JP2017090507A - 光走査デバイスおよび投影装置 - Google Patents

Abstract

【課題】投影装置の大型化を抑えつつ、各レーザ光が形成する画像同士の画素ズレを補正可能とする。【解決手段】複数の光源から出力されたレーザ光を走査させる光走査デバイス４００である。光走査デバイス４００は、光検出器４１０と、レーザ光を反射して走査させる本体部４２０と、を備える。本体部４２０は、光検出器４１０に対して相対的に揺動することでレーザ光を反射しながら走査させる反射部４５０を備える。反射部４５０は、透過体と、透過体の第１の面に形成され、レーザ光を反射する反射膜と、透過体の第１の面に形成され、レーザ光の一部を透過する透過部とを備える。透過体は、当該透過体に対する前記レーザ光の入射角に応じて透過率が異なる。光検出器４１０は、透過体を透過したレーザ光を受光する位置に固定されている。【選択図】図３

Description

本発明は、光走査デバイスおよび投影装置に関する。

例えば、投影装置としては、赤色レーザ光、青色レーザ光および緑色レーザ光を二次元的に走査させることによって、画像を投影する走査式の投影装置が知られている（例えば特許文献１参照）。

特開２０１５−７９１７０号公報

ところで、各レーザ光の光軸がわずかでもずれていると、各レーザ光が形成する画像同士に画素ズレが生じてしまう。

各レーザ光の光軸のズレを検出するための専用のセンサをレーザ光の光路上に設け、当該センサで光軸のズレを検出すれば、その検出結果に基づいて各レーザ光の出力タイミングを調整して画素ズレを補正することも可能である。しかしレーザ光の光路上にセンサを配置すると、投影装置自体の大型化を招くことになる。

そこで、本発明は、投影装置の大型化を抑えつつ、各レーザ光が形成する画像同士の画素ズレを補正可能とすることを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明の一態様に係る光走査デバイスは、複数の光源から出力されたレーザ光を走査させる光走査デバイスであって、光検出器と、レーザ光を反射して走査させる本体部と、を備え、本体部は、光検出器に対して相対的に揺動することでレーザ光を反射しながら走査させる反射部を備え、反射部は、透過体と、透過体の第１の面に形成され、レーザ光を反射する反射膜と、透過体の第１の面に形成され、レーザ光の一部を透過する透過部とを備え、透過体は、当該透過体に対するレーザ光の入射角に応じて透過率が異なっており、光検出器は、透過体を透過したレーザ光を受光する位置に固定されている。

このように、反射部は、反射膜でレーザ光を反射しつつ、一部のレーザ光を透過部で透過する。これにより、レーザ光の一部が、反射部で反射された光とは異なる領域に案内される。このレーザ光の一部は透過体を透過するが、透過体の透過率はレーザ光の入射角に応じて透過率が異なる。レーザ光の光軸にズレがある場合と、ない場合とでは透過体に対する入射角が異なるので、透過体を透過すればレーザ光の強度に異なりが生じる。つまり、透過体を透過したレーザ光の強度を光検出器が検出すれば、光軸ズレを検出することができる。光軸ズレを検出することができれば、その検出結果に基づいて各レーザ光の出力タイミングを補正することができ、光軸ズレを起因とした画素ズレを補正することが可能となる。

また、光検出器は、透過体を透過したレーザ光を受光する位置、つまり反射部の背方となる位置に固定されている。この反射部の背方は、投影には直接関係のない領域であるので、レーザ光の主たる光路と比しても、光検出器の設置の自由度は高い。また、反射部の揺動を考慮してある程度の余裕を持った空間も設けられている。この空間に光軸ズレ検出用の光検出器を設置することができるので、投影装置の大型化を抑制することができる。

例えば、透過体は、第１の面をなす、透過性を有する基板と、基板の、第１の面とは反対側の第２の面に形成される透過膜とを備え、透過膜は、入射角に応じて透過率が異なるように形成された誘電体多層膜であってもよい。

このように、透過体が基板と透過膜とを備え、透過膜が入射角に応じて透過率が異なるように形成された誘電体多層膜であるので、各層の材料、膜厚を調整することで、入射角に応じた透過率の調整を容易に行うことができる。また、透過体全体の透過率を調整しなくてもよく、製造効率も高めることができる。

例えば、透過部は、反射膜に設けられた透過開口部であってもよい。

このように、透過部が反射膜に設けられた透過開口部であるので、透過性を有する反射膜自体をレーザ光が透過した場合と比しても、レーザ光の強度は低下しない。したがって、光検出器でのレーザ光の検出精度を高めることができる。

例えば、本体部は、基台と、基台に対して反射部を揺動自在に支持する支持部とを有してもよい。

このように、基台に対して反射部を揺動自在に支持する支持部が設けられているので、本体部全体を搖動させて反射部を搖動させる場合と比しても、搖動させる部分を小さくすることができる。したがって、揺動にかかるエネルギーを抑制することができる。

また、本発明の他の態様に係る投影装置は、上述の光走査デバイスと、複数の光源と、複数の光源のそれぞれの出力タイミングを制御する制御部とを備え、制御部は、複数の光源のうち、少なくとも２つの光源から出力され、搖動中の反射部を透過した少なくとも２つのレーザ光を、光検出器が個別に受光して出力したレーザ光毎の出力結果に基づいて、少なくとも２つの光源の少なくとも一つの出力タイミングを補正する。

このように、複数の光源のうち、少なくとも２つの光源から出力され、搖動中の反射部を透過した少なくとも２つのレーザ光を、光検出器が個別に受光して出力したレーザ光毎の出力結果に基づいて、少なくとも２つの光源の少なくとも一つの出力タイミングを補正するので、各光源の光軸ズレを補正することができ、当該光軸ズレに起因する画素ズレを抑制することができる。

例えば、制御部は、光検出器が出力したレーザ光毎の出力結果の波形の位相差に基づいて、少なくとも２つの光源の少なくとも一つの出力タイミングを補正してもよい。

このように、光検出器が出力したレーザ光毎の出力結果の波形の位相差に基づいて、少なくとも２つの光源の少なくとも一つの出力タイミングを補正するので、より正確に出力タイミングを補正することができる。

例えば、制御部は、光検出器の出力結果に基づいて、反射部の揺動の振幅を検出してもよい。

このように、光検出器の出力結果に基づいて反射部の揺動の振幅が検出されるので、検出した振幅が目標範囲に収まっていない場合には、当該目標範囲に収まるように反射部の揺動の振幅を制御することができる。反射部の揺動の振幅は、投影画像のサイズを決める一因でもあるので、この振幅を制御できれば、投影画像のサイズを一定に保つような投影を行うことができる。

例えば、制御部は、光検出器が出力したレーザ光毎の出力結果の波形の最大値に基づいて、レーザ光毎の強度を検出してもよい。

このように、光検出器が出力したレーザ光毎の出力結果の波形の最大値に基づいて、レーザ光毎の強度が検出されるので、検出したレーザ光毎の強度が目標範囲に収まっていない場合には、当該目標範囲に収まるようにレーザ光の強度を制御することができる。したがって、各レーザ光を安定した強度で走査させることができる。

