partition member 20 arranged so as to form a gap G passing through the objects to be plated and not passing through the stirring media between the side parts of the container body and the inner circumferential face of the boundary of the tilted part, the container body is partitioned into the first region 11 closer to the bottom part of the container body and the second region 12 farther from the bottom part by a partition member, and at least the first region is rollably stored with the stirring media.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、チップ型の電子部品などにめっきを施す際に用いられるバレルめっき用治具、それを用いためっき方法、および電子部品の製造方法に関する。   The present invention relates to a barrel plating jig used when plating a chip-type electronic component or the like, a plating method using the jig, and a method for manufacturing an electronic component.

例えば、チップ型積層コンデンサなどの電子部品においては、はんだ付けによる実装の信頼性の向上、はんだ喰われの防止などの目的で、電子部品が備える外部電極の表面に、NiめっきやSnめっきを施すことが一般的に行われている。   For example, in an electronic component such as a chip-type multilayer capacitor, Ni plating or Sn plating is applied to the surface of an external electrode provided in the electronic component for the purpose of improving mounting reliability by soldering or preventing solder erosion. It is generally done.

そして、このような電子部品に、NiめっきやSnめっきなどを施す場合、回転可能なバレルに被めっき物と導電メディアを入れて、めっき液中で回転させることによりめっきを施す、いわゆるバレルめっきの方法で行われることが多い。このバレルめっきの方法は生産性の高いめっき方法の1つとして広く知られている。   And when performing Ni plating, Sn plating, etc. to such an electronic component, it puts a to-be-plated object and a conductive medium in a rotatable barrel, and performs plating by rotating in a plating solution, so-called barrel plating. Often done by method. This barrel plating method is widely known as one of highly productive plating methods.

ところで、このようなバレルめっきに用いられる攪拌容器(バレル)の一つに、例えば、特許文献1に記載されているような攪拌容器がある。   By the way, there exists a stirring container as described in patent document 1, for example in one of the stirring containers (barrel) used for such barrel plating.

特許文献1に開示されている攪拌容器は、図5に示すように、有底筒状の構造を有し、回転中心には回転軸102が、底部101aに固着された突起物103を介して配設された構造を有している。   As shown in FIG. 5, the stirring vessel disclosed in Patent Document 1 has a bottomed cylindrical structure, and a rotating shaft 102 is provided at the center of rotation via a protrusion 103 fixed to the bottom 101a. It has an arranged structure.

そして、この攪拌容器を用い、回転軸102が傾斜した状態で回転させることにより、内部に収容された被めっき物を滞留させることなく攪拌しながら効率よくめっきを行うことができるとされている。   And it is supposed that it can plate efficiently, stirring, without retaining the to-be-plated object accommodated in the inside by using this stirring container and rotating in the state in which the rotating shaft 102 inclined.

しかしながら、この特許文献1の攪拌容器の場合、上述の突起物を備えていない攪拌容器に比べると、被めっき物の滞留を抑制することはできるが、例えば、回転速度が35rpm以上の高速回転時や、導電メディア径が大きい場合には、被めっき物が底部に滞留して残り、転動しない場合がある。   However, in the case of the stirring container of Patent Document 1, it is possible to suppress the retention of the object to be plated as compared with the stirring container not provided with the above-described protrusions. If the conductive media diameter is large, the object to be plated may remain at the bottom and not roll.

また、攪拌を促進するために、撹拌補助用のほぐし玉(攪拌メディア)を用いた場合、ほぐし玉が被めっき物および導電メディアの更に上方で転がるだけになってしまい、撹拌への寄与が限定的になるという問題がある。特に、被めっき物のチャージ量を増加した場合や、小型の被めっき物を対象とした場合には、その問題が顕著になる。   In addition, when a loosening ball (stirring media) for stirring is used to promote stirring, the loosening ball only rolls further above the object to be plated and the conductive medium, and the contribution to stirring is limited. There is a problem of becoming. In particular, when the charge amount of the object to be plated is increased or when a small object is to be plated, the problem becomes remarkable.

また、特許文献2には、図6に示すように、陰極206が配設されたバレル204内に被めっき物201と、非導電性ダミー(ほぐし玉)202と、導電性ダミー(メディア)203とを投入し、バレル204を回転させて被めっき物201にめっきを施す方法において、非導電性ダミー202の体積もしくは最大投影面積を被めっき物201と同じかそれより大きいものを使用するようにしためっき方法が提案されている。   In Patent Document 2, as shown in FIG. 6, an object to be plated 201, a non-conductive dummy (unwinding ball) 202, and a conductive dummy (media) 203 are placed in a barrel 204 in which a cathode 206 is disposed. In the method of plating the object 201 by rotating the barrel 204, the volume or maximum projected area of the non-conductive dummy 202 is equal to or larger than that of the object 201. A plating method has been proposed.

この特許文献2のめっき方法の場合、非導電性ダミー(ほぐし玉)を大きくした方が撹拌の効果が大きくなるが、均一に撹拌するには被めっき物の大きさに応じた非導電性ダミー(ほぐし玉)、および、導電性ダミー(メディア)を用いることが必要になる。   In the case of the plating method disclosed in Patent Document 2, the effect of stirring is increased by increasing the size of the non-conductive dummy (unraveling ball). However, for uniform stirring, the non-conductive dummy according to the size of the object to be plated It is necessary to use a loosening ball and a conductive dummy (media).

特に、被めっき物が極めて小さくなると、それと同等の極めて小さい非導電性ダミー(ほぐし玉)、および、導電性ダミー(メディア)を用いることが必要になる。   In particular, when the object to be plated is extremely small, it is necessary to use an extremely small non-conductive dummy (unraveling ball) and a conductive dummy (media) equivalent to that.

しかし、そのような極めて小さい非導電性ダミー(ほぐし玉)、および、導電性ダミー(メディア)は、入手が困難であるばかりでなく、高価で、しかも繰り返し使用が難しいことから、小型の被めっき物に均一にめっきを施す必要がある場合に、非導電性ダミー(ほぐし玉)、および、導電性ダミー(メディア)を小型化することだけで、それに対応することが困難であるのが実情である。   However, such an extremely small non-conductive dummy (unhulling ball) and conductive dummy (media) are not only difficult to obtain, but also expensive and difficult to repeatedly use, so that a small plating target is required. When it is necessary to uniformly plate an object, it is difficult to cope with it by simply downsizing the non-conductive dummy (unwinding ball) and conductive dummy (media). is there.

特開2006−219713号公報JP 2006-219713 A 特開平10−212596号公報JP-A-10-212596

本発明は、上記課題を解決するものであり、小型の被めっき物にめっきを行う場合にも、被めっき物に比べて寸法の大きい攪拌メディアを用いることが可能で、被めっき物を効率よく攪拌して、被めっき物どうしのくっつきを抑制しつつ、安定しためっきを行うことが可能なバレルめっき用治具、それを用いためっき方法、および該めっき方法を用いた電子部品の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention solves the above-described problem, and even when plating on a small object to be plated, it is possible to use a stirring medium having a size larger than that of the object to be plated, and to efficiently remove the object to be plated. A barrel plating jig capable of performing stable plating while suppressing sticking between objects to be plated by stirring, a plating method using the same, and a method of manufacturing an electronic component using the plating method The purpose is to provide.

