JP2017063158A - 電磁波シールド用フィルム、および電子部品搭載基板 - Google Patents
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Abstract
【課題】長時間の使用によっても、電磁波シールド用フィルムにマイグレーションが生じるのを的確に抑制または防止して、基板上に搭載された電子部品同士の絶縁性を確保することができる電磁波シールド用フィルム、および、かかる電磁波シールド用フィルムを用いて、基板上に搭載された電子部品が電磁波遮断層で被覆された電子部品搭載基板を提供すること。
【解決手段】本発明の電磁波シールド用フィルム10は、導電性材料および磁性材料のうちの少なくとも1種を含有する電磁波遮断層3を備え、この電磁波遮断層3における、イオン性不純物の含有量は、200ppm以下になっている。
【選択図】図1
【解決手段】本発明の電磁波シールド用フィルム10は、導電性材料および磁性材料のうちの少なくとも1種を含有する電磁波遮断層3を備え、この電磁波遮断層3における、イオン性不純物の含有量は、200ppm以下になっている。
【選択図】図1
Description
本発明は、電磁波シールド用フィルム、および電子部品搭載基板に関するものである。
従来、携帯電話、医療機器のように電磁波の影響を受けやすい電子部品や、半導体素子等の発熱性電子部品、さらにはコンデンサ、コイル等の各種電子部品、またはこれらの電子部品を回路基板に実装された電子機器は、電磁波によるノイズの影響を軽減するため、その表面に電磁波シールド用フィルムが貼付されてきた。
このような電磁波シールド用フィルムとしては、例えば、絶縁性材料からなる保護層(基材層)と、保護層の一方または双方の面に積層した金属層とを有するものが開発されている(例えば、特許文献1参照。)。
しかしながら、特許文献1に記載のような構成の電磁波シールド用フィルムでは、電子機器の長時間の使用により、電磁波シールド用フィルムにマイグレーションが生じ、これに起因して、回路基板(基板)上に搭載された電子部品同士の絶縁性を十分に確保することができないという問題があった。
本発明の目的は、長時間の使用によっても、電磁波シールド用フィルムにマイグレーションが生じるのを的確に抑制または防止して、基板上に搭載された電子部品同士の絶縁性を確保することができる電磁波シールド用フィルム、および、かかる電磁波シールド用フィルムを用いて、基板上に搭載された電子部品が電磁波遮断層で被覆された電子部品搭載基板を提供することにある。
このような目的は、下記(1)〜(11)に記載の本発明により達成される。
(1) 導電性材料および磁性材料のうちの少なくとも1種を含有する電磁波遮断層を備え、
前記電磁波遮断層における、イオン性不純物の含有量は、200ppm以下であることを特徴とする電磁波シールド用フィルム。
(1) 導電性材料および磁性材料のうちの少なくとも1種を含有する電磁波遮断層を備え、
前記電磁波遮断層における、イオン性不純物の含有量は、200ppm以下であることを特徴とする電磁波シールド用フィルム。
(2) 前記電磁波遮断層における、陰イオン性不純物の含有量は、10ppm以上、150ppm以下である上記(1)に記載の電磁波シールド用フィルム。
(3) 前記導電性材料は、金属および金属酸化物のうちの少なくとも1種を含む金属系粒子、ならびに、導電性高分子のうちの少なくとも1種を含有する上記(1)または(2)に記載の電磁波シールド用フィルム。
(4) 前記導電性高分子は、ポリアニリン、PEDOT/PSS、ポリピロールおよびポリチオフェンのうちの少なくとも1種である上記(3)に記載の電磁波シールド用フィルム。
(5) 前記金属系粒子は、金、銀、銅、鉄、ニッケルおよびアルミニウム、または、これらを含む合金のうちの少なくとも1種である上記(3)または(4)に記載の電磁波シールド用フィルム。
(6) 前記磁性材料は、磁性材粒子を含有する上記(1)ないし(5)のいずれか1項に記載の電磁波シールド用フィルム。
(7) 前記電磁波遮断層は、その平均層厚みが1μm以上、150μm以下である上記(1)ないし(6)のいずれか1項に記載の電磁波シールド用フィルム。
(8) 当該電磁波シールド用フィルムは、さらに、前記電磁波遮断層の一方の面側に積層された保護シートを含む上記(1)ないし(7)のいずれか1項に記載の電磁波シールド用フィルム。
(9) 絶縁層が、前記電磁波遮断層の他方の面側に接触して設けられ、保護シート側から電磁波遮断層、絶縁層の順で積層されている上記(8)に記載の電磁波シールド用フィルム。
(10) 当該電磁波シールド用フィルムは、波長300nm以上、800nm以下における光線透過率が0.01%以上、30%以下である上記(1)ないし(9)のいずれか1項に記載の電磁波シールド用フィルム。
(11) 基板と、該基板上に搭載された電子部品と、前記基板の前記電子部品が搭載されている面側から前記基板および電子部品を被覆する電磁波遮断層とを有する電子部品搭載基板であって、
前記電磁波遮断層は、導電性材料を含有し、前記電磁波遮断層におけるイオン性不純物の含有量は、200ppm以下であることを特徴する電子部品搭載基板。
前記電磁波遮断層は、導電性材料を含有し、前記電磁波遮断層におけるイオン性不純物の含有量は、200ppm以下であることを特徴する電子部品搭載基板。
本発明によれば、電磁波シールド用フィルムが、導電性材料および磁性材料のうちの少なくとも1種を含有する電磁波遮断層を備え、この電磁波遮断層における、イオン性不純物の含有量が200ppm以下となっていることにより、長時間の使用によっても、電磁波シールド用フィルムにマイグレーションが生じるのを的確に抑制または防止して、基板上に搭載された電子部品同士の絶縁性を確保することができる。
以下、本発明の電磁波シールド用フィルム、および電子部品搭載基板を、添付図面に示す好適実施形態に基づいて、詳細に説明する。
本発明の電磁波シールド用フィルム10は、導電性材料および磁性材料のうちの少なくとも1種を含有する電磁波遮断層3を備え、この電磁波遮断層3における、イオン性不純物の含有量は、200ppm以下であることを特徴とする。
このような電磁波シールド用フィルム10によれば、長時間の使用によっても、電磁波シールド用フィルム10にマイグレーションが生じるのを的確に抑制または防止して、基板5上に搭載された電子部品4同士の絶縁性を確保することができる。
以下、この電磁波シールド用フィルムについて説明する。
<電磁波シールド用フィルム>
図1は、本発明の電磁波シールド用フィルムの実施形態を示す縦断面図である。なお、以下の説明では、説明の便宜上、図1中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
<電磁波シールド用フィルム>
