JP2017066371A - 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

【課題】 成形性、表面硬度、基材密着性に優れた硬化物を与える活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供する。【解決手段】 １個の水酸基を有する単官能（メタ）アクリレートおよび１個の水酸基を有する単官能（メタ）アクリルアミドからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物と、イソシアネート基を少なくとも２個有する化合物と、１級水酸基または１級アミノ基を少なくとも１個有し、（メタ）アクリロイル基を有しない化合物とが反応した構造を有する１個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物を含有してなる活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。【選択図】 なし

Description

本発明は活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に関する。

携帯電話機等の携帯情報端末機器、ノート型パソコン、家電製品、自動車内外装部品などに多く用いられている樹脂成形品は、プラスチック樹脂を成形後に、その意匠性を高めるため、通常その表面には印刷等による加飾を施している。近年、樹脂成形品への加飾方法として、意匠性の高い加飾を行うことができる、フィルムの印刷や塗布により図柄やハードコート層を設けた加飾フィルムを用い、樹脂成形物の表面に設けるインモールド成型が普及してきた。

インモールド成型法の一つであるインモールド転写は、基材フィルムの片面にハードコート層や図柄層、接着層等を積層した転写箔が形成された加飾フィルムを、射出成形用金型の内部に保持し、射出成形と同時に転写箔を樹脂成形物の表面へ転写する技術である。このインモールド転写の場合、加飾フィルムのハードコート層や図柄層の支持体である基材フィルムは製品としては最終的に剥離され、樹脂成形物表面へは残らない。

また、インモールド成型法のうちのもう一つの方法であるインモールドラミネーションは基材フィルムの片面にハードコート層を、もう一方の面に図柄層や接着層等を形成した加飾フィルムを射出成形用金型の内部に保持し、射出成形と同時に加飾フィルムを樹脂成形物表面へ接着する技術である。インモールドラミネーションの類似法としてフィルムインサート成型があり、加飾フィルムを予備加熱後、金型により加飾フィルムの予備成形物を得てから、次工程として射出成形用金型に保持し、射出成形により予備成形した加飾フィルム成形物と樹脂成形物とを接着し、一体化させる方法である。このインモールドラミネーションでは、加飾フィルムは樹脂成形物と一体化し、上記インモールド転写と比べると深絞りの加飾成形物を製造できる点が特徴である。

上述の成形方法に用いられる加飾フィルムにおいては、主に次のような特性が要求される。
（１）成形性：３次元成形に追従する十分な伸長性と、伸ばされてもハードコート層にクラック等が入らないことが重要である。
（２）表面硬度（鉛筆硬度、耐擦傷性）：加飾フィルムは樹脂成形物と一体化しハードコート層を最表面に配置し、樹脂成形物の表面保護機能を持たせる必要がある。そのためには、高い表面硬度が必要とされるが、一般にハードコート層の硬さと伸長性とはトレードオフの関係にあり、両者の特性を両立させることが従来の課題となっていた。
（３）基材密着性：基材フィルムとハードコート層との基材密着性が悪いと、成形時に膜剥がれ等の不具合が発生する。

成形用ハードコートフィルムに伸長性（成形性）と表面硬度（鉛筆硬度、耐擦傷性）の特性を付与する対策として、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物に無機酸化物微粒子を含有させる方法（例えば特許文献１）、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物にウレタンオリゴマーを含有させる方法（例えば特許文献２）などが提案されている。

特開２０１４−０６９５２３号公報 特開２０１０−００７０４９号公報

しかしながら、特許文献１の方法では射出成形用のノズルを傷つけてしまう等の問題があった。また、特許文献２の方法ではハードコート層に要求される表面硬度を付与させるのに不十分であった。
本発明の目的は、成形性、表面硬度、基材密着性に優れた硬化物を与える活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供することにある。

本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討した結果本発明に到達した。すなわち、１個の水酸基を有する単官能（メタ）アクリレート（Ａ１）および１個の水酸基を有する単官能（メタ）アクリルアミド（Ａ２）からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物（Ａ）と、イソシアネート基を少なくとも２個有する化合物（Ｂ）と、１級水酸基または１級アミノ基を少なくとも１個有し、（メタ）アクリロイル基を有しない化合物（Ｄ）とが反応した構造を有する１個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物（Ｅ）を含有してなる活性エネルギー線硬化型樹脂組成物（Ｘ）である。

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物（Ｘ）は、以下の効果を奏する。
（１）硬化物に、優れた成形性を付与する。
（２）該硬化物は、表面硬度に優れる。
（３）該硬化物は、基材密着性に優れる。

［化合物（Ａ）］
本発明における化合物（Ａ）は、１個の水酸基を有する単官能（メタ）アクリレート（Ａ１）および１個の水酸基を有する単官能（メタ）アクリルアミド（Ａ２）からなる群から選ばれる少なくとも１種である。

１個の水酸基を有する単官能（メタ）アクリレート（Ａ１）としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチル−フタル酸、１−（メタ）アクリロイルオキシ−３−ヒドロキシアダマンタン等が挙げられる。

１個の水酸基を有する単官能（メタ）アクリルアミド（Ａ２）としては、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（ヒドロキシメチル）（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。

上記化合物（Ａ）のうち、硬化性および硬化物の機械的物性（表面硬度等）の観点から、好ましいのは（Ａ１）、さらに好ましいのは２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレートである。
なお、上記（Ａ）は、１種単独でも、２種以上を併用してもよい。

［イソシアネート基を少なくとも２個有する化合物（Ｂ）］
本発明における、イソシアネート基を有する化合物（Ｂ）としては、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、トルエンジイソシアネート（ＴＤＩ）、キシリレンジイソシアナート（ＸＤＩ）、水添ＸＤＩ、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、水添ＭＤＩ等が挙げられる。

上記化合物（Ｂ）のうち、硬化性および硬化物の機械的物性の観点から、好ましいのはジイソシアネート（イソシアネート基を２個有するもの）、さらに好ましいのはＩＰＤＩである。
なお、上記（Ｂ）は、１種単独でも、２種以上を併用してもよい。