上記課題を解決するため、本発明のバレルめっき用治具は、
内部に被めっき物と、表面が導電材料からなる導電メディアと、表面が非導電材料からなる攪拌メディアとが収容され、回転軸が水平方向に対して所定の角度で傾斜して回転する、有底、角筒状で、底部と胴体部分を構成する側部との間に傾斜部を備えた容器本体と、
前記容器本体の、前記側部と前記傾斜部の境界部の内周面との間に、少なくとも前記被めっき物は通過させるが、前記攪拌メディアは通過させない間隙が形成されるように配設され、前記容器本体を前記回転軸方向に沿う2つの領域であって、前記容器本体の前記底部側に近い方の第1領域と、前記底部から遠い方の第2領域に仕切る仕切部材と
を具備し、
少なくとも前記第1領域に、前記攪拌メディアが転動可能に収容されるように構成されていること
を特徴としている。
In order to solve the above problems, the jig for barrel plating of the present invention is:
An object to be plated, a conductive medium whose surface is made of a conductive material, and a stirring medium whose surface is made of a non-conductive material are housed therein, and the rotating shaft rotates at a predetermined angle with respect to the horizontal direction. A container body having a bottom, a rectangular tube shape, and an inclined portion between a bottom portion and a side portion constituting a body portion;
Between the side part of the container main body and the inner peripheral surface of the boundary part of the inclined part, it is arranged so that a gap is formed so that at least the object to be plated is allowed to pass but the stirring medium is not allowed to pass. A partition member that divides the container main body into two regions along the rotation axis direction, the first region closer to the bottom side of the container main body, and the second region farther from the bottom. And
The stirring medium is configured to be able to roll in at least the first region.

本発明のバレルめっき用治具においては、前記第2領域にも前記攪拌メディアが転動可能に収容されるように構成されていることが好ましい。   In the barrel plating jig of the present invention, it is preferable that the stirring medium is also accommodated in the second region so as to be able to roll.

上記構成とすることにより、第2領域にも攪拌メディアを存在させるようにした場合、さらに確実に被めっき物を攪拌して、安定しためっきを行うことが可能になる。   With the above configuration, when the stirring medium is also present in the second region, it is possible to more reliably stir the object to be plated and perform stable plating.

また、前記導電メディアが、前記仕切部材と前記境界部の内周面との間の間隙を経て、前記第1領域と前記第2領域の間を移動できるように構成されていることが好ましい。   Further, it is preferable that the conductive medium is configured to be able to move between the first region and the second region via a gap between the partition member and the inner peripheral surface of the boundary portion.

上記構成とすることにより、第1領域と第2領域の両方で効率よくめっきを行うことが可能になる。   By setting it as the said structure, it becomes possible to plate efficiently in both a 1st area | region and a 2nd area | region.

また、前記容器本体の前記傾斜部の、前記容器本体の側部に対する傾斜角度θ1が10°以上、80°以下であり、前記回転軸の前記水平方向に対する傾斜角度θ2が5°以上、40°以下であることが好ましい。   In addition, an inclination angle θ1 of the inclined portion of the container body with respect to a side portion of the container body is 10 ° or more and 80 ° or less, and an inclination angle θ2 of the rotating shaft with respect to the horizontal direction is 5 ° or more and 40 °. The following is preferable.

容器本体の傾斜部の側部に対する傾斜角度θ1を10°以上、80°以下とし、回転軸の水平方向に対する傾斜角度θ2を、上記θ1の値の1/2とする、すなわち、5°以上、40°以下とすることにより、容器本体の、側部と傾斜部の境界部近傍に、被めっき物、攪拌メディア、および導電メディアをより効率よく集めることが可能になり、本発明をさらに実効あらしめることができる。   The inclination angle θ1 with respect to the side portion of the inclined portion of the container body is set to 10 ° or more and 80 ° or less, and the inclination angle θ2 with respect to the horizontal direction of the rotating shaft is set to ½ of the value of θ1, that is, 5 ° or more, By setting the angle to 40 ° or less, it becomes possible to more efficiently collect the objects to be plated, the stirring media, and the conductive media in the vicinity of the boundary portion between the side portion and the inclined portion of the container body. It can be tightened.

また、前記仕切部材の、前記容器本体の前記底部と対向する面が、前記容器本体の前記底部に向かって突出した角錐面形状を有していることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the surface facing the said bottom part of the said container main body of the said partition member has the pyramid surface shape which protruded toward the said bottom part of the said container main body.

仕切部材の、容器本体の底部と対向する面を上記底部に向かって突出した角錐面形状とすることにより、攪拌メディアや被めっき物などの内容物の流れを、容器本体の底部方向に誘導・収束させることが可能になる。その結果、回転軸X方向の撹拌効率が向上し、被めっき物の滞留域が減少することで、被めっき物どうしがめっき中に互いにくっついてしまうことを効果的に防止することができて有意義である。   By making the surface of the partition member facing the bottom of the container main body into a pyramidal surface shape that protrudes toward the bottom, the flow of contents such as agitation media and objects to be plated is guided toward the bottom of the container main body. It is possible to converge. As a result, the stirring efficiency in the rotation axis X direction is improved and the staying area of the objects to be plated is reduced, so that the objects to be plated can be effectively prevented from sticking to each other during plating. It is.

また、前記仕切部材の周縁部には、前記容器本体の前記傾斜部に向かう方向に突出する、先端側に向かって厚みが薄くなる返し部が設けられていることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the peripheral part of the said partition member is provided with the return part which protrudes in the direction which goes to the said inclination part of the said container main body, and becomes thin toward the front end side.

仕切部材が、上記返し部を備えた構成とした場合、例えば、仕切部材に仕切られた第1領域と第2領域の、仕切部材の周縁部に近い位置に一対の攪拌メディアが位置する場合に、攪拌メディアを、第1領域から第2領域に、あるいは第2領域から第1領域に行き来させることなく、かつ、仕切部材と、容器本体の側部と傾斜部の境界部との間に、攪拌メディアが挟み込まれてしまうことを回避しつつ、互いに極めて近接し、あるいは接触することが可能な状態で、容器本体の側部と傾斜部の境界部近傍に位置させることが可能になる。そのため、被めっき物、導電メディア、および攪拌メディアの良好な接触を確保することが可能になり、本発明をより実効あらしめることができる。   When the partition member is configured to include the return portion, for example, when a pair of agitation media are located in positions near the peripheral edge of the partition member in the first region and the second region partitioned by the partition member. The stirring medium does not go back and forth from the first region to the second region or from the second region to the first region, and between the partition member and the boundary between the side portion of the container body and the inclined portion, While avoiding the agitation media from being caught, the container can be positioned in the vicinity of the boundary portion between the side portion and the inclined portion of the container main body in a state of being extremely close to each other or being able to contact each other. Therefore, it is possible to ensure good contact between the object to be plated, the conductive medium, and the stirring medium, and the present invention can be more effectively realized.

また、前記仕切部材が、前記容器本体の前記底部と対向して設けられた開口部を封止するための蓋部材に支柱を介して取り付けられていることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said partition member is attached to the cover member for sealing the opening provided facing the said bottom part of the said container main body via the support | pillar.

上記構成とすることにより、複雑な構造を必要とすることなく、仕切部材を容器本体内の所定の位置に確実に保持することが可能になる。   By setting it as the said structure, it becomes possible to hold | maintain a partition member reliably in the predetermined position in a container main body, without requiring a complicated structure.

また、本発明のバレルめっき用治具は、前記容器本体が密閉可能で、前記めっき液を内部に保持することができるように構成することが好ましい。   Moreover, it is preferable that the barrel plating jig of the present invention is configured such that the container body can be sealed and the plating solution can be held inside.