図1は、本発明の電磁波シールド用フィルムの実施形態を示す縦断面図である。なお、以下の説明では、説明の便宜上、図1中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
電磁波シールド用フィルムは、基板5上の凹凸6を被覆するために用いられる電磁波シールド用フィルムである。
図1に示すように、本実施形態において、電磁波シールド用フィルム10は、保護層(保護シート)1と、電磁波遮断層3と、絶縁層2とを含んで構成され、電磁波遮断層3および絶縁層2は、保護層1の下面(一方の面)側から、電磁波遮断層3が保護層1に接触して、この順で積層されている。
なお、以下では、基板5上に複数(本実施形態では、2つ)の電子部品4が搭載(載置)され、この電子部品4の搭載により基板5上に凸部65と凹部66とからなる凹凸6が形成されており、この凹凸6を電磁波シールド用フィルム10で被覆する場合について説明する。すなわち、基板5上に搭載された電子部品4を電磁波シールド用フィルム10で被覆する場合について説明する。なお、基板5上に搭載する電子部品4としては、例えば、フレキシブル回路基板(FPC)上に搭載されているLCDドライバーIC、タッチパネル周辺のIC+コンデンサまたは電子回路基板(マザーボード)が挙げられる。
以下、電磁波シールド用フィルム10が備える各層1、2、3について説明する。
<保護層1>
まず、保護層1について説明する。
<保護層1>
まず、保護層1について説明する。
保護層(保護シート)1は、電磁波遮断層3の酸化による劣化を防止する機能を有する。さらに、保護層1は、可撓性を備え、後述する電子部品の被覆方法の貼付工程において、電磁波シールド用フィルム10を用いて、基板5上の凹凸6に絶縁層2および電磁波遮断層3を押し込むことで、この凹凸6を被覆する際に、押し込まれた絶縁層2および電磁波遮断層3が破断するのを防止する保護(緩衝)材として機能するものである。
この保護層1の構成材料としては、特に限定されず、例えば、シンジオタクチックポリスチレン、ポリメチルペンテン、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、無軸延伸ポリプロピレンおよび二軸延伸ポリプロピレン等のポリプロピレン、環状オレフィンポリマー、シリコーン、スチレンエラストマー樹脂、スチレンブタジエンゴムのような樹脂材料が挙げられる。これらの中でも、無軸延伸ポリプロピレンを用いることが好ましい。これにより、保護層1の絶縁層2および電磁波遮断層3に対する保護性、さらには耐熱性を向上させることができる。
また、保護層1の常温(25℃)における貯蔵弾性率は、2.0E+02〜5.0E+10Paであるのが好ましく、2.0E+03〜5.0E+09Paであるのがより好ましく、2.0E+04〜3.0E+09Paであるのがさらに好ましい。このように、保護層1の常温(25℃)における貯蔵弾性率を、前記範囲内に設定することにより、保護層1は可撓性を有するものであると言うことができ、電磁波シールド用フィルム10を用いて、基板5上の凹凸6を被覆する際に、絶縁層2および電磁波遮断層3に破断を生じさせることなく絶縁層2および電磁波遮断層3を凹凸6の形状に対応した状態で押し込むことができる。その結果、この凹凸6が設けられた基板5が、破断の発生が防止された電磁波遮断層3をもって、凹凸6の形状に追従した状態で被覆されるようになるため、この電磁波遮断層3による凹凸6が設けられた基板5に対する電磁波シールド(遮断)性が向上することとなる。
保護層1の厚みは、特に限定されないが、3μm以上、20μm以下であることが好ましく、5μm以上、15μm以下であることがより好ましく、さらに好ましくは7μm以上、12μm以下である。保護層1の厚みが前記下限値未満である場合、保護層1ひいては絶縁層2および電磁波遮断層3が破断し、その電磁波シールド性が低下するおそれがある。また、保護層1の厚みが前記上限値を超える場合、電磁波シールド用フィルム10を用いて被覆する基板5の設計によっては、基板5を電磁波シールド用フィルム10で被覆した積層体の軽量化・薄型化が実現されないおそれがある。
さらに、保護層1は、その電磁波遮断層3側の面に、粘着剤層を備えるものであってもよい。すなわち、電磁波遮断層3は、粘着剤層を介して保護層1に接合されたものであってもよい。これにより、保護層1と電磁波遮断層3との粘着性(密着性)の向上が図られる。
この粘着剤層は、例えば、主として、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤およびゴム系粘着剤等のうちの少なくとも1種からなる粘着剤で構成される。
アクリル系粘着剤としては、例えば、(メタ)アクリル酸およびそれらのエステルで構成される樹脂、(メタ)アクリル酸およびそれらのエステルと、それらと共重合可能な不飽和単量体(例えば酢酸ビニル、スチレン、アクリルニトリル等)との共重合体等が挙げられる。また、これらの樹脂を2種類以上混合したものが挙げられる。
また、これらの中でも、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチルヘキシルおよび(メタ)アクリル酸ブチルからなる群から選ばれる1種以上と、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチルおよび酢酸ビニルの中から選ばれる1種以上との共重合体が好ましい。これにより、粘着層が粘着する電磁波遮断層3との密着性や粘着性の制御が容易になる。
この場合、粘着剤層には、粘着性(接着性)を制御するためにウレタンアクリレート、アクリレートモノマー、多価イソシアネート化合物(例えば、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート)等のイソシアネート化合物等のモノマーおよびオリゴマーが含まれていてもよい。
また、ゴム系粘着剤としては、例えば、天然ゴム系、イソプレンゴム系、スチレン−ブタジエン系、再生ゴム系、ポリイソブチレン系のものや、スチレン−イソプレン−スチレン、スチレン−ブタジエン−スチレン等のゴムを含むブロック共重合体を主とするもの等が挙げられる。
さらに、シリコーン系粘着剤としては、例えば、ジメチルシロキサン系、ジフェニルシロキサン系のもの等が挙げられる。
なお、粘着剤層に含まれる粘着剤は、硬化型および非硬化型のいずれであってもよいが、硬化型の場合、粘着剤層には、架橋剤が添加されていてもよい。この架橋剤としては、例えば、エポキシ系化合物、イソシアナート系化合物、金属キレート化合物、金属アルコキシド、金属塩、アミン化合物、ヒドラジン化合物、アルデヒド系化合物等が挙げられる。