［１級水酸基または１級アミノ基を少なくとも１個有し、（メタ）アクリロイル基を有しない化合物（Ｄ）］
本発明における、１級水酸基または１級アミノ基を少なくとも１個有し、（メタ）アクリロイル基を有しない化合物（Ｄ）としては、モノエタノールアミン、１−アミノ−２−プロパノール、３，４−ジヒドロキシベンジルアルコール、２−アセトアミドエタノール、Ｎ−アセチルエチレンジアミン、２−アミノベンズアミド、３−アミノベンズアミド、４−アミノベンズアミド、６−アミノウラシル、６−アミノチミン、シトシン、４−アセトアミド−Ｎ−（２−アミノフェニル）ベンズアミド、２−アセトアミド−６−アミノピリジン、Ｎ−アセチル−２−メチル−１，３−プロパンジアミン、アデニン、グアニン等が挙げられる。

上記化合物（Ｄ）のうち、硬化性および硬化物の機械的物性の観点から、好ましいのは少なくとも１個の１級水酸基を有し１級アミノ基を有しないもの、少なくとも１個の１級アミノ基を有し１級水酸基を有しないもの、１個の１級水酸基と１個の１級アミノ基を有するものであり、さらに好ましいのは、３，４−ジヒドロキシベンジルアルコール、２−アミノベンズアミド、４−アミノベンズアミド、６−アミノウラシルである。
なお、上記（Ｄ）は、１種単独でも、２種以上を併用してもよい。

［１個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物（Ｅ）］
本発明における化合物（Ｅ）は、前記化合物（Ａ）と、前記化合物（Ｂ）と、前記化合物（Ｄ）とが反応した構造を有するものである。

化合物（Ｅ）のうち、好ましいのは前記（Ｄ）が１級水酸基を有する場合、前記（Ｅ）が下記一般式（１）で表されるものであり、前記（Ｄ）が１級アミノ基を有する場合、前記（Ｅ）が下記一般式（２）で表されるものである。

（α１）−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−（β１）−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−（γ１） （１）

［一般式（１）中、（α１）は化合物（Ａ）から１個の水酸基を除いた残基；（β１）は化合物（Ｂ）から２個のイソシアネート基を除いた残基；（γ１）は化合物（Ｄ）から１個の１級水酸基を除いた残基。］

（α２）−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−（β２）−ＮＨ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−（γ２） （２）

［一般式（２）中、（α２）は化合物（Ａ）から１個の水酸基を除いた残基；（β２）は化合物（Ｂ）から２個のイソシアネート基を除いた残基；（γ２）は化合物（Ｄ）から１個の１級アミノ基を除いた残基。］

本発明における化合物（Ｅ）は、種々の方法で製造できるが、工業上の観点から好ましいのは以下（ｉ）〜（ｉｉ）の方法である。
（ｉ）まず、化合物（Ａ）と、化合物（Ｂ）とを、公知の方法で反応させて、少なくとも１個のウレタン基と少なくとも１個のイソシアネート基とを有する化合物（Ｃ）を得る。
（ｉｉ）次に、前記化合物（Ｃ）と、前記化合物（Ｄ）とを、必要により有機溶剤［例えば、酢酸エチル、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）］の存在下で、反応させることにより、化合物（Ｅ）を得る。

［前記（Ｅ）以外の（メタ）アクリレート化合物（Ｆ）］
本発明における、（Ｅ）以外の（メタ）アクリロイル基を有する化合物（Ｆ）としては、１個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物（Ｆ１）及び２個以上（好ましくは２〜６個）の（メタ）アクリロイル基を有する化合物（Ｆ２）が挙げられる。
該（Ｆ１）としては、炭素数３〜３５の単官能（メタ）アクリルアミド（Ｆ１１）、炭素数３〜３５の単官能（メタ）アクリレート（Ｆ１２）が挙げられる。
該（Ｆ２）としては、炭素数８〜５０の２〜６官能（メタ）アクリレート（Ｆ２１）２官能以上のウレタン（メタ）アクリレート（Ｆ２２）、２官能以上のポリエステル（メタ）アクリレート（Ｆ２３）が挙げられる。

炭素数３〜３５の単官能（メタ）アクリルアミド（Ｆ１１）：
例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド及びＮ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、アクリロイルモルフォリン；

炭素数３〜３５の単官能（メタ）アクリレート化合物（Ｆ１２）：
例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−オクチル（メタ）アクリレート、２，３−ジメチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、４−ｎ−ブチルシクロへキシル（メタ）アクリレート、ボルニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルジグリコール（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、２−クロロエチル（メタ）アクリレート、４−ブロモブチル（メタ）アクリレート、シアノエチル（メタ）アクリレート、ブトキシメチル（メタ）アクリレート、メトキシプロピレンモノ（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、アルコキシメチル（メタ）アクリレート、２−エチルへキシルカルビトール（メタ）アクリレート、アルコキシエチル（メタ）アクリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレート、２，２，２−テトラフルオロエチル（メタ）アクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシル（メタ）アクリレート、４−ブチルフェニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２，４，５−テトラメチルフェニル（メタ）アクリレート、４−クロロフェニル（メタ）アクリレート、フェノキシメチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジロキシブチル（メタ）アクリレート、グリシジロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジロキシプロピル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、トリメトキシシリルプロピル（メタ）アクリレート、トリメトキシシリルプロピル（メタ）アクリレート、トリメチルシリルプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレンオキサイドモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、オリゴエチレンオキサイドモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、トリフロロエチル（メタ）アクリレート、パーフロロオクチルエチル（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド［以下、ＥＯと略記することがある］変性フェノール（メタ）アクリレート、ＥＯ変性クレゾール（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド［以下、ＰＯと略記することがある］変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート及びＥＯ変性−２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−（２−ビニルオキシエトキシ）エチル（メタ）アクリレートが挙げられる。