密閉可能で、めっき液を内部に保持することができるように構成した場合、容器本体の内部に被めっき物や攪拌メディアとともに、めっき液を投入した状態で、バレルめっき用治具を回転させるだけで、容易かつ確実に良好なめっきを施すことが可能になる。   If it is possible to seal and the plating solution can be held inside, just turn the barrel plating jig with the plating solution in the container body together with the object to be plated and the stirring media. Thus, it is possible to easily and surely perform good plating.

前記容器本体の少なくとも一部が、前記めっき液は通過させるが、他の固形物である前記被めっき物、前記導電メディア、および前記攪拌メディアは通過させない材料で構成されていてもよい。   At least a part of the container body may be made of a material that allows the plating solution to pass therethrough but does not allow the solid object to be plated, the conductive media, and the stirring media to pass therethrough.

上記構成とした場合、被めっき物、導電メディア、攪拌メディアなどを収容したバレルめっき用治具を、めっき液に浸漬して回転させることで、容易かつ確実に良好なめっきを施すことが可能になる。   With the above configuration, barrel plating jigs containing objects to be plated, conductive media, stirring media, etc. are immersed in the plating solution and rotated, enabling easy and reliable good plating. Become.

また、本発明のめっき方法は、上記本発明のバレルめっき用治具を用いてめっきを行うことを特徴としている。   The plating method of the present invention is characterized by performing plating using the barrel plating jig of the present invention.

また、本発明の電子部品の製造方法は、上記本発明のめっき方法を用いて、電子部品素子を被めっき物としてめっきを行う工程を備えていることを特徴としている。   Moreover, the manufacturing method of the electronic component of this invention is equipped with the process of plating using an electronic component element as a to-be-plated object using the plating method of the said invention.

本発明のバレルめっき用治具は、内部に被めっき物と、表面が導電材料からなる導電メディアと、表面が非導電材料からなる攪拌メディアとが収容され、回転軸が水平方向に対して所定の角度で傾斜して回転する、有底、角筒状で、底部と胴体部分を構成する側部との間に傾斜部を備えた容器本体と、容器本体の側部と傾斜部の境界部の内周面との間に、被めっき物は通過させるが、攪拌メディアは通過させない間隙が形成されるように配設され、容器本体を底部側に近い方の第1領域と、底部から遠い方の第2領域に仕切る仕切部材とを備え、少なくとも第1領域に、攪拌メディアが収容されるように構成されているので、小型の被めっき物にめっきを行う場合において、被めっき物に比べて寸法の大きい攪拌メディアを用いた場合にも、攪拌メディアが被めっき物群や導電メディア群の上に浮き上がった状態で偏在することを抑制して、被めっき物を十分に攪拌することが可能になる。   The barrel plating jig of the present invention accommodates an object to be plated, a conductive medium whose surface is made of a conductive material, and a stirring medium whose surface is made of a non-conductive material, and its rotation axis is predetermined with respect to the horizontal direction. A container body having a bottomed, rectangular tube shape and having an inclined portion between the bottom portion and a side portion constituting the body portion, and a boundary portion between the side portion and the inclined portion of the container body. Between the inner peripheral surface of the container and the inner surface of the container, the gap is formed so as to allow the object to be plated to pass but not the stirring medium, and the container main body is located closer to the bottom side and far from the bottom. And a partition member for partitioning into the second region, and at least the first region is configured so that the stirring medium is accommodated. Therefore, when plating on a small object to be plated, compared to the object to be plated Even when stirring media with large dimensions are used,拌 media to suppress the uneven distribution in the state of floating on the object to be plated group or a conductive media group, it is possible to sufficiently stir the object to be plated.

また、被めっき物に比べて寸法の大きい攪拌メディアを用いた場合にも、攪拌メディアによる攪拌が十分に行われるようになることから、微細な被めっき物にも良好なめっきを行うことが可能になる。   In addition, even when using a stirring medium with a size larger than that of the object to be plated, since the stirring medium is sufficiently stirred, it is possible to perform good plating on fine objects to be plated. become.

また、被めっき物に比べて寸法の大きい攪拌メディアを用いることが可能になることから、被めっき物の寸法に対応する、寸法の小さい撹拌メディアを用いる場合に比べて、コストの削減を図ることが可能になる。   In addition, since it becomes possible to use a stirring medium having a size larger than that of the object to be plated, the cost can be reduced compared to the case of using a stirring medium having a smaller dimension corresponding to the dimension of the object to be plated. Is possible.

また、本発明のめっき方法は、上述の本発明のバレルめっき用治具を用いてめっきを行うようにしているので、寸法の小さい被めっき物にめっきを施す場合にも、効率よく、確実に、良好なめっきを施すことが可能になる。   In addition, since the plating method of the present invention performs plating using the above-described barrel plating jig of the present invention, it is efficient and reliable even when plating on a workpiece having a small size. It is possible to perform good plating.

なお、容器本体が密閉可能で、めっき液を内部に保持することができるように構成されたバレルめっき用治具を用いてめっきを行う場合には、例えば、容器本体内にカソードとアノードを位置させ、かつ、導電メディアと攪拌メディアと被めっき物とめっき液が投入された状態のバレルめっき用治具を回転させつつ、アノードとカソードの間に通電することによって、めっきを行うことができる。   When plating is performed using a barrel plating jig that is configured so that the container body can be sealed and the plating solution can be held inside, for example, the cathode and anode are positioned in the container body. In addition, plating can be performed by energizing the anode and the cathode while rotating the barrel plating jig in which the conductive medium, the stirring medium, the object to be plated, and the plating solution are charged.

また、容器本体の少なくとも一部が、めっき液は通過させるが、他の固形物である被めっき物、攪拌メディア、導電メディアは通過させない材料で構成されているバレルめっき用治具を用いてめっきを行う場合には、例えば、容器本体内にカソードを位置させ、かつ、導電メディアと攪拌メディアと被めっき物を投入した状態で、バレルめっき用治具を、アノードが浸漬されためっき液中で回転させつつ、アノードとカソードの間に通電することによって、めっきを行うことができる。   In addition, at least a part of the container body is plated using a barrel plating jig made of a material that allows the plating solution to pass but does not allow other solid objects to be plated, stirring media, and conductive media to pass. For example, in the plating solution in which the anode is immersed, the cathode is positioned in the container body, and the conductive medium, the agitation medium, and the object to be plated are placed. Plating can be performed by energizing between the anode and the cathode while rotating.

また、本発明の電子部品の製造方法は、上記本発明のめっき方法を用いて、電子部品素子を被めっき物としてめっきを行う工程を備えているので、例えば、外部端子電極などに良好なめっきが施された、信頼性に高い電子部品を効率よく製造することができる。電子部品が寸法の小さいものである場合に特に有意義である。   Moreover, since the manufacturing method of the electronic component of the present invention includes a step of performing plating using the electronic component element as an object to be plated using the plating method of the present invention, for example, good plating for an external terminal electrode or the like. It is possible to efficiently manufacture a highly reliable electronic component to which is applied. This is particularly significant when the electronic component has a small size.