また、硬化型の場合、粘着剤層には、粘着剤層を紫外線等の光の照射により硬化させる光重合開始剤が添加されていてもよい。この光重合開始剤としては、例えば、メトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフエノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)−フェニル]−2−モルホリノプロパン−1等のアセトフェノン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾインイソブチルエーテル系化合物、ベンゾイン安息香酸メチル系化合物、ベンゾイン安息香酸系化合物、ベンゾインメチルエーテル系化合物、ベンジルフェニルサルファイド系化合物、ベンジル系化合物、ジベンジル系化合物、ジアセチル系化合物等が挙げられる。
さらに、粘着剤層には、その接着強度およびシェア強度を高める目的で、ロジン樹脂、テルペン樹脂、クマロン樹脂、フェノール樹脂、スチレン樹脂、脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、脂肪族芳香族系石油樹脂等の粘着付与材等が添加されていてもよい。
また、粘着剤層には、例えば、可塑剤、粘着付与剤、増粘剤、充填剤、老化防止剤、防腐剤、防カビ剤、染料、顔料等の各種添加剤が必要に応じ添加されていてもよい。
<電磁波遮断層3>
次に、電磁波遮断層(遮断層)3について説明する。
次に、電磁波遮断層(遮断層)3について説明する。
電磁波遮断層3は、基板5上に設けられた電子部品4と、この電磁波遮断層3を介して、基板5(電子部品4)と反対側に位置する他の電子部品等とを、これら少なくとも一方から生じる電磁波を遮断(シールド)する機能を有し、特に、電子部品4から生じる電磁波をより効果的に遮断する機能を有する。
なお、一般的に、電磁波を遮断する機能を発揮するには、前述のとおり、電磁波遮断層に入射した電磁波を反射することにより遮断(遮蔽)する反射層(電磁波反射層)と、電磁波遮断層に入射した電磁波を吸収することにより遮断(遮蔽)する吸収層(電磁波吸収層または電磁波抑制層)とが知られている。
ここで、前述の通り、基板5上に搭載された複数の電子部品4を電磁波シールド用フィルムで被覆された電子機器では、電子機器の長時間の使用により、電磁波シールド用フィルムにマイグレーションが生じ、これに起因して、電子部品4同士の絶縁性を十分に確保することができないという問題があった。
そこで、本発明者は、マイグレーションの発生が抑制された電磁波シールド用フィルムについて鋭意検討を行った結果、電磁波シールド用フィルムにおけるマイグレーションの発生には、電磁波遮断層中におけるイオン性不純物が関与していると推察され、この電磁波遮断層3におけるイオン性不純物の含有量を200ppm以下とすることで、電磁波シールド用フィルム10におけるマイグレーションの発生を的確に抑制または防止し得ることを見出し、本発明を完成するに至った。
このように、電磁波遮断層3におけるイオン性不純物の含有量を200ppm以下に設定することで、電磁波遮断層3中ひいては電磁波シールド用フィルム10全体におけるマイグレーションの発生を的確に抑制または防止することができる。
イオン性不純物としては、特に限定されず、例えば、アンモニウムイオン(NH4 +)、ナトリウムイオン(Na+)、カリウムイオン(K+)、カルシウムイオン(Ca2+)、バリウムイオン(Ba2+)、アルミニウムイオン(Al3+)等の陽イオン、塩化物イオン(Cl−)、硫酸イオン(SO4 2−)、亜硝酸イオン(NO2 −)、硝酸イオン(NO3 −)、フッ化物イオン(F−)、リン酸イオン(PO4 3−)、臭化物イオン(Br−)、ヨウ化物イオン(I−)、硫化物イオン(S2−)等の陰イオンが挙げられる。
また、電磁波遮断層3におけるイオン性不純物の含有量、すなわち、上記の陽イオンおよび陰イオンの合計の含有量は、200ppm以下であれば良いが、20ppm以上150ppm以下であることが好ましく、50ppm以上100ppm以下であることがより好ましい。これにより、電磁波シールド用フィルム10におけるマイグレーションの発生をより的確に抑制または防止することができる。
さらに、イオン性不純物の中でも、陰イオン性不純物(特に、ナトリウムイオン(Na+)およびカリウムイオン(K+))がマイグレーションの発生により寄与していると推察される。そのため、電磁波遮断層3における陰イオン性不純物の含有量は、10ppm以上150ppm以下であることが好ましく、40ppm以上80ppm以下であることがより好ましい。これにより、電磁波シールド用フィルム10におけるマイグレーションの発生をさらに的確に抑制または防止することができる。
このような電磁波遮断層3は、イオン性不純物の含有量が200ppm以下であれば、如何なる導電性材料および/または磁性材料を含有するものであってもよく、これらのうち導電性材料としては、例えば、導電性高分子、金属および金属酸化物のうちの少なくとも1種を含む金属系粒子、ならびに、炭素系材料等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。また、磁性材料としては、例えば、軟磁性材料を含む磁性材粒子(軟磁性材粒子)が挙げられる。これらのうちの1種または2種以上を組み合わせたものが好ましく用いられ、これにより、電磁波遮断層3におけるイオン性不純物の含有量を容易に200ppm以下であるものとすることができる。
導電性高分子としては、例えば、ポリアセチレン、ポリピロール、PEDOT(poly−ethylenedioxythiophene)、PEDOT/PSS、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリ(p−フェニレン)、ポリフルオレン、ポリカルバゾール、ポリシランまたはこれらの誘導体等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、ポリアニリン、PEDOT/PSS、ポリピロールおよびポリチオフェンであるのが好ましい。これらによれば、前述した導電性高分子を用いることにより得られる効果をより顕著に発揮させることができる。
また、金属系粒子としては、例えば、金、銀、銅、鉄、ニッケルおよびアルミニウム、またはこれらを含む合金のような金属、および、ITO、ATO、FTOのような金属酸化物等を含むものが挙げられる。
さらに、磁性材粒子としては、例えば、AFe2O4(式中、Aは、Mn、Co、Ni、CuまたはZnである)で表されるフェライト(ソフトフェライト)、センダスト(Fe−Si−Al合金)、パーマロイ(Fe−Ni合金)、マグネタイト、フェライト(ソフトフェライト)、ニッケル、鉄、ケイ素鋼、磁性ステンレス(Fe−Cr−Al−Si合金)およびパーメンジュール等のような軟磁性材料を含むものが挙げられ、これらの中でも、センダスト、パーマロイおよびマグネタイト、フェライト、ニッケルのうちの少なくとも1種であることが好ましく、センダストであることがより好ましい。これにより、層中に含まれる材料の添加量を少なくできることから、その膜厚を比較的容易に薄く設定することができ、また軽量化も可能である。