本発明によると、装置の大型化を抑えつつ、各レーザ光が形成する画像同士の画素ズレを補正することができる。

実施の形態１に係る投影装置の概略構成を示す斜視図である。 実施の形態１に係る投影装置の制御構成を示すブロック図である。 実施の形態１に係る光走査デバイスの概略構成を示す正面図である。 実施の形態１に係る光走査デバイスの概略構成を示す分解斜視図である。 実施の形態１に係る反射部の概略構成を示す説明図である。 実施の形態１に係る画素ズレを説明するための説明図である。 実施の形態１に係る画素ズレを説明するための説明図である。 実施の形態１に係る光軸のずれ量と、光検出器の出力結果との関係を示す説明図である。 実施の形態１に係る光検出器に正対した状態の反射部を示す説明図である。 実施の形態１に係る補正モードの流れを示すフローチャートである。 実施の形態１に係る投影動作の流れを示すフローチャートである。 実施の形態２に係る光検出器の出力強度比と、反射部の揺動の振幅との関係を示すグラフである。 実施の形態２に係る出力強度比を説明するための説明図である。 実施の形態２に係る揺動制御の流れを示すフローチャートである。 実施の形態３に係る光検出器の出力結果の最大値と、レーザ光の強度との関係を示すグラフである。 実施の形態３に係る出力結果の最大値を説明するための説明図である。 実施の形態３に係るレーザ光の強度制御の流れを示すフローチャートである。

以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。なお、以下で説明する実施の形態は、いずれも包括的または具体的な例を示すものである。以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態、ステップ、ステップの順序などは、一例であり、本発明を限定する主旨ではない。また、以下の実施の形態における構成要素のうち、独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。各図は、必ずしも各寸法または各寸法比等を厳密に図示したものではない。

（実施の形態１）
［投影装置の構成］
図１は、実施の形態１に係る投影装置の概略構成を示す斜視図である。

図１に示すように、投影装置２００は、例えば携帯型のレーザプロジェクタであり、筐体１１０と、筐体１１０に内蔵された投影部２１０とを備えている。なお、投影装置２００としては、例えば、携帯電話、スマートフォン、タブレット型端末などの携帯機器に搭載されたものであってもよい。

投影部２１０は、筐体１１０の一側面に設けられた投影用の開口部２１１を介して投影を行う。投影装置２００は、通常モードと、補正モードとが実行可能である。通常モードは、投影装置２００の一般的な機能を実行可能なモードであり、通常モードであると投影装置２００では一般的な投影が実行可能となる。補正モードは、通常モードにおける投影の前に、投影画像の補正に必要な情報を取得するモードである。補正モードにおいては、開口部２１１を介して投影部２１０から卓の上面（投影面ＳＣ）に対して補正用のレーザ光が投影される。

以下、本実施の形態について詳細に説明する。

図２は、投影装置２００の制御構成を示すブロック図である。

投影装置２００は、赤色成分（Ｒ）のレーザ光と緑色成分（Ｇ）のレーザ光と青色成分（Ｂ）のレーザ光とを合成し、合成したレーザ光を走査しながら投影面ＳＣに照射することにより、投影面ＳＣにカラーの投影画像を投影する。

図２に示すように、投影装置２００は、投影部２１０と、加速度センサ２４０と、記憶部２４５と、制御部２５０とを備える。

投影部２１０は、それぞれ波長の異なるレーザ光を出力する複数の光源２６１，２６２，２６３から出力されたレーザ光を主走査方向と、当該主走査方向に直交する副走査方向とに走査することにより投影画像を形成する。投影部２１０は、通常モード時においては、記憶部２４５に記憶された通常モード用の画像データに基づいて画像を投影する。また、投影部２１０は、補正モード時においては、記憶部２４５に記憶された補正用のレーザ光の照射パターンに基づいて、補正用のレーザ光を投影する。

具体的に、投影部２１０は、光源モジュール２６０と、レーザドライバ２７０と、走査モジュール２８０と、ミラードライバ２９０とを備える。

光源モジュール２６０は、複数の光源２６１，２６２，２６３からのレーザ光を合成して走査モジュール２８０に出力する。具体的に、光源モジュール２６０は、複数の光源２６１，２６２，２６３と、複数の光学素子２６４，２６５，２６６と、合成プリズム２６７とを備える。

複数の光源２６１，２６２，２６３は、それぞれ特定の波長の単色成分のレーザ光を発するレーザダイオードである。光源２６１は赤色成分のレーザ光を発し、光源２６２は緑色成分のレーザ光を発し、光源２６３は青色成分のレーザ光を発する。以降、赤色成分のレーザ光を赤色光と称し、緑色成分のレーザ光を緑色光と称し、青色成分のレーザ光を青色光と称す場合がある。

複数の光学素子２６４，２６５，２６６は、それぞれビーム整形機能およびコリメート機能を有するコリメートレンズである。ビーム整形機能とは、レーザ光のビーム形状を円形状に整形する機能である。コリメート機能とは、レーザ光を発散光から平行光に変換する機能である。複数の光学素子２６４，２６５，２６６は、それぞれ複数の光源２６１，２６２，２６３に対応して配置されている。すなわち、光学素子２６４は、光源２６１からの赤色光を平行光に変換し、かつ円形状に整形する。同様に光学素子２６５は、光源２６２からの緑色光を平行光に変換し、かつ円形状に整形する。光学素子２６６は、光源２６３からの青色光を平行光に変換し、かつ円形状に整形する。各光学素子２６４，２６５，２６６を透過した各色光は、合成プリズム２６７に入射する。

合成プリズム２６７は、複数の光源２６１，２６２，２６３から照射され、複数の光学素子２６４，２６５，２６６を介して入射された各色光を合成する。具体的には、合成プリズム２６７には、ダイクロイック膜である誘電体多層膜が形成された複数の界面２６７ａ，２６７ｂ，２６７ｃを有する。光源２６１に対応する界面２６７ａは、赤色光を反射するものである。光源２６２に対応する界面２６７ｂは、緑色光を反射し、赤色光を透過するものである。光源２６３に対応する界面２６７ｃは、青色光を反射し、赤色光および緑色光を透過するものである。これらの界面２６７ａ，２６７ｂ，２６７ｃを通過することにより、各色のレーザ光が合成される。

レーザドライバ２７０は、制御部２５０による制御に基づいて、各光源２６１，２６２，２６３を駆動して各色光を出力させる回路である。

走査モジュール２８０は、合成プリズム２６７で合成されたレーザ光を走査しながら投影面ＳＣに照射することにより、投影面ＳＣに投影画像を投影するためのものである。走査モジュール２８０は、第１の光走査デバイス４００Ａと、第２の光走査デバイス４００Ｂとを備える。第１の光走査デバイス４００Ａは、レーザ光を反射させて、水平方向（主走査方向）に比較的高速で走査させる。第２の光走査デバイス４００Ｂは、各色光を反射させて、垂直方向（副走査方向）に比較的低速で走査させる。合成プリズム２６７で合成されたレーザ光は、第１の光走査デバイス４００Ａで反射した後に、第２の光走査デバイス４００Ｂで反射する。第１の光走査デバイス４００Ａ及び第２の光走査デバイス４００Ｂがそれぞれ水平方向及び垂直方向に揺動することにより、レーザ光が水平方向及び垂直方向に（すなわち、二次元的に）走査されながら投影面ＳＣに照射され、投影面ＳＣに投影画像が投影される。