炭素数８〜５０の２〜６官能（メタ）アクリレート（Ｆ２１）〔後述の（Ｆ２２）および（Ｆ２３）以外のもの〕：
例えば、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、２，４−ジメチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ブチルエチルプロパンジオールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンメタノールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、オリゴエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、オリゴプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンのアルキレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスルトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（（メタ）アクリロイルオキシプロピル）エーテル、ソルビトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールの炭素数２〜４のアルキレンオキサイド１〜３０モル付加物のトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ソルビトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールの炭素数２〜４のアルキレンオキサイド１〜３０モル付加物のテトラ（メタ）アクリレート、ソルビトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート；

２官能以上（好ましくは２〜６官能、さらに好ましくは２官能）のウレタン（メタ）アクリレート（Ｆ２２）は、イソシアネートに水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体を反応させることにより得られる化合物であれば特に限定されず、例えば、２つのイソシアネート基を有する化合物１当量に対して水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体２当量を触媒として金属系化合物（例えばスズ系）存在下で反応させることによって得ることができる。

２官能以上のウレタン（メタ）アクリレート（Ｆ２２）の原料となるイソシアネートとしては特に限定されず、例えば、イソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート（ＭＤＩ）、水添ＭＤＩ、ポリメリックＭＤＩ、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイオシアネート（ＸＤＩ）、水添ＸＤＩ、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフォスフェート、テトラメチルキシレンジイソシアネート、１，６，１０−ウンデカントリイソシアネートが挙げられる。

また、上記イソシアネートとしては、例えば、エチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、トリメチロールプロパン、（ポリ）プロピレングリコール、カーボネートジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカプロラクトンジオール等のポリオールと過剰のイソシアネートとの反応により得られる鎖延長されたイソシアネート化合物も用いることができる。

２官能以上のウレタン（メタ）アクリレート（Ｆ２２）の原料となる水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体としては特に限定されず、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等の市販品やエチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ポリエチレングリコール等の二価のアルコールのモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン等の三価のアルコールのモノ（メタ）アクリレート又はジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ変性エポキシ（メタ）アクリレート等のエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

２官能以上（好ましくは２〜６官能、さらに好ましくは２官能）のポリエステル（メタ）アクリレート（Ｆ２３）は、多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより、あるいは、多価カルボン酸にアルキレンオキサイドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。

２官能以上のポリエステル（メタ）アクリレート（Ｆ２３）の構成単位である多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，４−ブタンジオ−ル、ネオペンチルグリコール、１，４−ブテンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール等のアルキレングリコール；ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のアルキレンエーテルグリコール；１，４−シクロヘキサンジメタノール、水素添加ビスフェノールＡ等の脂環式ジオール；ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ等のビスフェノール；ビスフェノールのアルキレンオキサイド（ＥＯ、ＰＯ、ＢＯ等）付加物（平均付加モル数２〜８）、グリセリン等が挙げられる。

２官能以上のポリエステル（メタ）アクリレート（Ｆ２３）の構成単位である多価カルボン酸としては、例えば、マレイン酸、フマール酸、シトラコン酸、イタコン酸、グルタコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セバンチン酸、アゼライン酸、マロン酸、ｎ−ドデセニルコハク酸、イソドデセニルコハク酸、ｎ−ドデシルコハク酸、イソドデシルコハク酸、ｎ−オクテニルコハク酸、イソオクテニルコハク酸、ｎ−オクチルコハク酸、イソオクチルコハク酸、アコニット酸等、またはこれらの酸の無水物もしくは低級アルキルエステル等が挙げられる。

上記化合物（Ｆ）のうち、硬化性および硬化物の機械的物性の観点から好ましいのは（Ｆ２）、さらに好ましいのは（Ｆ２１）、（Ｆ２２）、とくに好ましいのは（Ｆ２２）である。
また、（Ｆ）の重量に基づく、（Ｆ２１）および（Ｆ２２）の合計重量は、後述の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物のハンドリング性および硬化性、硬化物の機械的物性の観点から、好ましくは５０％以上、さらに好ましくは７０％以上、とくに好ましくは９０％以上である。
なお、上記（Ｆ）は、１種単独でも、２種以上を併用してもよい。

［活性エネルギー線硬化型樹脂組成物（Ｘ）］
本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物（Ｘ）は、前記化合物（Ｅ）を含有してなる。さらに、該（Ｘ）は、前記化合物（Ｆ）を含有してもよい。
硬化物の成形性、機械的物性、基材密着性の観点から、｛（Ｅ）＋（Ｆ）｝の重量に基づいて、（Ｅ）が好ましくは５０〜１００重量％、さらに好ましくは８０〜１００重量％、とくに好ましくは９０〜１００重量％である。

前記（Ｅ）の水酸基、ウレタン基、ウレア基、アミド基および２級アミノ基に含まれる水素原子の合計濃度（ｍｍｏｌ／ｇ）は、成形性および機械的物性の観点から好ましくは５〜１５ｍｍｏｌ／ｇ、さらに好ましくは７〜１２ｍｍｏｌ／ｇ、とくに好ましくは８〜１１ｍｍｏｌ／ｇである。

｛（Ｅ）＋（Ｆ）｝の合計重量に基づく、（メタ）アクリレート基濃度［ｘ］（ｍｍｏｌ／ｇ）は、硬化性および硬化収縮の観点から好ましくは１〜１０ｍｍｏｌ／ｇ、さらに好ましくは１．５〜８ｍｍｏｌ／ｇ、とくに好ましくは１．５〜５ｍｍｏｌ／ｇである。｛（Ｅ）＋（Ｆ）｝の（メタ）アクリレート基濃度［ｘ］（ｍｍｏｌ／ｇ）は下記式（１）により算出できる。

［ｘ］＝（ａ₀×ｃ₀／Ｍ₀＋ａ₁×ｃ₁／Ｍ₁＋・・・
＋ａ_i×ｃ_i／Ｍ_i＋・・・＋ａ_n×ｃ_n／Ｍ_n）×１０ （１）

上記式（１）中、ａ₀、ａ₁、・・・ａ_i、・・・ａ_nは、（Ｘ）を構成する（メタ）アクリレート基含有化合物各成分（以下各成分と略記）の重量％、ｃ₀、ｃ₁、・・・ｃ_i、・・・ｃ_nは、各成分中の（メタ）アクリレート基の数、Ｍ₀、Ｍ₁、・・・Ｍ_i、・・・Ｍ_nは、各成分の分子量を表す。

