JP2017053855A - マイクロメカニカル時計部品を製造するための方法、及び上記マイクロメカニカル時計部品 - Google Patents
マイクロメカニカル時計部品を製造するための方法、及び上記マイクロメカニカル時計部品 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017053855A JP2017053855A JP2016173428A JP2016173428A JP2017053855A JP 2017053855 A JP2017053855 A JP 2017053855A JP 2016173428 A JP2016173428 A JP 2016173428A JP 2016173428 A JP2016173428 A JP 2016173428A JP 2017053855 A JP2017053855 A JP 2017053855A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon
- pores
- micromechanical
- lubricant
- based substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 95
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 82
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 76
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 130
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 130
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 130
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 47
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 claims description 45
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 36
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 33
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 30
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 26
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 11
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 9
- FGUUSXIOTUKUDN-IBGZPJMESA-N C1(=CC=CC=C1)N1C2=C(NC([C@H](C1)NC=1OC(=NN=1)C1=CC=CC=C1)=O)C=CC=C2 Chemical compound C1(=CC=CC=C1)N1C2=C(NC([C@H](C1)NC=1OC(=NN=1)C1=CC=CC=C1)=O)C=CC=C2 FGUUSXIOTUKUDN-IBGZPJMESA-N 0.000 claims description 8
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 7
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 7
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 claims description 7
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N ZrO Inorganic materials [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 4
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims description 4
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 2
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 abstract description 3
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 abstract 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 20
- 229910021426 porous silicon Inorganic materials 0.000 description 12
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 11
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 10
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 5
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003831 antifriction material Substances 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007736 thin film deposition technique Methods 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000003423 ankle Anatomy 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920005594 polymer fiber Polymers 0.000 description 1
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 230000003938 response to stress Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
- G04B31/00—Bearings; Point suspensions or counter-point suspensions; Pivot bearings; Single parts therefor
- G04B31/08—Lubrication
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04D—APPARATUS OR TOOLS SPECIALLY DESIGNED FOR MAKING OR MAINTAINING CLOCKS OR WATCHES
- G04D3/00—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
- G04B13/00—Gearwork
- G04B13/02—Wheels; Pinions; Spindles; Pivots
- G04B13/021—Wheels; Pinions; Spindles; Pivots elastic fitting with a spindle, axis or shaft
- G04B13/022—Wheels; Pinions; Spindles; Pivots elastic fitting with a spindle, axis or shaft with parts made of hard material, e.g. silicon, diamond, sapphire, quartz and the like