光走査デバイス４００（第１の光走査デバイス４００Ａおよび第２の光走査デバイス４００Ｂ）の具体的な構成については後述する。

ミラードライバ２９０は、制御部２５０による制御に基づいて、第１の光走査デバイス４００Ａ及び第２の光走査デバイス４００Ｂそれぞれの駆動源４６０（後述）を駆動して、第１の光走査デバイス４００Ａ及び第２の光走査デバイス４００Ｂによるレーザ光の走査を制御する回路である。

加速度センサ２４０は、投影装置２００の加速度を検出するためのセンサであり、この検出結果によって投影装置２００の姿勢を検出することができる。加速度センサ２４０は検出結果を制御部２５０に出力する。

記憶部２４５は、不揮発性メモリであり、例えばフラッシュメモリ、ハードディスクドライブなどが挙げられる。記憶部２４５は、通常モード用の画像データ、補正用のレーザ光の照射パターンなどを記憶する。

制御部２５０は、投影装置２００の全般的な動作を制御する。制御部２５０は、レーザドライバ２７０を制御することで、各光源２６１，２６２，２６３の出力タイミングを制御する。また、制御部２５０は、ミラードライバ２９０を制御することで、第１の光走査デバイス４００Ａ及び第２の光走査デバイス４００Ｂの駆動を制御する。

制御部２５０は、例えば、ＭＰＵ（Ｍｉｃｒｏ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）、ＲＡＭ（Ｒａｍｄｏｍ Ａｃｅｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）、Ｉ／Ｏ（Ｉｎｐｕｔ／Ｏｕｔｐｕｔ）ポートなどを有するワンチップマイコンで構成されてもよい。制御部２５０の各種の動作は、ＲＯＭに記録されているプログラムを、ＲＡＭを作業用のメモリとして用いて、ＭＰＵが実行することにより果たされるソフトウェア機能によって実現されてもよい。

例えば、通常モードの投影では、制御部２５０は、記憶部２４５から通常モード用の画像データを読み出し、当該画像データに基づいて投影部２１０を制御して、通常モード用の画像データに基づく投影画像を投影する。補正モードにおいては、制御部２５０は、記憶部２４５から補正用のレーザ光の照射パターンを読み出し、当該照射パターンに基づいて投影部２１０を制御して、補正用のレーザ光を投影する。これにより、制御部２５０では、投影画像の補正に必要な情報が取得される。

［光走査デバイス］
次に、光走査デバイス４００について詳細に説明する。なお、第１の光走査デバイス４００Ａおよび第２の光走査デバイス４００Ｂは、レーザ光を走査する方向が異なるだけで、基本的には同じ構成であるので、まとめて説明し同じ符号を付す。

図３は、光走査デバイスの概略構成を示す正面図である。図４は、光走査デバイスの概略構成を示す分解斜視図である。

図３および図４に示すように、光走査デバイス４００は、光検出器４１０と、本体部４２０とを備える。

光検出器４１０は、受光した光の強度を検出する素子であり、光の強度を電気信号に変換する。光検出器４１０としては、例えばフォトトランジスタ、フォトダイオード、イメージセンサなどが挙げられる。

本体部４２０は、レーザ光を反射して走査させる機器である。本体部４２０は、第１フレーム４３０と、第２フレーム４４０と、反射部４５０と、駆動源４６０とを備える。

第１フレーム４３０は、金属などから形成された正面視矩形枠状の枠体であり、その内部に光検出器４１０が配置されている。第１フレーム４３０におけるＹ軸方向で対向する一対の辺部には、矩形状の永久磁石４３１，４３２が取り付けられている。永久磁石４３１，４３２の磁極は、互いに同じ磁極が対向するように配置されている。本実施の形態ではＮ極同士が対向している。また、第１フレーム４３０の表面には、第２フレーム４４０が一体的に取り付けられる。

第２フレーム４４０は、Ｓｉ基板等の単一基板材料に対してドライエッチング法による微細加工を施すことで各部が一体的に形成されている。具体的には、第２フレーム４４０は、枠部４４１と、ヒンジ部４４２と、突起部４４３と、固定部４４４とを一体的に備えている。

枠部４４１は、正面視矩形枠状に形成された基台であり、第１フレーム４３０の表面に重ねられて固定される。

ヒンジ部４４２は、枠部４４１の内周縁において、Ｘ軸方向で対向する一対の辺部にそれぞれ設けられている。ヒンジ部４４２には、枠部４４１の一対の辺部の略中央からＸ軸方向に沿って延在していて、固定部４４４を支持する。ヒンジ部４４２は、固定部４４４の揺動軸として機能する。

突起部４４３は、各ヒンジ部４４２をＹ軸方向で所定の間隔をあけて挟むように複数設けられている。突起部４４３は、枠部４４１の一対の辺部から２つずつＸ軸方向に沿って内方に突出している。この突起部４４３およびヒンジ部４４２に対して、共振ピーク量を抑制するための弾性部材４８０が設けられている。

固定部４４４は、正面視矩形枠状に形成されており、その表面には反射部４５０が取り付けられる。この固定部４４４の開口部４４５に対向する位置に、光検出器４１０が配置されている。光検出器４１０は、投影装置２００内の例えば支持体、フレームなどの構造物（図示省略）に固定されてもよいし、第１フレーム４３０に固定されてもよい。すなわち、光検出器４１０に対して固定部４４４が相対的に揺動する位置であれば、如何なる箇所でも光検出器４１０を固定することが可能である。

開口部４４５は、反射部４５０を透過し光検出器４１０まで至るレーザ光の光路となる。固定部４４４がレーザ光を遮らないようにするべく、開口部４４５は、反射部４５０を透過したレーザ光のビーム径よりも大きく形成されている。

このように、ヒンジ部４４２および固定部４４４によって、反射部４５０が枠部４４１に対して揺動自在に支持されている。つまり、ヒンジ部４４２および固定部４４４が、基台である枠部４４１に対して反射部４５０を支持する支持部である。

図５は、反射部の概略構成を示す説明図であり、図５の（ａ）は正面図、図５の（ｂ）は図５の（ａ）のｂ−ｂ切断線から見た断面図である。

図５に示すように、反射部４５０は、基板４５１と、反射膜４５２と、透過膜４５３とを備え、固定部４４４の正面側（レーザ光が照射する側）に取り付けられている。

基板４５１は、レーザ光を透過する板状の透明基材であり、例えばアクリル樹脂、ガラスなどから形成されている。基板４５１は、固定部４４４の開口部４４５を閉塞するように正面視矩形状に形成されている。