また、（Ｅ）の重量に基づく、（メタ）アクリレート基濃度［ｙ］（ｍｍｏｌ／ｇ）は、硬化性および硬化収縮の観点から好ましくは１〜１０ｍｍｏｌ／ｇ、さらに好ましくは１．５〜８ｍｍｏｌ／ｇ、とくに好ましくは１．５〜３ｍｍｏｌ／ｇである。（Ｅ）の（メタ）アクリレート基濃度［ｙ］（ｍｍｏｌ／ｇ）は、前記（メタ）アクリレート基濃度［ｘ］と場合と同様にして、算出できる。

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、本発明の効果を阻害しない範囲で、必要により、光重合開始剤（Ｇ１）、レベリング剤（Ｇ２）、酸化防止剤（Ｇ３）、紫外線吸収剤（Ｇ４）およびフィラー（Ｇ５）からなる群から選ばれる少なくとも１種の添加剤（Ｇ）を含有してもよい。

光重合開始剤（Ｇ１）としては、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン、１，２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、１，２−オクタンジオン−１−（４−［フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン−１−（９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（０−アセチルオキシム）、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム等が挙げられる。

レベリング剤（Ｇ２）としては、ポリジメチルシロキサン、その共重合物、ポリジメチルシロキサン骨格を有するアクリルポリマー、ポリジメチルシロキサン骨格を有するウレタンポリマー、及びこれらにアクリロイル基やメタクリロイル基を導入し、活性エネルギー線反応性を付与した化合物等が挙げられる。

酸化防止剤（Ｇ３）としては、ジ−ｔ−ブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、ペンタエリスリチル・テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，２−チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、オクチル化ジフェニルアミン、２，４，−ビス［（オクチルチオ）メチル］−Ｏ−クレゾール、イソオクチル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ジブチルヒドロキシトルエン等が挙げられる。

紫外線吸収剤（Ｇ４）としては、２−（２−ヒドロキシ−５−メチル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ｔ−ペンチルベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３，−テトラメチルブチル）］ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｓ−ブチル−５’−ｔ−ブチルベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３−ドデシル−５’−メチルベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）］−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、３−［３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネートとポリエチレングリコール等が挙げられる。
フィラー（Ｇ５）としては、シリカ、アルミナ及びこれらにアクリロイル基やメタクリロイル基を導入し、活性エネルギー線反応性を付与した化合物等が挙げられる。

これらの添加剤（Ｇ）は、１種類または２種類以上使用できる。添加剤（Ｇ）の添加量は、（Ｅ）と（Ｆ）との合計重量に対して、好ましくは１０重量％以下、さらに好ましくは０．１〜５重量％である。

本発明の組成物は、塗工の際に、塗工に適した粘度に調整するために、必要に応じて溶剤で希釈してもよい。溶剤の使用量は、溶剤を加える前の該組成物の重量に基づいて通常２，０００％以下、塗工性および生産性の観点から好ましくは１０〜５００％である。また、塗工料粘度は、使用時の温度（通常５〜６０℃）で、通常５〜５００，０００ｍＰａ・ｓ、安定塗工の観点から好ましくは５０〜１０，０００ｍＰａ・ｓである。

該溶剤としては、本発明の組成物中の樹脂分を溶解するものであれば特に限定されることはなく、具体的には、芳香族炭化水素（例えばトルエン、キシレンおよびエチルベンゼン）、エステルまたはエーテルエステル（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチルおよびメトキシブチルアセテート）、エーテル（例えばジエチルエーテル、ＴＨＦ、エチレングリコールのモノエチルエーテル、エチレングリコールのモノブチルエーテル、プロピレングリコールのモノメチルエーテルおよびジエチレングリコールのモノエチルエーテル）、ケトン（例えばアセトン、ＭＥＫ、ＭＩＢＫ、ジ−ｎ−ブチルケトンおよびシクロヘキサノン）、アルコール（例えばメタノール、エタノール、ｎ−およびｉ−プロパノール、ｎ−、ｉ−、ｓｅｃ−およびｔ−ブタノール、２−エチルヘキシルアルコールおよびベンジルアルコール）、アミド（例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等）、スルホキシド（例えばジメチルスルホキシド）、水、およびこれらの２種以上の混合溶剤が挙げられる。
これらのうち保存安定性および生産性の観点から好ましいのは沸点が７０〜１００℃のエステル、ケトンおよびエーテル、さらに好ましいのは酢酸エチル、ＭＥＫ、ＴＨＦおよびこれらの混合物である。

本発明の硬化物は、前記活性エネルギー線硬化型樹脂組成物（Ｘ）が硬化したものである。すなわち、本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、活性エネルギー線により硬化して硬化物となる。該活性エネルギー線としては、例えば紫外線、電子線が挙げられる。
該紫外線を照射する場合、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等を備えた公知の紫外線照射装置を使用することができる。紫外線の照射量は、好ましくは、３０〜２，０００ｍＪ／ｃｍ²である。照射量が３０ｍＪ／ｃｍ²未満では型樹脂組成物の硬化が不十分となり、２，０００ｍＪ／ｃｍ²を超えると、硬化物が黄変劣化する場合がある。
該電子線を照射する場合、公知の電子線照射装置を使用することができる。電子線の照射量は、好ましくは１〜１０Ｍｒａｄである。照射量が１Ｍｒａｄ未満では、硬化型樹脂組成物の硬化が不十分となり、１０Ｍｒａｄを超えると硬化物が劣化する場合がある。

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、活性エネルギー線で硬化した硬化物に成形性、機械的物性、基材密着性を付与することができる。
このため、該組成物は、種々の用途（成形品、コーティング剤等）に適用でき、とりわけコーティング剤（建築材の加飾フィルム、成形用ハードコートフィルム等）に有用である。

