JP2017008365A - 耐熱性に優れためっき材及びその製造方法 - Google Patents
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ここで、この種のめっき材料を端子として用いる場合、雄端子と雌端子を嵌合する際にめっきが剥離し、電気接続性が損なわれないように、耐摺動剥離性が要求される。これに対し、めっき層に欠陥が含まれる場合、そこが剥離の起点となり、耐摺動剥離性が低下してしまうことがある。そのため、めっき材に、欠陥の一種であるボイドを導入することは一般には、忌避されている。
そのような状況の下、本発明者らは、敢えてSnめっき材に少量のボイドを導入することにより、良好な耐摺動剥離性を維持しつつ、上記課題を解決することを見出したものである。
より具体的には、本発明者らは、CuまたはCu合金からなる導電性基材上にNiまたはNi合金、CuSn化合物、SnまたはSn合金の順に各層を形成し、該Snめっき材が圧延方向に対して垂直方向の断面を見たときに、NiまたはNi合金層とCuSn化合物層の界面長さ20μm当たりに、長さ0.1μm以上のボイドを1〜15個有することにより、従来と同等の良好な耐摺動剥離性を維持しながら、耐熱性に優れたSnめっき材が得られることを見出した。
(1)CuまたはCu合金からなる導電性基材上にNiまたはNi合金からなる第一下地層、CuSn化合物からなる中間層、SnまたはSn合金からなる表面層の順に各層が形成されたSnめっき材であって、該Snめっき材は圧延方向に対して垂直方向の断面を見たときに、前記第一下地層と前記中間層の界面長さ20μm当たりに、長さ0.1μm以上のボイドを1〜15個有することを特徴とするSnめっき材。
(2)CuまたはCu合金から成る導電性基材上にNiまたはNi合金からなる第一下地層、CuまたはCu合金からなる第二下地層、CuSn化合物からなる中間層、SnまたはSn合金からなる表面層の順に各層が形成されたSnめっき材であって、該Snめっき材は圧延方向に対して垂直方向の断面を見たときに、第二下地層と中間層の界面長さ20μm当たりに、長さ0.1μm以上のボイドを1〜15個有することを特徴とするSnめっき材。
(3)前記第二下地層の厚さが0〜0.1μmであることを特徴とする(2)項記載のSnめっき材。
(4)前記表面層の厚さが0.2〜5μmであることを特徴とする(1)〜(3)のいずれか1項に記載のSnめっき材。
(5)前記中間層の厚さが0.1〜1μmであることを特徴とする(1)〜(4)のいずれか1項に記載のSnめっき材。
(6)前記第一下地層の厚さが0.1〜2μmであることを特徴とする(1)〜(5)のいずれか1項に記載のSnめっき材。
(7)(1)〜(6)のいずれか1項に記載のSnめっき材を使用した車載部品。
(8)(1)〜(6)のいずれか1項に記載のSnめっき材を使用した電気電子部品。
(9)CuまたはCu合金から成る導電性基材上に、NiまたはNi合金からなる第一下地層、CuSn化合物からなる中間層、SnまたはSn合金からなる表面層の順に各層が形成されたSnめっき材の製造方法であって、
前記導電性基材上に、前記第一下地層、CuまたはCu合金からなる第二下地層、前記表面層をこの順に形成した後、リフロー処理により前記第二下地層と前記表面層を、前記第二下地層が無くなるまで反応させて前記中間層を形成し、
前記第二下地層を形成する、CuまたはCu合金めっきを形成する際の浴温を30〜60℃、電流密度を6〜30A/dm2に調整することにより、前記リフロー処理によって、前記第一下地層と前記中間層の界面長さ20μm当たりに、長さ0.1μm以上のボイドを1〜15個形成することを特徴とする、Snめっき材の製造方法。
(10)CuまたはCu合金から成る導電性基材上に、NiまたはNi合金からなる第一下地層、CuまたはCu合金からなる第二下地層、CuSn化合物からなる中間層、SnまたはSn合金からなる表面層の順に各層が形成されたSnめっき材の製造方法であって、
前記導電性基材上に、前記第一下地層、前記第二下地層、前記表面層をこの順に形成した後、リフロー処理により前記第二下地層と前記表面層を、前記第二下地層が一部残るよう、反応させて前記中間層を形成し、
前記第二下地層を形成する、CuまたはCu合金めっきを形成する際の浴温を30〜60℃、電流密度を6〜30A/dm2に調整することにより、前記リフロー処理によって、前記第二下地層と前記中間層の界面長さ20μm当たりに、長さ0.1μm以上のボイドを1〜15個形成することを特徴とする、Snめっき材の製造方法。
