JP2017061446A

JP2017061446A - ジェルネイルポリッシュ並びにその製造及び使用方法

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Publication number: JP2017061446A
Application number: JP2016165707A
Authority: JP
Inventors: チェンリジュアン; Lijuan Zhen
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 2015-08-29
Filing date: 2016-08-26
Publication date: 2017-03-30
Also published as: US20170056306A1; US10449141B2; US20180250219A1; RU2016134990A3; US20170056312A1; CN114795982A; RU2016134990A; KR20170026283A

Abstract

【課題】複雑な形成プロセスと除去プロセスを有せず、短時間でネイルポリッシュを形成できる、ユーザの爪の上にジェルネイルポリッシュ層を形成するためにジェルネイルポリッシュ混合物及びそれと混合される着色剤を含む、ジェルネイルポリッシュ組成物の提供。
【解決手段】ジェルネイルポリッシュ混合物はオリゴマー成分として脂肪族ウレタンアクリレート、モノマー希釈剤としてポリマーアクリレートオリゴマー、また光重合開始剤としてプロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート、及びトリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、更に着色剤を含み、ＬＥＤ光、ＵＶ光、及び太陽光のうちの１つにあてて乾かすことができる、ジェルネイルポリッシュ組成物。また爪の上に形成されたジェルネイルポリッシュ層は、ネイルポリッシュリムーバをつけた布、コットン、又はティッシュペーパを用いることによって直接拭き取ることによって除去される。
【選択図】なし

Description

関連出願の相互参照
本願は、２０１５年８月２９日に出願された非仮出願第１４／８３９，９２６号の、米国特許法第１１９条の下でこれに基づく優先権を主張する継続出願である。

著作権表示
本特許明細書の開示内容の一部には、著作権保護の対象物が含まれる。著作権者は、米国特許商標庁の特許ファイル又は記録への掲載に伴う本特許開示の複写には異議を提起しないが、それ以外については、どのようなものであれ、全ての著作権を制限する。

本発明は、ジェルネイルポリッシュに関し、より具体的には、容易に拭取可能なジェルネイルポリッシュ並びにその製造及び使用方法に関するものであり、このジェルネイルポリッシュは、容易に乾かされ、複雑な除去プロセスなしにポリッシュリムーバで直接拭き取ることができる。

ジェルネイルポリッシュは、市場では比較的新しいが、ネイルサロンでは及びネイルペインティングが好きな人々には短期間で本当に流行ってきている。流行りのジェルネイルポリッシュの１つは、ソフトジェルポリッシュであり、これはしばしばソークオフジェルポリッシュと呼ばれる。現在のソークオフジェルポリッシュは、爪に塗った後に長持ちし、常に新しく見え、ソークオフジェルネイルは、爪の上に約２〜３週間剥げずに持ち、常に塗りたてのように見える。加えて、ソークオフジェルポリッシュは、ネイルエクステンションを施すために自爪の上に容易に直接塗布することができ、ユーザは、ソークオフジェルネイルの上に従来のネイルポリッシュを直接塗ることによって、ソークオフジェルネイルの色を容易に変えることができる。

したがって、ユーザは、最初にユーザの爪にソークオフベースコートネイルポリッシュを第１の層として塗り、次いで、その上にソークオフジェルネイルポリッシュの少なくとも１つの層を第２の層又は第３の層として塗る必要がある。したがって、ユーザは、第３の層又は第４の層の上にトップコートネイルポリッシュを塗る必要がある。特に、爪の上の各層を乾かすために、爪にＬＥＤ光又はＵＶ光をあてなければならない。言い換えれば、各層は、太陽光では乾かすことができず、ゆえにＬＥＤ光装置又はＵＶ光装置を用意及び購入するのはユーザにとって不便でお金のかかることである。加えて、各層が乾かされた後で、層上にいくらかのべたつくコロイドが残留することになり、ゆえにユーザは、各層上のべたつくコロイドを除去するため及び次の層が塗られた後で各層を磨くためにアルコールを使用しなくてはならない。したがって、ユーザは、４層のソークオフジェルポリッシュ構造体を仕上げるのに、ソークオフジェルネイルポリッシュの塗布時間、乾燥時間、及び残留物除去時間を含めて少なくとも６０分を費やす必要がある。