以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下の実施例において部は重量部、％は重量％を表す。

＜製造例１＞
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、２−ヒドロキシエチルアクリレート［商品名「ＨＥＡ」、大阪有機化学（株）製］（Ａ１−１）１１６部、ＩＰＤＩ［商品名「デスモジュールＩ」、住化バイエルウレタン（株）製］（Ｂ−１）２２２部、ビスマストリス（２−エチルへキサノエート）［商品名「ネオスタンＵ−６００」、日東化成（株）製］０．３４部を仕込み、６０℃で２時間攪拌して、１個のウレタン基と１個のイソシアネート基とを有する化合物（Ｃ−１）３３８部を得た。

＜製造例２＞
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、４−ヒドロキシブチルアクリレート［商品名「４−ＨＢＡ」、大阪有機化学（株）製］（Ａ１−２）１４４部、ＩＰＤＩ［商品名「デスモジュールＩ」、住化バイエルウレタン（株）製］（Ｂ−１）２２２部、ビスマストリス（２−エチルへキサノエート）［商品名「ネオスタンＵ−６００」、日東化成（株）製］０．３７部を仕込み、６０℃で２時間攪拌して、１個のウレタン基と１個のイソシアネート基とを有する化合物（Ｃ−２）３６６部を得た。

＜製造例３＞
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート［商品名「ＣＨＤＭＭＡ」、日本化成（株）製］（Ａ１−３）１４４部、ＩＰＤＩ［商品名「デスモジュールＩ」、住化バイエルウレタン（株）製］（Ｂ−１）２２２部、ビスマストリス（２−エチルへキサノエート）［商品名「ネオスタンＵ−６００」、日東化成（株）製］０．４２部を仕込み、６０℃で２時間攪拌して、１個のウレタン基と１個のイソシアネート基とを有する化合物（Ｃ−３）４２０部を得た。

＜製造例４＞
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アクリルアミド［商品名「ＨＥＡＡ」、ＫＪケミカルズ（株）製］（Ａ２−１）１１５部、ＩＰＤＩ［商品名「デスモジュールＩ」、住化バイエルウレタン（株）製］（Ｂ−１）２２２部、ビスマストリス（２−エチルへキサノエート）［商品名「ネオスタンＵ−６００」、日東化成（株）製］０．４２部を仕込み、６０℃で２時間攪拌して、１個のウレタン基と１個のイソシアネート基とを有する化合物（Ｃ−４）３３７部を得た。

＜製造例５＞
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、化合物（Ｃ−１）３３８部、３，４−ジヒドロキシベンジルアルコール［東京化成工業（株）製］（Ｄ−１）１４０部、ビスマストリス（２−エチルへキサノエート）［商品名「ネオスタンＵ−６００」、日東化成（株）製］０．４８部、蒸留精製したＴＨＦ（テトラヒドロフラン）４７９部を仕込み、還流温度で２４時間攪拌後、空気／窒素混合気体（体積比１／４）を吹き込みながらＴＨＦを減圧留去し、化合物（Ｅ−１）４７９部を得た。
なお、化合物（Ｅ−１）は、水酸基を２個、ウレタン基を２個有し、水酸基、ウレタン基に含まれる水素原子の合計濃度が８．４ｍｍｏｌ／ｇであった。

＜製造例６＞
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、化合物（Ｃ−１）３３８部、Ｎ−アセチルエチレンジアミン［東京化成工業（株）製］（Ｄ−２）１０２部、ビスマストリス（２−エチルへキサノエート）［商品名「ネオスタンＵ−６００」、日東化成（株）製］０．４４部、蒸留精製したＴＨＦ４４１部を仕込み、還流温度で２４時間攪拌後、空気／窒素混合気体（体積比１／４）を吹き込みながらＴＨＦを減圧留去し、化合物（Ｅ−２）４４１部を得た。
なお、化合物（Ｅ−２）は、ウレタン基を１個、ウレア基を１個、アミド基を１個有し、水酸基、ウレタン基に含まれる水素原子の合計濃度が９．１ｍｍｏｌ／ｇであった。

＜製造例７＞
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、化合物（Ｃ−１）３３８部、２−アミノベンズアミド［東京化成工業（株）製］（Ｄ−３）１３６部、ビスマストリス（２−エチへキサノエート）［商品名「ネオスタンＵ−６００」、日東化成（株）製］０．４８部、蒸留精製したＴＨＦ４７５部を仕込み、還流温度で２４時間攪拌後、空気／窒素混合気体（体積比１／４）を吹き込みながらＴＨＦを減圧留去し、化合物（Ｅ−３）４７５部を得た。
なお、化合物（Ｅ−３）は、ウレタン基を１個、ウレア基を１個、アミド基を１個有し、ウレタン基、ウレア基、アミド基に含まれる水素原子の合計濃度が１０．５ｍｍｏｌ／ｇであった。

＜製造例８＞
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、化合物（Ｃ−１）３３８部、４−アミノベンズアミド［東京化成工業（株）製］（Ｄ−４）１３６部、ビスマストリス（２−エチへキサノエート）［商品名「ネオスタンＵ−６００」、日東化成（株）製］０．４８部、蒸留精製したＴＨＦ４７６部を仕込み、還流温度で２４時間攪拌後、空気／窒素混合気体（体積比１／４）を吹き込みながらＴＨＦを減圧留去し、化合物（Ｅ−４）４７６部を得た。
なお、化合物（Ｅ−４）は、ウレタン基を１個、ウレア基を１個、アミド基を１個有し、ウレタン基、ウレア基、アミド基に含まれる水素原子の合計濃度が１０．５ｍｍｏｌ／ｇであった。

＜製造例９＞
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、化合物（Ｃ−１）３３８部、６−アミノウラシル［東京化成工業（株）製］（Ｄ−５）１２７部、ビスマストリス（２−エチへキサノエート）［商品名「ネオスタンＵ−６００」、日東化成（株）製］０．４７部、蒸留精製したＴＨＦ４６５部を仕込み、還流温度で２４時間攪拌後、空気／窒素混合気体（体積比１／４）を吹き込みながらＴＨＦを減圧留去し、化合物（Ｅ−５）４６５部を得た。
なお、化合物（Ｅ−５）は、ウレタン基を１個、ウレア基を１個、アミド基を２個有し、ウレタン基、ウレア基、アミド基に含まれる水素原子の合計濃度が１０．７ｍｍｏｌ／ｇであった。