金属系粒子の平均粒径は、1.0μm以上10.0μm以下であるのが好ましく、4.5μm以上7.5μm以下であるのがより好ましい。また、磁性材粒子のメジアン径(d50)は、10μm以上100μm以下であるのが好ましく、30μm以上50μm以下であるのがより好ましい。これにより、金属系粒子および磁性材粒子を電磁波遮断層3中に均一に分散させることができる。そのため、電磁波遮断層3を、このものとしての特性を均質に発揮するものとできる。
なお、炭素系材料(導電性カーボン)としては、例えば、単層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブのようなカーボンナノチューブ、カーボンナノファイバー、CNナノチューブ、CNナノファイバー、BCNナノチューブ、BCNナノファイバー、グラフェンや、カーボンマイクロコイル、カーボンナノコイル、カーボンナノホーン、カーボンナノウォール、カーボンブラック、カーボンファイバ、グラフェンのような炭素等が挙げられる。
さらに、電磁波遮断層3は、その構成材料として、導電性材料および磁性材料のうちの少なくとも1種の他に、バインダー樹脂を含有するものであることが好ましい。これにより、電磁波遮断層3におけるイオン性不純物の含有量をより容易に200ppm以下であるものとすることができる。
なお、バインダー樹脂としては、各種樹脂材料を用いることができ、特に限定されないが、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アミノ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、熱硬化性エラストマー等の熱硬化性樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、塩化ビニル樹脂、スチレン樹脂、スチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマーのような熱可塑性エラストマー等の熱可塑性樹脂が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
また、この場合、電磁波遮断層3における導電性材料および磁性材料のうちの少なくとも1種の含有量は、用いる導電性材料および磁性材料のうちの少なくとも1種の種類に応じて異なるが、例えば、10wt%以上60wt%以下であることが好ましく、20wt%以上40wt%以下であることがより好ましい。これにより、電磁波遮断層3におけるイオン性不純物の含有量を、上記範囲内により確実に設定することができる。
また、電磁波遮断層3の平均層厚みTは、特に限定されないが、1μm以上、150μm以下であることが好ましく、10μm以上、100μm以下であることがより好ましい。電磁波遮断層3の厚みが前記下限値未満である場合、電磁波遮断層3の構成材料等によっては、基板搭載部品の端部で破断するおそれがある。また、電磁波遮断層3の厚みが前記上限値を超える場合、電磁波遮断層3の構成材料等によっては形状追従性が不足するおそれがある。また、かかる範囲内の厚みTとしても、優れた電磁波シールド性を発揮させることができるため、電磁波遮断層3の厚みTの薄膜化を実現すること、ひいては、基板5上において絶縁層2および電磁波遮断層3で被覆された電子部品4が搭載された電子部品搭載基板の軽量化を実現することができる。
また、電磁波遮断層3は、その150℃における貯蔵弾性率が1.0E+05〜1.0E+09Paであるのが好ましく、5.0E+05〜5.0E+08Paであるのがより好ましい。前記貯蔵弾性率をかかる範囲内に設定することにより、貼付工程において、電磁波シールド用フィルム10の加熱の後、保護層1からの押圧力により、基板5上の凹凸6に絶縁層2および電磁波遮断層3を押し込むことで、この凹凸6を被覆する際に、前記保護層1からの押圧力に応じて、電磁波遮断層3を凹凸6の形状に対応して変形させることができる。すなわち、電磁波遮断層3の凹凸6に対する形状追従性を向上させることができる。
<絶縁層2>
次に、絶縁層2について説明する。
次に、絶縁層2について説明する。
絶縁層2は、電磁波遮断層3に接触して設けられ、保護層1側から電磁波遮断層3、絶縁層2の順で積層されている。このように積層された絶縁層2および電磁波遮断層3を備える電磁波シールド用フィルム10を用いて基板5上の凹凸6を被覆することで、基板5および電子部品4に絶縁層2が接触し、基板5側から絶縁層2、電磁波遮断層3の順で被覆することとなる。
このように、本実施形態では、絶縁層2は、基板5および電子部品4を被覆し、これにより、基板5上で隣接する電子部品4同士を絶縁するとともに、基板5および電子部品4を、絶縁層2を介して基板5と反対側に位置する電磁波遮断層3および他の部材(電子部品等)から絶縁する。
この絶縁層2としては、例えば、熱硬化性を有する絶縁樹脂または熱可塑性を有する絶縁樹脂(絶縁フィルム)が挙げられる。これらの中でも、熱可塑性を有する絶縁樹脂を用いることが好ましい。熱可塑性を有する絶縁樹脂は、屈曲性に優れたフィルムであることから、後述する貼付工程において、基板5上の凹凸6に対して絶縁層2および電磁波遮断層3を押し込む際に、絶縁層2を、凹凸6の形状に対応して容易に追従させることができる。また、熱可塑性を有する絶縁樹脂は、その軟化点温度に加熱すると、接着対象の基板から再剥離することができるので、基板の修理の際には、特に有用である。
熱可塑性を有する絶縁樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートのような熱可塑性ポリエステル、α−オレフィン、酢酸ビニル、ポリビニルアセタール、エチレン酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル、ポリアミド、セルロースが挙げられる。これらの中でも基板との密着性、屈曲性、耐薬品性に優れるという理由から熱可塑性ポリエステル、α−オレフィンを用いることが好ましい。
さらに、熱可塑性を有する絶縁樹脂には、耐熱性や耐屈曲性等の性能を損なわない範囲で、フェノール系樹脂、シリコーン系樹脂、ユリア系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂等を含有させることができる。また、熱可塑性を有する絶縁樹脂には、後述する導電性接着剤層の場合と同様に、接着性、耐ハンダリフロー性を劣化させない範囲で、シランカップリング剤、酸化防止剤、顔料、染料、粘着付与樹脂、可塑剤、紫外線吸収剤、消泡剤、レベリング調整剤、充填剤、難燃剤等を添加してもよい。