本発明の実施形態1にかかるバレルめっき用治具を用いてめっきを行う方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the method to plate using the jig | tool for barrel plating concerning Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施形態1にかかるバレルめっき用治具の構成を示す正面断面図である。It is front sectional drawing which shows the structure of the jig | tool for barrel plating concerning Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施形態1にかかるバレルめっき用治具を構成する容器本体を示す図であって、(a)は平面図、(b)は正面図、(c)は底面図である。It is a figure which shows the container main body which comprises the jig | tool for barrel plating concerning Embodiment 1 of this invention, Comprising: (a) is a top view, (b) is a front view, (c) is a bottom view. 本発明のバレルめっき用治具を構成する仕切部材を示す図であり、(a)は蓋部材に保持されている状態の正面図、(b)は仕切部材の底面図である。It is a figure which shows the partition member which comprises the jig | tool for barrel plating of this invention, (a) is a front view of the state currently hold | maintained at the cover member, (b) is a bottom view of a partition member. 従来のバレルめっき用の攪拌容器を示す図である。It is a figure which shows the stirring container for the conventional barrel plating. 従来のバレルめっき方法を説明する図である。It is a figure explaining the conventional barrel plating method.

以下に、本発明の実施形態を示して、本発明の特徴とするところをさらに詳しく説明する。   In the following, embodiments of the present invention will be shown to describe the features of the present invention in more detail.

[実施形態1]
この実施形態1では、代表的なチップ型電子部品である積層セラミックコンデンサ(素子)を被めっき物とし、その表面に形成された外部電極にめっきを施す場合に用いられるバレルめっき用治具を例にとって説明する。
[Embodiment 1]
In the first embodiment, a multilayer ceramic capacitor (element), which is a typical chip-type electronic component, is used as an object to be plated, and an example of a barrel plating jig used when plating is performed on an external electrode formed on the surface. I will explain to you.

図1は本発明の実施形態1にかかるバレルめっき用治具を用いてめっきを行う方法を説明するための図、図2は本発明のバレルめっき用治具の正面断面図である。
また、図3は実施形態1にかかるバレルめっき用治具を構成する容器本体の構成を示す図、図4(a)は蓋部材に保持されている状態の仕切部材を示す正面図、(b)は仕切部材の底面図である。
FIG. 1 is a view for explaining a method of performing plating using a barrel plating jig according to Embodiment 1 of the present invention, and FIG. 2 is a front sectional view of the barrel plating jig of the present invention.
3 is a diagram showing the configuration of the container body constituting the barrel plating jig according to the first embodiment. FIG. 4A is a front view showing the partition member held by the lid member. ) Is a bottom view of the partition member.

図1〜4に示すように、このバレルめっき用治具Aは、内部に被めっき物1と、導電メディア2と、攪拌メディア3とが収容され、回転軸Xが水平方向(水平面)Hに対して所定の角度で傾斜して回転する容器本体10と、容器本体10の内部を、底部5側に近い方の第1領域11と、底部5から遠い方の第2領域12に仕切る仕切部材20と、容器本体10の開口を封止する蓋部材30を備えている。   As shown in FIGS. 1 to 4, the jig A for barrel plating contains an object 1 to be plated, a conductive medium 2, and a stirring medium 3, and the rotation axis X is in a horizontal direction (horizontal plane) H. A container body 10 that is inclined and rotated at a predetermined angle; a partition member that divides the interior of the container body 10 into a first region 11 closer to the bottom 5 side and a second region 12 farther from the bottom 5 20 and a lid member 30 that seals the opening of the container body 10.

そして、上記仕切部材20は、支柱21を介して蓋部材30に取り付けられており、蓋部材30を容器本体20に固定することにより、仕切部材20が容器本体10内の所定の位置に保持されるように構成されている。   The partition member 20 is attached to the lid member 30 via the support column 21, and the partition member 20 is held at a predetermined position in the container body 10 by fixing the lid member 30 to the container body 20. It is comprised so that.

なお、蓋部材30は、容器本体10の開口部に取り付けることが可能な形状であれば種々の形状とすることが可能で、例えば、容器本体10の平面形状に対応する六角形としてもよく、また円形とすることも可能である。   The lid member 30 can have various shapes as long as the lid member 30 can be attached to the opening of the container body 10, for example, a hexagon corresponding to the planar shape of the container body 10, It can also be circular.

なお、蓋部材30には、後述するように、被めっき物1、導電メディア2、攪拌メディア3、めっき液4などを容器本体10に投入、収容するための貫通口30aが設けられている。   As will be described later, the lid member 30 is provided with a through-hole 30a for charging and storing the object to be plated 1, the conductive medium 2, the stirring medium 3, the plating solution 4 and the like in the container body 10.

被めっき物1は、上述のように、めっきを施すべき外部電極が表面に形成されたチップ型の積層セラミックコンデンサ素子である。ただし、被めっき物1は積層セラミックコンデンサ素子に限られるものではなく、外部電極が表面に形成された電子部品であればよい。例えば、被めっき物1は、コイル部品であってもよく、サーミスタであってもよい。   As described above, the object to be plated 1 is a chip-type multilayer ceramic capacitor element in which external electrodes to be plated are formed on the surface. However, the object to be plated 1 is not limited to the multilayer ceramic capacitor element, and may be an electronic component having an external electrode formed on the surface. For example, the workpiece 1 may be a coil component or a thermistor.

また、導電メディア2としては、表面が導電材料からなる球状のメディア、例えば、鉄や銅、ニッケルなどの金属製の球状体が用いられる。なお、導電メディア2を構成する材料に特別の制約はないが、めっき液に溶出するおそれのない材料からなるものを用いることが望ましい。   Further, as the conductive medium 2, a spherical medium whose surface is made of a conductive material, for example, a metal spherical body such as iron, copper, or nickel is used. Although there are no particular restrictions on the material constituting the conductive medium 2, it is desirable to use a material made of a material that is not likely to elute into the plating solution.

また、攪拌メディア3としては、表面が非導電材料からなるメディア、例えば、セラミック製の球状体が用いられる。なお、攪拌メディア3を構成する材料に特別の制約はなく、他の材料を用いることも可能である。   As the stirring medium 3, a medium whose surface is made of a non-conductive material, for example, a ceramic spherical body is used. In addition, there is no special restriction | limiting in the material which comprises the stirring medium 3, Other materials can also be used.

また、この実施形態にかかるバレルめっき用治具Aにおいて、容器本体10は、図2および3に示すように、正六角筒状で、底部5と、本体胴6を構成する側部7との間には傾斜部8を備えている。
また、容器本体10は、回転軸Xが正六角筒状の中心を通るように構成されている。
Moreover, in the barrel plating jig A according to this embodiment, the container body 10 is a regular hexagonal cylinder as shown in FIGS. 2 and 3, and includes a bottom portion 5 and side portions 7 constituting the body barrel 6. An inclined portion 8 is provided between them.
The container body 10 is configured such that the rotation axis X passes through the center of a regular hexagonal cylinder.

また、図4(a),(b)に示すように、支柱21を介して蓋部材30に取り付けられている仕切部材20の平面形状は正六角形とされている。   Moreover, as shown to Fig.4 (a), (b), the planar shape of the partition member 20 attached to the cover member 30 via the support | pillar 21 is a regular hexagon.

そして、仕切部材20は、容器本体10の、側部7と傾斜部8の境界部の内周面との間に、被めっき物1は通過させるが、攪拌メディア3は通過させない間隙Gが形成されるような寸法、構造とされている。
なお、この実施形態にかかるバレルめっき用治具Aにおいては、上記間隙Gが、導電メディア2も通過させるような大きさとされている。
The partition member 20 forms a gap G between the side wall 7 and the inner peripheral surface of the boundary portion of the inclined portion 8 of the container body 10 while allowing the workpiece 1 to pass but not allowing the stirring medium 3 to pass. The dimensions and structure are as described above.
In the barrel plating jig A according to this embodiment, the gap G is sized so as to allow the conductive media 2 to pass therethrough.