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B17/00—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres
- B32B17/06—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material
- B32B17/10—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin
- B32B17/10005—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing
- B32B17/1055—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the resin layer, i.e. interlayer
- B32B17/10798—Layered products essentially comprising sheet glass, or glass, slag, or like fibres comprising glass as the main or only constituent of a layer, next to another layer of a specific material of synthetic resin laminated safety glass or glazing characterized by the resin layer, i.e. interlayer containing silicone
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B3/00—Devices comprising flexible or deformable elements, e.g. comprising elastic tongues or membranes
- B81B3/0064—Constitution or structural means for improving or controlling the physical properties of a device
- B81B3/0067—Mechanical properties
- B81B3/007—For controlling stiffness, e.g. ribs
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B3/00—Devices comprising flexible or deformable elements, e.g. comprising elastic tongues or membranes
- B81B3/0064—Constitution or structural means for improving or controlling the physical properties of a device
- B81B3/0067—Mechanical properties
- B81B3/0075—For improving wear resistance
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
- C23C16/45523—Pulsed gas flow or change of composition over time
- C23C16/45525—Atomic layer deposition [ALD]
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
- G04B15/00—Escapements
- G04B15/14—Component parts or constructional details, e.g. construction of the lever or the escape wheel
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
- G04B19/00—Indicating the time by visual means
- G04B19/06—Dials
- G04B19/10—Ornamental shape of the graduations or the surface of the dial; Attachment of the graduations to the dial
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
- G04B19/00—Indicating the time by visual means
- G04B19/06—Dials
- G04B19/12—Selection of materials for dials or graduations markings
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04D—APPARATUS OR TOOLS SPECIALLY DESIGNED FOR MAKING OR MAINTAINING CLOCKS OR WATCHES
- G04D3/00—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials
- G04D3/0074—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for treatment of the material, e.g. surface treatment
- G04D3/0079—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for treatment of the material, e.g. surface treatment for gearwork components
- G04D3/0082—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for treatment of the material, e.g. surface treatment for gearwork components for gear wheels or gears
-
- G—PHYSICS
- G04—HOROLOGY
- G04D—APPARATUS OR TOOLS SPECIALLY DESIGNED FOR MAKING OR MAINTAINING CLOCKS OR WATCHES
- G04D3/00—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials
- G04D3/0074—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for treatment of the material, e.g. surface treatment
- G04D3/0087—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for treatment of the material, e.g. surface treatment for components of the escapement mechanism, e.g. lever escapement, escape wheel
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B2201/00—Specific applications of microelectromechanical systems
- B81B2201/03—Microengines and actuators
- B81B2201/035—Microgears
Landscapes
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Micromachines (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Lubricants (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