絶縁層2の厚みT(D)は、特に限定されないが、3μm以上、50μm以下であることが好ましく、4μm以上、30μm以下であることがより好ましく、さらに好ましくは5μm以上、20μm以下である。絶縁層2の厚みが前記下限値未満である場合、耐ハゼ折り性が不足し、凹凸6への熱圧着後に折り曲げ部にてクラックが発生したり、フィルム強度が低下し、電磁波遮断層3の絶縁性支持体としての役割を担うことが難しい。前記上限値を超える場合、形状追従性が不足するおそれがある。すなわち、絶縁層2の厚みT(D)を前記範囲内に設定することにより、絶縁層2に屈曲性を確実に付与することができ、貼付工程において、基板5上の凹凸6に対して絶縁層2および電磁波遮断層3を押し込む際に、絶縁層2を、凹凸6の形状に対応して容易に追従させることができる。また、絶縁層2の厚みT(D)の薄膜化を実現すること、ひいては、絶縁層2および電磁波遮断層(反射層)3で被覆された電子部品4が搭載された基板5の軽量化および薄型化を実現することができる。
また、絶縁層2の25〜150℃における平均線膨張係数は、50〜1000[ppm/℃]であるのが好ましく、100〜700[ppm/℃]であるのがより好ましい。絶縁層2の平均線膨張係数をかかる範囲内に設定することにより、電磁波シールド用フィルム10の加熱時において、絶縁層2は、優れた伸縮性を有するものとなるため、絶縁層2、さらには電磁波遮断層3の凹凸6に対する形状追従性が向上することとなる。
なお、この絶縁層2は、図1で示したように、1層で構成されるものの他、上述した絶縁フィルムのうち異なるものを積層させた2層以上の積層体であってもよい。
さらに、絶縁層2は、その電磁波遮断層3側の面、および、電磁波遮断層3と反対側の面の双方または何れか一方に、粘着剤層を備えるものであってもよい。これにより、電磁波遮断層3と絶縁層2との粘着性(密着性)および/または電磁波シールド用フィルム10で被覆する基板5と絶縁層2との粘着性(密着性)の向上が図られる。
この粘着剤層としては、前述した保護層1の説明で記載した粘着剤層と同様のものが挙げられる。
なお、本実施形態では、電磁波シールド用フィルム10を、絶縁層2を備えるものとすることで、基板5および電子部品4を被覆し、これにより、基板5上で隣接する電子部品4同士を絶縁することとしたが、この絶縁層2による電子部品4同士の絶縁を必要としない場合には、この絶縁層2を省略することもできる。
電磁波シールド用フィルム10を、上記のような構成の保護層1、電磁波遮断層3および絶縁層2を備えるものとすることにより、電磁波シールド用フィルム10の軽量化・薄型化を図ることができる。
また、電磁波シールド用フィルム10は、波長300nm以上、800nm以下における光線透過率が0.01%以上、30%以下であることが好ましく、0.01%以上、10%以下であることがより好ましい。これにより、光を吸収、遮断し電磁波遮断層3で被覆している内部すなわち電子部品4が見えなくすることができるため、例えば、電磁波遮断層3で被覆された電子部品搭載基板の流通時における電子部品4の秘匿性を担保することができるという利点が得られる。
なお、前記光線透過率は、例えば、紫外可視分光光度計により求めることができる。
なお、前記光線透過率は、例えば、紫外可視分光光度計により求めることができる。
<電子部品の被覆方法>
以上のような構成の電磁波シールド用フィルム10を用いて、例えば、以下のようにして、基板5上に搭載された電子部品4が被覆される。
以上のような構成の電磁波シールド用フィルム10を用いて、例えば、以下のようにして、基板5上に搭載された電子部品4が被覆される。
図2は、図1に示す電磁波シールド用フィルムを用いた電子部品の被覆方法の第1の被覆方法を説明するための縦断面図である。
以下の電子部品の第1の被覆方法は、基板5上に、電磁波シールド用フィルム10を絶縁層2と電子部品4が接着するように貼付する貼付工程を有する。
(貼付工程)
前記貼付工程とは、図2(a)に示すように、本実施形態では、基板5上に電子部品4を搭載することで設けられた凹凸6に、電磁波シールド用フィルム10を追従するように貼付する工程である。
前記貼付工程とは、図2(a)に示すように、本実施形態では、基板5上に電子部品4を搭載することで設けられた凹凸6に、電磁波シールド用フィルム10を追従するように貼付する工程である。
凹凸6に追従して貼付する方法としては、特に限定されないが、例えば、以下のような方法が挙げられる。
すなわち、まず、基板5の凹凸6が形成されている側の面と、電磁波シールド用フィルム10の絶縁層2側の面とが対向するように、基板5と電磁波シールド用フィルム10とを重ね合わせた状態でセットし、その後、これらを常温下において、電磁波シールド用フィルム10側から均一に電磁波シールド用フィルム10と基板5とが互いに接近するように、加圧することにより実施される。
このように電磁波シールド用フィルム10側から均一に加圧することで、保護層1が凹凸6の形状に追従し、さらに、これに併せて、保護層1よりも基板5側に位置する、絶縁層2および電磁波遮断層3も凹凸6の形状に追従する。これにより、凹凸6の形状に保護層1、絶縁層2および電磁波遮断層3が追従した状態で、保護層1、絶縁層2および電磁波遮断層3により凹凸6が被覆される。
このような貼付工程において、貼付する温度は、常温であり、具体的には、5℃以上、35℃以下であることが好ましく、20℃以上、30℃以下であることがより好ましく、25℃であることがさらに好ましい。
また、貼付する圧力は、特に限定されないが、0.05MPa以上、0.5MPa以下であることが好ましく、より好ましくは0.1MPa以上、0.3MPa以下である。
さらに、貼付する時間は、特に限定されないが、1秒以上、60秒以下であることが好ましく、より好ましくは5秒以上、30秒以下である。
貼付工程における条件を上記範囲内に設定することにより、電磁波シールド用フィルム10側からの加圧による電子部品4の破損を招くことなく、基板5上の凹凸6に対して絶縁層2および電磁波遮断層3が追従した状態で、これら絶縁層2および電磁波遮断層3により凹凸6を確実に被覆することができる。
以上のような工程を経ることにより、保護層1、絶縁層2および電磁波遮断層3により凹凸6を追従するように被覆することができる。なお、本実施形態のように、被覆した凹凸6に保護層1が残存する被覆方法では、基板5の反対側に位置する他の部材(電子部品等)と電磁波遮断層3とを絶縁する絶縁層としての機能を保護層1が発揮する。
また、電子部品4の被覆は、電磁波シールド用フィルム10で凹凸6に追従して被覆する上述した方法の他、凹凸6に追従することなく、電子部品4を被覆するように行ってもよい。