また、仕切部材20は、容器本体10の底部5と対向する面20aが、容器本体10の底部5に向かって突出した角錐面形状となるように構成されている。
これは、仕切部材20の容器本体10の底部5と対向する面20aを、容器本体10の底部5に向かって突出した角錐面形状とすることにより、被めっき物1、導電メディア2、および攪拌メディア3の流れを、容器本体10の底部方向に誘導し、回転軸X方向の撹拌効率を向上させ、被めっき物1の滞留域を減少させることを意図したものである。
Further, the partition member 20 is configured such that a surface 20 a facing the bottom portion 5 of the container body 10 has a pyramidal surface shape protruding toward the bottom portion 5 of the container body 10.
This is because the surface 20a of the partition member 20 facing the bottom 5 of the container body 10 has a pyramidal shape protruding toward the bottom 5 of the container body 10, so that the object to be plated 1, the conductive medium 2, and the stirring are performed. It is intended to guide the flow of the media 3 toward the bottom of the container body 10, improve the stirring efficiency in the direction of the rotation axis X, and reduce the staying area of the workpiece 1.

また、この実施形態のバレルめっき用治具Aにおいては、上述の第1領域11と第2領域12の両方に攪拌メディア3が転動可能に収容され、かつ、第1領域と第2領域に収容された攪拌メディア3はそれぞれ、仕切部材20によって一方の領域に転動可能に保持され、他方の領域には移動することがないように構成されている。   Further, in the barrel plating jig A of this embodiment, the stirring medium 3 is movably accommodated in both the first region 11 and the second region 12 described above, and in the first region and the second region. Each of the agitation media 3 accommodated is configured to be able to roll in one area by the partition member 20 and not move to the other area.

また、仕切部材20の周縁部には、容器本体20の傾斜部8に向かう方向に突出する返し部20bが設けられている。返し部2は、基端側から先端側に向かって厚みが薄くなるように構成されている。   Further, a return portion 20 b that protrudes in the direction toward the inclined portion 8 of the container body 20 is provided at the peripheral edge portion of the partition member 20. The return portion 2 is configured such that the thickness decreases from the proximal end side toward the distal end side.

この実施形態の場合のように、返し部20bを備えた構成とすることにより、例えば、図1,2に示すように、仕切部材20に仕切られた第1領域11と第2領域12の、仕切部材20の周縁部に近い位置に一対の攪拌メディア3が位置する場合に、攪拌メディア3を、第1領域11から第2領域12に、あるいは第2領域12から第1領域11に行き来させることなく、かつ、仕切部材20と、容器本体10の側部7と傾斜部8の境界部との間に、攪拌メディア3が挟み込まれてしまうことを回避しつつ、互いに極めて近接し、あるいは接触することが可能な状態で、容器本体10の側部7と傾斜部8の境界部近傍に位置させることが可能になる。そのため、被めっき物1、導電メディア2、および攪拌メディア3の良好な接触を確保することが可能になる。   As shown in FIGS. 1 and 2, for example, as shown in FIGS. 1 and 2, the first region 11 and the second region 12 partitioned by the partition member 20 are configured by including the return portion 20 b as in the case of this embodiment. When the pair of stirring media 3 is located near the peripheral edge of the partition member 20, the stirring media 3 is moved back and forth from the first region 11 to the second region 12 or from the second region 12 to the first region 11. Without contact between the partition member 20 and the boundary portion between the side portion 7 and the inclined portion 8 of the container body 10 and in close proximity to or in contact with each other. In a state where it can be performed, the container body 10 can be positioned in the vicinity of the boundary portion between the side portion 7 and the inclined portion 8. Therefore, it is possible to ensure good contact between the object to be plated 1, the conductive medium 2, and the stirring medium 3.

また、図1,2に示すように、容器本体20の傾斜部8の、容器本体10の側部7に対する傾斜角度θ1は、10°以上、80°以下であって、この実施形態では約45°とされている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the inclination angle θ1 of the inclined portion 8 of the container body 20 with respect to the side portion 7 of the container body 10 is not less than 10 ° and not more than 80 °, and is about 45 in this embodiment. It is °.

また、バレルめっき用治具Aは、めっきを行う場合に、回転軸Xが水平方向(水平面)Hに対して所定の角度をもつように傾斜させて回転させるように構成されている。そして、この実施形態では、図1に示すように、回転軸Xの水平方向Hに対する傾斜角度θ2が5°以上、40°以下であって、この実施形態では上記容器本体20の傾斜部8の、容器本体10の側部7に対する傾斜角度θ1の約1/2の約20°とされている。   Further, the barrel plating jig A is configured to rotate while being inclined so that the rotation axis X has a predetermined angle with respect to the horizontal direction (horizontal plane) H when performing plating. In this embodiment, as shown in FIG. 1, the inclination angle θ2 of the rotation axis X with respect to the horizontal direction H is 5 ° or more and 40 ° or less. In this embodiment, the inclination portion 8 of the container body 20 is The angle of the inclination angle θ <b> 1 with respect to the side portion 7 of the container body 10 is about 20 °.

このように、容器本体10の回転軸Xの水平方向Hに対する傾斜角度θ2を、傾斜部8の側部7に対する傾斜角度θ1の1/2とすることにより、図1に示すように、側部7と傾斜部8の境界部が谷の底となり、水平方向Hと側部7のなすf角度θ3と、水平方向Hと傾斜部8がなす角度θ4が同一の角度となるようなV字状の領域に、被めっき物1、導電メディア2、および攪拌メディア3が溜まりながら転動する。そして、第1領域11と第2領域12の両方に存在する攪拌メディア3により、十分に攪拌が行われるとともに、導電メディア2と被めっき物1が十分に接触して良好なめっきが行われる。   Thus, by setting the inclination angle θ2 with respect to the horizontal direction H of the rotation axis X of the container body 10 to be ½ of the inclination angle θ1 with respect to the side part 7 of the inclination part 8, as shown in FIG. 7 and the inclined portion 8 is the bottom of the valley, and the V angle formed by the horizontal direction H and the side portion 7 is the same angle as the f angle θ3 formed by the horizontal direction H and the inclined portion 8. In this area, the object to be plated 1, the conductive medium 2, and the stirring medium 3 roll while being accumulated. The agitation media 3 present in both the first region 11 and the second region 12 sufficiently agitate, and the conductive media 2 and the workpiece 1 are sufficiently in contact with each other to perform satisfactory plating.

なお、この実施形態のバレルめっき用治具Aにおいては、容器本体10が密閉可能で、めっき液を内部に保持することができるように構成されている。   The barrel plating jig A of this embodiment is configured so that the container body 10 can be sealed and the plating solution can be held inside.

このバレルめっき用治具Aを用いてめっきを行う場合、まず、第1領域11に収容すべき攪拌メディア3を容器本体10に投入した後、容器本体10に蓋部材30を取り付けるとともに、仕切部材20を容器本体10の内部の所定の位置に配設する。   When plating is performed using the barrel plating jig A, first, the stirring medium 3 to be accommodated in the first region 11 is put into the container body 10, and then the lid member 30 is attached to the container body 10, and the partition member 20 is disposed at a predetermined position inside the container body 10.

それから、蓋部材30に設けた貫通口30aから、第2領域12に収容すべき攪拌メディア3と、被めっき物1と、導電メディア2と、めっき液4とを投入する。   Then, the agitating medium 3 to be accommodated in the second region 12, the object to be plated 1, the conductive medium 2, and the plating solution 4 are introduced from the through hole 30 a provided in the lid member 30.