反射膜４５２は、基板４５１の第１の面（正面側の表面４５１ａ）に形成されていて、レーザ光を反射する。具体的には、反射膜４５２は、例えばアルミニウムなどの光反射性の高い金属を、基板４５１の表面４５１ａに蒸着することにより形成されている。反射膜４５２の膜厚は数μｍ程度である。反射膜４５２の正面視略中央には円形の透過開口部４５４が形成されている。この透過開口部４５４は、基板４５１の表面４５１ａにマスクを施した状態で、反射膜４５２となる金属を蒸着することで形成される。レーザ光の一部は、透過開口部４５４を透過してから、反射膜４５２を透過する。つまり、透過開口部４５４が、レーザ光の一部を透過する透過部である。本実施の形態では、透過開口部４５４の内部が空間である場合を例示しているが、透過開口部４５４内に透過性材料が充填されていてもよい。この透過性材料と、基板４５１とが一体成形されていてもよい。

なお、反射膜４５２を例えばハーフミラーなどの反射性および光透過性を有する反射膜とした場合、透過開口部４５４はなくともよい。この場合、反射性および光透過性を有する反射膜自体が透過部となる。

透過膜４５３は、基板４５１の、第１の面とは反対側の第２の面（背面側の表面４５１ｂ）に形成されていて、透過開口部４５４および基板４５１を透過したレーザ光を透過する。透過膜４５３は、当該透過膜４５３に対するレーザ光の入射角に応じて透過率が異なっている。具体的には、透過膜４５３は、誘電体多層膜により形成されており、各層の材料、厚みなどの調整することで、透過膜４５３に対するレーザ光の入射角に応じて透過率が異ならせている。本実施の形態では、透過膜４５３に対するレーザ光の角度が９０度である場合を入射角０度とする。入射角が０度である場合に最も透過率が高く、入射角が０度から大きくなっていくに連れて徐々に透過率が低くなるように設定されている。これは、透過膜４５３の厚み、組成などを調整することで変更できる。

本実施の形態では、透過膜４５３と基板４５１とが透過体をなしている。

図３に示すように、駆動源４６０は、電磁コイル４６１と、電極パッド４６２とを備え、固定部４４４を搖動させるための動力源である。

電磁コイル４６１は、反射部４５０の背面側の表面に、当該反射部４５０の周縁部を周回するように配線されている。なお、電磁コイル４６１の配線は実際には複数巻きであるが、図３では単数巻きで示している。電磁コイル４６１の一対の端部は、一対のヒンジ部４４２を通って、第２フレーム４４０の枠部４４１まで配線されている。電磁コイル４６１の一対の端部には、電極パッド４６２が電気的に接続されている。

電極パッド４６２は、第２フレーム４４０の枠部４４１に設けられており、ミラードライバ２９０と電気的に接続されている。電極パッド４６２に対して、ミラードライバ２９０から電圧が付与されると、電磁コイル４６１には電流が流れる。このとき、電磁コイル４６１のうち、永久磁石４３１，４３２に対向する部分は、永久磁石４３１，４３２によって発生された磁界との相互作用により反射部４５０の厚み方向（Ｚ軸方向）にローレンツ力を受ける。その結果、反射部４５０には、ヒンジ部４４２を揺動中心として搖動する力が作用するので、固定部４４４および反射部４５０が、ヒンジ部４４２が揺動する。この揺動によって、反射部４５０を反射したレーザ光がＹ−Ｚ平面に平行に走査する。

例えば、第１の光走査デバイス４００Ａの場合には、この第１の光走査デバイス４００ＡのＹ−Ｚ平面と、投影装置２００の水平方向（主走査方向）とが平行となるように、第１の光走査デバイス４００Ａが投影装置２００内に配置されている。これにより、第１の光走査デバイス４００Ａを反射したレーザ光が水平方向に走査される。

他方、第２の光走査デバイス４００Ｂの場合には、この第２の光走査デバイス４００ＢのＹ−Ｚ平面と、投影装置２００の垂直方向（副走査方向）とが平行となるように、第２の光走査デバイス４００Ｂが投影装置２００内に配置されている。これにより、第２の光走査デバイス４００Ｂを反射したレーザ光が垂直方向に走査される。

なお、本実施の形態では、駆動源として、電磁コイル４６１および電極パッド４６２からなる駆動源４６０を例示して説明したが、反射部４５０を搖動させることができるのであれば、その他の駆動源を用いてもよい。その他の駆動源としては、例えば、圧電素子、静電アクチュエータ、電磁アクチュエータなどが挙げられる。

［補正モード］
次に、補正モードについて具体的に説明する。

補正モードとは、上述したように、通常モードにおける投影の前に、投影画像の補正に必要な情報を取得するモードである。ここで、複数の光源２６１，２６２，２６３の光軸にズレが生じている場合、各色光により形成された投影画像を正確に合成することができず、画素ズレが生じてしまう。例えば、青色光を発する光源２６３の光軸にズレが生じている場合を例示して説明する。なお、他の光源２６１，２６２の光軸にはズレがないものとするが、説明をわかりやすくするために以下では赤色光を発する光源２６１と、ズレが生じている光源２６３とを比較する。

図６および図７は、画素ズレを説明するための説明図である。

図６に示すように、Ｒ１０は、赤色光の単位投影画像（第１の単位投影画像）である。Ｂ１０は、青色光の単位投影画像（第２の単位投影画像）である。単位投影画像とは、投影部２１０から投影面ＳＣに投影された画像であり、水平方向（主走査方向）と垂直方向（副走査方向）とに所定の幅を有する矩形状の画像である。単位投影画像Ｒ１０と、単位投影画像Ｂ１０とは同形状である。

Ｒ２０は、赤色光の単位投影画像Ｒ１０の目標投影位置である。Ｂ２０は、青色光の単位投影画像Ｂ１０の目標投影位置である。目標投影位置は、単位投影画像を投影面ＳＣ上に投影する際の目標となる目標投影位置である。

図７に示すように、目標投影位置Ｒ２０と目標投影位置Ｂ２０とを一致させた場合、赤色光および青色光のどちらの光軸にもズレがなければ、単位投影画像Ｒ１０と単位投影画像Ｂ１０とも目標投影位置Ｒ２０，Ｂ２０で一致して、全体としてマゼンタの投影画像Ｍ１０が投影面ＳＣ上に形成される。マゼンタは、赤色光と青色光との合成色である。

