JP2017091709A - 大気圧プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】省スペース化が可能であり、プラズマ処理時間を長くすることができ、被処理物をワンウェイで連続的にムラなくプラズマ処理することができる大気圧プラズマ処理装置を提供する。【解決手段】大気圧プラズマ処理装置101は、第1電極21と、第1電極21から間隙を介して離隔するように配置された第2電極22と、第1電極21と第2電極22とに挟まれるように配置された第1部分41を含む管状誘電体31と、管状誘電体31の内部に、被処理物およびプロセスガスの混合体を通す供給部6と、第1電極21と第2電極22との間に電圧を印加する電源部1とを備える。第1部分41は、第1の向き91に延在する部分と第1の向き91とは反対の第2の向き92に延在する部分とを含む。【選択図】図1
Description
本発明は、大気圧プラズマ処理装置に関するものである。
近年、大気圧近傍の圧力下で高電圧を印加して強力なプラズマを発生させ、被処理物の表面処理を行なう大気圧プラズマ処理が求められている。他の方法では表面処理がされにくい被処理物であっても、大気圧プラズマ処理を採用することによって容易に表面処理することができる場合がある。かねてよりカテーテル製造時の表面処理、医療用チューブの内壁処理を目的として大気圧プラズマ処理による表面処理が行なわれている。
また、粉体は、化粧品や医薬品などの粉製品をはじめとして、リチウムイオン電池などのエレクトロニクス分野にまで幅広く用いられているが、これらの粉体の表面処理に大気圧プラズマ処理が採用される場合がある。
たとえば特開2005−332783号公報(特許文献1)には、互いに対向する電極間にガス通路、ガス供給口を設け、ガス通路内に保持された被処理物にプラズマ処理を施すことが記載されている。
特開平7−328427号公報(特許文献2)には、絶縁体管の外周に沿って電極対が互いに間隔をおいてスパイラル状に巻かれた構成が開示されている。この装置では、絶縁体管の内部にガスを流通させ、グロー放電プラズマを発生させることとなっており、このプラズマ中に粉粒体を連続的に供給することによって粉粒体の表面処理を行なうことができる。
特開2013−215720号公報(特許文献3)には、複数の貫通孔が設けられた絶縁性基材の内部に電極を配置した構成が開示されている。この装置では、絶縁性基材の上側に被処理物としての粉体を配置し、貫通孔に下からガスを通すことによってプラズマが貫通孔から上方に吹き上がるようにし、粉体を流動させながら粉体の表面処理を行なうこととされている。
特許文献1に記載されている装置では、対向する平行平板状の電極を用いているので、プラズマ放電空間を広く、あるいは長くする際には、それに伴い装置筐体も大きくしなければならないという問題がある。
特許文献2に記載されている装置では、放電方式が沿面放電であるので、放電管の径によっては、管の中心部のプラズマ強度が弱くなり、結果的にプラズマ処理が不十分な粉体が排出されるおそれがあるという問題がある。
特許文献3に記載されている装置では、プラズマガスを粉体に吹き付けて表面処理を行なうことを狙っているが、粉体がプラズマ空間の中を直接通過して処理されるダイレクト処理に比べて処理効果が弱いことが明らかである。また、粉体を均一に流動させることは困難であり、したがって、プラズマ活性種にさらされる時間が粉体によって大幅に異なり、処理効果のムラが生じる。
そこで、本発明は、省スペース化が可能であり、プラズマ処理時間を長くすることができ、被処理物をワンウェイで連続的にムラなくプラズマ処理することができる大気圧プラズマ処理装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明に基づく大気圧プラズマ処理装置は、第1電極と、上記第1電極から間隙を介して離隔するように配置された第2電極と、上記第1電極と上記第2電極とに挟まれるように配置された第1部分を含む管状誘電体と、上記管状誘電体の内部に、被処理物およびプロセスガスの混合体を通す供給部と、上記第1電極と上記第2電極との間に電圧を印加する電源部とを備え、上記第1部分は、第1の向きに延在する部分と上記第1の向きとは反対の第2の向きに延在する部分とを含む。
本発明によれば、管状誘電体の一部である第1部分が第1電極と第2電極との間隙を通るように配置されており、被処理物は第1部分を第1の向きと第2の向きとに行き交うように通過しながらプラズマ処理されるので、省スペース化が可能であり、プラズマ処理時間を長くすることができ、被処理物をワンウェイで連続的にムラなくプラズマ処理することができる。
(実施の形態1)
(構成)
図1〜図2を参照して、本発明に基づく実施の形態1における大気圧プラズマ処理装置について説明する。本実施の形態における大気圧プラズマ処理装置の概念図を図1に示す。