導電性基材(1)に用いることができる銅合金の一例として、CDA(Copper Development Association)掲載合金である「C14410(Cu−0.15Sn、古河電気工業(株)製、商品名:EFTEC3)」、「C19400(Cu−Fe系合金材料、Cu−2.3Fe−0.03P−0.15Zn)」、「C18045(Cu−0.3Cr−0.25Sn−0.5Zn、古河電気工業(株)製、商品名:EFTEC64T)」、「C64770(Cu−Ni−Si系合金材料、古河電気工業(株)製、商品名:EFTEC−97)」、「C64775(Cu−Ni−Si系合金材料、古河電気工業(株)製、商品名:EFTEC−820)」等を用いることができる。(なお、前記銅合金の各元素の前の数字の単位は銅合金中の質量%を示す。)また、TPC(タフピッチ銅)やOFC(無酸素銅)、りん青銅、黄銅(例えば、70質量%Cu−30質量%Zn。7/3黄銅と略記する。)等も用いることができる。導電性や放熱性を向上させるという観点からは、導電率が5%IACS以上の銅合金の条材とすることが好ましい。なお、銅合金を導電性基材(1)として取り扱う時での本発明の「基材成分」とは、基金属である銅のことを示すものとする。導電性基材(1)の厚さには特に制限はないが、通常、0.05〜2.00mmであり、好ましくは、0.1〜1.2mmである。
NiまたはNi合金は、一般的な方法でめっきすれば良い。めっき浴としては、例えばスルファミン浴やワット浴、硫酸浴等を使用できる。めっき条件は、浴温20〜60℃、電流密度1〜20A/dm2でめっきすればよい。
CuまたはCu合金めっき中の空孔欠陥の数を制御することで、前記ボイドの数を制御できる。通常、ボイドの形成を回避するために空孔欠陥を極力導入しないことが重要となる。一方、本発明においては、あえて空孔欠陥を導入、制御することで、良好な耐熱性を有するSnめっき材(10)が得られる。空孔欠陥の数は、浴温、電流密度、撹拌強度を調整することで決まる。また添加剤の種類、添加濃度も影響する。空孔欠陥の数を増加させるためには、例えばCuめっきの結晶粒径を小さくすれば良く、浴温を下げる、電流密度を上げる、撹拌強度を上げる等で調整することができる。具体的には、浴温を30〜60℃程度、電流密度を6〜30A/dm2程度の範囲で制御する。撹拌強度は例えば、撹拌速度を300〜1000rpmの範囲に調整すればよい。めっき浴としては、例えば硫酸浴やシアン浴を使用できる。
SnまたはSn合金は、一般的な方法でめっきすれば良い。めっき浴としては、例えば硫酸浴等を使用できる。めっき条件は、浴温10〜40℃、電流密度1〜30A/dm2でめっきすればよい。
上記表面層(5)まで形成した後のリフロー処理は、一般的な方法で実施できる。例えば400〜800℃に設定した炉内に材料を通過させ、5〜20秒加熱した後、冷却すればよい。リフロー処理により、第二下地層(3)と表面層(5)が反応し、中間層(4)が形成される。
ここでボイド(6)は、第二下地層(3)と中間層(4)の間に形成される。
したがって、リフロー処理により第二下地層(3)と表面層(5)を、第二下地層(3)が無くなるまで反応させて中間層(4)を形成した場合は、図1のように第一下地層(2)と中間層(4)の間にボイド(6)が形成される。
またリフロー処理により第二下地層(3)と表面層(5)を、第二下地層(3)が一部残るよう、反応させて中間層(4)を形成した場合は、図2のように第二下地層(3)と中間層(4)の間にボイド(6)が形成される。
本実施形態のSnめっき材(10)は、特に高温下での耐熱性(電気接続性)に優れる。このため本発明のSnめっき材(10)は、小型端子、高圧大電流端子等の車載部品の他、端子、コネクタ、リードフレームなどの電気電子部品に好適である。
このような条件で、後述の表2に示す通り、本発明の範囲に入る例として、層厚構成の異なる発明例1〜8のSnめっき材(10)を作成した。
また比較例として、ボイド数が本発明の規定から外れているSnめっき材も作製した(比較例1、2)。
脱脂液:NaOH 60g/リットル
脱脂条件:2.5A/dm2、温度60℃、脱脂時間60秒
酸洗液:10%硫酸
酸洗条件:30秒 浸漬、室温
JIS H 8501の10に記載された定電流溶解法により、Snめっき材の各層の層厚を測定した。
SEM(走査型電子顕微鏡)により、Snめっき材の圧延方向に対して垂直方向の断面を観察し、第一下地層(2)と中間層(4)の界面、あるいは第二下地層(3)と中間層(4)の界面のボイド数を計測した。観察は、Snめっき材(10)について圧延方向に対して垂直方向の断面に湿式研磨およびバフ研磨を施し、エッチング後、SEMにて5000〜10000倍の倍率で行った。第一下地層(2)と中間層(4)の界面、あるいは第二下地層(3)と中間層(4)の界面について、界面長100μmの範囲を計測し、20μm当たりの、長さ0.1μm以上のボイド数に換算した。各層の界面の状態は、2次電子像観察、反射電子像観察、SEMに付随したEDX(エネルギー分散型X線分光法)を用いた元素マッピングを併用して用いることで判断した。
160℃、1000時間加熱後のSn残存量(160℃耐熱性)と、175℃、240時間加熱後のSn残存量(175℃耐熱性)をJIS H 8501の10に記載された定電流試験法で測定し、それぞれSnが少しでも残存していると評価されたものをA(良)、全く残存していないと評価されたものをD(劣)とした。
耐摺動剥離性の試験としては、Snめっき材(10)の表面で可動片を摺動させ、該摺動後にめっき剥離の有無を調べた。この摺動工程では、まず図3に示すように、台座(12)上に、固定片としてのSnめっき材(10)を動かないように固定した。ついで可動片(11)として、固定片と同じSnめっき材(10)を張り出し加工した、0.5mmRのディンプル材を準備した。そしてこの可動片(11)を、1Nの荷重をかけた状態で、Snめっき材(10)表面に押し付け、その荷重をかけたまま、一回(片方向のみ)可動片(11)をSnめっき材(10)表面上で摺動させた。