これにより、被めっき物1と、導電メディア2と、めっき液4は上述の間隙Gを経て第1領域11と第2領域12を行き来することが可能に容器本体10内に収容され、また、第1領域11および第2領域12のそれぞれに収容された攪拌メディア4は、第1領域11および第2領域12を行き来することなく、それぞれの領域に転動可能に保持される。   Thereby, the to-be-plated object 1, the conductive media 2, and the plating solution 4 are accommodated in the container body 10 so as to be able to go back and forth between the first region 11 and the second region 12 through the gap G described above, The stirring media 4 accommodated in each of the first region 11 and the second region 12 are held so as to be able to roll in the respective regions without going back and forth between the first region 11 and the second region 12.

なお、容器本体10に蓋部材30を取り付けて、仕切部材20を容器本体10の内部の所定の位置に配設する前に、第1領域11に収容すべき攪拌メディア3の所定量を投入しておくことを除いては、被めっき物1、導電メディア2、第2領域11に収容すべき攪拌メディア3、およびめっき液4を投入する順序に制約はない。   Note that a predetermined amount of the stirring medium 3 to be accommodated in the first region 11 is charged before the lid member 30 is attached to the container body 10 and the partition member 20 is disposed at a predetermined position inside the container body 10. Except for the above, there is no restriction on the order in which the object to be plated 1, the conductive medium 2, the stirring medium 3 to be accommodated in the second region 11 and the plating solution 4 are charged.

このバレルめっき用治具Aを用いてめっきを行う場合には、特に図示しないが、例えば、容器本体内にカソードとアノードを位置させ、かつ、本体容器内に、被めっき物と、導電メディアと、攪拌メディアと、めっき液とが収容された状態で、バレルめっき用治具を回転させつつ、アノードとカソードの間に通電することによってめっきが行われる。   When plating is performed using this barrel plating jig A, for example, although not illustrated, for example, a cathode and an anode are positioned in the container body, and an object to be plated, a conductive medium, and the like are disposed in the body container. The plating is performed by energizing between the anode and the cathode while rotating the barrel plating jig while the stirring medium and the plating solution are accommodated.

この実施形態のバレルめっき用治具Aは、上述のように構成されているので、本体容器内に、被めっき物と、導電メディアと、攪拌メディアと、めっき液とを収容して回転させるだけで、被めっき物1を効率よく攪拌して、品質の高いめっきを行うことができる。   Since the barrel plating jig A of this embodiment is configured as described above, the object to be plated, the conductive media, the stirring media, and the plating solution are only accommodated and rotated in the main body container. Thus, the object to be plated 1 can be efficiently stirred to perform high-quality plating.

すなわち、容器本体10が、側部7と底部5の間に傾斜部8を備え、かつ、内部に仕切部材20が配設されているとともに、容器本体10を所定の角度で傾斜させて回転させるようにしているので、第1領域11および第2領域12のそれぞれに、転動可能に収容された攪拌メディア3により、攪拌メディア3が被めっき物群から浮き上がって攪拌が不十分になることを抑制し、良好なめっきを行うことが可能になる。   That is, the container body 10 includes the inclined portion 8 between the side portion 7 and the bottom portion 5, and the partition member 20 is disposed therein, and the container body 10 is rotated at a predetermined angle. As a result, the stirring medium 3 is lifted from the group of objects to be plated by the stirring medium 3 accommodated in a rollable manner in each of the first region 11 and the second region 12. It is possible to suppress and perform good plating.

また、この実施形態のバレルめっき用治具Aは上述のように構成されているので、大きい攪拌メディア3を用いた場合にも、被めっき物1を十分に攪拌することが可能になるため、導電メディア2として、被めっき物1の寸法の2倍以上の大径のメディアを用いることができる。   Further, since the barrel plating jig A of this embodiment is configured as described above, even when a large stirring medium 3 is used, it is possible to sufficiently stir the workpiece 1, As the conductive medium 2, a medium having a diameter larger than twice the dimension of the workpiece 1 can be used.

また、従来は、導電メディアの径を、被めっき物1の寸法の±50μm程度にすることが好ましかったが、この実施形態のバレルめっき用治具Aを用いることにより、導電メディアの径を、被めっき物1の寸法の±150μm以上にまで広げることが可能になる。   Conventionally, it has been preferable to set the diameter of the conductive medium to about ± 50 μm of the dimension of the object 1 to be plated. However, by using the barrel plating jig A of this embodiment, the diameter of the conductive medium can be reduced. Can be expanded to ± 150 μm or more of the dimension of the workpiece 1.

そのため、被めっき物1の寸法が小さいときに、被めっき1物と同等の寸法の、小さい攪拌メディアを用いる場合に比べて、コストの削減を図ることができる。   Therefore, when the dimension of the workpiece 1 is small, the cost can be reduced as compared with the case where a small stirring medium having the same dimension as that of the workpiece 1 is used.

具体的には、この実施形態のバレルめっき用治具Aにおいては、被めっき物1の寸法が、長さ1.0mm、幅0.5mmである場合に、導電メディア2として、直径が1.5mmのものを用い、攪拌メディア3として、直径が7.8mmのものを用いて良好なめっきを行うことができた。   Specifically, in the barrel plating jig A of this embodiment, when the dimension of the workpiece 1 is 1.0 mm in length and 0.5 mm in width, the conductive medium 2 has a diameter of 1. Good plating could be performed using a 5 mm diameter stirring medium 3 having a diameter of 7.8 mm.

ところで、導電メディアや被めっき物よりも寸法の大きい攪拌メディアを用いた場合、寸法の小さい導電メディアや被めっき物は、容器本体の下方に溜まり、寸法の大きい攪拌メディアが、導電メディアや被めっき物などの上に溜まりやすくなる。そして、攪拌メディアが被めっき物群や導電メディア群の表面に浮いた状態になると、被めっき物を十分にほぐし、攪拌することが困難になる。   By the way, when an agitating medium having a size larger than that of the conductive medium or the object to be plated is used, the conductive medium or the object to be plated having a smaller size is accumulated below the container body, and the agitating medium having a larger size is not removed from the conductive medium or the object to be plated. It becomes easy to collect on things. And when the stirring media is in a state of floating on the surface of the group of objects to be plated or the group of conductive media, it becomes difficult to sufficiently loosen and agitate the objects to be plated.

このように、攪拌メディアが被めっき物群や導電メディア群の表面に浮いた状態になりやすいのは、主として、被めっき物や導電メディアは攪拌メディアに比べて寸法が小さく、容器本体10に充填したときの空隙が小さいこと、導電メディアは球状で流動性が高いことから、寸法の大きい攪拌メディアの間に形成される隙間から下方に移動しやすいことなどによる。   As described above, the stirring medium tends to float on the surface of the group of objects to be plated or the group of conductive media. Mainly, the object to be plated or the conductive medium is smaller in size than the stirring medium, and the container body 10 is filled. This is because the gap is small, the conductive medium is spherical and has high fluidity, and is easily moved downward from the gap formed between the stirring media having large dimensions.

また、導電メディアと被めっき物との関係でみると、導電メディアは球状で摩擦抵抗が少ないことから、被めっき物よりも上方に移動しやすい傾向がある。
そして、上述のように、攪拌メディアが上方に位置し、被めっき物との接触機会が少なくなると、被めっき物をほぐし、攪拌することが十分にできなくなる。
Further, in terms of the relationship between the conductive medium and the object to be plated, the conductive medium has a spherical shape and less frictional resistance, and thus tends to move upward than the object to be plated.
As described above, when the stirring medium is positioned above and the contact opportunity with the object to be plated decreases, the object to be plated cannot be loosened and stirred sufficiently.