さらに、ソークオフジェルネイルの除去プロセスは不便かつ面倒である。ソークオフジェルポリッシュ層の構造体は堅固（少なくとも３層の構造を有する）なので、ユーザのソークオフジェルネイルは、ネイルポリッシュリムーバをつけた布、コットン、又はティッシュペーパを用いることによって直接拭き取ることはできず、そのためユーザは、１つのコットンボールをネイルポリッシュリムーバに浸し、それをコットンが爪の表面全体と接触するまで各爪に置き、アルミホイルをコットンボールが爪に密着するまで指先に巻いて使用する必要がある。５〜７分待つと、各爪とそれらのソークオフジェルポリッシュ層との間に自然に隙間が生じることになり、ユーザは、ソークオフジェルポリッシュ層を爪から取るのにキューティクルプッシャー又は鉄製プッシャーを用いることがある。したがって、ソークオフジェルポリッシュ層が各爪から除去された後で、爪の上にいくらかの残留ゲルが残留し、ゆえにユーザは、残留ゲルを爪から完全に除去するのにネイルファイル又はネイルバッファを使用しなければならない。こうした除去プロセスに関して、ユーザは、ユーザの爪からソークオフネイルポリッシュ層を除去するのに少なくとも３０分を費やさなければならず、ネイルファイル又はネイルバッファを頻繁に用いることによって、爪が損傷され、薄くなる。

本発明は、複雑な除去プロセスなしに、ネイルポリッシュリムーバをつけた布、コットン、又はティッシュペーパを使用することによって爪から直接拭き取ることができる、ジェルネイルポリッシュを提供するという点で有利である。

本発明の別の利点は、本発明のジェルネイルポリッシュの除去プロセスが簡単であり、ゆえにアルミホイルを指先に巻く必要がなく、かつ、ジェルネイルポリッシュ層を爪から取るのにキューティクルプッシャー又は鉄製プッシャーなどのさらなる補助具は必要とされない、ジェルネイルポリッシュを提供することである。

本発明の別の利点は、仕上がったジェルネイルポリッシュ構造体が乾かされた後で、仕上がったジェルネイルポリッシュ構造体上にべたつくコロイドが残留せず、ゆえにユーザが構造体上のべたつくコロイドを除去するのにアルコールを使用する必要がない、ジェルネイルポリッシュを提供することである。

本発明の別の利点は、光構造体にあてた後で容易に速く乾かすことができ、特に、光構造体は自然太陽光とすることができる、ジェルネイルポリッシュを提供することである。

本発明の別の利点は、ユーザの時間を節約し且つお金を節約する、ジェルネイルポリッシュの塗布プロセス及び除去プロセスを含む、ジェルネイルポリッシュの使用方法を提供することである。言い換えれば、ジェルネイルポリッシュの除去プロセス中の爪の損傷が低減される。

本発明の別の利点は、前述の利点を達成するために本発明では高価で複雑な構造体が用いられる必要のない、ジェルネイルポリッシュを提供することである。したがって、本発明は、ジェルネイルポリッシュの塗布プロセス及び除去プロセスを簡易化するために経済的かつ効率的な方策を上手く提供する。

本発明のさらなる利点及び特徴は、以下の説明から明らかとなり、付属の請求項に具体的に記載される手段及びその組合せによって実現される場合がある。

本発明によれば、上記の及び他の目的及び利点は、ジェルネイルポリッシュ混合物、及びジェルネイルポリッシュ混合物と混合される着色剤を含む、ジェルネイルポリッシュ組成物によって得られる。

ジェルネイルポリッシュ混合物は第１〜第４の化学成分を含み、第１〜第４の化学成分は、脂肪族ウレタンアクリレート、ポリマーアクリレートオリゴマー、希釈剤としてモノマーであるプロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート、及び光重合開始剤であるトリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドである。

本発明の別の態様によれば、本発明は、以下のステップを含むジェルネイルポリッシュの製造方法を含む。

（１）第１〜第４の化学成分を提供する。

（２）第１の混合物を形成するために第１の化学成分及び第２の化学成分を第３の化学成分中に溶解させる。

（３）第２の混合物を形成するために第１の混合物中に第４の化学成分を混合し、攪拌する。

（４）ジェルネイルポリッシュの最終製品を形成するために第２の混合物中に着色剤を添加し、混合する。

（５）ジェルネイルポリッシュの最終製品をジェルネイルポリッシュボトルに充填し、ジェルネイルポリッシュが入っているジェルネイルポリッシュボトルをジェルネイルポリッシュが使用可能な状態にパッケージする。

