JP2017040946A - 反射防止膜、それを用いた光学部材、及び光学機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基材の表面上に多層膜を形成してなる反射防止膜であって、前記多層膜の各層の屈折率は波長587.56 nmのd線に対して1.35以上であり、可視域の波長帯390〜720 nmの光に対する反射率が0.4%以下であることを特徴とする反射防止膜。
【選択図】図1
Description
本発明の光学部材はかかる反射防止膜を施したことを特徴とする。
本発明の光学機器はかかる光学部材を有することを特徴とする。
図2〜14の表(A) に示すように、高屈折率層22、24、26及び28の成膜材料としてd線に対して屈折率2.46を示すTiO2、中間屈折率層21、23、25及び27の成膜材料としてd線に対して屈折率1.48を示すSiO2、低屈折率層29の成膜材料としてd線に対して屈折率1.39を示すMgF2を使用し、所定の屈折率を有する各基材10に対する最適な各層21〜29の光学膜厚の設計値をシミュレーションにより求めた。λ0は設計波長(550 nm)である。各実施例1-1〜1-13の反射防止膜20に垂直に光を入射させたときの分光反射率をシミュレーションにより求めた。得られた計算結果をそれぞれ図2〜14のグラフ(B) に示す。このとき、基材10及び各層21〜29の屈折率分散を考慮し、基材10の反射防止膜20が形成されていない面での反射はないものとした。
図15〜27の表(A) に示すように、高屈折率層22、24、26及び28の成膜材料としてd線に対して屈折率2.31を示すNb2O5、中間屈折率層21、23、25及び27の成膜材料としてd線に対して屈折率1.48を示すSiO2、低屈折率層29の成膜材料としてd線に対して屈折率1.39を示すMgF2を使用し、所定の屈折率を有する各基材10に対する最適な各層21〜29の光学膜厚の設計値をシミュレーションにより求めた。λ0は設計波長(550 nm)である。各実施例2-1〜2-13の反射防止膜20に垂直に光を入射させたときの分光反射率をシミュレーションにより求めた。得られた計算結果をそれぞれ図15〜27のグラフ(B) に示す。このとき、基材10及び各層21〜29の屈折率分散を考慮し、基材10の反射防止膜20が形成されていない面での反射はないものとした。
図28〜40の表(A) に示すように、高屈折率層22、24、26及び28の成膜材料としてd線に対して屈折率2.21を示すNb2O5+HfO2、中間屈折率層21、23、25及び27の成膜材料としてd線に対して屈折率1.47を示すSiO2、低屈折率層29の成膜材料としてd線に対して屈折率1.39を示すMgF2を使用し、所定の屈折率を有する各基材10に対する最適な各層21〜29の光学膜厚の設計値をシミュレーションにより求めた。λ0は設計波長(550 nm)である。各実施例3-1〜3-13の反射防止膜20に垂直に光を入射させたときの分光反射率をシミュレーションにより求めた。得られた計算結果をそれぞれ図28〜40のグラフ(B) に示す。このとき、基材10及び各層21〜29の屈折率分散を考慮し、基材10の反射防止膜20が形成されていない面での反射はないものとした。
図41〜53の表(A) に示すように、高屈折率層22、24、26及び28の成膜材料としてd線に対して屈折率2.30を示すTiO2、中間屈折率層21、23、25及び27の成膜材料としてd線に対して屈折率1.54を示すAl2O3+SiO2、低屈折率層29の成膜材料としてd線に対して屈折率1.39を示すMgF2を使用し、所定の屈折率を有する各基材10に対する最適な各層21〜29の光学膜厚の設計値をシミュレーションにより求めた。λ0は設計波長(550 nm)である。各実施例4-1〜4-13の反射防止膜20に垂直に光を入射させたときの分光反射率をシミュレーションにより求めた。得られた計算結果をそれぞれ図41〜53のグラフ(B) に示す。このとき、基材10及び各層21〜29の屈折率分散を考慮し、基材10の反射防止膜20が形成されていない面での反射はないものとした。
図54の表(A) に示すように、高屈折率層22、24、26及び28の成膜材料として波長550 nmの光に対して屈折率2.11を示すTiO2、中間屈折率層21、23、25及び27の成膜材料として波長550 nmの光に対して屈折率1.62を示すAl2O3、低屈折率層29の成膜材料として波長550 nmの光に対して屈折率1.38を示すMgF2を使用し、所定の屈折率を有する各基材10に対する最適な各層21〜29の光学膜厚の設計値をシミュレーションにより求めた。比較例1の反射防止膜20に垂直に光を入射させたときの分光反射率をシミュレーションにより求めた。得られた計算結果を図54のグラフ(B) に示す。このとき、基材10及び各層21〜29の屈折率分散を考慮し、基材10の反射防止膜20が形成されていない面での反射はないものとした。
20・・・反射防止膜
Claims (12)
- 基材の表面上に多層膜を形成してなる反射防止膜であって、前記多層膜の各層の屈折率は波長587.56 nmのd線に対して1.35以上であり、可視域の波長帯390〜720 nmの光に対する反射率が0.4%以下であることを特徴とする反射防止膜。
- 請求項1に記載の反射防止膜において、前記基材側から第1層の屈折率が第2層の屈折率より小さいことを特徴とする反射防止膜。
- 請求項1に記載の反射防止膜において、前記基材側から第1層の屈折率が第2層の屈折率より小さく、第3層の屈折率が第2層の屈折率より小さいことを特徴とする反射防止膜。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止膜において、最外層の屈折率が前記d線に対して1.35以上1.40未満であることを特徴とする反射防止膜。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の反射防止膜において、前記基材側から第1層の光学膜厚が第2層の光学膜厚より大きいことを特徴とする反射防止膜。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の反射防止膜において、前記基材側から第1層の光学膜厚が第2層の光学膜厚より大きく、第3層の光学膜厚が第2層の光学膜厚より大きいことを特徴とする反射防止膜。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の反射防止膜において、前記多層膜は第1層〜第9層を前記基材側からこの順に積層してなることを特徴とする反射防止膜。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の反射防止膜において、高屈折率層、中間屈折率層及び低屈折率層を有することを特徴とする反射防止膜。
- 請求項8に記載の反射防止膜において、前記中間屈折率層と前記高屈折率層との間の屈折率差は0.66超1.30以下であることを特徴とする反射防止膜。
- 請求項8又は9に記載の反射防止膜において、前記低屈折率層と前記中間屈折率層との間の屈折率差は0超0.20未満であることを特徴とする反射防止膜。
- 請求項1〜10のいずれかに記載の反射防止膜を施したことを特徴とする光学部材。
- 請求項11に記載の光学部材を有することを特徴とする光学機器。
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JP2007333806A (ja) * | 2006-06-12 | 2007-12-27 | Fujinon Corp | 反射防止膜および光学部材 |
JP2011221465A (ja) * | 2010-04-14 | 2011-11-04 | Hoya Corp | 反射防止膜、及びこれを有する光学部材 |
JP2014056215A (ja) * | 2012-09-14 | 2014-03-27 | Ricoh Imaging Co Ltd | 反射防止膜、それを用いた光学部材、及び光学機器 |
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