これに対し、本発明のバレルめっき用治具Aの場合、被めっき物1および導電メディア2は通過するが、攪拌メディア3は通過させない仕切部材20を備えており、仕切部材20により仕切られた、底部5に近い第1領域11と、底部5から遠い第2領域12の両方に、転動可能の攪拌メディア3を収容するようにしているので、容器本体10の第2領域よりも底部側に近い第1領域においても、被めっき物1を攪拌メディア3により十分に攪拌するとともに、第2領域12においても被めっき物1を攪拌メディア3により十分に攪拌することが可能になり、良好なめっきを行うことができる。   On the other hand, in the case of the barrel plating jig A of the present invention, the workpiece 1 and the conductive media 2 pass, but the stirring media 3 is not allowed to pass, and the partition member 20 is partitioned. Since the rollable stirring medium 3 is accommodated in both the first region 11 close to the bottom 5 and the second region 12 far from the bottom 5, the bottom side of the container body 10 is closer to the bottom. Even in the first region close to 2, the object to be plated 1 is sufficiently stirred by the stirring medium 3, and the object to be plated 1 can be sufficiently stirred by the stirring medium 3 in the second region 12, which is favorable. Plating can be performed.

また、上述のように、仕切部材20の容器本体10の底部5と対向する面20aが、容器本体10の底部5に向かって突出した角錐面形状を有するようにしているので、被めっき物1、導電メディア2、および攪拌メディア3の流れを、容器本体10の底部方向に誘導し、回転軸X方向の撹拌効率を向上させ、被めっき物1の滞留域を減少させることが可能なるため、被めっき物1どうしがめっき中に互いにくっついてしまうことを効果的に防止することができる。   Moreover, since the surface 20a facing the bottom 5 of the container body 10 of the partition member 20 has a pyramidal surface shape protruding toward the bottom 5 of the container body 10 as described above, the workpiece 1 Since the flow of the conductive medium 2 and the stirring medium 3 is guided toward the bottom of the container body 10, the stirring efficiency in the rotation axis X direction can be improved, and the residence area of the object 1 can be reduced. It is possible to effectively prevent the objects to be plated 1 from sticking to each other during plating.

また、この実施形態にかかるバレルめっき用治具Aでは、仕切部材20の周縁部に、容器本体10の傾斜部8に向かう方向に突出する、基端側から先端側に向かって厚みが薄くなる返し部20bを設けるようにしているので、攪拌メディア3の通過を確実に阻止しつつ、仕切部材20の周縁部と、容器本体10の側部7と傾斜部8の境界部の内周面との間の間隙Gの近傍における、被めっき物1や導電メディア2などの流動を妨げることなく、被めっき物1の攪拌を確実に行って、信頼性の高いめっきを行うことができる。   Moreover, in the barrel plating jig A according to this embodiment, the thickness decreases from the proximal end side toward the distal end side, protruding in the direction toward the inclined portion 8 of the container body 10 at the peripheral edge portion of the partition member 20. Since the return part 20b is provided, the peripheral part of the partition member 20 and the inner peripheral surface of the boundary part of the side part 7 and the inclined part 8 of the container body 10 are reliably blocked while the stirring medium 3 is prevented from passing therethrough. The plating object 1 can be surely agitated and reliable plating can be performed without hindering the flow of the plating object 1 and the conductive media 2 in the vicinity of the gap G between the two.

すなわち、被めっき物1および導電メディア3よりも寸法の大きい攪拌メディア3は、仕切部材20により、第1領域11と第2領域12の両方の領域に転動可能に保持されるため、第1領域11と第2領域12の両方で、被めっき物1のほぐしと攪拌を行うことが可能になるとともに、被めっき物1と導電メディア2は、第1領域11と第2領域12の間を自由に行き来して互いに接触し、容器本体10の側部7と傾斜部8の間のV字状の谷の部分で、より密に接触するため、確実に良好なめっきを行うことが可能になる。
また、被めっき物1が寸法の小さい電子部品素子である場合にも効率よく、良好なめっきを行うことができる。
That is, the stirring medium 3 having a size larger than that of the workpiece 1 and the conductive medium 3 is held by the partition member 20 so as to be able to roll in both the first region 11 and the second region 12. In both the region 11 and the second region 12, the object to be plated 1 can be loosened and agitated, and the object 1 and the conductive medium 2 are interposed between the first region 11 and the second region 12. Freely come and go to contact each other, and more closely contact at the V-shaped valley between the side 7 and the inclined portion 8 of the container body 10, so that it is possible to reliably perform good plating Become.
Further, even when the object to be plated 1 is an electronic component element having a small size, efficient plating can be performed efficiently.

なお、上記実施形態では、容器本体として、正六角筒状で、回転軸Xが正六角筒状の中心を通るように構成された容器本体を用いたが、容器本体は、角筒状であれば、その角数に特別の制約はなく、6角筒よりも少ない角数の角筒としてもよく、また、6角より多い角数の角筒とすることも可能である。   In the above embodiment, the container body is a regular hexagonal cylinder and the rotation axis X passes through the center of the regular hexagonal cylinder. However, the container body may be a rectangular cylinder. For example, the number of corners is not particularly limited, and a square tube having a smaller number of corners than that of a hexagonal tube may be used, or a square tube having a number of corners larger than six may be used.

また、本発明のバレルめっき用治具は、容器本体の少なくとも一部が、めっき液は通過させるが、他の固形物である被めっき物、導電メディア、および攪拌メディアは通過させない材料で形成されている構成とすることも可能である。そして、そのように構成されたバレルめっき用治具Aを用いてめっきを行うにあたっては、特に図示しないが、例えば、容器本体内にカソードを位置させ、かつ、導電メディアと攪拌メディアと被めっき物を容器本体内に投入した状態で、バレルめっき用治具を、アノードが浸漬されためっき液中で回転させつつ、アノードとカソードの間に通電することで、めっきを行うことができる。   In addition, the barrel plating jig of the present invention is formed of a material in which at least a part of the container body allows the plating solution to pass but does not allow other solid objects to be plated, conductive media, and stirring media to pass. It is also possible to have a configuration. In performing plating using the barrel plating jig A configured as described above, for example, although not shown, for example, the cathode is positioned in the container body, and the conductive medium, the stirring medium, and the object to be plated In a state in which is put into the container body, plating can be performed by energizing between the anode and the cathode while rotating the barrel plating jig in the plating solution in which the anode is immersed.

なお、上記実施形態では、仕切部材20で仕切られた第1領域11と第2領域12の両方に攪拌メディア3を存在させるように構成しているが、攪拌メディア3を第1領域11にのみ存在させるように構成することも可能である。その場合、攪拌メディア3と被めっき物1とは第1領域11で接触して攪拌されるが、第2領域では攪拌メディア3と被めっき物1との接触はなくなる。しかし被めっき物1は第1領域11と第2領域12を行き来することができるため、第1領域11だけでも、しかるべき攪拌を行うことが可能で、良好なめっきを行うことができる。   In the above embodiment, the stirring medium 3 is configured to exist in both the first region 11 and the second region 12 partitioned by the partition member 20, but the stirring medium 3 is provided only in the first region 11. It can also be configured to exist. In that case, the stirring medium 3 and the workpiece 1 are contacted and stirred in the first region 11, but the contact between the stirring media 3 and the workpiece 1 is lost in the second region. However, since the object to be plated 1 can move back and forth between the first region 11 and the second region 12, even with the first region 11 alone, appropriate stirring can be performed and good plating can be performed.

なお、上記実施形態では、チップ型の積層セラミックコンデンサ素子を被めっき物として、その外部電極にめっきを行う場合を例にとって説明したが、被めっき物の種類やめっきすべき対象に特別の制約はなく、例えば、積層コイル部品素子を被めっき物として、その表面導体にめっきを施す場合などにも適用することが可能である。   In the above embodiment, the case where a chip-type multilayer ceramic capacitor element is to be plated and the external electrode is plated has been described as an example, but there are special restrictions on the type of plating object and the object to be plated. For example, the present invention can also be applied to the case where the laminated coil component element is plated and the surface conductor is plated.

なお、本発明は、その他の点においても、上記実施形態に限定されるものではなく、めっき条件などに関し、本発明の範囲内において、種々の応用、変形を加えることが可能である。   In addition, the present invention is not limited to the above-described embodiment in other points, and various applications and modifications can be made within the scope of the present invention with respect to plating conditions and the like.

1 被めっき物
2 導電メディア
3 攪拌メディア
4 めっき液
5 容器本体の底部
6 容器本体の本体胴
7 本体胴を構成する側部
8 傾斜部
10 容器本体
11 第1領域
12 第2領域
20 仕切部材
20a 仕切部材の容器本体の底部と対向する面
20b 仕切部材に形成された返し部
21 支柱
30 蓋部材
30a 貫通口
A バレルめっき用治具
G 間隙
H 水平方向(水平面)
X 回転軸X
θ1 容器本体の傾斜部の側部に対する傾斜角度
θ2 回転軸の水平方向に対する傾斜角度
θ3 水平方向と側部のなす角度
θ4 水平方向と傾斜部がなす角度
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 To-be-plated object 2 Conductive medium 3 Stirring medium 4 Plating solution 5 Bottom part of container main body 6 Main body cylinder of container main body 7 Side part which comprises main body cylinder 8 Inclined part 10 Container main body 11 1st area | region 12 2nd area | region 20 Partition member 20a Surface facing the bottom of the container body of the partition member 20b Return portion formed on the partition member 21 Column 30 Lid member 30a Through hole A Barrel plating jig G Gap H Horizontal direction (horizontal plane)
X Rotation axis X
θ1 Inclination angle relative to the side of the inclined portion of the container body θ2 Inclination angle relative to the horizontal direction of the rotation axis θ3 Angle formed between the horizontal direction and the side portion θ4 Angle formed between the horizontal direction and the inclined portion

Claims (11)

内部に被めっき物と、表面が導電材料からなる導電メディアと、表面が非導電材料からなる攪拌メディアとが収容され、回転軸が水平方向に対して所定の角度で傾斜して回転する、有底、角筒状で、底部と胴体部分を構成する側部との間に傾斜部を備えた容器本体と、
前記容器本体の、前記側部と前記傾斜部の境界部の内周面との間に、少なくとも前記被めっき物は通過させるが、前記攪拌メディアは通過させない間隙が形成されるように配設され、前記容器本体を前記回転軸方向に沿う2つの領域であって、前記容器本体の前記底部側に近い方の第1領域と、前記底部から遠い方の第2領域に仕切る仕切部材と
を具備し、
少なくとも前記第1領域に、前記攪拌メディアが転動可能に収容されるように構成されていること
を特徴とするバレルめっき用治具。
An object to be plated, a conductive medium whose surface is made of a conductive material, and a stirring medium whose surface is made of a non-conductive material are housed therein, and the rotating shaft rotates at a predetermined angle with respect to the horizontal direction. A container body having a bottom, a rectangular tube shape, and an inclined portion between a bottom portion and a side portion constituting a body portion;
Between the side part of the container main body and the inner peripheral surface of the boundary part of the inclined part, it is arranged so that a gap is formed so that at least the object to be plated is allowed to pass but the stirring medium is not allowed to pass. A partition member that divides the container main body into two regions along the rotation axis direction, the first region closer to the bottom side of the container main body, and the second region farther from the bottom. And
A barrel plating jig, wherein the stirring medium is accommodated in at least the first region so as to be able to roll.
前記第2領域にも前記攪拌メディアが転動可能に収容されるように構成されていることを特徴とする請求項1記載のバレルめっき用治具。   The barrel plating jig according to claim 1, wherein the stirring medium is accommodated in the second region so as to be able to roll. 前記導電メディアが、前記仕切部材と前記境界部の内周面との間の間隙を経て、前記第1領域と前記第2領域の間を移動できるように構成されていることを特徴とする請求項1または2記載のバレルめっき用治具。   The conductive medium is configured to be movable between the first region and the second region through a gap between the partition member and an inner peripheral surface of the boundary portion. Item 3. A jig for barrel plating according to item 1 or 2. 前記容器本体の前記傾斜部の、前記容器本体の側部に対する傾斜角度θ1が10°以上、80°以下であり、前記回転軸の前記水平方向に対する傾斜角度θ2が5°以上、40°以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のバレルめっき用治具。   The inclination angle θ1 of the inclined portion of the container main body with respect to the side portion of the container main body is 10 ° or more and 80 ° or less, and the inclination angle θ2 of the rotating shaft with respect to the horizontal direction is 5 ° or more and 40 ° or less. The barrel plating jig according to claim 1, wherein the barrel plating jig is provided. 前記仕切部材の、前記容器本体の前記底部と対向する面が、前記容器本体の前記底部に向かって突出した角錐面形状を有していることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のバレルめっき用治具。   The surface of the partition member facing the bottom portion of the container body has a pyramidal surface shape protruding toward the bottom portion of the container body. The jig for barrel plating as described. 前記仕切部材の周縁部には、前記容器本体の前記傾斜部に向かう方向に突出する、先端側に向かって厚みが薄くなる返し部が設けられていることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のバレルめっき用治具。   The peripheral portion of the partition member is provided with a return portion that protrudes in a direction toward the inclined portion of the container main body and decreases in thickness toward the distal end side. The barrel plating jig according to any one of the above. 前記仕切部材が、前記容器本体の前記底部と対向して設けられた開口部を封止するための蓋部材に支柱を介して取り付けられていることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のバレルめっき用治具。   The said partition member is attached to the cover member for sealing the opening provided facing the said bottom part of the said container main body via the support | pillar. A jig for barrel plating as described in 1. 前記容器本体が密閉可能で、前記めっき液を内部に保持することができるように構成されていることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のバレルめっき用治具。   The barrel plating jig according to any one of claims 1 to 7, wherein the container main body is sealable and configured to hold the plating solution therein. 前記容器本体の少なくとも一部が、前記めっき液は通過させるが、他の固形物である前記被めっき物、前記導電メディア、および前記攪拌メディアは通過させない材料で構成されていることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のバレルめっき用治具。   At least a part of the container body is made of a material that allows the plating solution to pass therethrough but does not allow the solid object to be plated, the conductive medium, and the stirring medium to pass therethrough. The barrel plating jig according to claim 1. 請求項1〜9のいずれかに記載のバレルめっき用治具を用いてめっきを行うことを特徴とするめっき方法。   A plating method comprising performing plating using the barrel plating jig according to claim 1. 請求項10記載のめっき方法を用いて、電子部品素子を被めっき物としてめっきを行う工程を備えていることを特徴とする電子部品の製造方法。   A method for producing an electronic component, comprising the step of performing plating using the electronic component element as an object to be plated using the plating method according to claim 10.
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