a)シリコン系基板を準備するステップ;
b)上記シリコン系基板の表面の少なくとも一部の表面上に、深さ少なくとも10μm、好ましくは少なくとも50μm、より好ましくは少なくとも100μmの細孔を形成するステップであって、上記細孔は、上記マイクロメカニカル時計部品の外側表面において外向きに開口するよう設計されている、ステップ。
a)シリコン系基板を準備するステップ;
b)上記シリコン系基板の表面の少なくとも一部の表面から開始する、深さ少なくとも10μm、好ましくは少なくとも50μm、より好ましくは少なくとも100μmの細孔を形成するステップであって、上記細孔は、上記マイクロメカニカル時計部品の外側表面において外向きに開口するよう設計されている、ステップ。
‐材料の堆積中に細孔を完全に充填すること;
‐ガスの流れを促進すること;
‐堆積された材料の層とシリコン細孔との間に所望の容積比を得ること
が可能である。例えば、必要であれば90%超の多孔率を有する多孔性シリコンを製造できる。
2 細孔
3’ シリコン系繊維
4 表面層
5 減摩剤
6 湿潤剤
8 ポリマーブラシ
Claims (27)
- シリコン系基板(1)から開始してマイクロメカニカル時計部品を製造するための方法であって、前記方法は:
a)前記シリコン系基板(1)を準備するステップ;
b)前記シリコン系基板(1)の表面の少なくとも一部の表面上に、深さ少なくとも10μm、好ましくは少なくとも50μm、より好ましくは少なくとも100μmの細孔(2)を形成するステップであって、前記細孔は、前記マイクロメカニカル時計部品の外側表面において外向きに開口するよう設計されている、ステップ
をこの順で含む、方法。 - 前記ステップb)の後に、c)前記細孔(2)全体を、ダイヤモンド、ダイヤモンド様炭素(DLC)、酸化ケイ素、窒化ケイ素、セラミック、ポリマー及びこれらの混合物から選択された材料で充填して、前記細孔(2)内に、前記細孔(2)の前記深さと少なくとも等しい厚さの前記材料の層を形成することからなるステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記ステップc)の後に、d)前記シリコン系基板(1)の及び前記材料で充填された前記細孔(2)の表面上に、前記材料の表面層(4)を形成するステップを含む、請求項2に記載の方法。
- 前記細孔(2)は、装飾表面に対応する前記シリコン系基板(1)の領域に亘って形成される、請求項1に記載の方法。
- 前記方法は、前記ステップb)の後に、e)前記装飾表面に亘って少なくとも1つのコーティングを堆積させるステップを含むことを特徴とする、請求項4に記載の方法。
- 前記コーティングは金属化層を含むことを特徴とする、請求項5に記載の方法。
- 前記コーティングは、SiO2、TiO2、ZrO2、HfO2、Ta2O5、VO2からなる群から選択された透明酸化物層を含むことを特徴とする、請求項5又は6に記載の方法。
- 前記ステップb)の後に、f)前記細孔(2)内に減摩剤(5)を堆積させることからなるステップを含み、
前記細孔(2)は、前記シリコン系基板(1)の潤滑されるべき表面の少なくとも一部の表面上に形成される、請求項1に記載の方法。 - 前記細孔(2)は、前記細孔の間に、アスペクト比(深さ:直径比)が5〜100のシリコン系繊維(3’)を形成するように設計される、請求項8に記載の方法。
- 前記ステップb)と前記ステップf)との間に、g)前記シリコン系繊維(3’)の壁上に前記減摩剤(5)のための少なくとも1つの湿潤剤(6)を堆積させるステップを含む、請求項8又は9に記載の方法。
- 前記ステップb)と前記ステップf)との間に、h)前記シリコン系繊維(3’)の前記壁上に少なくとも1つのポリマーブラシ(8)を堆積させるステップを含む、請求項8又は9に記載の方法。
- 前記減摩剤(5)は、パーフルオロカーボン系ポリマーである、請求項8〜11のいずれか1項に記載の方法。
- 前記細孔(2)を前記シリコン系基板(1)上に形成することにより、前記細孔を備えず前記減摩剤が塗布される前記シリコン系基板の少なくとも1つの領域に対するエピラム効果を有する、少なくとも1つの上部疎水領域が形成される、請求項1に記載の方法。
- 前記ステップb)は、電気化学エッチングによる方法、「ステインエッチング(Stain‐etch)」タイプの方法及び「MACエッチング(MAC‐Etch)」タイプの方法からなる群から選択された方法によって達成される、請求項1〜13のいずれか1項に記載の方法。
- 前記ステップb)は、「MACエッチング」タイプの方法によって達成される、請求項14に記載の方法。
- 前記細孔は、1〜200のアスペクト比(深さ:直径比)を有する、請求項1〜15のいずれか1項に記載の方法。
- 前記細孔(2)の深さは、200μm超、より好ましくは300μm超である、請求項1〜16のいずれか1項に記載の方法。
- 前記シリコン系基板(1)は、シリコンウェハ又はSOI(シリコン・オン・インシュレータ)ウェハである、請求項1〜17のいずれか1項に記載の方法。
- 請求項1〜18のいずれか1項に記載の方法によって得ることができる、マイクロメカニカル時計部品。
- シリコン系基板(1)を備えるマイクロメカニカル時計部品であって、
前記シリコン系基板(1)は、前記シリコン系基板(1)の表面の少なくとも一部の表面上に、深さ少なくとも10μm、好ましくは少なくとも50μm、より好ましくは少なくとも100μmの細孔(2)を有し、
前記細孔は、前記マイクロメカニカル時計部品の外側表面において外向きに開口するよう設計されている、マイクロメカニカル時計部品。 - 前記細孔(2)全体は、ダイヤモンド、ダイヤモンド様炭素(DLC)、酸化ケイ素、窒化ケイ素、セラミック、ポリマー及びこれらの混合物から選択された材料の、前記細孔(2)の前記深さと少なくとも等しい厚さの層で充填されることを特徴とする、請求項20に記載のマイクロメカニカル時計部品。
- 前記マイクロメカニカル時計部品は、前記シリコン系基板(1)の及び前記材料で充填された前記細孔(2)の表面上に、前記材料の表面層を備えることを特徴とする、請求項21に記載のマイクロメカニカル時計部品。
- 前記細孔(2)は、装飾表面を形成するよう設計されること;並びに
前記装飾表面は、金属化層及び/又はSiO2、TiO2、ZrO2、HfO2、Ta2O5、VO2からなる群から選択された透明酸化物層を含むコーティングで被覆されること
を特徴とする、請求項20に記載のマイクロメカニカル時計部品。 - 前記細孔(2)は、減摩剤(5)を含むことを特徴とする、請求項20に記載のマイクロメカニカル時計部品。
- 前記マイクロメカニカル時計部品は、前記細孔(2)の間にシリコン系繊維(3’)を備え、
前記シリコン系繊維(3’)は、前記減摩剤(5)のための少なくとも1つの湿潤剤(6)で被覆された壁を備え、
前記シリコン系繊維(3’)は前記減摩剤(5)に含浸される
ことを特徴とする、請求項24に記載のマイクロメカニカル時計部品。 - 前記マイクロメカニカル時計部品は、前記細孔(2)の間にシリコン系繊維(3’)を備え、
前記シリコン系繊維(3’)は、少なくとも1つのポリマーブラシ(8)で被覆された壁を備え、
前記シリコン系繊維(3’)及び前記ポリマーブラシ(8)は前記減摩剤(5)に含浸される
ことを特徴とする、請求項24に記載のマイクロメカニカル時計部品。 - 前記細孔(2)は、前記細孔を備えず前記減摩剤が塗布される前記シリコン系基板の少なくとも1つの領域に対するエピラム効果を有する、少なくとも1つの上部疎水領域が形成されるように、前記シリコン系基板(1)上に設計されることを特徴とする、請求項20に記載のマイクロメカニカル時計部品。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP15184189.7A EP3141520B1 (fr) | 2015-09-08 | 2015-09-08 | Procédé de fabrication d'une pièce micromécanique horlogère et ladite pièce micromécanique horlogère |
EP15184189.7 | 2015-09-08 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017053855A true JP2017053855A (ja) | 2017-03-16 |