図3は、図1に示す電磁波シールド用フィルムを用いた電子部品の被覆方法の第2の被覆方法を説明するための縦断面図である。
以下の電子部品の第2の被覆方法は、第1の被覆方法と同様に、基板5上に、電磁波シールド用フィルム10を絶縁層2と電子部品4が接着するように貼付する貼付工程を有する。
(貼付工程)
この貼付工程では、図3(a)に示すように、本実施形態では、基板5上に電子部品4を搭載することで設けられた凹凸6に、電磁波シールド用フィルム10を追従することなく貼付する。
この貼付工程では、図3(a)に示すように、本実施形態では、基板5上に電子部品4を搭載することで設けられた凹凸6に、電磁波シールド用フィルム10を追従することなく貼付する。
凹凸6に追従することなく貼付するには、例えば、前記第1の被覆方法で説明した貼付工程において、電磁波シールド用フィルム10と基板5とが互いに接近するように、電磁波シールド用フィルム10側から均一に加圧する際に、この加圧条件を設定することにより実現できる。すなわち、前記加圧条件を、凹凸6に追従させる際の圧力よりも低く設定すること、および、凹凸6に追従させる際の時間よりも短く設定することにより、凹凸6に追従することなく電磁波シールド用フィルム10を貼付することができる。
このような被覆方法により、凹凸6の形状に保護層1、絶縁層2および電磁波遮断層3が追従していない状態で、保護層1、絶縁層2および電磁波遮断層3により凹凸6が被覆される。
なお、このように、電磁波シールド用フィルム10を凹凸6の形状に追従させない場合、絶縁層2および電磁波遮断層3が破断するのを防止する保護(緩衝)材として機能する保護層1の形成を省略することもできる。
さらに、電子部品4の被覆は、電磁波シールド用フィルム10で被覆する方法、すなわち、保護層1、絶縁層2および電磁波遮断層3で被覆する上述した方法(第1の被覆方法および第2の被覆方法)の他、電磁波シールド用フィルム10から保護層1を剥離して、絶縁層2および電磁波遮断層3により、電子部品4を被覆するようにしてもよい。
図4は、図1に示す電磁波シールド用フィルムを用いた電子部品の被覆方法の第3の被覆方法を説明するための縦断面図である。
以下の電子部品の第3の被覆方法は、基板5上に、電磁波シールド用フィルム10を絶縁層2と電子部品4が接着するように貼付する貼付工程と、前記貼付工程の後、保護層1を剥離する剥離工程とを有する。
(貼付工程)
貼付工程では、図2で説明した電子部品の被覆方法と同様に、図4(a)に示すように、基板5上に電子部品4を搭載することで設けられた凹凸6に、電磁波シールド用フィルム10を追従するように貼付する。
貼付工程では、図2で説明した電子部品の被覆方法と同様に、図4(a)に示すように、基板5上に電子部品4を搭載することで設けられた凹凸6に、電磁波シールド用フィルム10を追従するように貼付する。
(剥離工程)
剥離工程では、例えば、図4(b)に示すように、前記貼付工程の後、保護層1を電磁波シールド用フィルム10から剥離する。
剥離工程では、例えば、図4(b)に示すように、前記貼付工程の後、保護層1を電磁波シールド用フィルム10から剥離する。
この剥離工程により、本実施形態では、電磁波シールド用フィルム10における保護層1と電磁波遮断層3との界面において、剥離が生じ、その結果、電磁波遮断層3から保護層1が剥離される。これにより、電磁波遮断層3から保護層1を剥離した状態で、絶縁層2および電磁波遮断層3により凹凸6が被覆される。
なお、保護層1を剥離する方法としては、特に限定されないが、例えば、手作業による剥離が挙げられる。
この手作業による剥離では、まず、保護層1の一方の端部を把持し、この把持した端部から保護層1を電磁波遮断層3から引き剥がし、次いで、この端部から中央部へさらには他方の端部へと順次保護層1を引き剥がすことにより、電磁波遮断層3から保護層1が剥離される。
以上のような工程を経ることにより、電磁波遮断層3から保護層1を剥離した状態で、絶縁層2および電磁波遮断層3により凹凸6を被覆することができる。かかる被覆方法によれば、電磁波遮断層3で電磁波を遮断する際のさらなる軽量化・薄型化を図ることができる。
また、第2の被覆方法と第3の被覆方法とを組み合わせるようにしてもよい。すなわち、凹凸6に、電磁波シールド用フィルム10を追従させることなく貼付した後に、電磁波シールド用フィルム10から保護層1を剥離して、凹凸6に追従していない絶縁層2および電磁波遮断層3により、電子部品4を被覆するようにしてもよい。
なお、前記実施形態では、図1に示したように、電磁波シールド用フィルム10が備える保護層1が1層で構成される場合について説明したが、かかる構成のものに限定されず、例えば、保護層1は、第1の層、第2の層がこの順で積層された2層の積層体であってもよいし、第1の層、第2の層、第3の層がこの順で積層された3層の積層体であってもよい。
2層の積層体の構成とする場合、第1の層としては、前記実施形態で説明した、保護層1と同様の構成のものを用いることができる。
第2の層は、第1の層と電磁波遮断層3との間に位置して、電磁波シールド用フィルムの製造方法の第1の工程において、電磁波遮断層3に保護層(保護シート)1を貼付する際に、第1の層を電磁波遮断層3に粘着(貼付)させる粘着層として機能するものである。
この第2の層は、特に限定されないが、例えば、エポキシ系接着剤、アクリル系接着剤、ポリイミド系接着剤およびシアネート系接着剤等の各種接着剤を用いて形成される。
第2の層の厚みT(C)は、特に限定されないが、1μm以上、10μm以下であることが好ましく、3μm以上、8μm以下であることがより好ましい。第2の層の厚みが前記下限値未満である場合、第2の層の構成材料の種類によっては、第2の層による粘着性が十分に発揮されないおそれがある。また、第2の層の厚みが前記上限値を超える場合、電磁波シールド用フィルム10を用いて被覆する基板5の設計によっては、基板5を電磁波シールド用フィルム10で被覆した積層体の軽量化・薄型化が実現されないおそれがある。
さらに、3層の積層体の構成とする場合、第1の層および第3の層としては、前記実施形態で説明した、保護層1と同様の構成のものを用いることができる。
第2の層は、電子部品の被覆方法の貼付工程において、保護層1を押し込み用の保護として用いて基板5上の凹凸6に対して絶縁層2および電磁波遮断層3を押し込む際に、第3の層を、凹凸6に対して押し込む(埋め込む)ためのクッション機能を有するものである。また、第2の層は、この押し込む力を、第3の層、さらには、この第3の層を介して絶縁層2および電磁波遮断層3に、均一に作用させる機能を有しており、これにより、電磁波遮断層3と凹凸6との間にボイドを発生させることなく、絶縁層2および電磁波遮断層3を凹凸6に対して優れた密閉性をもって押し込むことができる。