しかし、青色光の光軸が例えば水平方向に１画素分だけずれている場合には、目標投影位置Ｂ２０から水平方向に１画素だけずれて単位投影画像Ｂ１０が投影される。このため、単位投影画像Ｒ１０では垂直方向に１列分だけ赤色のままの領域Ｒ１１が残り、単位投影画像Ｂ１０でも垂直方向に１列分だけ青色のままの領域Ｂ１１が残る。マゼンタの投影画像Ｍ１０も水平方向に１画素分だけ小さくなる。つまり、単位投影画像Ｂ１０を全体として１画素分水平に移動させればよい。これは光源２６３の青色光の出力タイミングを補正すれば可能である。具体的には、水平方向に走査している際の青色光の出力タイミングを補正すれば、水平方向の画素ズレを抑制することができる。他方、画素ズレが垂直方向に発生している場合には、垂直方向に走査している際の青色光の出力タイミングを補正すれば、垂直方向の画素ズレを抑制することができる。これは他の光源２６１，２６２の光軸ズレにおいても同様である。このように、画素ズレが抑制される出力タイミングで各光源２６１，２６２，２６３から各色光を出力させればよい。

ところで、各光源２６１，２６２，２６３の出力タイミングを補正するには、光軸のずれを補正するための情報を取得しておく必要がある。この情報の取得に、光検出器４１０の出力結果を用いる。

図８は、光軸のずれ量と、光検出器の出力結果との関係を示す説明図である。

図８では、赤色光を発する光源２６１に光軸ズレがなく、青色光を発する光源２６３に−θ度だけ光軸ズレがあり、緑色光を発する光源２６２に＋θ度だけ光軸ズレがある場合を例示している。なお、図８の上側のグラフは、揺動による反射部４５０の振れ角（走査角度）の時間変化を示している。反射部４５０の角度波形Ｄは、例えば正弦波となっており、１周期がレーザ光を所定方向に１往復走査させる角度変化を示している。走査角度が０度の場合、反射部４５０は光検出器４１０と正対した状態となる。正対した状態とは、反射部４５０の主面と、光検出器４１０の受光面とが平行となった状態である。

図９は、光検出器に正対した状態の反射部を示す説明図である。図９の（ａ）は光軸ズレのないレーザ光が反射部に照射された場合を示している。図９の（ｂ）は−θ度だけ光軸ズレがあるレーザ光が反射部に照射された場合を示している。図９の（ｃ）は＋θ度だけ光軸ズレがあるレーザ光が反射部に照射された場合を示している。

図９の（ａ）に示すように、光軸ズレのない赤色光（レーザ光Ｌ１）が反射部４５０に照射されている場合、光検出器４１０に正対した反射部４５０には、光軸Ｌ１０が当該反射部４５０の反射膜４５２に直交するようにレーザ光Ｌ１が照射される。このとき、レーザ光Ｌ１の一部は、透過開口部４５４を介して基板４５１に入射し、透過膜４５３を経て光検出器４１０に到達する。透過膜４５３に対するレーザ光Ｌ１の入射角は０度であるので、透過膜４５３の透過率が最も高い。つまり、光検出器４１０に至るレーザ光Ｌ１は、透過膜４５３を通過したことで最も強度が高い状態となり、その強度のまま光検出器４１０で受光される。

そして、図９の（ａ）に示す二点鎖線のように、反射部４５０が正方向又は負方向に揺動すると、透過膜４５３に対する入射角も０度から増加する。入射角が大きくなると透過膜４５３の透過率も小さくなるため、光検出器４１０に到達するレーザ光Ｌ１の強度も低下する。したがって、光検出器４１０の出力値（検出結果）も反射部４５０の走査角度に応じて変動することになる。

図８に示すように、光軸ズレのない赤色光の場合であると、光検出器４１０の出力波形Ｄ１は、反射部４５０の角度波形Ｄの倍の正弦波となる。光軸ズレがないため、出力波形Ｄ１における最大値は、いずれも反射部４５０の角度が０度となる時点に一致する。

図９の（ｂ）に示すように、−θ度だけ光軸ズレがある青色光（レーザ光Ｌ２）が反射部４５０に照射されている場合、光検出器４１０に正対した反射部４５０には、光軸Ｌ２０が当該反射部４５０の反射膜４５２に−θ度ずれてレーザ光Ｌ２が照射される。このとき、レーザ光Ｌ２の一部は、透過開口部４５４を介して基板４５１に入射し、透過膜４５３を経て光検出器４１０に到達する。透過膜４５３に対するレーザ光Ｌ２の入射角は０度−θ度であるので、透過膜４５３の透過率が最大値から低下する。

そして、反射部４５０が＋方向又はマイナス方向に揺動すると、透過膜４５３に対する入射角も変動する。この入射角が０度となる位置、つまり、反射部４５０が−θ度だけ揺れた位置（図９の（ｂ）における二点鎖線の位置）になると、透過膜４５３の透過率が最も高くなり、透過膜４５３を透過したレーザ光Ｌ２の強度は最も高くなる。

図８に示すように、−θ度だけ光軸ズレのある青色光の場合であると、光検出器４１０の出力波形Ｄ２は、反射部４５０の角度波形Ｄに対して−θ度分の位相がずれることになる。この位相差に基づいて、青色光を発する光源２６３の出力タイミングを補正すれば、投影面ＳＣ上での画素ズレを補正することができる。

図９の（ｃ）に示すように、＋θ度だけ光軸ズレがある緑色光（レーザ光Ｌ３）が反射部４５０に照射されている場合、光検出器４１０に正対した反射部４５０には、光軸Ｌ３０が当該反射部４５０の反射膜４５２に＋θ度ずれてレーザ光Ｌ３が照射される。このとき、レーザ光Ｌ３の一部は、透過開口部４５４を介して基板４５１に入射し、透過膜４５３を経て光検出器４１０に到達する。透過膜４５３に対するレーザ光Ｌ３の入射角は０度＋θ度であるので、透過膜４５３の透過率が最大値から低下する。

そして、反射部４５０が＋方向又はマイナス方向に揺動すると、透過膜４５３に対する入射角も変動する。この入射角が０度となる位置、つまり、反射部４５０が＋θ度だけ揺れた位置（図９の（ｃ）における二点鎖線の位置）になると、透過膜４５３の透過率が最も高くなり、透過膜４５３を透過したレーザ光Ｌ３の強度は最も高くなる。

図８に示すように、＋θ度だけ光軸ズレのある緑色光の場合であると、光検出器４１０の出力波形Ｄ３は、反射部４５０の角度波形Ｄに対して＋θ度分の位相がずれることになる。この位相差に基づいて、緑色光を発する光源２６２の出力タイミングを補正すれば、投影面ＳＣ上での画素ズレを補正することができる。

このように、各色光の出力波形Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３と、反射部４５０の角度波形Ｄとの位相差を、光軸ズレを補正するための情報とする。位相差に基づいて各光源２６１，２６２，２６３の出力タイミングを補正すれば、光軸ズレに起因した画素ズレを抑制することができる。

なお、位相差の取得に反射部４５０の角度波形Ｄを直接用いてもよいが、位相差の取得に駆動信号を用いることも可能である。以下の説明では、位相差の取得に駆動信号を用いた場合を例示して説明する。

以下、補正モードの流れについて説明する。なお、補正モードは、第１の光走査デバイス４００Ａおよび第２の光走査デバイス４００Ｂのそれぞれに対して同じ処理が実行される。