(構成)
図1〜図2を参照して、本発明に基づく実施の形態1における大気圧プラズマ処理装置について説明する。本実施の形態における大気圧プラズマ処理装置の概念図を図1に示す。
大気圧プラズマ処理装置101は、第1電極21と、第1電極21から間隙を介して離隔するように配置された第2電極22と、第1電極21と第2電極22とに挟まれるように配置された第1部分41を含む管状誘電体31と、管状誘電体31の内部に、被処理物およびプロセスガスの混合体を通す供給部6と、第1電極21と第2電極22との間に電圧を印加する電源部1とを備える。管状誘電体31を単独で取り出したところを図2に示す。第1部分41は、第1の向き91に延在する部分8a,8c,8e,8gと第1の向き91とは反対の第2の向き92に延在する部分8b,8d,8f,8hとを含む。図1に示すように、第1電極21および第2電極22は、いずれも平板状の電極である。電源部1から第1電極21へは配線2を介して接続されている。電源部1から第2電極22へは配線3を介して接続されている。管状誘電体31は、入口31aと出口31bとを有する。供給部6は入口31aに接続されており、回収部7は出口31bに接続されている。なお、第1部分41の各部分に関してどちら向きに「延在」しているかの判断に当たっては、管状誘電体31を入口31aから出口31bに向かってたどっていったときにどちら向きに進むことになるかで区別している。ここで示した例では、第1部分41は管状誘電体31の中間の一部となっているが、これはあくまで一例であってこれに限らない。すなわち、管状誘電体31の全てが第1部分41であるような構成であってもよい。
第2の向き92は、第1の向き91に対して「反対」の向きであるものとして説明したが、ここでいう「反対」とは、完全に平行かつ逆向きである場合に限らず、多少平行でなくてもほぼ逆向きである場合を含むものとする。「反対」とは、実質的に反対向きである場合を当然に含むものとする。
(作用・効果)
本実施の形態では、管状誘電体31の一部である第1部分41が第1電極21と第2電極22との間隙を通るように配置されており、被処理物およびプロセスガスの混合体がこの部分を通ることとなっている。本実施の形態では、プラズマ処理が行なわれる第1部分41の区間が第1の向き91と第2の向き92とに行き交う構造となっていることにより、直管型の場合に比べて、電極関係部分、誘電体関係部分などの省スペース化が可能となるので、装置全体の省スペース化が可能となる。被処理物は第1部分を第1の向きと第2の向きとに行き交うように通過しながらプラズマ処理されるので、プラズマ処理時間を長くすることができる。第1部分41の内部では、被処理物はプロセスガスと共に流れ、処理強度が強いダイレクト方式で処理が行なわれることとなる。したがって、被処理物を繰返し循環させる必要はなく、被処理物をワンウェイで連続的にムラなくプラズマ処理することができる。
本実施の形態では、管状誘電体31の一部である第1部分41が第1電極21と第2電極22との間隙を通るように配置されており、被処理物およびプロセスガスの混合体がこの部分を通ることとなっている。本実施の形態では、プラズマ処理が行なわれる第1部分41の区間が第1の向き91と第2の向き92とに行き交う構造となっていることにより、直管型の場合に比べて、電極関係部分、誘電体関係部分などの省スペース化が可能となるので、装置全体の省スペース化が可能となる。被処理物は第1部分を第1の向きと第2の向きとに行き交うように通過しながらプラズマ処理されるので、プラズマ処理時間を長くすることができる。第1部分41の内部では、被処理物はプロセスガスと共に流れ、処理強度が強いダイレクト方式で処理が行なわれることとなる。したがって、被処理物を繰返し循環させる必要はなく、被処理物をワンウェイで連続的にムラなくプラズマ処理することができる。
本実施の形態では、被処理物は、管状誘電体の内部を通過することができるものであればよく、たとえば粉体、ガス、液体などであってもよい。被処理物は、導電性であっても非導電性であってもよい。
プラズマ処理を施したことによる効果の種類は、ガス種に依存する。ガス種を変更することによりさまざまな効果を付与することができる。たとえばHe,Ar,N2などにO2を添加したガスを用いることで、被処理物に親水性を付与することが可能であり、O3発生による殺菌処理も可能である。また、He,Ar,N2などにF系ガス、たとえばCF4、C3F8などを添加したガスを用いることで、被処理物に撥水性を付与することもできる。さらに、He,Ar,N2などに還元性ガス、たとえばH2などを添加したガスを用いることで、被処理物表面の還元処理が可能である。