この第2の層(クッション層)の構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロプレン等のαオレフィン系重合体、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、メチルペンテン等を共重合体成分として有するαオレフィン系共重合体、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド等のエンジニアリングプラスチックス系樹脂が挙げられ、これらを単独あるいは複数併用してもよい。これらの中でも、αオレフィン系共重合体を用いることが好ましい。具体的には、エチレン等のαオレフィンと、(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体、エチレンと(メタ)アクリル酸との共重合体(EMMA)、およびそれらの部分イオン架橋物等が挙げられる。αオレフィン系共重合体は、形状追従性に優れ、さらに、第3の層の構成材料と比較して柔軟性に優れることから、かかる構成材料で構成される第2の層に、第3の層を凹凸6に対して押し込む(埋め込む)ためのクッション機能を確実に付与することができる。
第2の層の厚みT(C)は、特に限定されないが、10μm以上、100μm以下であることが好ましく、20μm以上、80μm以下であることがより好ましく、さらに好ましくは30μm以上、60μm以下である。第2の層の厚みが前記下限値未満である場合、第2の層の形状追従性が不足し、熱圧着工程で凹凸6への追従性が不足するというおそれがある。また、第2の層の厚みが前記上限値を超える場合、熱圧着工程において、第2の層からの樹脂のシミ出しが多くなり、圧着装置の熱盤に付着し、作業性が低下するというおそれがある。
また、第2の層の25〜150℃における平均線膨張係数は、500以上[ppm/℃]であるのが好ましく、1000以上[ppm/℃]であるのがより好ましい。第2の層の平均線膨張係数をかかる範囲内に設定することにより、電磁波シールド用フィルム10の加熱時において、第2の層を、第3の層と比較してより優れた伸縮性を有するものに、容易にすることができる。そのため、第2の層、さらには電磁波遮断層3および絶縁層2の凹凸6に対する形状追従性をより確実に向上させることができる。
また、前記実施形態では、基板への電子部品の搭載により、基板上に凹凸が形成されており、この凹凸を電磁波シールド用フィルムで被覆する場合について説明したが、電磁波シールド用フィルムによる被覆は、このような凹凸に対する被覆に限定されず、例えば、筐体等が備える平坦(フラット)な領域に対して施すようにしてもよい。
以上、本発明の電磁波シールド用フィルム、および電子部品搭載基板について説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、本発明の電磁波シールド用フィルムおよび本発明の電子部品搭載基板には、同様の機能を発揮し得る、任意の層が追加されていてもよい。
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
<電磁波シールド性評価用フィルムの製造>
(実施例1)
まず、電磁波遮断層を形成するための樹脂系材料として、導電性高分子としてのポリアニリン(株式会社レグルス社製、商品名:PANT)からなるものを準備した。
(実施例1)
まず、電磁波遮断層を形成するための樹脂系材料として、導電性高分子としてのポリアニリン(株式会社レグルス社製、商品名:PANT)からなるものを準備した。
次いで、ポリエチレンテレフタラートフィルム(帝人デュポン製、A−314、厚み38μm)上に、電磁波遮断層を構成する樹脂をコーティングした後、加熱・乾燥させて、電磁波遮断層を形成することで、電磁波シールド性評価用フィルムを作製した。
なお、実施例1の電磁波シールド性評価用フィルムにおいて、電磁波遮断層の厚みは40μmであった。
(実施例2)
電磁波遮断層を形成するための樹脂系材料として、導電性高分子としてのポリアニリン(株式会社レグルス社製、商品名:PANT)と、金属系粒子としての銀粒子(福田金属箔粉工業社製、商品名:Ag−XF301)と、バインダーとしてのポリエステル樹脂(東洋紡社製、商品名:バイロン63SS)とを、重量比で10wt%:70wt%:20wt%含むものを準備したこと以外は、前記実施例1と同様にして、実施例2の電磁波シールド性評価用フィルムを作製した。
電磁波遮断層を形成するための樹脂系材料として、導電性高分子としてのポリアニリン(株式会社レグルス社製、商品名:PANT)と、金属系粒子としての銀粒子(福田金属箔粉工業社製、商品名:Ag−XF301)と、バインダーとしてのポリエステル樹脂(東洋紡社製、商品名:バイロン63SS)とを、重量比で10wt%:70wt%:20wt%含むものを準備したこと以外は、前記実施例1と同様にして、実施例2の電磁波シールド性評価用フィルムを作製した。
なお、実施例2の電磁波シールド性評価用フィルムにおいて、電磁波遮断層の厚みは35μmであった。
(実施例3)
電磁波遮断層を形成するための樹脂系材料として、導電性高分子としてのポリアニリン(株式会社レグルス社製、商品名:PANT)と、磁性体粒子としてのセンダストからなる偏平粒子(山陽特殊製鋼社製、商品名:FME3DH)と、バインダーとしてのポリエステル樹脂(東洋紡社製、商品名:バイロン63SS)とを、重量比で10wt%:80wt%:10wt%含むものを準備したこと以外は、前記実施例1と同様にして、実施例3の電磁波シールド性評価用フィルムを作製した。
電磁波遮断層を形成するための樹脂系材料として、導電性高分子としてのポリアニリン(株式会社レグルス社製、商品名:PANT)と、磁性体粒子としてのセンダストからなる偏平粒子(山陽特殊製鋼社製、商品名:FME3DH)と、バインダーとしてのポリエステル樹脂(東洋紡社製、商品名:バイロン63SS)とを、重量比で10wt%:80wt%:10wt%含むものを準備したこと以外は、前記実施例1と同様にして、実施例3の電磁波シールド性評価用フィルムを作製した。
なお、実施例3の電磁波シールド性評価用フィルムにおいて、電磁波遮断層の厚みは40μmであった。
(実施例4)
電磁波遮断層を形成するための樹脂系材料として、磁性材粒子としてのセンダストからなる偏平粒子(山陽特殊製鋼社製、商品名:FME3DH)と、バインダーとしてのポリエステル樹脂(東洋紡社製、商品名:バイロン63SS)とを、重量比で85wt%:15wt%含むものを準備したこと以外は、前記実施例1と同様にして、実施例4の電磁波シールド性評価用フィルムを作製した。
電磁波遮断層を形成するための樹脂系材料として、磁性材粒子としてのセンダストからなる偏平粒子(山陽特殊製鋼社製、商品名:FME3DH)と、バインダーとしてのポリエステル樹脂(東洋紡社製、商品名:バイロン63SS)とを、重量比で85wt%:15wt%含むものを準備したこと以外は、前記実施例1と同様にして、実施例4の電磁波シールド性評価用フィルムを作製した。
なお、実施例4の電磁波シールド性評価用フィルムにおいて、電磁波遮断層の厚みは80μmであった。
(比較例1)
電磁波遮断層として、磁性材料を含有するものを備える磁性シート(大同特殊鋼社製、商品名:HS16-H010)を用意した。
電磁波遮断層として、磁性材料を含有するものを備える磁性シート(大同特殊鋼社製、商品名:HS16-H010)を用意した。
<評価試験>
<<イオン性不純物>>
各実施例および比較例で作製した電磁波シールド性評価用フィルムについて、それぞれ、測定試料1gをイオン性不純物測定用機に入れ,純水10mlを加えた後、121℃で4時間放置しイオン成分を抽出した。抽出されたイオン成分をキャピラリー電気泳動測定器(アジレント社製)で測定した。これにより、電磁波遮断層における、アンモニウムイオン(NH4 +)、ナトリウムイオン(Na+)、カリウムイオン(K+)、塩化物イオン(Cl−)、硫酸イオン(SO4 2−)、亜硝酸イオン(NO2 −)、硝酸イオン(NO3 −)、フッ化物イオン(F−)、リン酸イオン(PO4 3−)の含有量を求めた。
以上の各実施例、比較例の評価試験の結果を表1に示す。
<<イオン性不純物>>
各実施例および比較例で作製した電磁波シールド性評価用フィルムについて、それぞれ、測定試料1gをイオン性不純物測定用機に入れ,純水10mlを加えた後、121℃で4時間放置しイオン成分を抽出した。抽出されたイオン成分をキャピラリー電気泳動測定器(アジレント社製)で測定した。これにより、電磁波遮断層における、アンモニウムイオン(NH4 +)、ナトリウムイオン(Na+)、カリウムイオン(K+)、塩化物イオン(Cl−)、硫酸イオン(SO4 2−)、亜硝酸イオン(NO2 −)、硝酸イオン(NO3 −)、フッ化物イオン(F−)、リン酸イオン(PO4 3−)の含有量を求めた。
以上の各実施例、比較例の評価試験の結果を表1に示す。
表1に示した通り、各実施例では、電磁波遮断層を、導電性材料として、金属系粒子および導電性高分子のうちの少なくとも1種を含有する構成のものとすることにより、電磁波遮断層におけるイオン性不純物の含有量を、200ppm以下に設定することが可能であった。
これに対して、比較例では、電磁波遮断層におけるイオン性不純物の含有量が、200ppm超を示す結果となった。
したがって、各実施例において形成した電磁波遮断層を備える電磁波シールド用フィルムとすることで、マイグレーションの発生が的確に抑制または防止された電磁波シールド用フィルムとし得る推察された。
10 電磁波シールド用フィルム
1 保護層
2 絶縁層
3 電磁波遮断層
4 電子部品
5 基板
6 凹凸
65 凸部
66 凹部
1 保護層
2 絶縁層
3 電磁波遮断層
4 電子部品
5 基板
6 凹凸
65 凸部
66 凹部
Claims (11)
- 導電性材料および磁性材料のうちの少なくとも1種を含有する電磁波遮断層を備え、
前記電磁波遮断層における、イオン性不純物の含有量は、200ppm以下であることを特徴とする電磁波シールド用フィルム。 - 前記電磁波遮断層における、陰イオン性不純物の含有量は、10ppm以上、150ppm以下である請求項1に記載の電磁波シールド用フィルム。
- 前記導電性材料は、金属および金属酸化物のうちの少なくとも1種を含む金属系粒子、ならびに、導電性高分子のうちの少なくとも1種を含有する請求項1または2に記載の電磁波シールド用フィルム。
- 前記導電性高分子は、ポリアニリン、PEDOT/PSS、ポリピロールおよびポリチオフェンのうちの少なくとも1種である請求項3に記載の電磁波シールド用フィルム。
- 前記金属系粒子は、金、銀、銅、鉄、ニッケルおよびアルミニウム、または、これらを含む合金のうちの少なくとも1種である請求項3または4に記載の電磁波シールド用フィルム。
- 前記磁性材料は、磁性材粒子を含有する請求項1ないし5のいずれか1項に記載の電磁波シールド用フィルム。
- 前記電磁波遮断層は、その平均層厚みが1μm以上、150μm以下である請求項1ないし6のいずれか1項に記載の電磁波シールド用フィルム。
- 当該電磁波シールド用フィルムは、さらに、前記電磁波遮断層の一方の面側に積層された保護シートを含む請求項1ないし7のいずれか1項に記載の電磁波シールド用フィルム。
- 絶縁層が、前記電磁波遮断層の他方の面側に接触して設けられ、保護シート側から電磁波遮断層、絶縁層の順で積層されている請求項8に記載の電磁波シールド用フィルム。
- 当該電磁波シールド用フィルムは、波長300nm以上、800nm以下における光線透過率が0.01%以上、30%以下である請求項1ないし9のいずれか1項に記載の電磁波シールド用フィルム。
- 基板と、該基板上に搭載された電子部品と、前記基板の前記電子部品が搭載されている面側から前記基板および電子部品を被覆する電磁波遮断層とを有する電子部品搭載基板であって、
前記電磁波遮断層は、導電性材料を含有し、前記電磁波遮断層におけるイオン性不純物の含有量は、200ppm以下であることを特徴する電子部品搭載基板。
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WO2021018999A1 (en) | 2019-08-01 | 2021-02-04 | Heraeus Deutschland Gmbh & Co Kg | Solid electrolytic capacitor with conductive polymer layer attaining excellent metal ion migration resistance |
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WO2021018999A1 (en) | 2019-08-01 | 2021-02-04 | Heraeus Deutschland Gmbh & Co Kg | Solid electrolytic capacitor with conductive polymer layer attaining excellent metal ion migration resistance |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190530 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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