図１０は、補正モードの流れを示すフローチャートである。

ステップＳ１では、制御部２５０は、ミラードライバ２９０を制御して、駆動源４６０に駆動信号を付与し、反射部４５０を搖動させる。

ステップＳ２では、制御部２５０は、ミラードライバ２９０による反射部４５０の揺動が安定したか否かを判定し、安定していない場合はそのままの状態を維持し、安定した場合にはステップＳ３に移行する。

ステップＳ３では、制御部２５０は、記憶部２４５から補正用のレーザ光の照射パターンを読み出し、当該照射パターンに基づいて投影部２１０を制御して、光源２６１を点灯させ、赤色光を出力させる。

ステップＳ４では、制御部２５０は、光検出器４１０の出力波形Ｄ１と、駆動源４６０に対する駆動信号の周期とから、当該駆動信号の周期に対する赤色光の位相差を求める。

ステップＳ５では、制御部２５０は、投影部２１０を制御して、光源２６１を消灯する。

ステップＳ６では、制御部２５０は、記憶部２４５から補正用のレーザ光の照射パターンを読み出し、当該照射パターンに基づいて投影部２１０を制御して、光源２６２を点灯させ、緑色光を出力させる。

ステップＳ７では、制御部２５０は、光検出器４１０の出力波形Ｄ３と、駆動源４６０に対する駆動信号の周期とから、当該駆動信号の周期に対する緑色光の位相差を求める。

ステップＳ８では、制御部２５０は、投影部２１０を制御して、光源２６１を消灯する。

ステップＳ９では、制御部２５０は、記憶部２４５から補正用のレーザ光の照射パターンを読み出し、当該照射パターンに基づいて投影部２１０を制御して、光源２６３を点灯させ、青色光を出力させる。

ステップＳ１０では、制御部２５０は、光検出器４１０の出力波形Ｄ２と、駆動源４６０に対する駆動信号の周期とから、当該駆動信号の周期に対する青色光の位相差を求める。

ステップＳ１１では、制御部２５０は、投影部２１０を制御して、光源２６２を消灯する。

ステップＳ１２では、制御部２５０は、ステップＳ４で求めた赤色光の位相差と、ステップＳ７で求めた緑色光の位相差とから、赤色光を基準とした緑色光の位相差を求める。

ステップＳ１３では、制御部２５０は、ステップＳ４で求めた赤色光の位相差と、ステップＳ１０で求めた青色光の位相差とから、赤色光を基準とした青色光の位相差を求める。

ステップＳ１４では、制御部２５０は、赤色光を基準とした緑色光の位相差および青色光の位相差から、緑色光を発する光源２６２の出力タイミングと、青色光を発する光源２６３の出力タイミングとを取得する。これらの出力タイミングを用いれば、赤色光の出力タイミングに対応するように、緑色光および青色光の出力タイミングが補正されるので、各色光の光軸ズレが抑制される。したがって、光軸ズレを起因とした画素ズレも抑制される。

［投影動作］
次に、投影装置２００での投影動作について説明する。

図１１は、投影動作の流れを示すフローチャートである。

ステップＳ２１では、制御部２５０は投影部２１０を起動する。

ステップＳ２２では、制御部２５０は、加速度センサ２４０の検出結果に基づいて、投影装置２００自体の姿勢が一定時間以上安定しているか否かを判定し、一定時間以上安定していると判定した場合にはステップＳ２３に移行し、一定時間以上安定していない場合にはステップＳ２２を繰り返す。

ステップＳ２３では、制御部２５０は、補正モードを実行し、投影画像の補正に必要な情報を取得する。

ステップＳ２４では、制御部２５０は、通常モードの投影を実行する。このとき、制御部２５０は、補正モードで取得した出力タイミングを用いて、通常モードでの投影の出力タイミングを補正する。

ステップＳ２５では、制御部２５０は、投影部２１０を停止し、投影動作を終了する。

［効果等］
以上のように、本実施の形態によれば、反射部４５０は、反射膜４５２でレーザ光を反射しつつ、一部のレーザ光を透過開口部４５４で透過する。これにより、レーザ光の一部が、反射部４５０で反射された光とは異なる領域に案内される。このレーザ光の一部は透過体（基板４５１および反射膜４５２）を透過するが、透過体の透過率はレーザ光の入射角に応じて透過率が異なる。レーザ光の光軸にズレがある場合と、ない場合とでは透過体に対する入射角が異なるので、透過体を透過すればレーザ光の強度に異なりが生じる。つまり、透過体を透過したレーザ光の強度を光検出器４１０が検出すれば、光軸ズレを検出することができる。光軸ズレを検出することができれば、その検出結果に基づいて各レーザ光の出力タイミングを補正することができ、光軸ズレを起因とした画素ズレを補正することが可能となる。

また、光検出器４１０は、透過体を透過したレーザ光を受光する位置、つまり反射部４５０の背方となる位置に固定されている。この反射部４５０の背方は、投影には直接関係のない領域であるので、レーザ光の主たる光路と比しても、光検出器４１０の設置の自由度は高い。また、反射部４５０の揺動を考慮してある程度の余裕を持った空間も設けられている。この空間に光検出器４１０を設置しているので、投影装置２００の大型化を抑制することができる。

また、透過体が基板４５１と透過膜４５３とを備え、透過膜４５３が入射角に応じて透過率が異なるように形成された誘電体多層膜であるので、各層の材料、膜厚を調整することで、入射角に応じた透過率の調整を容易に行うことができる。また、透過体全体の透過率を調整しなくてもよく、製造効率も高めることができる。

また、透過開口部４５４が反射膜４５２に設けられた透過開口部であるので、透過性を有する反射膜自体をレーザ光が透過した場合と比しても、レーザ光の強度は低下しない。したがって、光検出器４１０でのレーザ光の検出精度を高めることができる。

また、基台である枠部４４１に対して反射部４５０を揺動自在に支持する支持部（ヒンジ部４４２および固定部４４４）が設けられているので、本体部４２０全体を搖動させて反射部４５０を搖動させる場合と比しても、搖動させる部分を小さくすることができる。したがって、揺動にかかるエネルギーを抑制することができる。

また、複数の光源２６１，２６２，２６３のうち、少なくとも２つの光源から出力され、搖動中の反射部４５０を透過した少なくとも２つのレーザ光を、光検出器４１０が個別に受光して出力したレーザ光毎の出力結果に基づいて、少なくとも２つの光源の少なくとも一つの出力タイミングが補正されるので、各光源２６１，２６２，２６３の光軸ズレを補正することができ、当該光軸ズレに起因する画素ズレを抑制することができる。

また、光検出器４１０が出力したレーザ光毎の出力結果の波形の位相差に基づいて、少なくとも２つの光源の少なくとも一つの出力タイミングを補正するので、より正確に出力タイミングを補正することができる。

（実施の形態２）
実施の形態１では、光検出器４１０の検出結果を、光軸ズレに起因した画素ズレ補正に適用した場合を例示して説明した。この実施の形態２では、反射部４５０の揺動の振幅制御に光検出器４１０の検出結果を適用する場合について説明する。