被処理物が有害成分を含む物質である場合には、管状誘電体の内部を通過させることで、有害物質を処理分解して除去することも可能である。有害成分の例としては、たとえば、窒素酸化物(NOx)、炭化水素(HC)、硫黄酸化物(SOx)などが挙げられる。
本実施の形態では、第1電極21および第2電極22が平板状の電極となっているが、形状はこれに限らない。これらの電極は、シート状、フィルム状であってもよい。これらの電極は、管状誘電体31に対して接着剤によって接着してもよく、何も介さずに設置してもよい。第1電極21の材質は、導電性の物質であり、たとえば、銅、アルミニウム、SUSなどの金属であってもよく、黒鉛であってもよい。第2電極22の材質についても同様である。
第1電極21を構成する導電体は、誘電体で覆われていてもよい。第2電極22を構成する導電体についても、同様である。誘電体の例としては、樹脂からなるシート、フィルム、樹脂コーティング、成膜による無機物の薄膜などが挙げられる。高電圧が印加される電極が誘電体で覆われていることにより、異常放電、周囲への感電などを防ぐことが可能となるほか、プラズマの均一性が向上し、ムラなく処理することが可能となる。
管状誘電体の材質は、絶縁物であり、たとえば、石英(ガラス)、セラミックなどの無機物であってもよく、シリコンゴム、フッ素系樹脂(PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)、PFA(ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂)など)であってもよい。
プラズマ放電により、第1電極および第2電極のうち少なくとも一方の温度が上昇する場合には、必要に応じて、第1電極、第2電極、管状誘電体のいずれかまたは全てを冷却してもよい。冷却方法としては、たとえば第1電極の内部に冷媒の通路を設けて冷媒を通す方法であってもよい。電極の周囲に冷媒の通路を設けて冷媒を通してもよい。電極に沿うように冷却ラインを配置してもよい。冷却方式は、空冷式であってもよく、冷却水方式であってもよい。
図1に示したように、第1電極21および第2電極22は、それぞれ平板状であり、互いに平行に配置されていることが好ましい。この構成を採用することにより、第1部分を挟み込んで電圧を印加することができ、装置の薄型化を図ることができる。
図1に示したように、第1部分41はジグザグ状となっていることが好ましい。この構成を採用することにより、第1部分41を限られたスペースに高密度に配置することができるので、装置をコンパクトにすることができる。「ジグザグ状」とは、湾曲したカーブによって方向転換しているものに限らず、折れ線状のカーブによって方向転換しているものも含む。「ジグザグ状」とは、完全に平行になるように逆向きに折り返しているものに限らず、非平行な状態でほぼ逆向きに折り返しているものも含む。
(実験1)
実施の形態1で説明した構成で、被処理物のプラズマ処理が可能であるか確認するために放電確認実験を行なった。これを実験1とする。実験1の条件は以下のとおりである。
電極:誘電体付きSUS板(330mm×250mm、放電面側に誘電体として石英板を接着したもの)
管状誘電体:シリコンチューブ(外径6mm、内径4mm)
ガスの種類:Ar
ガスの流量:4リットル/分
印加する電圧:6kV
周波数:60kHz
被処理物:カーボンブラックの粉体(平均粒子径0.1μm)
図1に示すように互いに平行かつ対向するように配置した平板電極間に、管状誘電体としてのシリコンチューブを平行に往復させてジグザグ状に配置した。図1では、管状誘電体31が折り返す度に隙間があいているが、実験1では、隙間が生じないように密着させて折り返して配置した。
実施の形態1で説明した構成で、被処理物のプラズマ処理が可能であるか確認するために放電確認実験を行なった。これを実験1とする。実験1の条件は以下のとおりである。
電極:誘電体付きSUS板(330mm×250mm、放電面側に誘電体として石英板を接着したもの)
管状誘電体:シリコンチューブ(外径6mm、内径4mm)
ガスの種類:Ar
ガスの流量:4リットル/分
印加する電圧:6kV
周波数:60kHz
被処理物:カーボンブラックの粉体(平均粒子径0.1μm)
図1に示すように互いに平行かつ対向するように配置した平板電極間に、管状誘電体としてのシリコンチューブを平行に往復させてジグザグ状に配置した。図1では、管状誘電体31が折り返す度に隙間があいているが、実験1では、隙間が生じないように密着させて折り返して配置した。
管状誘電体にガスおよび被処理物を導入して平板電極間に高周波の高電圧を印加した。その結果、管状誘電体のうち2枚の平板電極に挟まれた部分の全域においてプラズマ放電が発生していることを確認することができた。さらに、プラズマ処理を経た被処理物を回収し、純水に分散させたところ、未処理のものに比べて純水への分散性が向上していることがわかった。したがって、このような構成の装置を用いてプラズマ処理を行なうことによってカーボンブラックの粉体の純水への分散性の改善が可能であることがわかった。