本発明の別の態様によれば、本発明は、以下のステップを含むジェルネイルポリッシュの使用方法を含む。

（Ａ）ワイプオフベースコートを爪に塗る。

（Ｂ）ワイプオフベースコート層を形成するためにワイプオフベースコートを光にあてて乾かす。

（Ｃ）ワイプオフベースコート層の上にジェルネイルポリッシュのカラーコートを塗る。

（Ｄ）ジェルネイルポリッシュ層を形成するためにジェルネイルポリッシュのカラーコートを乾かす。

（Ｅ）トップコート層を形成するためにジェルネイルポリッシュ層の上にジェルネイルポリッシュトップコートのコートを塗る。

（Ｆ）仕上がったジェルネイルポリッシュ構造体を形成するためにトップコート層を乾かす。この際、トップコート層が乾かされるときに、仕上がったジェルネイルポリッシュ構造体上にべたつくコロイドは形成されない。

（Ｇ）仕上がったジェルネイルポリッシュ構造体を除去するために、ネイルポリッシュリムーバをつけた布、コットン、又はティッシュペーパで、仕上がったジェルネイルポリッシュ構造体を直接拭き取る。

（ａ）ジェルネイルポリッシュのカラーコートを爪に塗る。

（ｂ）ジェルネイルポリッシュ層を形成するためにジェルネイルポリッシュのカラーコートを乾かす。

（ｃ）ジェルネイルポリッシュ層を除去するために、ネイルポリッシュリムーバをつけた布、コットン、又はティッシュペーパでジェルネイルポリッシュ層を直接拭き取る。

次の説明及び図面の考慮からさらなる目的及び利点が明らかとなるであろう。

本発明のこれらの及び他の目的、特徴、及び利点は、以下の詳細な説明、添付図、及び付属の請求項から明らかとなるであろう。

本発明の好ましい実施形態に係るジェルネイルポリッシュの製造方法を例示するブロック図である。本発明の上記の好ましい実施形態に係るジェルネイルポリッシュの使用方法のブロック図である。本発明の上記の好ましい実施形態に係るジェルネイルポリッシュを使用する代替的なモードのブロック図である。

以下の説明は、当業者が本発明を作製及び使用することを可能にするために開示される。好ましい実施形態が以下の説明で単なる例として提供され、修正物が当業者には明らかであろう。以下の説明で定義される一般原理は、本発明の精神及び範囲から逸脱することなく他の実施形態、代替物、修正物、均等物、及び用途に当てはめられるであろう。

本発明のジェルネイルポリッシュは、光にあてて乾かされることに適している。ユーザは、従来のネイルポリッシュ除去プロセスのような複雑な除去プロセス及び補助ツールなしに、ネイルポリッシュリムーバを含ませた布、コットン、又はティッシュペーパでジェルネイルポリッシュ構造体を直接拭き取ることによってジェルネイルポリッシュ構造体を除去することができる。

ジェルネイルポリッシュの組成物が、ジェルネイルポリッシュ混合物、及びネイルポリッシュ混合物と混合される着色剤を含む、本発明の好ましい実施形態に係るジェルネイルポリッシュが例示される。ジェルネイルポリッシュ混合物は第１〜第４の化学成分を含み、第１〜第４の化学成分は、それぞれ、脂肪族ウレタンアクリレート、ポリマーアクリレートオリゴマー、希釈剤としてモノマーであるプロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート、及び光重合開始剤であるトリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドである。

したがって、第１の化学成分（脂肪族ウレタンアクリレート）の量は、５７．６〜６９．９重量％の範囲を有する。第２の化学成分（ポリマーアクリレートオリゴマー）の量は、１６．４〜１９．８重量％の範囲を有する。第３の化学成分（プロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレートとして具体化される希釈剤）の量は、１２．７〜１５．４重量％の範囲を有する。第４の化学成分（トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドとして具体化される光重合開始剤）の量は、４．１〜４．９重量％の範囲を有する。特に、第１〜第４の化学成分の重量比は、６３．５：１８：１４：４．５である。

したがって、ジェルネイルポリッシュ混合物は、ＬＥＤ光、ＵＶ光、又は太陽光にあてて乾かされる乾燥可能な混合物である。

図面の図１を参照すると、本発明は、ジェルネイルポリッシュの製造方法を提供し、製造方法は以下のステップを含む。

（１）第１〜第４の化学成分を提供する。したがって、第１〜第４の化学成分及びそれらの重量比は前述されている。

（２）第１の混合物を形成するために第１の化学成分及び第２の化学成分を第３の化学成分中に溶解させる。したがって、第１の化学成分及び第２の化学成分が第３の化学成分中によく混ざるまで、第１の化学成分及び第２の化学成分が第３の化学成分中で所定の温度で所定の時間にわたって攪拌される。本実施形態によれば、第１の化学成分及び第２の化学成分は、好ましくは、第１の化学成分及び第２の化学成分が第３の化学成分中に確実によく混ざるようにするために第３の化学成分中、６０℃で４０分間攪拌される。言い換えれば、第１の化学成分及び第２の化学成分は、第１の化学成分及び第２の化学成分が第３の化学成分中に添加され、溶解されるときに、室温から６０℃に徐々に加熱される。

（３）第２の混合物を形成するために第１の混合物中に第４の化学成分を混合し、攪拌する。さらに、第２の混合物は、第４の化学成分が第１の混合物中によく混ざるまで室温で所定の時間にわたって攪拌される。本実施形態によれば、第２の混合物は、好ましくは、第４の化学成分が第１の混合物中に確実によく混ざるようにするために室温で３０分間攪拌される。第４の化学成分が第１の混合物中に溶解された後で、第２の混合物は６０℃から室温まで冷却されるべきであることに言及する価値がある。

（４）ジェルネイルポリッシュの最終製品を形成するために第２の混合物中に着色剤を添加し、混合する。したがって、着色剤は、所望の色のジェルネイルポリッシュの最終製品を形成するために着色顔料を含有する。

好ましい実施形態によれば、ステップ（４）の前に、製造方法は、着色剤の添加の前に第２の混合物中の残渣を除去するために第２の混合物を濾過するステップをさらに含む。したがって、第２の混合物は、第３の混合物の規格粒径を保証するために２００メッシュの網ふるいなどのふるいによって濾過される。

図面の図２を参照すると、本発明は、ジェルネイルポリッシュの使用方法をさらに提供し、使用方法は以下のステップを含む。

（Ａ）ワイプオフベースコートを爪に塗る。

（Ｆ）仕上がったジェルネイルポリッシュ構造体を形成するためにジェルネイルポリッシュトップコートを乾かす。この際、ジェルネイルポリッシュのトップコートが乾かされるときに、仕上がったジェルネイルポリッシュ構造体上にべたつくコロイドは形成されない。

ワイプオフベースコート層、ジェルネイルポリッシュ層、及びトップコート層は、例えば、３０〜６０秒間ＬＥＤ光にあてて、２分間ＵＶ光にあてて、又は１〜２分間太陽光にあてて完全に乾かされる。仕上がったジェルネイルポリッシュ構造体上にべたつくコロイドは形成されておらず、したがって、ユーザは、従来のソークオフジェルネイルポリッシュによって形成される仕上がったジェルネイルポリッシュ構造体上のべたつくコロイドを除去するのにアルコールを使用する必要がないことに言及する価値がある。

必要であれば、ジェルネイルポリッシュの第２のカラーコートを爪に塗るためにステップ（Ｄ）及び（Ｅ）を繰り返す。第１のジェルネイルポリッシュ層が乾かされた後で第１のジェルネイルポリッシュ層の上に第２のコートが塗られる。第１のジェルネイルポリッシュ層の上に第２の層を１つの単一層構造体として一体に形成するために、第２のコートが光にあてて乾かされる。仕上がったジェルネイルポリッシュ構造体は、爪に塗られたカラージェルネイルポリッシュ層の数によって決まる３層又は４層のジェルネイルポリッシュであることに言及する価値がある。

（Ｇ）ジェルネイルポリッシュ層を除去するときに、ユーザは、ネイルポリッシュリムーバを含ませた布、コットン、又はティッシュペーパで、仕上がったジェルネイルポリッシュ構造体を簡単に直接拭き取ってもよい。仕上がったジェルネイルポリッシュ構造体は、元の塗られたときの状態を７〜１４日間にわたって爪の上で保持できることに言及する価値がある。

好ましい実施形態によれば、ジェルネイルポリッシュは、ネイルポリッシュリムーバに浸したコットンボールと共にアルミホイルを指先に巻いて使用せずに、爪から直接拭き取ることができ、ゆえにユーザは爪と仕上がったジェルネイルポリッシュ構造体との間に隙間が生じるまで待つのに多くの時間を費やすことを回避することができる。さらに、ユーザは、ジェルネイルポリッシュ層を爪から取るのにキューティクルプッシャー又は鉄製プッシャーを使用する必要がなく、したがって爪がでこぼこになる及びなめらかでなくなることを回避する。加えて、ユーザはまた、残留ゲルを爪から完全に除去するのにネイルファイル又はネイルバッファを使用する必要はなく、したがって爪が薄くなることを回避する。言い換えれば、本発明のジェルネイルポリッシュの除去プロセスは、従来の方法による場合に爪の上に生じる損傷を劇的に減らすことができる。

従来のジェルネイルポリッシュは、自然太陽光に単純にあてて乾かすことはできないことに言及する価値がある。さらに、トップコート層が乾かされた後で、層上にいくらかのべたつくコロイドが残留することになり、ゆえにユーザは、ジェルネイルポリッシュ層上のべたつくコロイドを除去するのにアルコールを使用しなくてはならない。したがって、本発明のジェルネイルポリッシュは、ユーザがジェルネイルポリッシュをユーザの爪に塗るため及び除去するためにかかる多くの時間とお金を節約することを可能にする。

図面の図３を参照すると、本発明は、ジェルネイルポリッシュの使用方法の代替的なモードをさらに提供し、使用方法は以下のステップを含む。

（Ａ）ジェルネイルポリッシュのカラーコートを爪に塗る。ユーザは、従来の方法でジェルネイルポリッシュボトルからのジェルネイルポリッシュのカラーコートを塗ることができる。爪の上にジェルネイルポリッシュ層が形成される前及び後にベースコート及びトップコートは必要とされないことに言及する価値がある。

（Ｂ）ジェルネイルポリッシュ層を形成するためにジェルネイルポリッシュのカラーコートを光にあてて乾かす。この際、ジェルネイルポリッシュ層が乾かされるときに、ジェルネイルポリッシュ層上にべたつくコロイドは形成されない。ジェルネイルポリッシュ層は、例えば、３０〜６０秒間ＬＥＤ光にあてて、２分間ＵＶ光にあてて、又は１〜２分間太陽光にあてて完全に乾かされる。ジェルネイルポリッシュ層上にべたつくコロイドは形成されておらず、したがって、ユーザは、従来のネイルポリッシュによって形成されるジェルネイルポリッシュ層上のべたつくコロイドを除去するのにアルコールを使用する必要がないことに言及する価値がある。

必要であれば、ジェルネイルポリッシュの第２のカラーコートを爪に塗るためにステップ（Ａ）及び（Ｂ）を繰り返す。第１のジェルネイルポリッシュ層が乾かされた後で第１のジェルネイルポリッシュ層の上に第２のカラーコートが塗られる。第１のジェルネイルポリッシュ層の上に第２の層を１つの単一層構造体として一体に形成するために、第２のコートも光にあてて乾かされる。２層になったジェルネイルポリッシュは、不透明であり、色をより強くし、爪の上で平らである。

（Ｃ）ジェルネイルポリッシュ層を除去するために、ネイルポリッシュリムーバをつけた布、コットン、又はティッシュペーパでジェルネイルポリッシュ層を直接拭き取る。ジェルネイルポリッシュ層は、元の塗られたときと同じくらい新しい状態を７〜１４日間にわたって爪の上で保持できることに言及する価値がある。

図面に示され、上記で説明される本発明の実施形態は、単なる例示であって、限定することを意図されないことを当業者は理解するであろう。

したがって、本発明の目的が十分に効果的に達成されていることが分かるであろう。いくつかの実施形態が、本発明の機能的及び構造的原理を例示する目的で示され、説明されており、こうした原理から逸脱せずに変更がなされる。したがって、この発明は、以下の請求項の精神及び範囲内に包含されるすべての修正を含む。

Claims

ジェルネイルポリッシュ組成物であって、
第１の化学成分として脂肪族ウレタンアクリレート、第２の化学成分としてポリマーアクリレートオリゴマー、第３の化学成分としてモノマー希釈剤、及び第４の化学成分として光重合開始剤を含む、ジェルネイルポリッシュ混合物と、
前記ジェルネイルポリッシュ混合物をＬＥＤ光、ＵＶ光、及び太陽光にあてることからなる群から選択された光構造体にあてることで乾かすことができるように前記ジェルネイルポリッシュと混合される着色剤と、
を含む、ジェルネイルポリッシュ組成物。
前記第１の化学成分の量が５７．６〜６９．９重量％の範囲を有し、前記第２の化学成分の量が１６．４〜１９．８重量％の範囲を有し、前記第３の化学成分の量が１２．７〜１５．４重量％の範囲を有し、前記第４の化学成分の量が４．１〜４．９重量％の範囲を有する、請求項１に記載のジェルネイルポリッシュ組成物。
前記第１〜第４の化学成分の重量比が６３．５：１８：１４：４．５である、請求項１に記載のジェルネイルポリッシュ組成物。
前記モノマー希釈剤がポリマーアクリレートオリゴマーであり、前記光重合開始剤がプロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート及びトリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドである、請求項１に記載のジェルネイルポリッシュ組成物。
前記モノマー希釈剤がポリマーアクリレートオリゴマーであり、前記光重合開始剤がプロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート及びトリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドである、請求項２に記載のジェルネイルポリッシュ組成物。
前記モノマー希釈剤がポリマーアクリレートオリゴマーであり、前記光重合開始剤がプロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート及びトリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドである、請求項３に記載のジェルネイルポリッシュ組成物。
ジェルネイルポリッシュの製造方法であって、
（ａ）第１の化学成分として脂肪族ウレタンアクリレート、第２の化学成分としてポリマーアクリレートオリゴマー、第３の化学成分としてモノマー希釈剤、及び第４の化学成分として光重合開始剤を提供するステップと、
（ｂ）第１の混合物を形成するために前記第３の化学成分中で前記第１の化学成分及び第２の化学成分を加熱及び攪拌することによって前記第１の化学成分及び前記第２の化学成分を前記第３の化学成分中に溶解させるステップと、
（ｃ）第２の混合物を形成するために前記第４の化学成分を前記第１の混合物と混合し、一緒に攪拌するステップと、
（ｄ）ジェルネイルポリッシュの最終製品を形成するために前記第２の混合物中に着色剤を添加し、混合するステップと、
を含む、方法。
前記第１の化学成分の量が５７．６〜６９．９重量％の範囲を有し、前記第２の化学成分の量が１６．４〜１９．８重量％の範囲を有し、前記第３の化学成分の量が１２．７〜１５．４重量％の範囲を有し、前記第４の化学成分の量が４．１〜４．９重量％の範囲を有する、請求項７に記載の方法。
前記第１〜第４の化学成分の重量比が６３．５：１８：１４：４．５であり、前記モノマー希釈剤がポリマーアクリレートオリゴマーであり、前記光重合開始剤がプロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート及びトリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドである、請求項８に記載の方法。
前記ステップ（ｂ）において、前記第１の化学成分及び前記第２の化学成分が前記第３の化学成分中に確実に溶解されるようにするために、前記第１の混合物が６０℃で４０分間攪拌され、前記ステップ（ｃ）において、前記第２の混合物を形成するために前記第４の化学成分及び前記第１の混合物が室温で３０分間攪拌される、請求項９に記載の方法。
前記ステップ（ｃ）の前に、前記着色剤の添加前に前記第２の混合物中の残渣を除去するために前記第２の混合物を濾過するステップをさらに含む、請求項７に記載の方法。
ジェルネイルポリッシュの使用方法であって、
（ａ）第１の化学成分として脂肪族ウレタンアクリレート、第２の化学成分としてポリマーアクリレートオリゴマー、第３の化学成分としてモノマー希釈剤、及び第４の化学成分として光重合開始剤を含む、ジェルネイルポリッシュのカラーコートを爪に塗るステップと、
（ｂ）ジェルネイルポリッシュ層を形成するために、ＬＥＤ光、ＵＶ光、及び太陽光からなる群から選択された光構造体に２分以下にわたってあてて前記ジェルネイルポリッシュのカラーコートを乾かすステップと、
（ｃ）前記ジェルネイルポリッシュ層を除去するときにネイルポリッシュリムーバをつけた布、コットン、又はティッシュペーパで前記ジェルネイルポリッシュ層を直接拭き取るステップと、
を含む、方法。
前記第１の化学成分の量が５７．６〜６９．９重量％の範囲を有し、前記第２の化学成分の量が１６．４〜１９．８重量％の範囲を有し、前記第３の化学成分の量が１２．７〜１５．４重量％の範囲を有し、前記第４の化学成分の量が４．１〜４．９重量％の範囲を有する、請求項１２に記載の方法。
前記第１〜第４の化学成分の重量比が６３．５：１８：１４：４．５であり、前記モノマー希釈剤がポリマーアクリレートオリゴマーであり、前記光重合開始剤がプロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート及びトリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドである、請求項１３に記載の方法。
前記ステップ（ｂ）の後で、２層になったジェルネイルポリッシュ層を形成するべくジェルネイルポリッシュの第２のカラーコートを爪に塗るために前記ステップ（ａ）及び（ｂ）を繰り返すステップをさらに含む、請求項１２に記載の方法。