このように可動片(11)を摺動させた後のSnめっき材(10)の表面のうち、可動片(11)の摺動を受けた箇所を、マイクロスコープで観察した。このような観察において、めっきの剥離が全く生じなかったものをA(良)、少しでも生じたものをD(劣)と評価した。
ここで表2中、「層厚(μm)」と記載した欄の「Ni」と記載した欄は第一下地層(2)の厚さを示し、「Cu」と記載した欄は第二下地層(3)の厚さを示し、「CuSn」と記載した欄は中間層(4)の厚さを示し、「Sn」と記載した欄は表面層(5)の厚さを示す。また「ボイド数(個)」と記載した欄は、上述したとおり、20μm当たりの、長さ0.1μm以上のボイド数を示す。
表2において、本発明の条件を満たす、発明例1〜8はいずれも耐熱性、耐摺動剥離性のすべてに優れていた。これに対し、比較例1は175℃での耐熱性において、比較例2は耐摺動剥離性において、評価が劣る結果となった。
以上から、本発明の条件を満たすSnめっき材が優れた特性を示すことが確認された。
2 第一下地層
3 第二下地層
4 中間層
5 表面層
6 長さ0.1μm以上のボイド
10 Snめっき材
Claims (10)
- CuまたはCu合金からなる導電性基材上にNiまたはNi合金からなる第一下地層、CuSn化合物からなる中間層、SnまたはSn合金からなる表面層の順に各層が形成されたSnめっき材であって、該Snめっき材は圧延方向に対して垂直方向の断面を見たときに、前記第一下地層と前記中間層の界面長さ20μm当たりに、長さ0.1μm以上のボイドを1〜15個有することを特徴とするSnめっき材。
- CuまたはCu合金から成る導電性基材上にNiまたはNi合金からなる第一下地層、CuまたはCu合金からなる第二下地層、CuSn化合物からなる中間層、SnまたはSn合金からなる表面層の順に各層が形成されたSnめっき材であって、該Snめっき材は圧延方向に対して垂直方向の断面を見たときに、第二下地層と中間層の界面長さ20μm当たりに、長さ0.1μm以上のボイドを1〜15個有することを特徴とするSnめっき材。
- 前記第二下地層の厚さが0〜0.1μmであることを特徴とする請求項2に記載のSnめっき材。
- 前記表面層の厚さが0.2〜5μmであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のSnめっき材。
- 前記中間層の厚さが0.1〜1μmであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のSnめっき材。
- 前記第一下地層の厚さが0.1〜2μmであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のSnめっき材。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載のSnめっき材を使用した車載部品。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載のSnめっき材を使用した電気電子部品。
- CuまたはCu合金から成る導電性基材上に、NiまたはNi合金からなる第一下地層、CuSn化合物からなる中間層、SnまたはSn合金からなる表面層の順に各層が形成されたSnめっき材の製造方法であって、
前記導電性基材上に、前記第一下地層、CuまたはCu合金からなる第二下地層、前記表面層をこの順に形成した後、リフロー処理により前記第二下地層と前記表面層を、前記第二下地層が無くなるまで反応させて前記中間層を形成し、
前記第二下地層を形成する、CuまたはCu合金めっきを形成する際の浴温を30〜60℃、電流密度を6〜30A/dm2に調整することにより、前記リフロー処理によって、前記第一下地層と前記中間層の界面長さ20μm当たりに、長さ0.1μm以上のボイドを1〜15個形成することを特徴とする、Snめっき材の製造方法。 - CuまたはCu合金から成る導電性基材上に、NiまたはNi合金からなる第一下地層、CuまたはCu合金からなる第二下地層、CuSn化合物からなる中間層、SnまたはSn合金からなる表面層の順に各層が形成されたSnめっき材の製造方法であって、
前記導電性基材上に、前記第一下地層、前記第二下地層、前記表面層をこの順に形成した後、リフロー処理により前記第二下地層と前記表面層を、前記第二下地層が一部残るよう、反応させて前記中間層を形成し、
前記第二下地層を形成する、CuまたはCu合金めっきを形成する際の浴温を30〜60℃、電流密度を6〜30A/dm2に調整することにより、前記リフロー処理によって、前記第二下地層と前記中間層の界面長さ20μm当たりに、長さ0.1μm以上のボイドを1〜15個形成することを特徴とする、Snめっき材の製造方法。
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