JP6326464B2 JP6326464B2 (ja) | 2018-05-16 |
Family
ID=54065784
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016173428A Active JP6326464B2 (ja) | 2015-09-08 | 2016-09-06 | マイクロメカニカル時計部品を製造するための方法、及び上記マイクロメカニカル時計部品 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11378918B2 (ja) |
EP (1) | EP3141520B1 (ja) |
JP (1) | JP6326464B2 (ja) |
KR (1) | KR102066321B1 (ja) |
CN (1) | CN106502078B (ja) |
TW (1) | TWI724012B (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019053045A (ja) * | 2017-09-13 | 2019-04-04 | ロレックス・ソシエテ・アノニムRolex Sa | 複雑腕時計コンポーネントのための保護コーティング |
US10867801B2 (en) | 2017-09-26 | 2020-12-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Etching apparatus and etching method |
JP2021513069A (ja) * | 2018-02-07 | 2021-05-20 | パテック フィリップ ソシエテ アノニム ジュネーブ | 微小機械時計部品 |
JP2022538344A (ja) * | 2019-07-05 | 2022-09-01 | アソシアシオン・スイス・プール・ラ・ルシェルシュ・オルロジェル | 潤滑物質を含むマイクロメカニカル部品 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3141519B1 (fr) * | 2015-09-08 | 2018-03-14 | Nivarox-FAR S.A. | Procédé de fabrication d'une pièce micromécanique horlogère |
EP3407143A1 (fr) * | 2017-05-24 | 2018-11-28 | Rolex Sa | Dispositif de liaison mécanique |
EP3608728B1 (fr) * | 2018-08-08 | 2022-02-16 | Nivarox-FAR S.A. | Spiral thermocompensé coloré et son procédé de fabrication |
US20220276609A1 (en) * | 2019-04-15 | 2022-09-01 | Rolex Sa | Cam-type timepiece component |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4725511A (en) * | 1983-08-16 | 1988-02-16 | Reber William L | High technology decorative materials for watchfaces and fabrication of same |
JP2011175263A (ja) * | 2010-02-25 | 2011-09-08 | Xerox Corp | フューザ部材 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5580834A (en) * | 1993-02-10 | 1996-12-03 | The Morgan Crucible Company Plc | Self-sintered silicon carbide/carbon graphite composite material having interconnected pores which may be impregnated and raw batch and process for producing same |
EP1445670A1 (fr) * | 2003-02-06 | 2004-08-11 | ETA SA Manufacture Horlogère Suisse | Spiral de résonateur balancier-spiral et son procédé de fabrication |
US7045868B2 (en) * | 2003-07-31 | 2006-05-16 | Motorola, Inc. | Wafer-level sealed microdevice having trench isolation and methods for making the same |
ATE463766T1 (de) * | 2005-03-22 | 2010-04-15 | Patek Philippe Sa Geneve | Zusammenbau eines teils mit einer achse |
EP1921517B1 (fr) * | 2006-11-09 | 2010-05-12 | ETA SA Manufacture Horlogère Suisse | Elément d'assemblage comportant des structures élastiques en forme de fourches et pièce d'horlogerie comportant cet élément |
DE602008003097D1 (de) * | 2008-04-21 | 2010-12-02 | Rolex Sa | Mikromechanisches Bauteil mit Öffnung zur Befestigung auf einer Achse |
EP2277822A1 (fr) * | 2009-07-23 | 2011-01-26 | Montres Breguet S.A. | Procede de fabrication d'une piece micromecanique en silicium renforce |
DE102009046647B4 (de) * | 2009-11-12 | 2015-05-21 | Lothar Schmidt | Uhr |
TWI480324B (zh) * | 2010-08-04 | 2015-04-11 | Asahi Glass Co Ltd | A photohardenable composition, and a molded article having a fine pattern on its surface |
EP2442189A1 (fr) * | 2010-10-15 | 2012-04-18 | ETA SA Manufacture Horlogère Suisse | Assemblage d'une pièce ne comportant pas de domaine plastique |
EP2469353A1 (fr) * | 2010-12-22 | 2012-06-27 | ETA SA Manufacture Horlogère Suisse | Assemblage d'une pièce ne comportant pas de domaine plastique |
JP5753943B2 (ja) * | 2011-05-09 | 2015-07-22 | ザ・スウォッチ・グループ・リサーチ・アンド・ディベロップメント・リミテッド | 油相溶性ポリマーブラシによる潤滑 |
CH705944A2 (fr) * | 2011-12-22 | 2013-06-28 | Swatch Group Res & Dev Ltd | Procédé de réalisation d'un composant et composant horloger fabriqué par un tel procédé |