＜製造例１０＞
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、化合物（Ｃ−１）３３８部、アデニン［東京化成工業（株）製］（Ｄ−６）１３５部、ビスマストリス（２−エチへキサノエート）［商品名「ネオスタンＵ−６００」、日東化成（株）製］０．４７部、蒸留精製したＴＨＦ４７４部を仕込み、還流温度で２４時間攪拌後、空気／窒素混合気体（体積比１／４）を吹き込みながらＴＨＦを減圧留去し、化合物（Ｅ−６）４７４部を得た。
なお、化合物（Ｅ−６）は、ウレタン基を１個、ウレア基を１個、２級アミノ基を１個有し、ウレタン基、ウレア基、２級アミノ基に含まれる水素原子の合計濃度が８．４ｍｍｏｌ／ｇであった。

＜製造例１１＞
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、化合物（Ｃ−２）３６６部、３，４−ジヒドロキシベンジルアルコール［東京化成工業（株）製］（Ｄ−１）１４０部、ビスマストリス（２−エチルへキサノエート）［商品名「ネオスタンＵ−６００」、日東化成（株）製］０．５１部、蒸留精製したＴＨＦ５０７部を仕込み、還流温度で２４時間攪拌後、空気／窒素混合気体（体積比１／４）を吹き込みながらＴＨＦを減圧留去し、化合物（Ｅ−７）５０７部を得た。
なお、化合物（Ｅ−７）は、ウレタン基を１個、ウレア基を１個、アミド基を１個有し、水酸基、ウレタン基に含まれる水素原子の合計濃度が７．９ｍｍｏｌ／ｇであった。

＜製造例１２＞
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、化合物（Ｃ−２）３６６部、Ｎ−アセチルエチレンジアミン［東京化成工業（株）製］（Ｄ−２）１０２部、ビスマストリス（２−エチルへキサノエート）［商品名「ネオスタンＵ−６００」、日東化成（株）製］０．４７部、蒸留精製したＴＨＦ４６９部を仕込み、還流温度で２４時間攪拌後、空気／窒素混合気体（体積比１／４）を吹き込みながらＴＨＦを減圧留去し、化合物（Ｅ−８）４６９部を得た。
なお、化合物（Ｅ−８）は、ウレタン基を１個、ウレア基を１個、アミド基を１個有し、水酸基、ウレタン基に含まれる水素原子の合計濃度が８．５ｍｍｏｌ／ｇであった。

＜製造例１３＞
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、化合物（Ｃ−２）３６６部、２−アミノベンズアミド［東京化成工業（株）製］（Ｄ−３）１３６部、ビスマストリス（２−エチへキサノエート）［商品名「ネオスタンＵ−６００」、日東化成（株）製］０．５０部、蒸留精製したＴＨＦ５０３部を仕込み、還流温度で２４時間攪拌後、空気／窒素混合気体（体積比１／４）を吹き込みながらＴＨＦを減圧留去し、化合物（Ｅ−９）５０３部を得た。
なお、化合物（Ｅ−９）は、ウレタン基を１個、ウレア基を１個、アミド基を１個有し、ウレタン基、ウレア基、アミド基に含まれる水素原子の合計濃度が９．９ｍｍｏｌ／ｇであった。

＜製造例１４＞
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、化合物（Ｃ−２）３６６部、４−アミノベンズアミド［東京化成工業（株）製］（Ｄ−４）１３６部、ビスマストリス（２−エチへキサノエート）［商品名「ネオスタンＵ−６００」、日東化成（株）製］０．５０部、蒸留精製したＴＨＦ５０４部を仕込み、還流温度で２４時間攪拌後、空気／窒素混合気体（体積比１／４）を吹き込みながらＴＨＦを減圧留去し、化合物（Ｅ−１０）５０４部を得た。
なお、化合物（Ｅ−１０）は、ウレタン基を１個、ウレア基を１個、アミド基を１個有し、ウレタン基、ウレア基、アミド基に含まれる水素原子の合計濃度が９．９ｍｍｏｌ／ｇであった。

＜製造例１５＞
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、化合物（Ｃ−２）３６６部、６−アミノウラシル［東京化成工業（株）製］（Ｄ−５）１２７部、ビスマストリス（２−エチへキサノエート）［商品名「ネオスタンＵ−６００」、日東化成（株）製］０．４９部、蒸留精製したＴＨＦ４９４部を仕込み、還流温度で２４時間攪拌後、空気／窒素混合気体（体積比１／４）を吹き込みながらＴＨＦを減圧留去し、化合物（Ｅ−１１）４９４部を得た。
なお、化合物（Ｅ−１１）は、ウレタン基を１個、ウレア基を１個、アミド基を２個有し、ウレタン基、ウレア基、アミド基に含まれる水素原子の合計濃度が１０．１ｍｍｏｌ／ｇであった。

＜製造例１６＞
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、化合物（Ｃ−２）３６６部、アデニン［東京化成工業（株）製］（Ｄ−６）１３５部、ビスマストリス（２−エチへキサノエート）［商品名「ネオスタンＵ−６００」、日東化成（株）製］０．５０部、蒸留精製したＴＨＦ５０２部を仕込み、還流温度で２４時間攪拌後、空気／窒素混合気体（体積比１／４）を吹き込みながらＴＨＦを減圧留去し、化合物（Ｅ−１２）５０２部を得た。
なお、化合物（Ｅ−１２）は、ウレタン基を１個、ウレア基を１個、２級アミノ基を１個有し、ウレタン基、ウレア基、２級アミノ基に含まれる水素原子の合計濃度が８．０ｍｍｏｌ／ｇであった。

＜製造例１７＞
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、化合物（Ｃ−３）４２０部、３，４−ジヒドロキシベンジルアルコール［東京化成工業（株）製］（Ｄ−１）１４０部、ビスマストリス（２−エチルへキサノエート）［商品名「ネオスタンＵ−６００」、日東化成（株）製］０．５６部、蒸留精製したＴＨＦ５６０部を仕込み、還流温度で２４時間攪拌後、空気／窒素混合気体（体積比１／４）を吹き込みながらＴＨＦを減圧留去し、化合物（Ｅ−１３）５６０部を得た。
なお、化合物（Ｅ−１３）は、ウレタン基を１個、ウレア基を１個、アミド基を１個有し、水酸基、ウレタン基に含まれる水素原子の合計濃度が７．１ｍｍｏｌ／ｇであった。

＜製造例１８＞
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、化合物（Ｃ−３）４２０部、Ｎ−アセチルエチレンジアミン［東京化成工業（株）製］（Ｄ−２）１０２部、ビスマストリス（２−エチルへキサノエート）［商品名「ネオスタンＵ−６００」、日東化成（株）製］０．５２部、蒸留精製したＴＨＦ５２２部を仕込み、還流温度で２４時間攪拌後、空気／窒素混合気体（体積比１／４）を吹き込みながらＴＨＦを減圧留去し、化合物（Ｅ−１４）５２２部を得た。
なお、化合物（Ｅ−１４）は、ウレタン基を１個、ウレア基を１個、アミド基を１個有し、ウレタン基、ウレア基、アミド基に含まれる水素原子の合計濃度が７．７ｍｍｏｌ／ｇであった。

＜製造例１９＞
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、化合物（Ｃ−３）４２０部、２−アミノベンズアミド［東京化成工業（株）製］（Ｄ−３）１３６部、ビスマストリス（２−エチへキサノエート）［商品名「ネオスタンＵ−６００」、日東化成（株）製］０．５６部、蒸留精製したＴＨＦ５５６部を仕込み、還流温度で２４時間攪拌後、空気／窒素混合気体（体積比１／４）を吹き込みながらＴＨＦを減圧留去し、化合物（Ｅ−１５）５５６部を得た。
なお、化合物（Ｅ−１５）は、ウレタン基を１個、ウレア基を１個、アミド基を１個有し、ウレタン基、ウレア基、アミド基に含まれる水素原子の合計濃度が９．０ｍｍｏｌ／ｇであった。

＜製造例２０＞
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、化合物（Ｃ−３）４２０部、４−アミノベンズアミド［東京化成工業（株）製］（Ｄ−４）１３６部、ビスマストリス（２−エチへキサノエート）［商品名「ネオスタンＵ−６００」、日東化成（株）製］０．５６部、蒸留精製したＴＨＦ５５７部を仕込み、還流温度で２４時間攪拌後、空気／窒素混合気体（体積比１／４）を吹き込みながらＴＨＦを減圧留去し、化合物（Ｅ−１６）５５７部を得た。
なお、化合物（Ｅ−１６）は、ウレタン基を１個、ウレア基を１個、アミド基を１個有し、ウレタン基、ウレア基、アミド基に含まれる水素原子の合計濃度が９．０ｍｍｏｌ／ｇであった。

＜製造例２１＞
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、化合物（Ｃ−３）４２０部、６−アミノウラシル［東京化成工業（株）製］（Ｄ−５）１２７部、ビスマストリス（２−エチへキサノエート）［商品名「ネオスタンＵ−６００」、日東化成（株）製］０．５５部、蒸留精製したＴＨＦ５４７部を仕込み、還流温度で２４時間攪拌後、空気／窒素混合気体（体積比１／４）を吹き込みながらＴＨＦを減圧留去し、化合物（Ｅ−１７）５４７部を得た。
なお、化合物（Ｅ−１７）は、ウレタン基を１個、ウレア基を１個、アミド基を２個有し、ウレタン基、ウレア基、アミド基に含まれる水素原子の合計濃度が９．１ｍｍｏｌ／ｇであった。

＜製造例２２＞
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、化合物（Ｃ−３）４２０部、アデニン［東京化成工業（株）製］（Ｄ−６）１３５部、ビスマストリス（２−エチへキサノエート）［商品名「ネオスタンＵ−６００」、日東化成（株）製］０．５６部、蒸留精製したＴＨＦ５５５部を仕込み、還流温度で２４時間攪拌後、空気／窒素混合気体（体積比１／４）を吹き込みながらＴＨＦを減圧留去し、化合物（Ｅ−１８）５５５部を得た。
なお、化合物（Ｅ−１８）は、ウレタン基を１個、ウレア基を１個、２級アミノ基を１個有し、ウレタン基、ウレア基、２級アミノ基に含まれる水素原子の合計濃度が７．２ｍｍｏｌ／ｇであった。

＜製造例２３＞
冷却管、撹拌装置、温度計を備えたガラス製反応容器に、化合物（Ｃ−４）３３７部、２−アミノベンズアミド［東京化成工業（株）製］（Ｄ−３）１３６部、ビスマストリス（２−エチへキサノエート）［商品名「ネオスタンＵ−６００」、日東化成（株）製］０．５６部、蒸留精製したＴＨＦ４７４部を仕込み、還流温度で２４時間攪拌後、空気／窒素混合気体（体積比１／４）を吹き込みながらＴＨＦを減圧留去し、化合物（Ｅ−１９）４７４を得た。
なお、化合物（Ｅ−１９）は、ウレタン基を１個、ウレア基を１個、アミド基を２個有し、ウレタン基、ウレア基、アミド基に含まれる水素原子の合計濃度が１２．７ｍｍｏｌ／ｇであった。

＜実施例１〜２５、比較例１〜２＞
表１〜２に記載の配合組成（部）に従って、一括で配合し、ディスパーサーで均一になるまで撹拌し、各活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を得た。
次に、得られた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合合成樹脂（ＡＢＳ）フィルム（膜厚３５０μｍ）に、アプリケーターを用いて硬化後の膜厚が２０μｍとなるように塗布して、８０℃、１分間で溶剤を乾燥させ、窒素雰囲気下で、ＥＢ試験機［ＥＣ２５０：（株）アイ・エレクトロンビーム製］にて照射量３Ｍｒａｄで硬化し、硬化物を得た。
なお、実施例２５の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物については、ＡＢＳフィルム（膜厚３５０μｍ）に、アプリケーターを用いて硬化後の膜厚が２０μｍとなるように塗布して、８０℃、１分間で溶剤を乾燥させ、窒素雰囲気下で、ベルトコンベア式ＵＶ照射装置［アイグラフィックス（株）製「ＥＣＳ−１５１Ｕ」、以下の評価にも同じ装置を用いた。］にて露光量５００ｍＪ／ｃｍ²で硬化し、硬化物を得た。
上記の硬化物を、以下の評価方法（１）〜（４）に従って、評価した。
評価結果を表１〜２に示す。

＜評価方法＞
（１）タック性［硬化性の評価］
指触により、以下の評価基準で評価した。
＜評価基準＞
◎：表面にタックがない。
○：表面にわずかにタックがある。
△：表面にタックがある。
×：表面のタックが大きい。

（２）破断伸度［成形性の評価］
ＪＩＳ−Ｋ６２５１に準拠し、ダンベル状３号試験片を用いて、１５０℃でオートグラフによる引張試験を行ない、硬化物の切断時の伸び（％）を測定し、以下の評価基準で評価した。
＜評価基準＞
☆：２２０％以上
◎：１６０％以上、２２０％未満
○：１００％以上、１６０％未満
△：５０％以上、１００％未満
×：５０％未満

（３）鉛筆硬度［表面硬度の評価］
ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に準拠し、鉛筆硬度を評価し、以下の基準で評価した。
＜評価基準＞
◎：Ｈ以上
○：Ｆ
△：ＨＢ
×：ＨＢ未満

（４）基材密着性［基材密着性の評価］
綱板上の硬化塗膜を２ｍｍ×２ｍｍの碁盤目（１００個）にクロスカットし、この上にセロファンテープを張り付けて、引き剥し、目視で以下の基準で評価した。
＜評価基準＞
◎：１００／１００
○：９９／１００〜９０／１００
△：８９／１００〜５０／１００
×：４９／１００〜０／１００

表１〜２中の略号は以下のとおり。
＜（Ｅ）以外の（メタ）アクリレート化合物（Ｆ）＞
（Ｆ１１−１）、ＡＣＭＯ：
アクリロイルモルフォリン、［商品名「ＡＣＭＯ」、ＫＪケミカルズ（株）社製］
（Ｆ２１−１）、ＤＡ−６００：
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
［商品名「ネオマー ＤＡ−６００」、三洋化成（株）製］
（Ｆ２１−２）、ＴＭＰ：
トリメチロールプロパントリメクリレート
［商品名「ライトエステル ＴＭＰ」、共栄社（株）製］
（Ｆ２２−１）、Ｕ−６ＬＰＡ：
ウレタンアクリレート、［商品名「ＮＫオリゴＵ−６ＬＰＡ」、新中村化学（株）製］

＜光重合開始剤＞
（Ｇ−１）、ＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ：
２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、
［商品名「ＬＵＣＩＲＩＮ ＴＰＯ」、ＢＡＳＦ（株）製］

表１〜２の結果から、本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物（Ｘ）は、比較のものに比べ、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の硬化物に、優れた成形性、表面硬度、基材密着性を付与することがわかる。

本発明の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物は、活性エネルギー線照射時の硬化性に優れ、該組成物が硬化した硬化物は、耐候性、表面硬度、基材密着性に優れることから、表面に微細構造を有する光学レンズ（プリズムシート、コリメーターレンズ、フレネルレンズ、レンチキュラーレンズ、後反射レンズ、ホログラム等）、携帯電話部材（ボタン等の装飾部材、タッチパネル等）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、偏光板の保護膜、建築材の加飾フィルム、成形用ハードコートフィルム等、化粧シート（建築物の床面、壁面、天井等の内装材等）等の用途に幅広く用いることができ、極めて有用である。

Claims (7)

1. １個の水酸基を有する単官能（メタ）アクリレート（Ａ１）および１個の水酸基を有する単官能（メタ）アクリルアミド（Ａ２）からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物（Ａ）と、イソシアネート基を少なくとも２個有する化合物（Ｂ）と、１級水酸基または１級アミノ基を少なくとも１個有し、（メタ）アクリロイル基を有しない化合物（Ｄ）とが反応した構造を有する１個の（メタ）アクリロイル基を有する化合物（Ｅ）を含有してなる活性エネルギー線硬化型樹脂組成物（Ｘ）。
2. 前記（Ｄ）が１級水酸基を有する場合、前記（Ｅ）が下記一般式（１）で表されるものであり、前記（Ｄ）が１級アミノ基を有する場合、前記（Ｅ）が下記一般式（２）で表されるものである請求項１記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
   
   （α１）−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−（β１）−ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｏ−（γ１） （１）
   
   ［式（１）中、（α１）は化合物（Ａ）から１個の水酸基を除いた残基；（β１）は化合物（Ｂ）から２個のイソシアネート基を除いた残基；（γ１）は化合物（Ｄ）から１個の１級水酸基を除いた残基。］
   
   （α２）−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−（β２）−ＮＨ（Ｃ＝Ｏ）ＮＨ−（γ２） （２）
   
   ［式（２）中、（α２）は化合物（Ａ）から１個の水酸基を除いた残基；（β２）は化合物（Ｂ）から２個のイソシアネート基を除いた残基；（γ２）は化合物（Ｄ）から１個の１級アミノ基を除いた残基。］
3. さらに、前記（Ｅ）以外の（メタ）アクリレート化合物（Ｆ）を含有してなる請求項１または２記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
4. 水酸基、ウレタン基、ウレア基、アミド基および２級アミノ基に含まれる水素原子の合計濃度が、前記（Ｅ）の重量に基づいて、５〜１５ｍｍｏｌ／ｇである請求項１〜３のいずれか記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
5. （メタ）アクリロイル基濃度が、（Ｅ）と（Ｆ）との合計重量に基づいて、１〜５ｍｍｏｌ／ｇである請求項３または４記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
6. コーティング剤である請求項１〜５いずれか記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。
7. 請求項１〜６のいずれか記載の活性エネルギー線硬化型樹脂組成物（Ｘ）が硬化した硬化物。