なお、以下の説明において、実施の形態１と同等の部分においては同一の符号を付してその説明を省略する場合がある。

図１２は、光検出器の出力強度比と、反射部の揺動の振幅との関係を示すグラフである。

図１２に示すように、光検出器４１０の出力強度比と、反射部４５０の揺動の振幅とは正比例の関係となっている。つまり、出力強度比が分かれば、反射部４５０の揺動の振幅も検出することができる。

ここで光検出器４１０の出力強度比とは、反射部４５０が１周期揺動した際における出力結果の波形の最大値と、複数の極小値それぞれの差の平均値とする。

図１３は、出力強度比を説明するための説明図である。

図１３に示すように、光軸ズレのない出力波形Ｄ５の場合には、最大値（極大値）と各極小値との差は常に一定（Δｄ５）となる。最大値と、複数の極小値それぞれとの差の平均値である出力強度比もΔｄ５となる。他方、光軸ズレのある出力波形Ｄ６の場合には、最大値と各極小値との差はばらつく（Δｄ６１、Δｄ６２）ことになる。これらの差の平均値Δｄａ＝（Δｄ６１＋Δｄ６２）／２を出力強度比とする。

反射部４５０の揺動の振幅は、投影画像のサイズを決める一因でもある。このため、出力強度比を目標範囲内に収めていれば、投影画像のサイズを一定に保つような投影を行うことができる。なお、図１３において、出力波形Ｄ１０は、出力強度比が目標範囲内に収まらなかった場合の一例を示している。

以下、反射部４５０の揺動制御について説明する。

図１４は、揺動制御の流れを示すフローチャートである。なお、この揺動制御においても、第１の光走査デバイス４００Ａと第２の光走査デバイス４００Ｂとで同じ処理が実行される。

ステップＳ３１では、制御部２５０は、レーザ光の走査位置を所定位置に合わせる。所定位置とはレーザ光を安定して走査することのできる位置である。

ステップＳ３２では、制御部２５０は、ミラードライバ２９０を制御して、駆動源４６０に駆動信号を付与し、反射部４５０を搖動させる。そして、制御部２５０は、反射部４５０が１周期揺動する間、レーザ光が照射されるように、投影部２１０を制御する。このとき、少なくとも一つの光源２６１，２６２，２８３を発光させればよい。

ステップＳ３３では、制御部２５０は、光検出器４１０の検出結果を基に出力強度比を検出する。これにより、反射部４５０の揺動の振幅が検出される。

ステップＳ３４では、制御部２５０は、検出した出力強度比が目標範囲に収まっているか否かを判定し、収まっている場合には揺動制御を終了し、収まっていない場合にはステップＳ３５に移行する。目標範囲に収まっている場合とは、反射部４５０の揺動の振幅が、所望のサイズの投影画像を形成できる場合である。他方、目標範囲に収まっていない場合とは、反射部４５０の揺動の振幅が、所望のサイズの投影画像を形成できない場合である。なお、ここでは、出力強度比を判定に用いたが、出力強度比に基づいて検出された反射部４５０の揺動の振幅を判定に用いてもよい。

ステップＳ３５では、制御部２５０は、検出した出力強度比と、目標範囲との差に応じて、駆動源４６０に対する駆動電圧を変更して、揺動制御を終了する。

これにより、出力強度比が目標範囲内に収まり、投影画像のサイズが所望の大きさに保たれることになる。

［効果等］
以上のように、本実施の形態によれば、光検出器４１０の出力結果に基づいて反射部４５０の揺動の振幅が検出されるので、検出した振幅が目標範囲に収まっていない場合には、当該目標範囲に収まるように反射部４５０の揺動の振幅を制御することができる。反射部４５０の揺動の振幅を制御できれば、投影画像のサイズを一定に保つような投影を行うことができる。

（実施の形態３）
実施の形態２では、反射部４５０の揺動の振幅制御に光検出器４１０の検出結果を適用した場合について説明した。この実施の形態３では、レーザ光の強度制御に光検出器４１０の検出結果を適用する場合について説明する。

なお、以下の説明において、実施の形態１と同等の部分においては同一の符号を付してその説明を省略する場合がある。

図１５は、光検出器の出力結果の最大値と、レーザ光の強度との関係を示すグラフである。

図１５に示すように、光検出器４１０の出力結果の最大値と、レーザ光の強度とは正比例の関係となっている。つまり、出力強度の最大値が分かれば、レーザ光の強度も検出することができる。

図１６は、出力結果の最大値を説明するための説明図である。

図１６に示すように、光軸ズレのない出力波形Ｄ５、光軸ズレのある出力波形Ｄ６のいずれにおいても、光検出器４１０の出力結果の最大値は変わらない。このため、最大値を目標範囲内に収めていれば、各色のレーザ光の強度を一定にすることができる。

以下、レーザ光の強度制御について説明する。

図１７は、レーザ光の強度制御の流れを示すフローチャートである。

ステップＳ４１では、制御部２５０は、レーザ光の走査位置を所定位置に合わせる。所定位置とはレーザ光を安定して走査することのできる位置である。

ステップＳ４２では、制御部２５０は、ミラードライバ２９０を制御して、駆動源４６０に駆動信号を付与し、反射部４５０を搖動させる。そして、制御部２５０は、反射部４５０が１周期揺動する間、レーザ光が照射されるように、投影部２１０を制御する。このとき、一つの光源（例えば光源２６１）を発光させる。

ステップＳ４３では、制御部２５０は、光検出器４１０の検出結果から最大値を検出する。これにより、光源２６１のレーザ光の強度が検出される。

ステップＳ４４では、制御部２５０は、検出した最大値が目標範囲に収まっているか否かを判定し、収まっている場合にはレーザ光の強度制御を終了し、収まっていない場合にはステップＳ４５に移行する。目標範囲に収まっている場合とは、レーザ光が所望の色、輝度で出力されている場合である。他方、目標範囲に収まっていない場合とは、レーザ光が所望の色、輝度で出力されていない場合である。なお、ここでは、最大値を判定に用いたが、最大値に基づいて検出されたレーザ光の強度を判定に用いてもよい。

ステップＳ４５では、制御部２５０は、検出した最大値と、目標範囲との差に応じて、光源２６１に対する駆動電圧を変更して、レーザ光の強度制御を終了する。

そして、この強度制御を残りの光源２６２，２６３に対しても個別に行う。

これにより、各光源２６１，２６２，２６３から発せられるレーザ光の強度が全て目標範囲に収まることになる。

［効果等］
以上のように、本実施の形態によれば、光検出器４１０が出力したレーザ光毎の出力結果の波形の最大値に基づいて、レーザ光毎の強度が検出されるので、検出したレーザ光毎の強度が目標範囲に収まっていない場合には、当該目標範囲に収まるようにレーザ光の強度を制御することができる。したがって、各レーザ光を安定した強度で走査させることができ、輝度と色のバランスが安定した投影画像を形成することができる。

以上、本発明の実施の形態に係る投影装置について説明したが、本発明は、この実施の形態に限定されるものではない。

［変形例１］
上記実施の形態では、透過膜４５３と基板４５１とが透過体をなしている場合を例示して説明したが、透過膜４５３を設けず基板４５１単体を透過体としてもよい。この場合、基板４５１は、当該基板４５１に対するレーザ光の入射角に応じて透過率が異なるように形成されている。この場合、基板４５１を誘電体多層膜により形成していればよい。

また、上記実施の形態では、１軸駆動の光走査デバイス４００を例示して説明したが、二軸駆動の光走査デバイスに対しても、本開示の特徴的な構成は適用可能である。

また、上記の各装置は、具体的には、マイクロプロセッサ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、ハードディスクドライブ、ディスプレイユニット、キーボード、マウスなどから構成されるコンピュータシステムとして構成されても良い。ＲＡＭまたはハードディスクドライブには、コンピュータプログラムが記憶されている。マイクロプロセッサが、コンピュータプログラムに従って動作することにより、各装置は、その機能を達成する。ここでコンピュータプログラムは、所定の機能を達成するために、コンピュータに対する指令を示す命令コードが複数個組み合わされて構成されたものである。

さらに、上記の各装置を構成する構成要素の一部または全部は、１個のシステムＬＳＩ（Ｌａｒｇｅ Ｓｃａｌｅ Ｉｎｔｅｇｒａｔｉｏｎ：大規模集積回路）から構成されているとしても良い。システムＬＳＩは、複数の構成部を１個のチップ上に集積して製造された超多機能ＬＳＩであり、例えば、マイクロプロセッサ、ＲＯＭ、ＲＡＭなどを含んで構成されるコンピュータシステムを含む。この場合、ＲＯＭには、コンピュータプログラムが記憶されている。マイクロプロセッサが、コンピュータプログラムに従って動作することにより、システムＬＳＩは、その機能を達成する。

さらにまた、上記の各装置を構成する構成要素の一部または全部は、各装置に脱着可能なＩＣカードまたは単体のモジュールから構成されているとしても良い。ＩＣカードまたはモジュールは、マイクロプロセッサ、ＲＯＭ、ＲＡＭなどから構成されるコンピュータシステムである。ＩＣカードまたはモジュールは、上記の超多機能ＬＳＩを含むとしても良い。マイクロプロセッサが、コンピュータプログラムに従って動作することにより、ＩＣカードまたはモジュールは、その機能を達成する。このＩＣカードまたはこのモジュールは、耐タンパ性を有するとしても良い。

また、本発明は、上記に示す方法であるとしても良い。また、本発明は、これらの方法をコンピュータにより実現するコンピュータプログラムであるとしても良いし、上記コンピュータプログラムからなるデジタル信号であるとしても良い。

さらに、本発明は、上記コンピュータプログラムまたは上記デジタル信号をコンピュータ読み取り可能な非一時的な記録媒体、例えば、フレキシブルディスク、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ、ＭＯ、ＤＶＤ、ＤＶＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ−ＲＡＭ、ＢＤ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標） Ｄｉｓｃ）、半導体メモリなどに記録したものとしても良い。また、これらの非一時的な記録媒体に記録されている上記デジタル信号であるとしても良い。

また、本発明は、上記コンピュータプログラムまたは上記デジタル信号を、電気通信回線、無線または有線通信回線、インターネットを代表とするネットワーク、データ放送等を経由して伝送するものとしても良い。

また、本発明は、マイクロプロセッサとメモリを備えたコンピュータシステムであって、上記メモリは、上記コンピュータプログラムを記憶しており、上記マイクロプロセッサは、上記コンピュータプログラムに従って動作するとしても良い。

また、上記プログラムまたは上記デジタル信号を上記非一時的な記録媒体に記録して移送することにより、または上記プログラムまたは上記デジタル信号を上記ネットワーク等を経由して移送することにより、独立した他のコンピュータシステムにより実施するとしても良い。

さらに、上記実施の形態及び上記変形例をそれぞれ組み合わせるとしてもよい。

本発明は、合成された複数のレーザ光を走査させる光走査デバイスおよび複数のレーザ光により投影画像を生成する投影装置に対して利用できる。

２００ 投影装置
２５０ 制御部
２６１，２６２，２６３ 光源
４００，４００Ａ，４００Ｂ 光走査デバイス
４１０ 光検出器
４２０ 本体部
４４１ 枠部（基台）
４４２ ヒンジ部（支持部）
４４４ 固定部（支持部）
４５０ 反射部
４５１ 基板（透過体）
４５２ 反射膜
４５３ 透過膜（透過体）
４５４ 透過開口部（透過部）

Claims (8)

1. 複数の光源から出力されたレーザ光を走査させる光走査デバイスであって、
   光検出器と、
   前記レーザ光を反射して走査させる本体部と、を備え、
   前記本体部は、
   前記光検出器に対して相対的に揺動することで前記レーザ光を反射しながら走査させる反射部を備え、
   前記反射部は、
   透過体と、
   前記透過体の第１の面に形成され、前記レーザ光を反射する反射膜と、
   前記透過体の前記第１の面に形成され、前記レーザ光の一部を透過する透過部とを備え、
   前記透過体は、当該透過体に対する前記レーザ光の入射角に応じて透過率が異なっており、
   前記光検出器は、前記透過体を透過した前記レーザ光を受光する位置に固定されている
   光走査デバイス。
2. 前記透過体は、
   前記第１の面をなす、透過性を有する基板と、
   前記基板の、前記第１の面とは反対側の第２の面に形成される透過膜とを備え、
   前記透過膜は、前記入射角に応じて透過率が異なるように形成された誘電体多層膜である
   請求項１に記載の光走査デバイス。
3. 前記透過部は、前記反射膜に設けられた透過開口部である
   請求項１又は２に記載の光走査デバイス。
4. 前記本体部は、
   基台と、
   前記基台に対して前記反射部を揺動自在に支持する支持部とを有する
   請求項１〜３のいずれか一項に記載の光走査デバイス。
5. 請求項１〜４のいずれか一項に記載の光走査デバイスと、
   前記複数の光源と、
   前記複数の光源のそれぞれの出力タイミングを制御する制御部とを備え、
   前記制御部は、
   前記複数の光源のうち、少なくとも２つの光源から出力され、搖動中の前記反射部を透過した少なくとも２つの前記レーザ光を、前記光検出器が個別に受光して出力した前記レーザ光毎の出力結果に基づいて、前記少なくとも２つの光源の少なくとも一つの出力タイミングを補正する
   投影装置。
6. 前記制御部は、前記光検出器が出力した前記レーザ光毎の出力結果の波形の位相差に基づいて、前記少なくとも２つの光源の少なくとも一つの出力タイミングを補正する
   請求項５に記載の投影装置。
7. 前記制御部は、
   前記光検出器の出力結果に基づいて、前記反射部の揺動の振幅を検出する
   請求項５又は６に記載の投影装置。
8. 前記制御部は、
   前記光検出器が出力した前記レーザ光毎の出力結果の波形の最大値に基づいて、前記レーザ光毎の強度を検出する
   請求項６に記載の投影装置。