(実施の形態2)
(構成)
図3〜図4を参照して、本発明に基づく実施の形態2における大気圧プラズマ処理装置について説明する。本実施の形態における大気圧プラズマ処理装置の概念図を図3に示す。
(構成)
図3〜図4を参照して、本発明に基づく実施の形態2における大気圧プラズマ処理装置について説明する。本実施の形態における大気圧プラズマ処理装置の概念図を図3に示す。
大気圧プラズマ処理装置102は、第1電極21と、第1電極21から間隙を介して離隔するように配置された第2電極22と、第1電極21と第2電極22とに挟まれるように配置された第1部分41iを含む管状誘電体31iと、管状誘電体31iの内部に、被処理物およびプロセスガスの混合体を通す供給部6と、第1電極21と第2電極22との間に電圧を印加する電源部1とを備え、第1部分41iは、第1の向き91に延在する部分と第1の向き91とは反対の第2の向き92に延在する部分とを含む。
大気圧プラズマ処理装置102においては、第1部分41iは渦巻き状となっている。第1部分41iは、一定の平面内で渦巻き形状となっている。管状誘電体31は、入口31aと出口31bとを有する。入口31aは渦巻き形状の最外周に入っていくように配置されている。管状誘電体31iを単独で取り出したところを図4に示す。被処理物およびプロセスガスの混合体は、入口31aから入った後、渦巻き形状に沿って内周側に向かって進行していく。管状誘電体31iは、渦巻き形状の最内周側からこの渦巻き形状の位置する平面に交差する方向に延在しており、その先端に出口31bが配置されている。入口31aと出口31bとの配置は逆であってもよい。第1部分41iは、第1の向き91に延在する部分8a,8c,8eと第1の向き91とは反対の第2の向き92に延在する部分8b,8d,8fとを含む。各部分は、円弧状に湾曲しているが、微小区間に注目すれば第1の向き91または第2の向き92に延在しているといえる。
(作用・効果)
本実施の形態においても、実施の形態1で説明したのと同様の効果を得ることができる。
本実施の形態においても、実施の形態1で説明したのと同様の効果を得ることができる。
(実施の形態3)
(構成)
図5を参照して、本発明に基づく実施の形態3における大気圧プラズマ処理装置について説明する。本実施の形態における大気圧プラズマ処理装置の概念図を図5に示す。
(構成)
図5を参照して、本発明に基づく実施の形態3における大気圧プラズマ処理装置について説明する。本実施の形態における大気圧プラズマ処理装置の概念図を図5に示す。
大気圧プラズマ処理装置103は、第1電極21jと、第1電極21jから間隙を介して離隔するように配置された第2電極22jと、第1電極21jと第2電極22jとに挟まれるように配置された第1部分41jを含む管状誘電体31jと、管状誘電体31jの内部に、被処理物およびプロセスガスの混合体を通す供給部6と、第1電極21jと第2電極22jとの間に電圧を印加する電源部1とを備える。第1部分41jは、第1の向き91に延在する部分81と第1の向き91とは反対の第2の向き92に延在する部分82とを含む。
大気圧プラズマ処理103では、第2電極22jは、第1電極21jの外面を取り囲むように配置されている。第1部分41jは、第1電極21jと第2電極22jとに挟まれた空間内に配置され、ジグザグ状となっている。
(作用・効果)
本実施の形態においても、実施の形態1で説明したのと同様の効果を得ることができる。図5に示した例では、第1電極21jと第2電極22jとに挟まれた空間は円筒形の空間となっているが、この空間の形状は円筒形以外の形状であってもよい。図5に示した例では、第1電極21jは円柱形となっているが、円柱形以外の形状であってもよい。
本実施の形態においても、実施の形態1で説明したのと同様の効果を得ることができる。図5に示した例では、第1電極21jと第2電極22jとに挟まれた空間は円筒形の空間となっているが、この空間の形状は円筒形以外の形状であってもよい。図5に示した例では、第1電極21jは円柱形となっているが、円柱形以外の形状であってもよい。
(実験2)
実施の形態3で説明した構成で、被処理物のプラズマ処理が可能であるか確認するために放電確認実験を行なった。これを実験2とする。実験2の条件は以下のとおりである。
第1電極としての内部電極:SUS管(放電面側にセラミック溶射膜コート付き)
第2電極としての外部電極:SUS管(放電面側にセラミック溶射膜コート付き)
管状誘電体:シリコンチューブ(外径6mm、内径4mm)
ガスの種類:Ar
ガスの流量:4リットル/分
印加する電圧:3kV
周波数:60kHz
被処理物:PE(ポリエチレン)の粉体(平均粒子径25〜30μm)
管状誘電体にガスおよび被処理物を導入して平板電極間に高周波の高電圧を印加した。その結果、管状誘電体のうち内部電極と外部電極とに挟まれた部分の全域においてプラズマ放電が発生していることを確認することができた。さらに、プラズマ処理を経た被処理物を回収し、純水に分散させたところ、未処理のものに比べて純水への分散性が向上していることがわかった。したがって、このような構成の装置を用いてプラズマ処理を行なうことによってPEの粉体の純水への分散性の改善が可能であることがわかった。
実施の形態3で説明した構成で、被処理物のプラズマ処理が可能であるか確認するために放電確認実験を行なった。これを実験2とする。実験2の条件は以下のとおりである。
第1電極としての内部電極:SUS管(放電面側にセラミック溶射膜コート付き)
第2電極としての外部電極:SUS管(放電面側にセラミック溶射膜コート付き)
管状誘電体:シリコンチューブ(外径6mm、内径4mm)
ガスの種類:Ar
ガスの流量:4リットル/分
印加する電圧:3kV
周波数:60kHz
被処理物:PE(ポリエチレン)の粉体(平均粒子径25〜30μm)
管状誘電体にガスおよび被処理物を導入して平板電極間に高周波の高電圧を印加した。その結果、管状誘電体のうち内部電極と外部電極とに挟まれた部分の全域においてプラズマ放電が発生していることを確認することができた。さらに、プラズマ処理を経た被処理物を回収し、純水に分散させたところ、未処理のものに比べて純水への分散性が向上していることがわかった。したがって、このような構成の装置を用いてプラズマ処理を行なうことによってPEの粉体の純水への分散性の改善が可能であることがわかった。
(実施の形態4)
(構成)
図6を参照して、本発明に基づく実施の形態4における大気圧プラズマ処理装置について説明する。本実施の形態における大気圧プラズマ処理装置の概念図を図6に示す。
(構成)
図6を参照して、本発明に基づく実施の形態4における大気圧プラズマ処理装置について説明する。本実施の形態における大気圧プラズマ処理装置の概念図を図6に示す。
大気圧プラズマ処理装置は、第1電極21kと、第1電極21kから間隙を介して離隔するように配置された第2電極22kと、第1電極21kと第2電極22kとに挟まれるように配置された第1部分41kを含む管状誘電体31kと、管状誘電体31kの内部に、被処理物およびプロセスガスの混合体を通す供給部6と、第1電極21kと第2電極22kとの間に電圧を印加する電源部1とを備える。第1部分41kは、第1の向き91に延在する部分83と第1の向き91とは反対の第2の向き92に延在する部分84とを含む。
本実施の形態では、管状誘電体31kは全体としてU字形状を有している。第1電極21kおよび第2電極22kもU字形状となっている。図6に示した例では、第1電極21kは管状誘電体31kの内周側に配置されており、第2電極22kは管状誘電体31kの外周側に配置されている。
(作用・効果)
本実施の形態においても、実施の形態1で説明したのと同様の効果を得ることができる。図6では、管状誘電体31kの2つの端部近傍は電極に挟まれていないが、完全に端部まで電極に挟まれた構造としてもよい。図6では、第1電極21kおよび第2電極22kは、U字形状の内周側および外周側から管状誘電体31kを挟み込んでいるが、図6における上側および下側から挟み込む構造としてもよい。
本実施の形態においても、実施の形態1で説明したのと同様の効果を得ることができる。図6では、管状誘電体31kの2つの端部近傍は電極に挟まれていないが、完全に端部まで電極に挟まれた構造としてもよい。図6では、第1電極21kおよび第2電極22kは、U字形状の内周側および外周側から管状誘電体31kを挟み込んでいるが、図6における上側および下側から挟み込む構造としてもよい。
なお、上記実施の形態のうち複数を適宜組み合わせて採用してもよい。
なお、今回開示した上記実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。
なお、今回開示した上記実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。
1 電源部、2,3 配線、6 供給部、7 回収部、8a,8b,8c,8d,8e,8f,8g,8h 部分、21,21j,21k 第1電極、22,22j,22k 第2電極、31,31i,31j,31k 管状誘電体、31a 入口、31b 出口、41,41i,41j,41k 第1部分、81,82,83,84 部分、91 第1の向き、92 第2の向き、101,102,103,104 大気圧プラズマ処理装置。
Claims (6)
- 第1電極と、
前記第1電極から間隙を介して離隔するように配置された第2電極と、
前記第1電極と前記第2電極とに挟まれるように配置された第1部分を含む管状誘電体と、
前記管状誘電体の内部に、被処理物およびプロセスガスの混合体を通す供給部と、
前記第1電極と前記第2電極との間に電圧を印加する電源部とを備え、
前記第1部分は、第1の向きに延在する部分と前記第1の向きとは反対の第2の向きに延在する部分とを含む、大気圧プラズマ処理装置。 - 前記第1電極および前記第2電極は、それぞれ平板状であり、互いに平行に配置されている、請求項1に記載の大気圧プラズマ処理装置。
- 前記第1部分はジグザグ状となっている、請求項2に記載の大気圧プラズマ処理装置。
- 前記第1部分は渦巻き状となっている、請求項2に記載の大気圧プラズマ処理装置。
- 前記第2電極は、前記第1電極の外面を取り囲むように配置されており、前記第1部分は、前記第1電極と前記第2電極とに挟まれた空間内に配置され、ジグザグ状となっている、請求項1に記載の大気圧プラズマ処理装置。
- 前記第1部分はU字形状を有しており、前記第1電極および前記第2電極は前記第1部分に沿ってU字形状を有している、請求項1に記載の大気圧プラズマ処理装置。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020003344A1 (ja) * | 2018-06-25 | 2020-01-02 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 活性ガス生成装置及び成膜処理装置 |
WO2020165964A1 (ja) * | 2019-02-13 | 2020-08-20 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 活性ガス生成装置 |
-
2015
- 2015-11-06 JP JP2015218211A patent/JP2017091709A/ja active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020003344A1 (ja) * | 2018-06-25 | 2020-01-02 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 活性ガス生成装置及び成膜処理装置 |
KR20210011444A (ko) * | 2018-06-25 | 2021-02-01 | 도시바 미쓰비시덴키 산교시스템 가부시키가이샤 | 활성 가스 생성 장치 및 성막 처리 장치 |
JPWO2020003344A1 (ja) * | 2018-06-25 | 2021-02-15 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 活性ガス生成装置及び成膜処理装置 |
TWI746923B (zh) * | 2018-06-25 | 2021-11-21 | 日商東芝三菱電機產業系統股份有限公司 | 活性氣體生成裝置及成膜處理裝置 |
JP7019276B2 (ja) | 2018-06-25 | 2022-02-15 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 活性ガス生成装置及び成膜処理装置 |
US11309167B2 (en) | 2018-06-25 | 2022-04-19 | Toshiba Mitsubishi-Electric Industrial Systems Corporation | Active gas generation apparatus and deposition processing apparatus |
KR102510329B1 (ko) | 2018-06-25 | 2023-03-17 | 도시바 미쓰비시덴키 산교시스템 가부시키가이샤 | 활성 가스 생성 장치 및 성막 처리 장치 |
WO2020165964A1 (ja) * | 2019-02-13 | 2020-08-20 | 東芝三菱電機産業システム株式会社 | 活性ガス生成装置 |
KR20200116989A (ko) * | 2019-02-13 | 2020-10-13 | 도시바 미쓰비시덴키 산교시스템 가부시키가이샤 | 활성 가스 생성 장치 |
CN111836916A (zh) * | 2019-02-13 | 2020-10-27 | 东芝三菱电机产业系统株式会社 | 活性气体生成装置 |
KR102394132B1 (ko) | 2019-02-13 | 2022-05-04 | 도시바 미쓰비시덴키 산교시스템 가부시키가이샤 | 활성 가스 생성 장치 |
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