GB201205178D0 (en) * | 2012-03-23 | 2012-05-09 | Nexeon Ltd | Etched silicon structures, method of forming etched silicon structures and uses thereof |
WO2014009059A1 (en) | 2012-07-10 | 2014-01-16 | The Swatch Group Research And Development Ltd | Surface lubrication of an article |
WO2014012039A1 (en) * | 2012-07-13 | 2014-01-16 | President And Fellows Of Harvard College | Slippery liquid-infused porous surfaces having improved stability |
EP2865737A1 (fr) * | 2013-10-28 | 2015-04-29 | The Swatch Group Research and Development Ltd. | Produit noble épilame |
DE102013113380B3 (de) * | 2013-11-27 | 2015-04-09 | Damasko Gmbh | Verfahren zur herstellung von funktionselementen für mechanische uhrwerke und funktionselement |
CH708998B1 (fr) * | 2013-12-16 | 2018-08-31 | Tgm Dev Sa C/O Etude Tissot | Composant horloger et procédé pour réduire le coefficient de frottement d'un composant horloger. |
JP6133767B2 (ja) * | 2013-12-26 | 2017-05-24 | シチズン時計株式会社 | ひげぜんまい及びその製造方法 |
-
2015
- 2015-09-08 EP EP15184189.7A patent/EP3141520B1/fr active Active
-
2016
- 2016-08-03 TW TW105124636A patent/TWI724012B/zh active
- 2016-08-11 US US15/234,147 patent/US11378918B2/en active Active
- 2016-09-05 CN CN201610801539.6A patent/CN106502078B/zh active Active
- 2016-09-06 JP JP2016173428A patent/JP6326464B2/ja active Active
- 2016-09-07 KR KR1020160115284A patent/KR102066321B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4725511A (en) * | 1983-08-16 | 1988-02-16 | Reber William L | High technology decorative materials for watchfaces and fabrication of same |
JP2011175263A (ja) * | 2010-02-25 | 2011-09-08 | Xerox Corp | フューザ部材 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019053045A (ja) * | 2017-09-13 | 2019-04-04 | ロレックス・ソシエテ・アノニムRolex Sa | 複雑腕時計コンポーネントのための保護コーティング |
US10867801B2 (en) | 2017-09-26 | 2020-12-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Etching apparatus and etching method |
JP2021513069A (ja) * | 2018-02-07 | 2021-05-20 | パテック フィリップ ソシエテ アノニム ジュネーブ | 微小機械時計部品 |
US11829107B2 (en) | 2018-02-07 | 2023-11-28 | Patek Philippe Sa Geneve | Micro-mechanical timepiece part |
JP2022538344A (ja) * | 2019-07-05 | 2022-09-01 | アソシアシオン・スイス・プール・ラ・ルシェルシュ・オルロジェル | 潤滑物質を含むマイクロメカニカル部品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20170030062A (ko) | 2017-03-16 |
US11378918B2 (en) | 2022-07-05 |
TW201718391A (zh) | 2017-06-01 |
KR102066321B1 (ko) | 2020-01-14 |
EP3141520B1 (fr) | 2018-03-14 |
JP6326464B2 (ja) | 2018-05-16 |
TWI724012B (zh) | 2021-04-11 |
CN106502078B (zh) | 2020-09-01 |
EP3141520A1 (fr) | 2017-03-15 |
US20170068219A1 (en) | 2017-03-09 |
CN106502078A (zh) | 2017-03-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6326464B2 (ja) | マイクロメカニカル時計部品を製造するための方法、及び上記マイクロメカニカル時計部品 | |
JP5766765B2 (ja) | 金属材料でコーティングした選択伝導性セラミック | |
JP6326462B2 (ja) | マイクロメカニカル時計部品の装飾表面を形成する方法及び上記マイクロメカニカル時計部品 | |
JP6326463B2 (ja) | 潤滑表面を備えるマイクロメカニカル時計部品及びこのようなマイクロメカニカル時計部品を製造するための方法 | |
CH711501A2 (fr) | Procédé de fabrication d'une pièce micromécanique horlogère et ladite pièce micromécanique horlogère. | |
JP6259502B2 (ja) | マイクロメカニカル時計部品を製造するための方法及び上記マイクロメカニカル時計部品 | |
CH711499A2 (fr) | Procédé de formation d'une surface décorative sur une pièce micromécanique horlogère et ladite pièce micromécanique horlogère. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170719 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170912 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171207 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180410 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180416 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6326464 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |