JP2017008255A - Composite sheet for forming protective film, tip with protective film and manufacturing method of tip with protective film - Google Patents

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洋一 稲男
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尚哉 佐伯
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Daisuke Yamamoto
大輔 山本
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Hiroyuki Yoneyama
裕之 米山
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composite sheet for forming a protective film capable of manufacturing a tip with the protective film high in suppression effect on phenomenon that cutting water is infiltrated between a film for forming the protective film (protection film) and an adhesive layer when used during dicing of work such as a wafer.SOLUTION: There is provided a composite sheet for forming a protective film having an adhesive sheet with a substrate and an adhesive layer and a film for forming the protective film directly laminated on the adhesive layer, where the adhesive layer is formed from an adhesive composition containing an energy ray curable acryl copolymer, the energy ray curable acryl copolymer is an acryl copolymer obtained by reacting an acrylic polymer (X) containing a constitutional unit derived from a functional group-containing monomer (x2) of 35 mass% or less with a polymerizable compound (Y) having an energy ray polymerizable group and having the energy ray polymerizable group introduced and a value of α calculated from the formula (2) of the energy ray curable acryl copolymer of 28 or less. Formula (2):α=[P]×[Q]×[R]/100.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、半導体ウエハや半導体チップ等のワークの裏面に保護膜を形成でき、半導体チップの製造効率の向上が可能な保護膜形成用複合シート、半導体チップの裏面に前記複合シートの保護膜形成用フィルムが硬化してなる保護膜を有する保護膜付きチップ、並びに保護膜付きチップの製造方法に関する。   The present invention can form a protective film on the back surface of a workpiece such as a semiconductor wafer or semiconductor chip, and can improve the manufacturing efficiency of the semiconductor chip, and can form the protective film on the back surface of the semiconductor chip. The present invention relates to a chip with a protective film having a protective film formed by curing a film for use, and a method for producing a chip with a protective film.

近年、いわゆるフェースダウン(face down)方式と呼ばれる実装法を用いた半導体装置の製造が行われている。フェースダウン方式においては、回路面上にバンプ等の電極を有する半導体チップ(以下、単に「チップ」ともいう)が用いられ、前記電極が基板と接合される。このため、チップの回路面とは反対側の表面(チップ裏面)は剥き出しとなることがある。   In recent years, semiconductor devices have been manufactured using a so-called face-down mounting method. In the face-down method, a semiconductor chip (hereinafter simply referred to as “chip”) having electrodes such as bumps on a circuit surface is used, and the electrodes are bonded to a substrate. For this reason, the surface (chip back surface) opposite to the circuit surface of the chip may be exposed.

この剥き出しとなったチップ裏面は、有機材料からなる保護膜により保護され、保護膜付きチップとして半導体装置に取り込まれることがある。一般的に、この保護膜付きチップは、ウエハ裏面に液状の樹脂をスピンコート法等により塗布して塗膜を形成し、前記塗膜を乾燥及び硬化させて、ウエハ裏面上に保護膜を形成し、ウエハと共に保護膜を切断して得ることができる。   The exposed back surface of the chip is protected by a protective film made of an organic material and may be taken into the semiconductor device as a chip with a protective film. In general, this chip with a protective film is formed by applying a liquid resin to the back surface of the wafer by spin coating or the like to form a coating film, and then drying and curing the coating film to form a protective film on the back surface of the wafer. It can be obtained by cutting the protective film together with the wafer.

しかしながら、上記チップの製造方法は、工程数が増加し、製品コストの上昇を招く。
また、このようにして液状の樹脂から形成される保護膜は、厚さの精度が充分でないため、得られる保護膜付きチップの歩留まりの低下が問題となる場合が多い。
However, the above-described chip manufacturing method increases the number of processes and increases the product cost.
In addition, since the thickness of the protective film formed from the liquid resin in this way is not sufficient, there is often a problem that the yield of the obtained chip with the protective film is lowered.

上記問題を解決するための手段として、特許文献1には、剥離シートと、前記剥離シート上に形成されたエネルギー線硬化性成分とバインダーポリマー成分とからなる保護膜形成層を有するチップ保護用フィルムが開示されている。   As means for solving the above problems, Patent Document 1 discloses a chip protection film having a release sheet, and a protective film forming layer formed of an energy ray-curable component and a binder polymer component formed on the release sheet. Is disclosed.

半導体チップが薄型化・高密度化しつつある現在においては、厳しい温度条件下に曝された場合であっても、保護膜付チップを実装した半導体装置には、さらに高い信頼性を有することが要求されている。
本発明者らの検討によれば、特許文献1に記載のチップ用保護フィルムは、保護膜形成層を硬化する際に収縮し、半導体ウエハが反るという問題が発生する恐れがあった。特に、極薄の半導体ウエハでは、上記問題が顕著に生じ得る。半導体ウエハが反ると、ウエハの破損や、保護膜へのマーキング(印字)精度が低下の恐れがある。
Now that semiconductor chips are becoming thinner and more dense, even when exposed to harsh temperature conditions, semiconductor devices equipped with chips with protective films are required to have higher reliability. Has been.
According to the study by the present inventors, the chip protective film described in Patent Document 1 may shrink when the protective film forming layer is cured, which may cause a problem that the semiconductor wafer is warped. In particular, in the case of an ultra-thin semiconductor wafer, the above problem can be noticeable. If the semiconductor wafer is warped, the wafer may be damaged or the marking (printing) accuracy on the protective film may be reduced.

このような問題を解決するために、本出願人は、特許文献2において、保護膜形成層からなる略円形の領域と、前記領域を取り囲む再剥離粘着剤からなる環状の領域とを上面に有するシートからなる保護膜形成兼ダイシング用シートを提案している。
この保護膜形成兼ダイシング用シートの保護膜形成層上に半導体ウエハを載置して、シートの周縁部をリングフレームで固定した状態でレーザーマーキングを行えば、ウエハの反りが矯正された状態が保たれるので印字の精度が向上する。
また、前記シートはダイシングシートも兼ねるので、別途ダイシングシートを用意する必要がなく、生産性も著しく向上する。
特許文献2に記載の方法では、保護膜形成兼ダイシング用シート上にウエハを固定し、ウエハが固定された状態で保護膜形成層を加熱硬化し、ウエハ上に保護膜を形成している。
In order to solve such a problem, the present applicant has, in Patent Document 2, a substantially circular region composed of a protective film forming layer and an annular region composed of a re-peeling adhesive surrounding the region on the upper surface. A sheet for protective film formation and dicing consisting of a sheet is proposed.
If a semiconductor wafer is placed on the protective film forming layer of the protective film forming and dicing sheet and laser marking is performed with the peripheral edge of the sheet fixed by a ring frame, the warpage of the wafer is corrected. Since it is maintained, the printing accuracy is improved.
Further, since the sheet also serves as a dicing sheet, it is not necessary to prepare a separate dicing sheet, and the productivity is remarkably improved.
In the method described in Patent Document 2, a wafer is fixed on a protective film forming and dicing sheet, and the protective film forming layer is heated and cured in a state where the wafer is fixed, thereby forming a protective film on the wafer.

特開2009−138026号公報JP 2009-138026 A 特開2006−140348号公報JP 2006-140348 A

しかしながら、上記構成の保護膜形成兼ダイシング用シートを含め、粘着シートの粘着剤層上に、上述の保護膜形成層のような保護膜形成用フィルムを積層したダイシング用シートにおいては、前記ダイシング用シートを貼付したウエハのダイシング時に、保護膜形成用フィルム(保護膜)と粘着剤層との間に、切削水が浸入し、製造される保護膜付きチップが汚染されるという問題点があった。   However, in the dicing sheet in which a protective film-forming film such as the protective film-forming layer described above is laminated on the adhesive layer of the adhesive sheet, including the protective film-forming and dicing sheet having the above-described configuration, When dicing the wafer to which the sheet is attached, there is a problem that cutting water enters between the protective film-forming film (protective film) and the pressure-sensitive adhesive layer, thereby contaminating the manufactured chip with the protective film. .

本発明は、ウエハ等のワークのダイシング時に使用した際、保護膜形成用フィルム(保護膜)と粘着剤層との間に切削水が浸入する現象の抑制効果が高い保護膜付きチップを製造できる保護膜形成用複合シート、保護膜付きチップ、及び保護膜付きチップの製造方法を提供することを課題とする。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can manufacture a chip with a protective film that is highly effective in suppressing the phenomenon that cutting water enters between a protective film-forming film (protective film) and an adhesive layer when used when dicing a workpiece such as a wafer. It is an object to provide a composite sheet for forming a protective film, a chip with a protective film, and a method for manufacturing a chip with a protective film.

本発明者らは、保護膜形成用複合シートが有する粘着剤層を、エネルギー線重合性基が導入された特定の特性を有するエネルギー線硬化型アクリル重合体を含む粘着剤組成物から形成することで、上記課題を解決し得ることを見出し、本発明を完成させた。   The present inventors form the pressure-sensitive adhesive layer of the composite sheet for forming a protective film from a pressure-sensitive adhesive composition containing an energy ray-curable acrylic polymer having specific characteristics into which an energy ray polymerizable group is introduced. Thus, the inventors have found that the above problems can be solved and completed the present invention.

すなわち、本発明は、下記〔1〕〜〔12〕を提供するものである。
〔1〕.基材及び粘着剤層を有する粘着シートと、前記粘着剤層上に直接積層した保護膜形成用フィルムと、を有する保護膜形成用複合シートであって、前記粘着剤層が、エネルギー線硬化型アクリル共重合体を含む粘着剤組成物から形成されてなる層であり、前記エネルギー線硬化型アクリル共重合体が、官能基含有モノマー由来の構成単位(x2)を35質量%以下含むアクリル系ポリマー(X)に、エネルギー線重合性基を有する重合性化合物(Y)を反応させて得られる、エネルギー線重合性基を導入したアクリル共重合体であり、前記エネルギー線硬化型アクリル共重合体の下記式(2)より算出されるαの値が28以下である、保護膜形成用複合シート。
式(2):α=〔P〕×〔Q〕×〔R〕/100
〔式(2)中、〔P〕は、アクリル系ポリマー(X)の全構成単位100質量部に対する、官能基含有モノマー由来の構成単位(x2)の含有割合を示す。〔Q〕は、アクリル系ポリマー(X)が有する前記官能基含有モノマー由来の官能基100当量に対する、重合性化合物(Y)の当量を示す。〔R〕は、重合性化合物(Y)が有するエネルギー線重合性基の基数を示す。〕
〔2〕.前記アクリル系ポリマー(X)が、メチルメタクリレート由来の構成単位(x1)を10質量%以上含む、〔1〕に記載の保護膜形成用複合シート。
〔3〕.前記粘着剤層の少なくとも一部が硬化した硬化領域を形成し、前記硬化領域上に前記保護膜形成用フィルムが直接積層した構成を有する、〔1〕又は〔2〕に記載の保護膜形成用複合シート。
〔4〕.前記エネルギー線重合性基が(メタ)アクリロイル基である、〔1〕〜〔3〕のいずれか一項に記載の保護膜形成用複合シート。
〔5〕.前記保護膜形成用フィルムが、(A)重合体成分、及び(B)硬化性成分を含む、〔1〕〜〔4〕のいずれか一項に記載の保護膜形成用複合シート。
〔6〕.(B)硬化性成分が、(B1)熱硬化性成分を含む、〔5〕に記載の保護膜形成用複合シート。
〔7〕.前記保護膜形成用複合シートが有する保護膜形成用フィルムをワークに貼付した後、前記保護膜形成用複合シートから前記保護膜形成用フィルムを剥離せずに、130℃、2時間の条件下で、前記保護膜形成用フィルムを硬化させて保護膜を形成した場合に、前記保護膜のグロス値が40以上である、〔1〕〜〔6〕のいずれか一項に記載の保護膜形成用複合シート。
〔8〕.前記基材が、ポリプロピレンを含む基材である、〔1〕〜〔7〕のいずれか一項に記載の保護膜形成用複合シート。
〔9〕.チップの裏面に、〔1〕〜〔8〕のいずれか一項に記載の保護膜形成用複合シートの保護膜形成用フィルムが硬化してなる保護膜を有する、保護膜付きチップ。
〔10〕.前記保護膜付きチップのチップがある側とは反対側から測定した保護膜のグロス値が40以上である、〔9〕に記載の保護膜付きチップ。
〔11〕.下記工程(1)〜(4)を有する、保護膜付きチップの製造方法。
工程(1):ワークの裏面に、〔1〕〜〔8〕のいずれか一項に記載の保護膜形成用複合シートを貼付する工程
工程(2):ワークをダイシングする工程
工程(3):前記保護膜形成用複合シートの粘着シートを剥離せずに保護膜形成用フィルムを硬化させる工程
工程(4):工程(1)〜(3)を経て得られたダイシングされた保護膜付きワークをピックアップし、保護膜付きチップを得る工程
〔12〕.〔11〕に記載の製造方法により得られる保護膜付きチップであって、前記保護膜付きチップのチップがある側とは反対側から測定した保護膜のグロス値が40以上である、保護膜付きチップ。
That is, the present invention provides the following [1] to [12].
[1]. A protective film-forming composite sheet comprising: a pressure-sensitive adhesive sheet having a base material and a pressure-sensitive adhesive layer; and a protective film-forming film laminated directly on the pressure-sensitive adhesive layer, wherein the pressure-sensitive adhesive layer is an energy ray curable type An acrylic polymer, which is a layer formed from a pressure-sensitive adhesive composition containing an acrylic copolymer, wherein the energy ray-curable acrylic copolymer contains a functional group-containing monomer-derived structural unit (x2) of 35% by mass or less. (X) is an acrylic copolymer into which an energy beam polymerizable group is introduced, obtained by reacting a polymerizable compound (Y) having an energy beam polymerizable group, of the energy beam curable acrylic copolymer The composite sheet for protective film formation whose value of (alpha) computed from following formula (2) is 28 or less.
Formula (2): α = [P] × [Q] × [R] / 100
[In Formula (2), [P] shows the content rate of the structural unit (x2) derived from a functional group containing monomer with respect to 100 mass parts of all the structural units of acrylic polymer (X). [Q] represents an equivalent amount of the polymerizable compound (Y) with respect to 100 equivalents of the functional group derived from the functional group-containing monomer of the acrylic polymer (X). [R] represents the number of energy ray polymerizable groups of the polymerizable compound (Y). ]
[2]. The composite sheet for forming a protective film according to [1], wherein the acrylic polymer (X) contains 10% by mass or more of a structural unit (x1) derived from methyl methacrylate.
[3]. For forming a protective film according to [1] or [2], wherein a cured region in which at least a part of the pressure-sensitive adhesive layer is cured is formed, and the protective film-forming film is directly laminated on the cured region. Composite sheet.
[4]. The composite sheet for forming a protective film according to any one of [1] to [3], wherein the energy ray polymerizable group is a (meth) acryloyl group.
[5]. The composite sheet for forming a protective film according to any one of [1] to [4], wherein the film for forming a protective film includes (A) a polymer component and (B) a curable component.
[6]. (B) The protective film-forming composite sheet according to [5], wherein the curable component comprises (B1) a thermosetting component.
[7]. After affixing the protective film-forming film of the protective film-forming composite sheet to a workpiece, without peeling the protective film-forming film from the protective film-forming composite sheet, at 130 ° C. for 2 hours. The protective film forming film according to any one of [1] to [6], wherein when the protective film is cured to form a protective film, the protective film has a gloss value of 40 or more. Composite sheet.
[8]. The composite sheet for forming a protective film according to any one of [1] to [7], wherein the base material is a base material containing polypropylene.
[9]. The chip | tip with a protective film which has a protective film formed by hardening | curing the protective film formation film of the composite sheet for protective film formation as described in any one of [1]-[8] on the back surface of a chip | tip.
[10]. The chip with protective film according to [9], wherein the gloss value of the protective film measured from the side opposite to the side with the chip of the chip with protective film is 40 or more.
[11]. The manufacturing method of the chip | tip with a protective film which has following process (1)-(4).
Process (1): The process of sticking the composite sheet for protective film formation as described in any one of [1]-[8] to the back surface of a work process (2): The process of dicing a work process (3): The process of hardening the film for protective film formation, without peeling the adhesive sheet of the said composite sheet for protective film formation Process (4): The dicing workpiece | work with a protective film obtained through steps (1)-(3) Step of picking up and obtaining a chip with a protective film [12]. [11] A chip with a protective film obtained by the manufacturing method according to [11], wherein the gloss value of the protective film measured from the opposite side of the chip with the protective film is 40 or more Chip.

本発明の保護膜形成用複合シートを、ウエハ等のワークのダイシング時に使用することで、保護膜形成用フィルム(保護膜)と粘着剤層との間に切削水が浸入する現象の抑制効果が高い保護膜付きチップを製造できる。   By using the composite sheet for forming a protective film of the present invention at the time of dicing a workpiece such as a wafer, the effect of suppressing the phenomenon that cutting water enters between the protective film-forming film (protective film) and the adhesive layer is obtained. A chip with a high protective film can be manufactured.

本発明の保護膜形成用複合シートの第1〜第4の構成を示す、保護膜形成用複合シートの断面図である。It is sectional drawing of the composite sheet for protective film formation which shows the 1st-4th structure of the composite sheet for protective film formation of this invention. 本発明の保護膜形成用複合シートの第5〜第7の構成を示す、保護膜形成用複合シートの断面図である。It is sectional drawing of the composite sheet for protective film formation which shows the 5th-7th structure of the composite sheet for protective film formation of this invention.

以下の本明細書中の記載において、樹脂の重量平均分子量(Mw)の値は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法で測定されるポリスチレン換算の値であり、具体的には実施例に記載の方法に基づいて測定した値である。   In the following description of the present specification, the value of the weight average molecular weight (Mw) of the resin is a value in terms of polystyrene measured by a gel permeation chromatography (GPC) method, and specifically described in the examples. It is a value measured based on the method.

また、樹脂のガラス転移温度(Tg)の値は、下記式(1)で計算した絶対温度(単位:K)のガラス転移温度(Tg)を、摂氏温度(単位:℃)に換算した値である。 Moreover, the value of the glass transition temperature (Tg) of the resin is a value obtained by converting the glass transition temperature (Tg K ) of the absolute temperature (unit: K) calculated by the following formula (1) into the Celsius temperature (unit: ° C.). It is.

Figure 2017008255
〔上記式(1)中、W、W、W、W・・・は、樹脂を構成するモノマー成分の質量分率(質量%)を示し、Tg、Tg、Tg、Tg・・・は、樹脂を構成するモノマー成分のホモポリマーの絶対温度(K)表示のガラス転移温度を示す。〕
Figure 2017008255
[In the above formula (1), W 1, W 2, W 3, W 4 ··· shows the mass fraction of the monomer components constituting the resin (mass%), Tg 1, Tg 2 , Tg 3, Tg 4 ... Indicates the glass transition temperature in terms of absolute temperature (K) of the homopolymer of the monomer component constituting the resin. ]

さらに、本願において、例えば「(メタ)アクリレート」とは、「アクリレート」及び「メタクリレート」の双方を示す語として用いており、他の類似用語についても同様である。
また、本願において、「エネルギー線」としては、例えば、紫外線又は電子線等が挙げられ、紫外線又は電子線が好ましい。
Further, in the present application, for example, “(meth) acrylate” is used as a term indicating both “acrylate” and “methacrylate”, and the same applies to other similar terms.
In the present application, examples of the “energy beam” include ultraviolet rays or electron beams, and ultraviolet rays or electron beams are preferable.

〔保護膜形成用複合シート〕
本発明の保護膜形成用複合シート(以下、単に「複合シート」ともいう)は、基材及び粘着剤層を有する粘着シートと、前記粘着剤層上に直接積層した保護膜形成用フィルムと、を有するものである。
図1及び図2は、本発明の複合シートの構成の一例を示す、複合シートの断面図である。
なお、本発明の複合シートは、長尺テープ状、単葉のラベル等の形態であってもよい。
[Composite sheet for protective film formation]
The protective film-forming composite sheet of the present invention (hereinafter also simply referred to as “composite sheet”) is a pressure-sensitive adhesive sheet having a base material and a pressure-sensitive adhesive layer, and a protective film-forming film directly laminated on the pressure-sensitive adhesive layer; It is what has.
1 and 2 are cross-sectional views of a composite sheet showing an example of the configuration of the composite sheet of the present invention.
The composite sheet of the present invention may be in the form of a long tape or a single-leaf label.

本発明の複合シートの第1〜4の構成として、図1(a)〜(d)に示すような複合シート1a、1b、1c、1dが挙げられる。
本発明の複合シートとしては、図1(a)の複合シート1aのように、基材11上に粘着剤層12を有する粘着シート10と、粘着剤層12上の一部に直接積層した保護膜形成用フィルム20とを有する構成のものが挙げられる。この複合シート1aが有する粘着シート10の大きさは、保護膜形成用フィルム20を包含できる形状であればよい。
この複合シート1aは、保護膜形成用フィルム20が積層せずに表出した粘着剤層12の部分は、粘着性を保持しているため、リングフレーム等の治具を固定することができる。
As 1st-4th structure of the composite sheet of this invention, composite sheet 1a, 1b, 1c, 1d as shown to Fig.1 (a)-(d) is mentioned.
As the composite sheet of the present invention, as in the composite sheet 1a of FIG. 1 (a), a pressure-sensitive adhesive sheet 10 having a pressure-sensitive adhesive layer 12 on a substrate 11, and a protective layer directly laminated on a part of the pressure-sensitive adhesive layer 12 The thing of the structure which has the film 20 for film formation is mentioned. The size of the pressure-sensitive adhesive sheet 10 included in the composite sheet 1a may be any shape that can include the protective film-forming film 20.
In the composite sheet 1a, the portion of the pressure-sensitive adhesive layer 12 that is exposed without the protective film-forming film 20 being laminated holds adhesiveness, and thus a jig such as a ring frame can be fixed.

また、本発明の複合シートは、図1(b)の複合シート1bのように、粘着剤層12上の全面に保護膜形成用フィルム20が直接積層された構成であってもよい。
この複合シート1bは、保護膜形成用フィルム20と粘着シート10とは同形状となる。
In addition, the composite sheet of the present invention may have a configuration in which the protective film forming film 20 is directly laminated on the entire surface of the pressure-sensitive adhesive layer 12 as in the composite sheet 1b of FIG.
In the composite sheet 1b, the protective film-forming film 20 and the pressure-sensitive adhesive sheet 10 have the same shape.

なお、本発明の複合シートは、保護膜形成用フィルム20側から見下ろして平面視したときに、保護膜形成用フィルム20が、半導体ウエハ等のワークと略同一形状もしくはワークの形状全体を含むことのできる形状に調整された、複合シート1bのような構成であってもよく、保護膜形成用フィルム20よりも大きなサイズの粘着シート10に積層されている複合シート1aのような構成であってもよい。   The composite sheet of the present invention includes the protective film-forming film 20 having substantially the same shape as the workpiece such as a semiconductor wafer or the entire shape of the workpiece when viewed in plan from the protective film-forming film 20 side. It may be configured as a composite sheet 1b adjusted to a shape that can be used, and is configured as a composite sheet 1a that is laminated on a pressure-sensitive adhesive sheet 10 that is larger than the protective film-forming film 20. Also good.

また、本発明の複合シートは、図1(c)の複合シート1cのように、粘着剤層12の少なくとも一部が硬化した硬化領域12aを形成し、前記硬化領域12a上に保護膜形成用フィルム20が直接積層した構成を有するものとしてもよい。
硬化領域12aは、粘着剤層12の少なくとも表面において粘着剤層12が硬化した平面視における領域である。
硬化領域12aは、粘着剤層12の少なくとも保護膜形成用フィルム20が積層する位置に形成されていることが好ましく、粘着剤層12の全領域が硬化して、粘着剤層12内の全領域に渡り硬化領域が形成されていてもよい。
Further, the composite sheet of the present invention forms a cured region 12a in which at least a part of the pressure-sensitive adhesive layer 12 is cured, as in the composite sheet 1c of FIG. 1C, and is used for forming a protective film on the cured region 12a. It is good also as what has the structure which the film 20 laminated | stacked directly.
The cured region 12a is a region in a plan view where the pressure-sensitive adhesive layer 12 is cured on at least the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 12.
The cured region 12a is preferably formed at a position where at least the protective film-forming film 20 of the pressure-sensitive adhesive layer 12 is laminated, and the entire region of the pressure-sensitive adhesive layer 12 is cured, so that the entire region in the pressure-sensitive adhesive layer 12 is A hardened region may be formed over the entire area.

図1(c)の複合シート1cのような構成を有する複合シートは、チップ製造時に用いた際に、ピックアップ適性に優れ、保護膜形成用フィルムから形成される保護膜のグロス値が高く、保護膜表面のレーザー印字部分の視認性に優れた保護膜付きチップを製造し得る。
得られる複合シートをチップ製造時に用いた際に、ピックアップ適性に優れる理由としては、形成される硬化領域12aが、前記硬化領域12a以外の粘着剤層12の部分と比べて、流動性が低下するためと考えられる。
また、複合シートを用いて形成される保護膜のグロス値が向上する理由としては、硬化領域12aは、加熱時における流動性が低く保たれるため、硬化領域12a上に直接積層した保護膜形成用フィルムを加熱硬化して保護膜を形成する過程でも、硬化領域12aの表面の平滑性を維持することができるためと考えられる。
The composite sheet having a configuration like the composite sheet 1c in FIG. 1 (c) has excellent pick-up suitability when used during chip manufacture, and the protective film formed from the protective film-forming film has a high gloss value. A chip with a protective film excellent in visibility of the laser-printed portion on the film surface can be produced.
The reason why the composite sheet obtained is excellent in pick-up suitability when used in chip production is that the formed cured region 12a is less fluid than the portion of the pressure-sensitive adhesive layer 12 other than the cured region 12a. This is probably because of this.
In addition, the reason why the gloss value of the protective film formed using the composite sheet is improved is that the cured region 12a is kept low in fluidity during heating, so that the protective film formed directly on the cured region 12a is formed. This is considered to be because the smoothness of the surface of the cured region 12a can be maintained even in the process of forming the protective film by heat curing the protective film.

硬化領域12aは、平面視にて、保護膜形成用フィルム20と同形状であることが好ましいが、保護膜形成用フィルム20の形状よりも大きく、保護膜形成用フィルム20全体を含む形状であってもよい。
また、硬化領域12aの粘着性は低下するが、硬化領域12a以外の粘着剤層12の表面は、高い粘着性を有していることが好ましい。
The cured region 12a preferably has the same shape as the protective film forming film 20 in plan view, but is larger than the protective film forming film 20 and includes the entire protective film forming film 20. May be.
Moreover, although the adhesiveness of the hardening area | region 12a falls, it is preferable that the surface of the adhesive layer 12 other than the hardening area | region 12a has high adhesiveness.

粘着剤層12がエネルギー線硬化型アクリル共重合体を含む粘着剤組成物から形成されてなる層であるため、硬化領域12aは、粘着剤層12の少なくとも一部にエネルギー線を照射し、粘着剤層の一部又は全部を硬化させることにより形成することができる。
硬化領域12aにおける粘着剤層の硬化反応の進行の程度は、好ましくは50%以上、より好ましくは70%以上、更に好ましくは90%以上であり、完全に硬化していることが特に好ましい。
エネルギー線の照射は、基材11側から行ってもよいし、保護膜形成用フィルム20側から行ってもよく、保護膜形成用フィルム20と粘着シートを貼り合わせる前にエネルギー線照射を行う場合には、保護膜形成用フィルム20と貼り合わされるべき面の側から行ってもよい。
また、図1(d)の複合シート1dのように、基材11と粘着剤層12との境界の一部に、印刷等によりエネルギー線遮蔽層13を設け、基材11側からエネルギー線を照射することで、硬化領域12aと、未硬化で高粘着性の粘着剤層12とを、分けて形成することが容易にできる。
Since the pressure-sensitive adhesive layer 12 is a layer formed from a pressure-sensitive adhesive composition containing an energy ray-curable acrylic copolymer, the cured region 12a irradiates at least a part of the pressure-sensitive adhesive layer 12 with energy rays to It can be formed by curing part or all of the agent layer.
The degree of progress of the curing reaction of the pressure-sensitive adhesive layer in the cured region 12a is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, still more preferably 90% or more, and it is particularly preferable that the curing is complete.
Irradiation of energy rays may be performed from the substrate 11 side, or may be performed from the protective film forming film 20 side, and energy beam irradiation is performed before the protective film forming film 20 and the adhesive sheet are bonded together. Alternatively, it may be performed from the side of the surface to be bonded to the protective film forming film 20.
Further, as in the composite sheet 1d in FIG. 1D, an energy ray shielding layer 13 is provided by printing or the like at a part of the boundary between the base material 11 and the pressure-sensitive adhesive layer 12, and energy rays are applied from the base material 11 side. By irradiating, the cured region 12a and the uncured and highly adhesive pressure-sensitive adhesive layer 12 can be easily formed separately.

さらに本発明の複合シートは、リングフレーム等の治具と接着する際に、前記治具に対する接着力を向上させる目的で、図2(a)〜(b)に示すように、複合シートの外周部に、治具接着層31を設けた構成としてもよい。
図2(a)の複合シート2aは、粘着剤層12上の一部に、保護膜形成用フィルム20が積層し、更に治具接着層31を設けた構成を有している。この複合シート2aは、粘着剤層12を硬化して硬化領域を形成し粘着力が低下している場合や、保護膜形成後に粘着シート10の剥離を容易とするために粘着剤層の粘着性を低減させている場合においても、粘着剤層12上に治具接着層31を設けることで治具との接着力を良好とすることができる。
また、図2(b)の複合シート2bは、平面視にて、保護膜形成用フィルム20と粘着シート10とが同形状であり、保護膜形成用フィルム20の表面の外周部に、治具接着層31を設けた構成を有している。保護膜形成用フィルム20についても、治具を接着するだけの接着力を有しておらず、治具接着層31を設けることで、治具との接着力を向上させることができる。
なお、図2(a)の複合シート2a、及び図2(b)の複合シート2bも、上述の理由から、粘着剤層12の少なくとも保護膜形成用フィルム20が積層する位置に硬化領域が形成されていることが好ましく、粘着剤層12の全領域が硬化して、粘着剤層12内の全領域に渡り硬化領域が形成されていてもよい。
Further, when the composite sheet of the present invention is bonded to a jig such as a ring frame, the outer periphery of the composite sheet is improved as shown in FIGS. It is good also as a structure which provided the jig | tool adhesion layer 31 in the part.
The composite sheet 2a of FIG. 2A has a configuration in which a protective film-forming film 20 is laminated on a part of the pressure-sensitive adhesive layer 12, and a jig adhesive layer 31 is further provided. This composite sheet 2a has a pressure-sensitive adhesive layer when the pressure-sensitive adhesive layer 12 is cured to form a cured region and the adhesive strength is reduced, or in order to facilitate peeling of the pressure-sensitive adhesive sheet 10 after the protective film is formed. Even in a case where the adhesive strength is reduced, the adhesive strength with the jig can be improved by providing the jig adhesive layer 31 on the pressure-sensitive adhesive layer 12.
Further, in the composite sheet 2b of FIG. 2B, the protective film-forming film 20 and the pressure-sensitive adhesive sheet 10 have the same shape in plan view, and a jig is formed on the outer peripheral portion of the surface of the protective film-forming film 20. The adhesive layer 31 is provided. The protective film forming film 20 does not have an adhesive force enough to bond the jig, and the adhesive force with the jig can be improved by providing the jig adhesive layer 31.
In addition, the composite sheet 2a in FIG. 2A and the composite sheet 2b in FIG. 2B also form a cured region at a position where at least the protective film forming film 20 of the pressure-sensitive adhesive layer 12 is laminated for the above-described reason. It is preferable that the entire region of the pressure-sensitive adhesive layer 12 is cured, and a cured region may be formed over the entire region in the pressure-sensitive adhesive layer 12.

治具接着層31は、基材(芯材)を有する両面粘着シートや、粘着剤の単層からなる層により形成することができる。
治具接着層31を形成するために用いる基材(芯材)としては、後述する基材11と同じものを用いることができ、例えば、ポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、液晶ポリマーフィルム等が挙げられ、ポリプロピレンフィルムが好ましい。
また、治具接着層31を形成するために用いる粘着剤としては、粘着剤の機能による分類によれば、例えば、エネルギー線硬化型粘着剤、表面凹凸のある粘着剤、熱膨張性粘着剤等が挙げられ、粘着剤中の主剤樹脂による分類によれば、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルエーテル系粘着剤等が挙げられる。
治具接着層31の厚さは、好ましくは1〜80μm、より好ましくは5〜60μm、更に好ましくは10〜40μmである。
The jig adhesion layer 31 can be formed of a double-sided pressure-sensitive adhesive sheet having a base material (core material) or a layer composed of a single layer of pressure-sensitive adhesive.
As a base material (core material) used for forming the jig | tool adhesion layer 31, the same thing as the base material 11 mentioned later can be used, for example, a polyester film, a polypropylene film, a polycarbonate film, a polyimide film, a fluororesin A film, a liquid crystal polymer film, etc. are mentioned, A polypropylene film is preferable.
Further, as the pressure-sensitive adhesive used for forming the jig bonding layer 31, according to the classification according to the function of the pressure-sensitive adhesive, for example, an energy ray curable pressure-sensitive adhesive, a pressure-sensitive adhesive, a thermally expandable pressure-sensitive adhesive, etc. According to the classification based on the main resin in the pressure-sensitive adhesive, for example, an acrylic pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, a silicone-based pressure-sensitive adhesive, a urethane-based pressure-sensitive adhesive, a vinyl ether-based pressure-sensitive adhesive, and the like can be mentioned.
The thickness of the jig | tool adhesion layer 31 becomes like this. Preferably it is 1-80 micrometers, More preferably, it is 5-60 micrometers, More preferably, it is 10-40 micrometers.

また、本発明の複合シートとして、図2(c)に示すように、複数の層が積層された粘着剤層を有する複合シート2cであってもよい。
すなわち、図2(c)の複合シート2cは、保護膜形成用フィルム20と直接積層する粘着剤層12以外に、基材11と粘着剤層12との間に、粘着剤層12とは別に、治具接着用粘着剤層41を設けた構成を有する。すなわち、複合シート2cは、基材11、治具接着用粘着剤層41及び粘着剤層12がこの順に積層されてなる粘着シート10aを有する。
治具接着用粘着剤層41を設けることで、治具接着用粘着剤層41の平面視したときの領域のうち、粘着剤層12が存在しない領域と、リングフレーム等の治具とを接着する際に、前記治具に対する接着性を高めつつも、保護膜形成用フィルム20と粘着剤層12との界面における接着性を制御できる。その結果、この複合シートを用いてチップを製造する際、保護膜付きチップのピックアップの作業性を向上させることができる。
なお、図2(c)の複合シート2cも、上述の理由から、粘着剤層12の少なくとも保護膜形成用フィルム20が積層する位置に硬化領域が形成されていることが好ましく、粘着剤層12の全領域が硬化して、粘着剤層12内の全領域に渡り硬化領域が形成されていてもよい。
Moreover, as shown in FIG.2 (c), the composite sheet 2c which has the adhesive layer in which the several layer was laminated | stacked as a composite sheet of this invention may be sufficient.
That is, the composite sheet 2c in FIG. 2C is separated from the pressure-sensitive adhesive layer 12 between the base material 11 and the pressure-sensitive adhesive layer 12, in addition to the pressure-sensitive adhesive layer 12 directly laminated with the protective film forming film 20. The jig adhesive pressure-sensitive adhesive layer 41 is provided. That is, the composite sheet 2c has a pressure-sensitive adhesive sheet 10a in which a base material 11, a jig bonding pressure-sensitive adhesive layer 41, and a pressure-sensitive adhesive layer 12 are laminated in this order.
By providing the jig bonding pressure-sensitive adhesive layer 41, the area where the pressure-sensitive adhesive layer 12 is not present and the jig such as a ring frame are bonded to each other when the jig bonding pressure-sensitive adhesive layer 41 is viewed in plan. In doing so, the adhesiveness at the interface between the protective film-forming film 20 and the pressure-sensitive adhesive layer 12 can be controlled while improving the adhesiveness to the jig. As a result, when manufacturing a chip using this composite sheet, the workability of picking up a chip with a protective film can be improved.
In addition, it is preferable that the composite sheet 2c of FIG.2 (c) also has the hardening area | region formed in the position which the film 20 for protective film formation of the adhesive layer 12 laminates | stacks for the above-mentioned reason. The whole area | region of this may be hardened | cured and the hardening area | region may be formed over the whole area | region in the adhesive layer 12. FIG.

治具接着用粘着剤層41を形成する粘着剤としては、例えば、上述の治具接着層31を形成する粘着剤と同じものが挙げられるが、粘着剤層12よりも高い粘着性を発現する粘着剤が好ましい。
治具接着用粘着剤層41の厚さは、好ましくは1〜50μm、より好ましくは3〜40μm、更に好ましくは3〜30μmである。
Examples of the pressure-sensitive adhesive that forms the jig-bonding pressure-sensitive adhesive layer 41 include the same pressure-sensitive adhesive as that used to form the jig-bonding layer 31 described above. An adhesive is preferred.
The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 41 for jig bonding is preferably 1 to 50 μm, more preferably 3 to 40 μm, and still more preferably 3 to 30 μm.

なお、本発明の複合シートにおいて、保護膜形成用フィルム20の表面、保護膜形成用フィルム20が積層されずに表出している粘着剤層12の表面、治具接着層31の表面、及び粘着剤層12が積層されずに表出している治具接着用粘着剤層41の表面には、さらに剥離シートを設けてもよい。   In the composite sheet of the present invention, the surface of the protective film forming film 20, the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 12 exposed without being laminated, the surface of the jig adhesive layer 31, and the adhesive A release sheet may be further provided on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 41 for jig bonding that is exposed without the adhesive layer 12 being laminated.

剥離シートは、剥離シート用基材の少なくとも片面に剥離剤を塗布し剥離処理を施したものが挙げられる。
剥離シート用基材としては、例えば、後述の基材を構成する樹脂フィルムと同じものが挙げられる。
剥離剤としては、例えば、アルキッド系剥離剤、シリコーン系剥離剤、フッ素系剥離剤、不飽和ポリエステル系剥離剤、ポリオレフィン系剥離剤、ワックス系剥離剤等挙げられる。これらの中でも、耐熱性の観点から、アルキッド系剥離剤、シリコーン系剥離剤、フッ素系剥離剤が好ましい。
剥離シートの厚さは、特に制限はないが、好ましくは10〜500μm、より好ましくは15〜300μm、更に好ましくは20〜200μmである。
Examples of the release sheet include those obtained by applying a release agent to at least one surface of the release sheet substrate and performing a release treatment.
As a base material for peeling sheets, the same thing as the resin film which comprises the below-mentioned base material is mentioned, for example.
Examples of the release agent include alkyd release agents, silicone release agents, fluorine release agents, unsaturated polyester release agents, polyolefin release agents, and wax release agents. Among these, alkyd release agents, silicone release agents, and fluorine release agents are preferable from the viewpoint of heat resistance.
Although there is no restriction | limiting in particular in the thickness of a peeling sheet, Preferably it is 10-500 micrometers, More preferably, it is 15-300 micrometers, More preferably, it is 20-200 micrometers.

以下、本発明の複合シートを構成する、基材、粘着剤層、保護膜形成用フィルムの詳細について説明する。   Hereinafter, the details of the base material, the pressure-sensitive adhesive layer, and the protective film-forming film constituting the composite sheet of the present invention will be described.

<基材>
本発明で用いる粘着シートの基材としては、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリウレタンフィルム、エチレン酢酸ビニル共重合体フィルム、アイオノマー樹脂フィルム、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体フィルム、エチレン−(メタ)アクリル酸エステル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム等の樹脂フィルムが挙げられる。
なお、これらの樹脂フィルムは、架橋フィルムであってもよい。
また、基材としては、1種の樹脂フィルムからなる単層フィルムであってもよいし、2種以上の樹脂フィルムを積層した複層フィルムであってもよい。他に、基材として、着色した樹脂フィルムを用いてもよい。
<Base material>
Examples of the base material for the pressure-sensitive adhesive sheet used in the present invention include polyethylene film, polypropylene film, polybutene film, polybutadiene film, polymethylpentene film, polyvinyl chloride film, vinyl chloride copolymer film, polyethylene terephthalate film, and polyethylene naphthalate. Film, polybutylene terephthalate film, polyurethane film, ethylene vinyl acetate copolymer film, ionomer resin film, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer film, ethylene- (meth) acrylic acid ester copolymer film, polystyrene film, Examples of the resin film include polycarbonate films, polyimide films, and fluororesin films.
These resin films may be crosslinked films.
Moreover, as a base material, the single layer film which consists of 1 type of resin films may be sufficient, and the multilayer film which laminated | stacked 2 or more types of resin films may be sufficient. In addition, a colored resin film may be used as the substrate.

これらの中でも、耐熱性に優れる樹脂フィルムが好ましい。
保護膜形成用フィルムが熱硬化性であり、粘着シートから剥離する前に保護膜形成用フィルムを熱硬化させる場合であっても、基材として耐熱性に優れる樹脂フィルムを用いることで、基材の熱によるダメージを抑制し、半導体装置の製造プロセスにおける不具合の発生を抑制できる。
さらに、基材としては、耐熱性に優れると共に、適度な柔軟性を有するためにエキスパンド適性を有し、複合シートをチップの製造に用いた際に、良好なピックアップ適性も維持されやすいとの観点から、ポリプロピレンフィルムを含む基材が好ましい。
なお、ポリプロピレンフィルムを含む基材の構成としては、ポリプロピレンフィルムのみからなる単層構造であってもよいし、ポリプロピレンフィルムと他の樹脂フィルムとからなる複層構造であってもよい。
Among these, a resin film excellent in heat resistance is preferable.
Even when the protective film-forming film is thermosetting and the protective film-forming film is thermoset before being peeled off from the pressure-sensitive adhesive sheet, by using a resin film having excellent heat resistance as the base material, It is possible to suppress damage due to heat of the semiconductor device and to prevent occurrence of defects in the semiconductor device manufacturing process.
Furthermore, as a base material, it has excellent heat resistance and has appropriate flexibility so that it has expandability, and when a composite sheet is used for manufacturing a chip, good pickability is easily maintained. Therefore, a base material including a polypropylene film is preferable.
In addition, as a structure of the base material containing a polypropylene film, the single layer structure which consists only of a polypropylene film may be sufficient, and the multilayer structure which consists of a polypropylene film and another resin film may be sufficient.

基材の厚さは、好ましくは10〜500μm、より好ましくは15〜300μm、更に好ましくは20〜200μmである。   The thickness of the substrate is preferably 10 to 500 μm, more preferably 15 to 300 μm, and still more preferably 20 to 200 μm.

<粘着剤層>
粘着剤層は、エネルギー線硬化型アクリル共重合体を含む粘着剤組成物から形成されてなる層である。そして、前記エネルギー線硬化型アクリル共重合体は、官能基含有モノマー由来の構成単位(x2)を35質量%以下含むアクリル系ポリマー(X)に、エネルギー線重合性基を有する重合性化合物(Y)を反応させて得られる、エネルギー線重合性基を導入したものである。
<Adhesive layer>
The pressure-sensitive adhesive layer is a layer formed from a pressure-sensitive adhesive composition containing an energy ray curable acrylic copolymer. And the said energy-beam curable acrylic copolymer is a polymeric compound (Y which has an energy-beam polymerizable group in acrylic polymer (X) which contains 35 mass% or less of structural units (x2) derived from a functional group containing monomer. ) Is introduced, and an energy beam polymerizable group is introduced.

前記粘着剤組成物は、前記エネルギー線硬化型アクリル共重合体の他に、硬化反応を短時間で効率的に進行させる観点から、光重合開始剤を含有することが好ましく、また、形成される粘着剤層の凝集力及び接着力を向上させる観点から、架橋剤を含有することが好ましい。   In addition to the energy ray curable acrylic copolymer, the pressure-sensitive adhesive composition preferably contains a photopolymerization initiator from the viewpoint of efficiently proceeding a curing reaction in a short time. From the viewpoint of improving the cohesive strength and adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer, it is preferable to contain a crosslinking agent.

なお、図1(c)、(d)に示された複合シート1c、1dの構成のように、本発明で用いる粘着シート10の粘着剤層12の少なくとも一部は、硬化領域12aを含むことが好ましい。   Note that at least a part of the pressure-sensitive adhesive layer 12 of the pressure-sensitive adhesive sheet 10 used in the present invention includes a cured region 12a as in the configuration of the composite sheets 1c and 1d shown in FIGS. 1 (c) and (d). Is preferred.

粘着剤層の厚さは、好ましくは1〜100μm、より好ましくは3〜50μm、更に好ましくは5〜25μmである。
以下、粘着剤層を形成する粘着剤組成物に含まれる各成分について詳述する。
The thickness of an adhesive layer becomes like this. Preferably it is 1-100 micrometers, More preferably, it is 3-50 micrometers, More preferably, it is 5-25 micrometers.
Hereinafter, each component contained in the pressure-sensitive adhesive composition forming the pressure-sensitive adhesive layer will be described in detail.

[エネルギー線硬化型アクリル共重合体]
本発明で用いるエネルギー線硬化型アクリル共重合体は、官能基含有モノマー由来の構成単位(x2)を35質量%以下含むアクリル系ポリマー(X)に、エネルギー線重合性基を有する重合性化合物(Y)を反応させて得られる、エネルギー線重合性基を導入したアクリル共重合体である。
粘着剤層を構成する粘着剤組成物中にエネルギー線硬化型アクリル共重合体を含有することで、複合シートをウエハ等のワークに貼付してチップを製造する際、エネルギー線の照射により粘着剤層の粘着力を低下させることができるため、ピックアップ性を良好とすることができる。また、粘着剤層内に硬化領域を形成することも可能となる。
[Energy ray curable acrylic copolymer]
The energy ray curable acrylic copolymer used in the present invention is a polymerizable compound having an energy ray polymerizable group in an acrylic polymer (X) containing 35% by mass or less of a structural unit (x2) derived from a functional group-containing monomer ( It is an acrylic copolymer into which an energy ray polymerizable group is introduced, obtained by reacting Y).
By containing an energy ray-curable acrylic copolymer in the pressure-sensitive adhesive composition constituting the pressure-sensitive adhesive layer, when producing a chip by sticking a composite sheet to a workpiece such as a wafer, the pressure-sensitive adhesive is irradiated with energy rays. Since the adhesive strength of the layer can be reduced, the pickup property can be improved. In addition, a cured region can be formed in the pressure-sensitive adhesive layer.

アクリル系ポリマー(X)に導入される前記エネルギー線重合性基は、エネルギー線重合性の炭素−炭素二重結合を含む基であり、例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基等が挙げられる。これらの中でも、エネルギー線重合性基の導入が容易であるとの観点から、(メタ)アクリロイル基が好ましい。
前記エネルギー線重合性基は、アクリル系ポリマー(X)の主鎖に導入されていてもよく、側鎖に導入されていてもよい。
なお、前記エネルギー線重合性基は、アクリル系ポリマー(X)と直接結合されていてもよいし、アルキレン基、アルキレンオキシ基、ポリアルキレンオキシ基等の連結基を介して、アクリル系ポリマー(X)と結合されていてもよい。
The energy ray polymerizable group introduced into the acrylic polymer (X) is a group containing an energy ray polymerizable carbon-carbon double bond, and examples thereof include a (meth) acryloyl group and a vinyl group. Among these, a (meth) acryloyl group is preferable from the viewpoint of easy introduction of the energy beam polymerizable group.
The energy beam polymerizable group may be introduced into the main chain of the acrylic polymer (X) or may be introduced into the side chain.
The energy ray polymerizable group may be directly bonded to the acrylic polymer (X), or the acrylic polymer (X) via a linking group such as an alkylene group, an alkyleneoxy group, or a polyalkyleneoxy group. ).

エネルギー線硬化型アクリル共重合体の重量平均分子量(Mw)は、好ましくは10万〜150万、より好ましくは20万〜120万、更に好ましくは30万〜100万、特に好ましくは40万〜80万である。
Mwが10万以上であれば、グロス値が高い保護膜を形成し得る。また、粘着剤層が保護膜形成用フィルムの表面に転着して、保護膜形成用フィルムの表面を汚染してしまう現象を抑制することができる。
一方、Mwが150万以下であれば、粘着剤層と保護膜形成用フィルムとの密着性がさらに良好となり、ダイシング時に粘着剤層と保護膜形成用フィルムとの間に、切削水が浸入する現象をより高度に抑制することができる。
The weight average molecular weight (Mw) of the energy ray curable acrylic copolymer is preferably 100,000 to 1,500,000, more preferably 200,000 to 1,200,000, still more preferably 300,000 to 1,000,000, particularly preferably 400,000 to 80. It is ten thousand.
If Mw is 100,000 or more, a protective film having a high gloss value can be formed. In addition, the phenomenon that the pressure-sensitive adhesive layer is transferred to the surface of the protective film-forming film and contaminates the surface of the protective film-forming film can be suppressed.
On the other hand, if Mw is 1.5 million or less, the adhesiveness between the pressure-sensitive adhesive layer and the protective film-forming film is further improved, and cutting water enters between the pressure-sensitive adhesive layer and the protective film-forming film during dicing. The phenomenon can be suppressed to a higher degree.

粘着剤組成物の全有効成分(100質量%)に対する、エネルギー線硬化型アクリル共重合体の配合量は、好ましくは60〜100質量%、より好ましくは70〜99.9質量%、更に好ましくは80〜99質量%、特に好ましくは90〜98質量%である。   The blending amount of the energy ray curable acrylic copolymer with respect to all active ingredients (100% by mass) of the pressure-sensitive adhesive composition is preferably 60 to 100% by mass, more preferably 70 to 99.9% by mass, and still more preferably. It is 80-99 mass%, Most preferably, it is 90-98 mass%.

前記エネルギー線硬化型アクリル共重合体は、アクリル系ポリマー(X)と、重合性化合物(Y)が有する基とが反応し、アクリル系ポリマー(X)の主鎖及び/又は側鎖に、重合性化合物(Y)が有するエネルギー線重合性基が導入されたものである。 以下、アクリル系ポリマー(X)及び重合性化合物(Y)について説明する。   In the energy ray curable acrylic copolymer, the acrylic polymer (X) and the group possessed by the polymerizable compound (Y) react to form a polymer on the main chain and / or side chain of the acrylic polymer (X). An energy beam polymerizable group possessed by the conductive compound (Y) is introduced. Hereinafter, the acrylic polymer (X) and the polymerizable compound (Y) will be described.

(アクリル系ポリマー(X))
アクリル系ポリマー(X)は、官能基含有モノマー由来の構成単位(x2)を35質量%以下含むものである。
官能基含有モノマー由来の構成単位(x2)を35質量%以下含むアクリル系ポリマー(X)を用いることで、形成される粘着剤層と保護膜形成用フィルムとの密着性を良好に保つことができる。その結果、得られる複合シートをチップの製造に用いる際、ダイシング時に保護膜形成用フィルム(保護膜)と粘着剤層との間に、切削水が浸入してしまう現象を抑制できる。
(Acrylic polymer (X))
The acrylic polymer (X) contains 35 mass% or less of the structural unit (x2) derived from the functional group-containing monomer.
By using the acrylic polymer (X) containing 35% by mass or less of the structural unit (x2) derived from the functional group-containing monomer, good adhesion between the formed pressure-sensitive adhesive layer and the protective film-forming film can be maintained. it can. As a result, when the obtained composite sheet is used for chip manufacture, it is possible to suppress a phenomenon in which cutting water enters between the protective film-forming film (protective film) and the adhesive layer during dicing.

構成単位(x2)が有する官能基は、重合性化合物(Y)が有する基と反応する。
前記官能基としては、例えば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、エポキシ基、アミノ基、シアノ基、ケト基、窒素原子含有環式基(環骨格を構成する原子として窒素原子を有する基)、アルコキシシリル基等が挙げられる。
The functional group that the structural unit (x2) has reacts with the group that the polymerizable compound (Y) has.
Examples of the functional group include a hydroxy group, a carboxy group, an epoxy group, an amino group, a cyano group, a keto group, a nitrogen atom-containing cyclic group (a group having a nitrogen atom as an atom constituting a ring skeleton), and an alkoxysilyl group. Etc.

構成単位(x2)を構成する官能基含有モノマーとしては、例えば、ヒドロキシ基含有モノマー、カルボキシ基含有モノマー、エポキシ基含有モノマー、アミノ基含有モノマー、シアノ基含有モノマー、ケト基含有モノマー、窒素原子含有環を有するモノマー、アルコキシシリル基含有モノマー等が挙げられる。
これらの官能基含有モノマーは、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの中でも、ヒドロキシ基含有モノマーが好ましい。
Examples of the functional group-containing monomer constituting the structural unit (x2) include a hydroxy group-containing monomer, a carboxy group-containing monomer, an epoxy group-containing monomer, an amino group-containing monomer, a cyano group-containing monomer, a keto group-containing monomer, and a nitrogen atom-containing monomer. Examples include a monomer having a ring and an alkoxysilyl group-containing monomer.
These functional group-containing monomers may be used alone or in combination of two or more.
Of these, hydroxy group-containing monomers are preferred.

前記ヒドロキシ基含有モノマーとしては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類;ビニルアルコール、アリルアルコール等の不飽和アルコール類等が挙げられる。
これらの中でも、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートが好ましい。
Examples of the hydroxy group-containing monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 3-hydroxybutyl. Examples thereof include hydroxyalkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate and 4-hydroxybutyl (meth) acrylate; unsaturated alcohols such as vinyl alcohol and allyl alcohol.
Among these, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate is preferable.

前記カルボキシ基含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等が挙げられる。   Examples of the carboxy group-containing monomer include (meth) acrylic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, and the like.

前記エポキシ基含有モノマーとしては、例えば、エポキシ基含有(メタ)アクリル酸エステル及び非アクリル系エポキシ基含有モノマーが挙げられる。
エポキシ基含有(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、β−メチルグリシジル(メタ)アクリレート、(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル(メタ)アクリレート、3−エポキシシクロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
また、非アクリル系エポキシ基含有モノマーとしては、例えば、グリシジルクロトネート、アリルグリシジルエーテル等が挙げられる。
これらの官能基含有モノマーは、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of the epoxy group-containing monomer include epoxy group-containing (meth) acrylic acid esters and non-acrylic epoxy group-containing monomers.
Examples of the epoxy group-containing (meth) acrylic acid ester include glycidyl (meth) acrylate, β-methylglycidyl (meth) acrylate, (3,4-epoxycyclohexyl) methyl (meth) acrylate, and 3-epoxycyclo-2- Hydroxypropyl (meth) acrylate etc. are mentioned.
Examples of the non-acrylic epoxy group-containing monomer include glycidyl crotonate and allyl glycidyl ether.
These functional group-containing monomers may be used alone or in combination of two or more.

構成単位(x2)の含有割合は、アクリル系ポリマー(X)の全構成単位(100質量%)に対して、好ましくは1〜35質量%、より好ましくは5〜35質量%、更に好ましくは7〜33質量%、特に好ましくは10〜33質量%である。そして、構成単位(x2)の前記含有割合の上限値は、例えば、27質量%、25質量%及び23質量%等のいずれかから選択することもできる。
構成単位(x2)の前記含有割合が1質量%以上であれば、アクリル系ポリマー(X)の重合性化合物(Y)との反応点がより多くなり、重合性化合物(Y)の付加量を増やすことができる。その結果、硬化性のより高い粘着剤層を形成し得る。
一方、構成単位(x2)の前記含有割合が35質量%以下であれば、形成される粘着剤層の親水性の度合いが過剰に大きくなることを抑え、粘着剤層と保護膜形成用フィルム(保護膜)との間に切削水が浸入してしまう現象を防ぐことができる。また、粘着剤組成物の溶液を塗布液として塗布し、粘着剤層を形成する工程において、十分なポットライフを確保することができる。
The content ratio of the structural unit (x2) is preferably 1 to 35 mass%, more preferably 5 to 35 mass%, still more preferably 7 with respect to the total structural units (100 mass%) of the acrylic polymer (X). It is -33 mass%, Most preferably, it is 10-33 mass%. And the upper limit of the said content rate of a structural unit (x2) can also be selected from either 27 mass%, 25 mass%, 23 mass%, etc., for example.
If the said content rate of a structural unit (x2) is 1 mass% or more, the reactive point with the polymeric compound (Y) of acrylic polymer (X) will increase, and the additional amount of polymeric compound (Y) will be increased. Can be increased. As a result, a pressure-sensitive adhesive layer with higher curability can be formed.
On the other hand, if the said content rate of a structural unit (x2) is 35 mass% or less, it will suppress that the hydrophilic degree of the adhesive layer formed becomes large too much, and an adhesive layer and the film for protective film formation ( It is possible to prevent the phenomenon that cutting water enters between the protective film and the protective film. Moreover, sufficient pot life can be ensured in the step of applying the solution of the pressure-sensitive adhesive composition as a coating solution to form the pressure-sensitive adhesive layer.

前記アクリル系ポリマー(X)は、官能基含有モノマー由来の構成単位(x2)以外に、さらに、メチルメタクリレート由来の構成単位(x1)を含むものであってもよい。すなわち、前記エネルギー線硬化型アクリル共重合体は、メチルメタクリレート由来の構成単位(x1)及び官能基含有モノマー由来の構成単位(x2)を含むアクリル系ポリマー(X)に、エネルギー線重合性基を有する重合性化合物(Y)を反応させて得られるアクリル共重合体であってもよい。   In addition to the structural unit (x2) derived from the functional group-containing monomer, the acrylic polymer (X) may further include a structural unit (x1) derived from methyl methacrylate. That is, the energy ray-curable acrylic copolymer has an energy ray-polymerizable group in an acrylic polymer (X) containing a structural unit (x1) derived from methyl methacrylate and a structural unit (x2) derived from a functional group-containing monomer. The acrylic copolymer obtained by making the polymeric compound (Y) to have may react.

前記アクリル系ポリマー(X)が構成単位(x1)を含む場合、構成単位(x1)の含有割合は、アクリル系ポリマー(X)の全構成単位(100質量%)に対して、好ましくは10質量%以上、より好ましくは10〜80質量%、さらに好ましくは15〜75質量%、特に好ましくは20〜70質量%、とりわけ好ましくは25〜65質量%、最も好ましくは27〜60質量%である。
構成単位(x1)の前記含有割合が10質量%以上であれば、形成される粘着剤層について、加熱時における流動性が低く保たれ、保護膜形成用フィルムを加熱硬化させる際に、粘着剤層の表面の平滑性を維持することができ、保護膜のグロス値を向上させることができる。また、形成される粘着剤層と保護膜形成用フィルムとの密着性を良好に保つことができる。その結果、得られる複合シートをチップの製造に用いる際、ダイシング時に保護膜形成用フィルム(保護膜)と粘着剤層との間に、切削水が浸入してしまう現象を抑制しつつも、ピックアップ性を良好に維持することができる。
When the acrylic polymer (X) includes the structural unit (x1), the content ratio of the structural unit (x1) is preferably 10 masses with respect to all the structural units (100% by mass) of the acrylic polymer (X). % Or more, more preferably 10 to 80% by mass, further preferably 15 to 75% by mass, particularly preferably 20 to 70% by mass, particularly preferably 25 to 65% by mass, and most preferably 27 to 60% by mass.
When the content of the structural unit (x1) is 10% by mass or more, the flowability during heating is kept low for the pressure-sensitive adhesive layer to be formed, and the pressure-sensitive adhesive is used when the protective film-forming film is heat-cured. The smoothness of the surface of the layer can be maintained, and the gloss value of the protective film can be improved. Moreover, the adhesiveness of the adhesive layer formed and the film for protective film formation can be maintained favorable. As a result, when the resulting composite sheet is used for chip production, the pickup is performed while suppressing the phenomenon that cutting water enters between the protective film-forming film (protective film) and the adhesive layer during dicing. The property can be maintained well.

アクリル系ポリマー(X)は、粘着剤層の粘着性を向上させ、粘着剤層と保護膜形成用フィルムとの密着性をより向上させる観点から、さらに、メチルメタクリレート以外のアルキル(メタ)アクリレート由来の構成単位(x3)を含むことが好ましい。
構成単位(x3)を構成するアルキル(メタ)アクリレートとしては、前記官能基含有モノマー及びメチルメタクリレートと共重合可能なモノマーであれば特に制限はなく、例えば、メチルアクリレートであってもよいが、粘着剤層の粘着性を向上させ、粘着剤層と保護膜形成用フィルムとの密着性をより向上させる観点から、炭素数2〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート、又は環状骨格を有する(メタ)アクリレートが好ましく、炭素数2〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートがより好ましい。なお、本明細書において「アルキル(メタ)アクリレート」が有する「アルキル基」とは、特に断りのない限り、アルキルエステルを構成するアルキル基を意味する。
アルキル(メタ)アクリレートが有するアルキル基の炭素数は、好ましくは2〜18、より好ましくは2〜12、更に好ましくは4〜10である。
The acrylic polymer (X) is derived from an alkyl (meth) acrylate other than methyl methacrylate from the viewpoint of improving the adhesiveness of the adhesive layer and further improving the adhesion between the adhesive layer and the protective film-forming film. It is preferable that the structural unit (x3) is included.
The alkyl (meth) acrylate constituting the structural unit (x3) is not particularly limited as long as it is a monomer copolymerizable with the functional group-containing monomer and methyl methacrylate, and may be, for example, methyl acrylate. From the viewpoint of improving the adhesiveness of the adhesive layer and further improving the adhesion between the adhesive layer and the protective film-forming film, it has an alkyl (meth) acrylate having a C 2-18 alkyl group, or a cyclic skeleton. (Meth) acrylate is preferred, and alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 2 to 18 carbon atoms is more preferred. In the present specification, the “alkyl group” of the “alkyl (meth) acrylate” means an alkyl group constituting an alkyl ester unless otherwise specified.
Carbon number of the alkyl group which alkyl (meth) acrylate has becomes like this. Preferably it is 2-18, More preferably, it is 2-12, More preferably, it is 4-10.

炭素数2〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、n−オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n−ノニル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート(ラウリル(メタ)アクリレート)、トリデシル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート(ミリスチル(メタ)アクリレート)、ペンタデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート(パルミチル(メタ)アクリレート)、ヘプタデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート(ステアリル(メタ)アクリレート)、イソオクタデシル(メタ)アクリレート(イソステアリル(メタ)アクリレート)等が挙げられる。
環状骨格を有する(メタ)アクリレートとしては、例えば、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニルアクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、イミドアクリレート等が挙げられる。
これらのモノマーは、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの中でも、粘着剤層の粘着性を向上させ、粘着剤層と保護膜形成用フィルムとの密着性をより向上させる観点から、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートが好ましく、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートがより好ましい。
Examples of the alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 2 to 18 carbon atoms include ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, Heptyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-nonyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, undecyl ( (Meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate (lauryl (meth) acrylate), tridecyl (meth) acrylate, tetradecyl (meth) acrylate (myristyl (meth) acrylate), pentadecyl (medium) ) Acrylate, hexadecyl (meth) acrylate (palmityl (meth) acrylate), heptadecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate (stearyl (meth) acrylate), isooctadecyl (meth) acrylate (isostearyl (meth) acrylate), etc. Is mentioned.
Examples of the (meth) acrylate having a cyclic skeleton include cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, isobornyl acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, and dicyclopentenyl. Examples thereof include oxyethyl (meth) acrylate and imide acrylate.
These monomers may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.
Among these, butyl (meth) acrylate and 2-ethylhexyl (meth) acrylate are preferable from the viewpoint of improving the adhesiveness of the adhesive layer and further improving the adhesion between the adhesive layer and the protective film-forming film. 2-Ethylhexyl (meth) acrylate is more preferred.

構成単位(x3)の含有割合は、アクリル系ポリマー(X)の全構成単位に対して、好ましくは10〜85質量%、より好ましくは15〜85質量%、更に好ましくは20〜83質量%、特に好ましくは25〜83質量%である。そして、構成単位(x3)の前記含有割合の上限値は、例えば、75質量%、70質量%、65質量%及び60質量%等のいずれかから選択することもできる。   The content ratio of the structural unit (x3) is preferably 10 to 85% by mass, more preferably 15 to 85% by mass, still more preferably 20 to 83% by mass, with respect to all the structural units of the acrylic polymer (X). Most preferably, it is 25-83 mass%. And the upper limit of the said content rate of a structural unit (x3) can also be selected from either 75 mass%, 70 mass%, 65 mass%, 60 mass%, etc., for example.

アクリル系ポリマー(X)は、前記構成単位(x1)〜(x3)以外のその他の構成単位を含んでいてもよい。
その他の構成単位が由来するモノマーとしては、アクリロニトリル、スチレン等のモノマーが挙げられる。
The acrylic polymer (X) may contain other structural units other than the structural units (x1) to (x3).
Monomers from which other structural units are derived include monomers such as acrylonitrile and styrene.

なお、アクリル系ポリマー(X)の共重合の形態は、特に限定されず、ブロック共重合体、ランダム共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよい。   The form of copolymerization of the acrylic polymer (X) is not particularly limited, and may be any of a block copolymer, a random copolymer, and a graft copolymer.

アクリル系ポリマー(X)の重量平均分子量(Mw)は、好ましくは10万〜150万、より好ましくは20万〜120万、更に好ましくは30万〜100万である。   The weight average molecular weight (Mw) of the acrylic polymer (X) is preferably 100,000 to 1,500,000, more preferably 200,000 to 1,200,000, still more preferably 300,000 to 1,000,000.

また、アクリル系ポリマー(X)のガラス転移温度(Tg)は、粘着剤層の粘着性を適度な範囲に調整し、形成される粘着剤層と保護膜形成用フィルムとの密着性をより向上させることができる観点から、好ましくは−66〜10℃、より好ましくは−64〜10℃、更に好ましくは−62〜10℃である。そして、アクリル系ポリマー(X)のガラス転移温度(Tg)の下限値は、例えば、−50℃、−40℃及び−30℃等のいずれかから選択することもできる。前記下限値が−50℃以上であれば、粘着剤層と保護膜形成用フィルムとの密着性をより向上させつつ、ピックアップ適性も良好に保つことができる。   In addition, the glass transition temperature (Tg) of the acrylic polymer (X) adjusts the tackiness of the pressure-sensitive adhesive layer to an appropriate range and further improves the adhesion between the formed pressure-sensitive adhesive layer and the protective film-forming film. From the viewpoint that it can be made, it is preferably −66 to 10 ° C., more preferably −64 to 10 ° C., and further preferably −62 to 10 ° C. And the lower limit of the glass transition temperature (Tg) of acrylic polymer (X) can also be selected from -50 degreeC, -40 degreeC, -30 degreeC, etc., for example. If the said lower limit is -50 degreeC or more, pick-up suitability can also be kept favorable, improving the adhesiveness of an adhesive layer and the film for protective film formation more.

アクリル系ポリマー(X)の合成方法については、特に限定されるものではなく、例えば溶剤、重合開始剤、連鎖移動剤等の存在下で溶液重合する方法や、乳化剤、重合開始剤、連鎖移動剤、分散剤等の存在下の水系でエマルション重合する方法にて製造される。なお、前記重合方法において、必要に応じて、増粘剤、濡れ剤、レベリング剤、消泡剤等の添加剤を添加してもよい。
重合反応は、60〜100℃の温度条件下、2〜8時間かけて行われることが好ましい。
重合時の原料モノマーの濃度は、通常30〜70質量%、好ましくは40〜60質量%である。
A method for synthesizing the acrylic polymer (X) is not particularly limited. For example, a solution polymerization method in the presence of a solvent, a polymerization initiator, a chain transfer agent, an emulsifier, a polymerization initiator, or a chain transfer agent is used. , And a method of emulsion polymerization in an aqueous system in the presence of a dispersant or the like. In the polymerization method, additives such as thickeners, wetting agents, leveling agents, and antifoaming agents may be added as necessary.
The polymerization reaction is preferably performed at a temperature of 60 to 100 ° C. for 2 to 8 hours.
The density | concentration of the raw material monomer at the time of superposition | polymerization is 30-70 mass% normally, Preferably it is 40-60 mass%.

重合の際に使用される重合開始剤としては、例えば、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩;2,2'−アゾビスイソブチロニトリル、2,2'−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)等のアゾ系化合物;過酸化水素、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド等の過酸化物;過硫酸アンモニウムと亜硫酸ソーダ、酸性亜硫酸ソーダ等との組み合わせからなるレドックス系の重合開始剤等が挙げられる。
重合開始剤の添加量は、原料モノマーの全量100質量部に対して、好ましくは0.2〜2質量部、より好ましくは0.3〜1質量部である。
Examples of the polymerization initiator used in the polymerization include persulfates such as potassium persulfate and ammonium persulfate; 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2,4- Azo compounds such as dimethylvaleronitrile) peroxides such as hydrogen peroxide, benzoyl peroxide, lauryl peroxide; redox polymerization initiators composed of a combination of ammonium persulfate and sodium sulfite, acidic sodium sulfite, etc. Can be mentioned.
The addition amount of the polymerization initiator is preferably 0.2 to 2 parts by mass, more preferably 0.3 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of raw material monomers.

重合の際に使用される連鎖移動剤としては、例えば、オクチルメルカプタン、ノニルメルカプタン、デシルメルカプタン、ドデシルメルカプタン等のアルキルメルカプタン類;チオグリコール酸オクチル、チオグリコール酸ノニル、チオグリコール酸−2−エチルヘキシル、β−メルカプトプロピオン酸−2−エチルヘキシル等のチオグリコール酸エステル類;2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテン;1−メチル−4−イソプロピリデン−1−シクロヘキセン等が挙げられる。
これらの中でも、チオグリコール酸エステル類、2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテン、1−メチル−4−イソプロピリデン−1−シクロヘキセンが好ましい。
連鎖移動剤の添加量は、原料モノマーの全量100質量部に対して、好ましくは0.001〜3質量部である。
Examples of the chain transfer agent used in the polymerization include alkyl mercaptans such as octyl mercaptan, nonyl mercaptan, decyl mercaptan, dodecyl mercaptan; octyl thioglycolate, nonyl thioglycolate, 2-ethylhexyl thioglycolate, Examples include thioglycolic acid esters such as β-mercaptopropionic acid-2-ethylhexyl; 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene; 1-methyl-4-isopropylidene-1-cyclohexene.
Among these, thioglycolic acid esters, 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene, and 1-methyl-4-isopropylidene-1-cyclohexene are preferable.
The addition amount of the chain transfer agent is preferably 0.001 to 3 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of raw material monomers.

(重合性化合物(Y))
重合性化合物(Y)は、エネルギー線重合性炭素−炭素二重結合を含む重合性基を有する化合物であって、アクリル系ポリマー(X)と反応し、アクリル系ポリマー(X)の主鎖及び/又は側鎖に前記重合性基を導入し得る化合物である。
重合性化合物(Y)としては、アクリル系ポリマー(X)が有する官能基と反応する基を有すると共に、エネルギー線重合性炭素−炭素二重結合を含む重合性基を1分子あたり1〜5個有する化合物であることが好ましい。
アクリル系ポリマー(X)が有する官能基と反応する基としては、例えば、イソシアネート基、カルボキシ基、エポキシ基等が挙げられ、イソシアネート基が好ましい。
また、エネルギー線重合性炭素−炭素二重結合を含む重合性基としては、例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基等が挙げられ、(メタ)アクリロイル基が好ましい。
(Polymerizable compound (Y))
The polymerizable compound (Y) is a compound having a polymerizable group containing an energy beam polymerizable carbon-carbon double bond, which reacts with the acrylic polymer (X) to form a main chain of the acrylic polymer (X) and It is a compound that can introduce the polymerizable group into the side chain.
The polymerizable compound (Y) has a group that reacts with the functional group of the acrylic polymer (X) and contains 1 to 5 polymerizable groups containing energy beam polymerizable carbon-carbon double bonds per molecule. It is preferable that it is a compound which has.
Examples of the group that reacts with the functional group of the acrylic polymer (X) include an isocyanate group, a carboxy group, and an epoxy group, and an isocyanate group is preferable.
Examples of the polymerizable group containing an energy beam polymerizable carbon-carbon double bond include a (meth) acryloyl group and a vinyl group, and a (meth) acryloyl group is preferable.

具体的な重合性化合物(Y)としては、例えば、(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート、メタ−イソプロペニル−α,α−ジメチルベンジルイソシアネート、(メタ)アクリロイルイソシアネート、アリルイソシアネート、グリシジル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸等が挙げられる。
これらの重合性化合物(Y)は、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの中でも、アクリル系ポリマー(X)が有する官能基と反応する基として好ましいイソシアネート基を有しており、アクリル系ポリマー(X)と重合性基の距離が適当となる化合物であるとの観点から、(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネートが好ましい。
Specific examples of the polymerizable compound (Y) include (meth) acryloyloxyethyl isocyanate, meta-isopropenyl-α, α-dimethylbenzyl isocyanate, (meth) acryloyl isocyanate, allyl isocyanate, glycidyl (meth) acrylate, Examples include (meth) acrylic acid.
These polymerizable compounds (Y) may be used alone or in combination of two or more.
Among these, the viewpoint that it has a preferable isocyanate group as a group that reacts with the functional group of the acrylic polymer (X), and the distance between the acrylic polymer (X) and the polymerizable group is appropriate. Therefore, (meth) acryloyloxyethyl isocyanate is preferable.

エネルギー線硬化型アクリル共重合体の合成方法としては、例えば、ヒドロキシ基を有するアクリル系ポリマー(X)に、イソシアネート基を有する重合性化合物(Y)を導入する場合であれば、酢酸エチル等の有機溶液中で、ジブチル錫ラウレート等の触媒を用い、室温程度の温度で、常圧にて、24時間程度反応させる方法が挙げられる。   As a method for synthesizing the energy ray-curable acrylic copolymer, for example, when introducing a polymerizable compound (Y) having an isocyanate group into an acrylic polymer (X) having a hydroxy group, ethyl acetate or the like can be used. Examples thereof include a method in which a reaction such as dibutyltin laurate is performed in an organic solution at a temperature of about room temperature and a normal pressure for about 24 hours.

アクリル系ポリマー(X)が有する官能基数100当量に対する、重合性化合物(Y)の配合量は、複合シートを用いて形成される保護膜のレーザーマーキング適性の向上の観点から、好ましくは20〜100当量、より好ましくは30〜95当量、更に好ましくは40〜90当量、特に好ましくは55〜85当量である。   The blending amount of the polymerizable compound (Y) with respect to 100 equivalents of the functional group of the acrylic polymer (X) is preferably 20 to 100 from the viewpoint of improving the laser marking suitability of the protective film formed using the composite sheet. The equivalent is more preferably 30 to 95 equivalents, still more preferably 40 to 90 equivalents, and particularly preferably 55 to 85 equivalents.

また、アクリル系ポリマー(X)100質量部に対する、重合性化合物(Y)の配合量は、粘着剤層と保護膜形成用フィルム(保護膜)との密着性をより向上させる観点から、好ましくは1〜40質量部、より好ましくは5〜37質量部、更に好ましくは10〜35質量部、特に好ましくは14〜33質量部である。そして、重合性化合物(Y)の前記配合量の上限値は、例えば、30質量部及び25質量部等のいずれかから選択することもできる。前記上限値が30質量部以下であれば、複合シートを用いて形成される保護膜のレーザーマーキング適性が向上する。   The compounding amount of the polymerizable compound (Y) with respect to 100 parts by mass of the acrylic polymer (X) is preferably from the viewpoint of further improving the adhesion between the pressure-sensitive adhesive layer and the protective film-forming film (protective film). 1-40 mass parts, More preferably, it is 5-37 mass parts, More preferably, it is 10-35 mass parts, Most preferably, it is 14-33 mass parts. And the upper limit of the said compounding quantity of polymeric compound (Y) can also be selected from either 30 mass parts, 25 mass parts, etc., for example. If the said upper limit is 30 mass parts or less, the laser marking aptitude of the protective film formed using a composite sheet will improve.

本発明においては、アクリル系ポリマー(X)と重合性化合物(Y)との配合量の関係について、下記式(2)より算出されるαの値が28以下である。
式(2):α=〔P〕×〔Q〕×〔R〕/100
式(2)中、〔P〕は、アクリル系ポリマー(X)の全構成単位100質量部に対する、官能基含有モノマー由来の構成単位(x2)の含有割合を示す。〔Q〕は、アクリル系ポリマー(X)が有する前記官能基含有モノマー由来の官能基100当量に対する、重合性化合物(Y)の当量を示す。〔R〕は、重合性化合物(Y)が有するエネルギー線重合性基の基数を示す。
In the present invention, the value of α calculated from the following formula (2) is 28 or less with respect to the relationship between the blending amounts of the acrylic polymer (X) and the polymerizable compound (Y).
Formula (2): α = [P] × [Q] × [R] / 100
In formula (2), [P] shows the content rate of the structural unit (x2) derived from a functional group containing monomer with respect to 100 mass parts of all the structural units of acrylic polymer (X). [Q] represents an equivalent amount of the polymerizable compound (Y) with respect to 100 equivalents of the functional group derived from the functional group-containing monomer of the acrylic polymer (X). [R] represents the number of energy ray polymerizable groups of the polymerizable compound (Y).

式(2)より算出されるαの値は、形成される粘着剤層と保護膜形成用フィルム(保護膜)との密着性の指標となり、値が小さいほど、密着性が高く、ウエハ等のワークのダイシング時に、保護膜形成用フィルム(保護膜)と粘着剤層との間に、切削水が浸入してしまう現象の抑制効果が高い。
前記αの値は、28以下であり、好ましくは25以下、より好ましくは23以下、更に好ましくは20以下、特に好ましくは18以下、とりわけ好ましくは17以下、最も好ましくは16以下である。また、ピックアップ適性を良好とする観点から、前記αの値は、好ましくは1以上、より好ましくは5以上である。また、先に説明したように、メチルメタクリレート由来の構成単位(x1)を所定量含むエネルギー線硬化型アクリル共重合体を用いることで、前記αの値が低くても、さらにピックアップ適性が良好となる。
The value of α calculated from the formula (2) is an index of adhesion between the pressure-sensitive adhesive layer to be formed and the protective film-forming film (protective film). The smaller the value, the higher the adhesion, The effect of suppressing the phenomenon that cutting water enters between the protective film-forming film (protective film) and the adhesive layer during dicing of the workpiece is high.
The value of α is 28 or less, preferably 25 or less, more preferably 23 or less, further preferably 20 or less, particularly preferably 18 or less, particularly preferably 17 or less, and most preferably 16 or less. Further, from the viewpoint of improving pick-up suitability, the value of α is preferably 1 or more, more preferably 5 or more. In addition, as described above, by using an energy ray-curable acrylic copolymer containing a predetermined amount of the structural unit derived from methyl methacrylate (x1), even if the value of α is low, the pickup suitability is further improved. Become.

[光重合開始剤]
本発明で用いる粘着剤組成物は、さらに光重合開始剤を含有することが好ましい。前記粘着剤組成物が光重合開始剤を含有することで、粘着剤層にエネルギー線を照射して、粘着剤層を硬化させる際に、重合硬化時間を短くし、光線照射量を少なくしても、粘着剤層の硬化を進行させて硬化領域を形成することができる。
[Photopolymerization initiator]
The pressure-sensitive adhesive composition used in the present invention preferably further contains a photopolymerization initiator. When the pressure-sensitive adhesive composition contains a photopolymerization initiator, when the pressure-sensitive adhesive layer is irradiated with energy rays to cure the pressure-sensitive adhesive layer, the polymerization curing time is shortened and the amount of light irradiation is reduced. In addition, the curing of the pressure-sensitive adhesive layer can proceed to form a cured region.

光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン化合物、アセトフェノン化合物、アシルフォスフィンオキサイド化合物、チタノセン化合物、チオキサントン化合物、パーオキサイド化合物等の光開始剤や、アミンやキノン等の光増感剤等が挙げられる。
具体的な光重合開始剤としては、例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ジベンジル、ジアセチル、β−クロールアンスラキノン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。
これらの光重合開始剤は、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of the photopolymerization initiator include photoinitiators such as benzoin compounds, acetophenone compounds, acylphosphine oxide compounds, titanocene compounds, thioxanthone compounds and peroxide compounds, and photosensitizers such as amines and quinones. .
Specific photopolymerization initiators include, for example, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzyl diphenyl sulfide, tetramethylthiuram monosulfide, azobisisobutyronitrile, Examples include dibenzyl, diacetyl, β-chloranthraquinone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

前記粘着剤組成物における、光重合開始剤の配合量は、硬化反応を十分に進行させ、ピックアップ適性を向上させると共に、残留物の生成を抑える観点から、前記エネルギー線硬化型アクリル共重合体100質量部に対して、好ましくは0.1〜10質量部、より好ましくは1〜7質量部、更に好ましくは2〜5質量部である。   The amount of the photopolymerization initiator in the pressure-sensitive adhesive composition is such that the energy ray curable acrylic copolymer 100 can be used from the viewpoint of sufficiently proceeding the curing reaction, improving pickup suitability, and suppressing the formation of residues. Preferably it is 0.1-10 mass parts with respect to a mass part, More preferably, it is 1-7 mass parts, More preferably, it is 2-5 mass parts.

[架橋剤]
本発明で用いる粘着剤組成物は、さらに架橋剤を含有することが好ましい。前記粘着剤組成物が架橋剤を含有することで、アクリル系ポリマー(X)が有する官能基と架橋反応して網目構造を形成し、形成された粘着剤層の凝集力を向上させ、接着力を制御することができる。
架橋剤としては、例えば、有機多価イソシアネート化合物、有機多価エポキシ化合物、有機多価イミン化合物等が挙げられる。
[Crosslinking agent]
The pressure-sensitive adhesive composition used in the present invention preferably further contains a crosslinking agent. When the pressure-sensitive adhesive composition contains a cross-linking agent, the cross-linking reaction with the functional group of the acrylic polymer (X) forms a network structure, and the cohesive force of the formed pressure-sensitive adhesive layer is improved, and the adhesive strength Can be controlled.
Examples of the crosslinking agent include organic polyvalent isocyanate compounds, organic polyvalent epoxy compounds, organic polyvalent imine compounds, and the like.

有機多価イソシアネート化合物としては、例えば、芳香族多価イソシアネート化合物、脂肪族多価イソシアネート化合物、脂環族多価イソシアネート化合物、及びこれら有機多価イソシアネート化合物の三量体、並びにこれら有機多価イソシアネート化合物とポリオール化合物とを反応させて得られる末端イソシアネートウレタンプレポリマー等が挙げられる。   Examples of organic polyvalent isocyanate compounds include aromatic polyvalent isocyanate compounds, aliphatic polyvalent isocyanate compounds, alicyclic polyvalent isocyanate compounds, trimers of these organic polyvalent isocyanate compounds, and these organic polyvalent isocyanate compounds. Examples thereof include terminal isocyanate urethane prepolymers obtained by reacting a compound with a polyol compound.

具体的な有機多価イソシアネート化合物としては、例えば、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート等のトリレンジイソシアネート系化合物;1,3−キシリレンジイソシアネート、1,4−キシレンジイソシアネート等のキシレンジイソシアネート系化合物;ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート;ジフェニルメタン−2,4’−ジイソシアネート;3−メチルジフェニルメタンジイソシアネート;ヘキサメチレンジイソシアネート;イソホロンジイソシアネート;ジシクロヘキシルメタン−4,4’−ジイソシアネート;ジシクロヘキシルメタン−2,4’−ジイソシアネート;リジンイソシアネート;これらの多価アルコールアダクト体(多価アルコール付加物)等が挙げられる。   Specific organic polyvalent isocyanate compounds include, for example, tolylene diisocyanate compounds such as 2,4-tolylene diisocyanate and 2,6-tolylene diisocyanate; 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylene diisocyanate Diphenylmethane-4,4'-diisocyanate; diphenylmethane-2,4'-diisocyanate; 3-methyldiphenylmethane diisocyanate; hexamethylene diisocyanate; isophorone diisocyanate; dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate; dicyclohexylmethane -2,4'-diisocyanate; lysine isocyanate; and these polyhydric alcohol adducts (polyhydric alcohol adducts).

有機多価エポキシ化合物としては、例えば、1,3−ビス(N,N’−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシリレンジアミン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、ジグリシジルアニリン、ジグリシジルアミン等が挙げられる。   Examples of the organic polyvalent epoxy compound include 1,3-bis (N, N′-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-m-xylylenediamine, and ethylene glycol diester. Examples thereof include glycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, trimethylolpropane diglycidyl ether, diglycidyl aniline, diglycidyl amine and the like.

有機多価イミン化合物としては、例えば、N,N’−ジフェニルメタン−4,4’−ビス(1−アジリジンカルボキシアミド)、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、及びN,N’−トルエン−2,4−ビス(1−アジリジンカルボキシアミド)トリエチレンメラミン等が挙げられる。   Examples of the organic polyvalent imine compound include N, N′-diphenylmethane-4,4′-bis (1-aziridinecarboxamide), trimethylolpropane-tri-β-aziridinylpropionate, tetramethylolmethane- Examples include tri-β-aziridinyl propionate and N, N′-toluene-2,4-bis (1-aziridinecarboxamide) triethylenemelamine.

前記粘着剤組成物における、架橋剤の配合量は、アクリル共重合体100質量部に対して、好ましくは0.01〜20質量部、より好ましくは0.1〜10質量部、更に好ましくは0.3〜5質量部である。   The compounding amount of the crosslinking agent in the pressure-sensitive adhesive composition is preferably 0.01 to 20 parts by mass, more preferably 0.1 to 10 parts by mass, and still more preferably 0 with respect to 100 parts by mass of the acrylic copolymer. 3 to 5 parts by mass.

[その他の添加剤]
また、本発明で用いる粘着剤組成物は、粘着付与樹脂、酸化防止剤、安定剤、軟化剤、充填材、顔料、染料等のその他の添加剤を含有してもよい。
前記粘着付与樹脂としては、例えば、ロジン系樹脂、水素化ロジン系樹脂、テルペン系樹脂、水素化テルペン系樹脂、C5留分を共重合して得られるC5系石油樹脂、C5系石油樹脂の水素化石油樹脂、C9留分を共重合して得られるC9系石油樹脂、C9系石油樹脂の水素化石油樹脂等が挙げられる。
[Other additives]
The pressure-sensitive adhesive composition used in the present invention may contain other additives such as a tackifier resin, an antioxidant, a stabilizer, a softener, a filler, a pigment, and a dye.
Examples of the tackifying resin include rosin resin, hydrogenated rosin resin, terpene resin, hydrogenated terpene resin, C5 petroleum resin obtained by copolymerizing C5 fraction, and hydrogen of C5 petroleum resin. And C9 petroleum resin obtained by copolymerization of C9 fraction, hydrogenated petroleum resin of C9 petroleum resin, and the like.

<粘着シートの製造方法>
粘着シートの製造方法としては、特に制限はない。例えば、上述の各成分に有機溶媒を加えて粘着剤組成物の溶液を調製する。そして、基材上に、この粘着剤組成物の溶液を公知の方法で塗布し、塗膜を形成し、前記塗膜を乾燥させて、粘着剤層を形成することで製造することができる。
また、前記粘着剤溶液を、上述の剥離シート上に塗布して、剥離シート上に粘着剤層を形成し、前記粘着剤層上に基材を積層して、剥離シート付き粘着シートとしてもよい。この場合、粘着シートの使用時に、前記剥離シートを除去し、表出した粘着剤層上に、保護膜形成用フィルムが積層される。
<Method for producing adhesive sheet>
There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of an adhesive sheet. For example, an organic solvent is added to each component described above to prepare a solution of the pressure-sensitive adhesive composition. And it can manufacture by apply | coating the solution of this adhesive composition on a base material by a well-known method, forming a coating film, drying the said coating film, and forming an adhesive layer.
Moreover, the said adhesive solution is apply | coated on the above-mentioned peeling sheet, an adhesive layer is formed on a peeling sheet, a base material is laminated | stacked on the said adhesive layer, and it is good also as an adhesive sheet with a peeling sheet. . In this case, when the pressure-sensitive adhesive sheet is used, the release sheet is removed, and a protective film-forming film is laminated on the exposed pressure-sensitive adhesive layer.

前記有機溶媒としては、例えば、トルエン、酢酸エチル、メチルエチルケトン等が挙げられる。また、粘着剤組成物の溶液の固形分濃度としては、好ましくは10〜80質量%、より好ましくは15〜70質量%、更に好ましくは20〜65質量%である。   Examples of the organic solvent include toluene, ethyl acetate, methyl ethyl ketone, and the like. Moreover, as solid content concentration of the solution of an adhesive composition, Preferably it is 10-80 mass%, More preferably, it is 15-70 mass%, More preferably, it is 20-65 mass%.

粘着剤組成物の溶液の塗布方法としては、例えば、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等が挙げられる。   Examples of the method for applying the solution of the pressure-sensitive adhesive composition include spin coating, spray coating, bar coating, knife coating, roll coating, blade coating, die coating, and gravure coating.

なお、形成した粘着剤層内に硬化領域を形成する場合、前記硬化領域の形成方法としては、特に制限はない。例えば、上述の粘着シートの製造方法においては、剥離シート側又は基材側から、紫外線等のエネルギー線を照射し、粘着剤層を硬化させればよい。
照射エネルギー線としては、紫外線が好ましい。
照射する紫外線の照度は、好ましくは100〜250mW/cmであり、紫外線の光量は、好ましくは350〜700mJ/cmである。
In addition, when forming a hardening area | region in the formed adhesive layer, there is no restriction | limiting in particular as a formation method of the said hardening area | region. For example, in the above-described method for producing a pressure-sensitive adhesive sheet, the pressure-sensitive adhesive layer may be cured by irradiating energy rays such as ultraviolet rays from the release sheet side or the substrate side.
As the irradiation energy ray, ultraviolet rays are preferable.
Illuminance of the irradiated ultraviolet ray is preferably 100~250mW / cm 2, light quantity of the ultraviolet rays is preferably 350~700mJ / cm 2.

<保護膜形成用フィルム>
保護膜形成用フィルムとしては、特に制限はないが、(A)重合体成分、及び(B)硬化性成分を含むことが好ましく、更に(C)着色剤、(D)カップリング剤、(E)無機充填材、(F)汎用添加剤(以下、これら各成分を、その符号に対応して「(A)成分〜(F)成分」と称することがある)を含んでもよい。
以下、保護膜形成用フィルムに含まれる前記(A)〜(F)成分について、説明する。
<Protective film-forming film>
Although there is no restriction | limiting in particular as a film for protective film formation, It is preferable that (A) polymer component and (B) sclerosing | hardenable component are included, and also (C) coloring agent, (D) coupling agent, (E ) An inorganic filler and (F) a general-purpose additive (hereinafter, these components may be referred to as “component (A) to component (F)” corresponding to the reference numerals).
Hereinafter, the components (A) to (F) contained in the protective film-forming film will be described.

[(A)重合体成分]
「(A)重合体成分」とは、重量平均分子量が2万以上であり、少なくとも1種の繰り返し単位を有する化合物を意味する。保護膜形成用フィルム中に(A)重合性成分を含有することで、主に、保護膜形成用フィルムに可とう性及び造膜性を付与し、シート性状維持性を良好とすることができる。
(A)重合体成分の重量平均分子量(Mw)としては、好ましくは2万以上、より好ましくは2万〜300万、更に好ましくは5万〜200万、特に好ましくは10万〜150万である。
[(A) Polymer component]
“(A) Polymer component” means a compound having a weight average molecular weight of 20,000 or more and having at least one repeating unit. By containing the polymerizable component (A) in the protective film-forming film, it is possible to mainly impart flexibility and film-forming property to the protective film-forming film and to improve the sheet property maintaining property. .
(A) As a weight average molecular weight (Mw) of a polymer component, Preferably it is 20,000 or more, More preferably, it is 20,000-3 million, More preferably, it is 50,000-2 million, Most preferably, it is 100,000-1.5 million. .

(A)成分の含有量は、保護膜形成用フィルムの全量(100質量%)に対して、好ましくは5〜50質量%、より好ましくは8〜40質量%、更に好ましくは10〜30質量%、特に好ましくは12〜25質量%である。   The content of the component (A) is preferably 5 to 50% by mass, more preferably 8 to 40% by mass, and further preferably 10 to 30% by mass with respect to the total amount (100% by mass) of the protective film-forming film. Especially preferably, it is 12 to 25% by mass.

(A)重合体成分としては、(A1)アクリル系重合体が好ましく、(A1)成分以外の、ポリエステル、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテル、ポリウレタン、ポリシロキサン、ゴム系重合体等の(A2)非アクリル系重合体を用いてもよい。
これらの重合体成分は、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(A) As the polymer component, (A1) an acrylic polymer is preferable. Other than the component (A1), (A2) such as polyester, phenoxy resin, polycarbonate, polyether, polyurethane, polysiloxane, rubber polymer, etc. A non-acrylic polymer may be used.
These polymer components may be used alone or in combination of two or more.

((A1)アクリル系重合体)
(A1)アクリル系重合体の重量平均分子量(Mw)は、保護膜形成用フィルムに可とう性及び造膜性を付与する観点から、好ましくは2万〜300万、より好ましくは10万〜150万、更に好ましくは15万〜120万、特に好ましくは25万〜100万である。
((A1) acrylic polymer)
(A1) The weight average molecular weight (Mw) of the acrylic polymer is preferably 20,000 to 3,000,000, more preferably 100,000 to 150, from the viewpoint of imparting flexibility and film-forming properties to the protective film-forming film. More preferably, it is 150,000 to 1,200,000, particularly preferably 250,000 to 1,000,000.

(A1)アクリル系重合体のガラス転移温度(Tg)は、保護膜形成用フィルムから形成される保護膜の被着体に対する接着性の観点、及び、複合シートを用いて製造される保護膜付きチップの信頼性の向上の観点から、好ましくは−60〜50℃、より好ましくは−50〜40℃、更に好ましくは−40〜30℃、特に好ましくは−35〜20℃である。   (A1) The glass transition temperature (Tg) of the acrylic polymer is that the protective film formed from the protective film-forming film has a protective film manufactured using a composite sheet and a viewpoint of adhesion to the adherend. From the viewpoint of improving the reliability of the chip, it is preferably −60 to 50 ° C., more preferably −50 to 40 ° C., still more preferably −40 to 30 ° C., and particularly preferably −35 to 20 ° C.

(A1)アクリル系重合体としては、アルキル(メタ)アクリレートを主成分とする重合体が挙げられ、具体的には、炭素数1〜18のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート由来の構成単位(a1)を含むアクリル系重合体が好ましく、構成単位(a1)と共に官能基含有モノマー由来の構成単位(a2)を含むアクリル系共重合体がより好ましい。
(A1)成分は、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
なお、(A1)成分が共重合体である場合、前記共重合体の形態は、ブロック共重合体、ランダム共重合体、交互共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよい。
(A1) As an acrylic polymer, the polymer which has alkyl (meth) acrylate as a main component is mentioned, Specifically, the structural unit derived from the alkyl (meth) acrylate which has a C1-C18 alkyl group. An acrylic polymer containing (a1) is preferable, and an acrylic copolymer containing the structural unit (a2) derived from the functional group-containing monomer together with the structural unit (a1) is more preferable.
(A1) A component may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.
When the component (A1) is a copolymer, the form of the copolymer may be any of a block copolymer, a random copolymer, an alternating copolymer, and a graft copolymer.

(構成単位(a1))
構成単位(a1)を構成するアルキル(メタ)アクリレートのアルキル基の炭素数は、保護膜形成用フィルムに可とう性及び造膜性を付与する観点から、好ましくは1〜18であり、より好ましくは1〜12、更に好ましくは1〜8である。
(Structural unit (a1))
The number of carbon atoms of the alkyl group of the alkyl (meth) acrylate constituting the structural unit (a1) is preferably 1 to 18, more preferably from the viewpoint of imparting flexibility and film-forming properties to the protective film-forming film. Is 1-12, more preferably 1-8.

アルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、n−オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n−ノニル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート(ラウリル(メタ)アクリレート)、トリデシル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート(ミリスチル(メタ)アクリレート)、ペンタデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート(パルミチル(メタ)アクリレート)、ヘプタデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート(ステアリル(メタ)アクリレート)、イソオクタデシル(メタ)アクリレート(イソステアリル(メタ)アクリレート)等が挙げられる。
なお、これらのアルキル(メタ)アクリレートは、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of the alkyl (meth) acrylate include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, and heptyl (meth). Acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-nonyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, Dodecyl (meth) acrylate (lauryl (meth) acrylate), tridecyl (meth) acrylate, tetradecyl (meth) acrylate (myristyl (meth) acrylate), pentadecyl (meth) acrylate Relate, hexadecyl (meth) acrylate (palmityl (meth) acrylate), heptadecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate (stearyl (meth) acrylate), isooctadecyl (meth) acrylate (isostearyl (meth) acrylate), etc. Can be mentioned.
These alkyl (meth) acrylates may be used alone or in combination of two or more.

これらの中でも、保護膜形成用フィルムから形成される保護膜のグロス値を上昇させ、保護膜のレーザーマーキング適性を向上させる観点から、構成単位(a1)を構成するアルキル(メタ)アクリレートは、炭素数4以上のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートが好ましく、炭素数4〜6のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートがより好ましく、ブチル(メタ)アクリレートが更に好ましい。
上記観点から、炭素数4以上のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート由来の構成単位の含有割合は、(A1)アクリル系重合体の全構成単位に対して、好ましくは1〜70質量%、より好ましくは5〜65質量%、更に好ましくは10〜60質量%である。
Among these, from the viewpoint of increasing the gloss value of the protective film formed from the protective film-forming film and improving the laser marking suitability of the protective film, the alkyl (meth) acrylate constituting the structural unit (a1) is carbon. An alkyl (meth) acrylate having an alkyl group of 4 or more is preferred, an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 4 to 6 carbon atoms is more preferred, and butyl (meth) acrylate is still more preferred.
From the above viewpoint, the content ratio of the structural unit derived from the alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 4 or more carbon atoms is preferably 1 to 70% by mass with respect to all the structural units of the (A1) acrylic polymer. More preferably, it is 5-65 mass%, More preferably, it is 10-60 mass%.

また、本発明の複合シートを用いて製造される保護膜付きチップの信頼性向上の観点から、構成単位(a1)を構成するアルキル(メタ)アクリレートは、炭素数1〜3のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートが好ましく、メチル(メタ)アクリレートがより好ましい。
上記観点から、炭素数1〜3のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレート由来の構成単位の含有割合は、(A1)アクリル系重合体の全構成単位に対して、好ましくは1〜60質量%、より好ましくは3〜50質量%、更に好ましくは5〜40質量%である。
Moreover, from a viewpoint of the reliability improvement of the chip | tip with a protective film manufactured using the composite sheet of this invention, the alkyl (meth) acrylate which comprises a structural unit (a1) has a C1-C3 alkyl group. Alkyl (meth) acrylate is preferred, and methyl (meth) acrylate is more preferred.
From the above viewpoint, the content ratio of the structural unit derived from the alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is preferably 1 to 60% by mass with respect to all the structural units of the (A1) acrylic polymer. More preferably, it is 3-50 mass%, More preferably, it is 5-40 mass%.

構成単位(a1)の含有割合は、(A1)アクリル系重合体の全構成単位に対して、好ましくは50質量%以上、より好ましくは50〜99質量%、更に好ましくは55〜90質量%、特に好ましくは60〜80質量%である。   The content ratio of the structural unit (a1) is preferably 50% by mass or more, more preferably 50 to 99% by mass, and still more preferably 55 to 90% by mass, based on all the structural units of the (A1) acrylic polymer. Especially preferably, it is 60-80 mass%.

(構成単位(a2))
構成単位(a2)を構成する官能基含有モノマーとしては、上述の構成単位(x2)を構成する官能基含有モノマーと同様のものが挙げられ、例えば、ヒドロキシ基含有モノマー、カルボキシ基含有モノマー、エポキシ基含有モノマー、アミノ基含有モノマー、シアノ基含有モノマー、ケト基含有モノマー、窒素原子含有環を有するモノマー、アルコキシシリル基含有モノマー等が挙げられる。
これらの官能基含有モノマーは、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの中でも、ヒドロキシ基含有モノマーが好ましい。
(Structural unit (a2))
Examples of the functional group-containing monomer constituting the structural unit (a2) include the same functional group-containing monomers as those constituting the structural unit (x2). For example, a hydroxy group-containing monomer, a carboxy group-containing monomer, an epoxy Examples thereof include a group-containing monomer, an amino group-containing monomer, a cyano group-containing monomer, a keto group-containing monomer, a monomer having a nitrogen atom-containing ring, and an alkoxysilyl group-containing monomer.
These functional group-containing monomers may be used alone or in combination of two or more.
Of these, hydroxy group-containing monomers are preferred.

ヒドロキシ基含有モノマーとしては、構成単位(x2)を構成するヒドロキシ基含有モノマーとして例示したものが挙げられるが、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートが好ましい。   Examples of the hydroxy group-containing monomer include those exemplified as the hydroxy group-containing monomer constituting the structural unit (x2), and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate is preferable.

カルボキシ基含有モノマーとしては、構成単位(x2)を構成するカルボキシ基含有モノマーとして例示したものが挙げられる。
カルボキシ基含有モノマーを用いることで、(A1)アクリル系重合体にカルボキシ基が導入され、保護膜形成用フィルムが、(B)硬化性成分として、エネルギー線硬化性成分を含有する場合に、(B)成分と(A)成分との相溶性が向上する。
As a carboxy group containing monomer, what was illustrated as a carboxy group containing monomer which comprises a structural unit (x2) is mentioned.
By using a carboxy group-containing monomer, when a carboxyl group is introduced into the (A1) acrylic polymer and the protective film-forming film contains an energy ray curable component as the (B) curable component, ( The compatibility between the component (B) and the component (A) is improved.

なお、後述する(B)硬化性成分として、エポキシ系熱硬化性成分を用いる場合には、カルボキシ基とエポキシ系熱硬化性成分中のエポキシ基が反応してしまうため、カルボキシ基含有モノマー由来の構造単位の含有量は少ないことが好ましい。
(B)硬化性成分として、エポキシ系熱硬化性成分を用いる場合、カルボキシ基含有モノマー由来の構造単位の含有量は、(A1)アクリル系重合体の全構成単位に対して、好ましくは0〜10質量%、より好ましくは0〜5質量%、更に好ましくは0〜2質量%、特に好ましくは0質量%である。
In addition, when using an epoxy-type thermosetting component as (B) curable component mentioned later, since the carboxy group and the epoxy group in an epoxy-type thermosetting component will react, it originates in a carboxy-group containing monomer. The content of structural units is preferably small.
(B) When using an epoxy thermosetting component as the curable component, the content of the structural unit derived from the carboxy group-containing monomer is preferably 0 to the total structural unit of the (A1) acrylic polymer. 10 mass%, More preferably, it is 0-5 mass%, More preferably, it is 0-2 mass%, Most preferably, it is 0 mass%.

エポキシ基含有モノマーとしては、構成単位(x2)を構成するエポキシ基含有モノマーとして例示したものが挙げられるが、エポキシ基含有(メタ)アクリル酸エステルが好ましく、グリシジル(メタ)アクリレートがより好ましい。   Examples of the epoxy group-containing monomer include those exemplified as the epoxy group-containing monomer constituting the structural unit (x2). Epoxy group-containing (meth) acrylic acid esters are preferable, and glycidyl (meth) acrylate is more preferable.

(A1)アクリル系重合体を構成する構成単位に、エポキシ基含有モノマー由来の構成単位が含まれると、保護膜形成用フィルムから形成される保護膜のグロス値を上昇させることができ、保護膜のレーザーマーキング適性を向上させることができる。
エポキシ基含有モノマー由来の構成単位の含有割合は、保護膜形成用フィルムから形成される保護膜のグロス値を上昇させる観点、及び、本発明の複合シートを用いて得られるチップの信頼性を良好とする観点から、(A1)アクリル系重合体の全構成単位に対して、好ましくは1〜30質量%、より好ましくは5〜27質量%、更に好ましくは10〜24質量%である。
(A1) When the structural unit constituting the acrylic polymer contains a structural unit derived from an epoxy group-containing monomer, the gloss value of the protective film formed from the protective film-forming film can be increased. The laser marking aptitude can be improved.
The content ratio of the structural unit derived from the epoxy group-containing monomer is good in terms of increasing the gloss value of the protective film formed from the protective film-forming film and the reliability of the chip obtained by using the composite sheet of the present invention. (A1) Preferably it is 1-30 mass% with respect to all the structural units of an acryl-type polymer, More preferably, it is 5-27 mass%, More preferably, it is 10-24 mass%.

構成単位(a2)の含有量は、(A1)アクリル系重合体の全構成単位に対して、好ましくは1〜50質量%、より好ましくは5〜45質量%、更に好ましくは10〜40質量%、特に好ましくは20〜40質量%である。   The content of the structural unit (a2) is preferably 1 to 50% by mass, more preferably 5 to 45% by mass, and still more preferably 10 to 40% by mass with respect to all the structural units of the (A1) acrylic polymer. Especially preferably, it is 20-40 mass%.

(その他のモノマー由来の構成単位)
なお、(A1)アクリル系重合体は、本発明の効果を損なわない範囲において、上記の構成単位(a1)及び(a2)以外のその他のモノマー由来の構成単位を有していてもよい。
その他のモノマーとしては、例えば、酢酸ビニル、スチレン、エチレン、α−オレフィン等が挙げられる。
(Constitutional units derived from other monomers)
In addition, (A1) acrylic polymer may have structural units derived from other monomers other than the structural units (a1) and (a2) as long as the effects of the present invention are not impaired.
Examples of other monomers include vinyl acetate, styrene, ethylene, α-olefin and the like.

((A2)非アクリル系重合体)
保護膜形成用フィルムには、必要に応じて、上述の(A1)アクリル系重合体以外の樹脂成分として、(A2)非アクリル系重合体を含有してもよい。
(A2)非アクリル系重合体としては、例えば、ポリエステル、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテル、ポリウレタン、ポリシロキサン、ゴム系重合体等が挙げられる。
(A2)非アクリル系重合体は、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
((A2) non-acrylic polymer)
The protective film-forming film may contain (A2) a non-acrylic polymer as a resin component other than the above-described (A1) acrylic polymer, if necessary.
Examples of (A2) non-acrylic polymers include polyesters, phenoxy resins, polycarbonates, polyethers, polyurethanes, polysiloxanes, rubber polymers, and the like.
(A2) A non-acrylic polymer may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

(A2)非アクリル系重合体の重量平均分子量としては、好ましくは2万以上、より好ましくは2万〜10万、更に好ましくは2万〜8万である。   (A2) The weight average molecular weight of the non-acrylic polymer is preferably 20,000 or more, more preferably 20,000 to 100,000, and still more preferably 20,000 to 80,000.

(A2)非アクリル系重合体は、単独で用いてもよいが、上述の(A1)アクリル系重合体と併用することで、粘着シートと保護膜形成用フィルムとの層間剥離を容易に行うことができ、ボイド等の発生を抑えることができる。
(A2)非アクリル系重合体を、上述の(A1)アクリル系重合体と併用する場合、(A2)非アクリル系重合体と(A1)アクリル系重合体(A1)との質量比〔(A2)/(A1)〕は、上記観点から、好ましくは1/99〜60/40、より好ましくは1/99〜30/70である。
(A2) The non-acrylic polymer may be used alone, but it can be easily separated from the pressure-sensitive adhesive sheet and the protective film-forming film by using in combination with the above-mentioned (A1) acrylic polymer. And generation of voids can be suppressed.
When the (A2) non-acrylic polymer is used in combination with the above-described (A1) acrylic polymer, the mass ratio of (A2) non-acrylic polymer to (A1) acrylic polymer (A1) [(A2 ) / (A1)] is preferably 1/99 to 60/40, more preferably 1/99 to 30/70 from the above viewpoint.

なお、(A1)アクリル系重合体を構成する構成単位に、エポキシ基含有モノマー由来の構成単位が含まれる場合の(A1)アクリル系重合体や、エポキシ基を有するフェノキシ樹脂は、熱硬化性を有しているが、これらは(B)硬化性成分ではなく、(A)重合体成分の概念に含まれるものとする。   In addition, the (A1) acrylic polymer and the phenoxy resin having an epoxy group in the case where the structural unit constituting the (A1) acrylic polymer includes a structural unit derived from an epoxy group-containing monomer has thermosetting properties. However, these are not (B) curable components, but are included in the concept of (A) polymer components.

[(B)硬化性成分]
(B)硬化性成分は、保護膜形成用フィルムを硬化させて、硬質の保護膜を形成する役割を担うものであり、重量平均分子量が20000未満の化合物である。
(B)硬化性成分として、熱硬化性成分(B1)及び/又はエネルギー線硬化性成分(B2)を用いることが好ましく、保護膜形成用フィルムから形成される保護膜の着色を抑える観点、硬化反応を十分に進行させる観点、並びに、コスト低減の観点から、少なくとも熱硬化性成分(B1)を用いることがより好ましい。
熱硬化性成分(B1)としては、少なくとも加熱により反応する官能基を有する化合物を含有することが好ましい。
また、エネルギー線硬化性成分(B2)は、エネルギー線照射により反応する官能基を有する化合物(B21)を含有し、紫外線、電子線等のエネルギー線の照射を受けると重合硬化する。
これらの硬化性成分が有する官能基同士が反応し、三次元網目構造が形成されることにより硬化が実現される。
(B)硬化性成分の重量平均分子量(Mw)は、(A)成分と組み合わせて用いることで、保護膜形成用フィルムを形成する組成物の粘度を抑制し、取り扱い性を向上させる等の観点から、好ましくは20000未満、より好ましくは10000以下、更に好ましくは100〜10000である。
[(B) Curing component]
(B) The curable component plays a role of curing a protective film-forming film to form a hard protective film, and is a compound having a weight average molecular weight of less than 20000.
(B) It is preferable to use a thermosetting component (B1) and / or an energy ray curable component (B2) as the curable component, and from the viewpoint of suppressing coloring of the protective film formed from the protective film-forming film, curing It is more preferable to use at least the thermosetting component (B1) from the viewpoint of sufficiently proceeding the reaction and from the viewpoint of cost reduction.
The thermosetting component (B1) preferably contains at least a compound having a functional group that reacts by heating.
The energy ray-curable component (B2) contains a compound (B21) having a functional group that reacts by irradiation with energy rays, and is polymerized and cured when irradiated with energy rays such as ultraviolet rays and electron beams.
Curing is realized by the functional groups of these curable components reacting to form a three-dimensional network structure.
(B) The weight average molecular weight (Mw) of the curable component is used in combination with the component (A), thereby suppressing the viscosity of the composition forming the protective film-forming film and improving the handleability. Therefore, it is preferably less than 20,000, more preferably 10,000 or less, and still more preferably 100 to 10,000.

(熱硬化性成分(B1))
熱硬化性成分(B1)としては、エポキシ系熱硬化性成分が好ましい。
エポキシ系熱硬化性成分は、エポキシ基を有する化合物(B11)と共に、熱硬化剤(B12)を組み合わせたものを用いることが好ましい。
(Thermosetting component (B1))
As the thermosetting component (B1), an epoxy thermosetting component is preferable.
As the epoxy thermosetting component, it is preferable to use a combination of a thermosetting agent (B12) together with a compound (B11) having an epoxy group.

エポキシ基を有する化合物(B11)(以下、「エポキシ化合物(B11)」ともいう)としては、例えば、多官能系エポキシ樹脂、ビスフェノールAジグリシジルエーテル及びその水添物、オルソクレゾールノボラックエポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェニレン骨格型エポキシ樹脂等の、反応性を有する官能基を1分子中に2個以上有するエポキシ化合物等が挙げられる。
これらのエポキシ化合物(B11)は、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of the compound having an epoxy group (B11) (hereinafter, also referred to as “epoxy compound (B11)”) include polyfunctional epoxy resins, bisphenol A diglycidyl ether and hydrogenated products thereof, orthocresol novolac epoxy resins, diesters. Epoxy compounds having two or more functional groups in a molecule such as cyclopentadiene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenylene skeleton type epoxy resin, etc. Can be mentioned.
These epoxy compounds (B11) may be used alone or in combination of two or more.

保護膜形成用フィルムにおいて、エポキシ化合物(B11)の含有量は、(A)成分100質量部に対して、好ましくは1〜500質量部、より好ましくは3〜300質量部、更に好ましくは10〜150質量部、特に好ましくは20〜120質量部である。   In the protective film-forming film, the content of the epoxy compound (B11) is preferably 1 to 500 parts by mass, more preferably 3 to 300 parts by mass, and still more preferably 10 to 100 parts by mass of the component (A). 150 parts by mass, particularly preferably 20 to 120 parts by mass.

(熱硬化剤(B12))
熱硬化剤(B12)は、エポキシ化合物(B11)に対する硬化剤として機能する。
熱硬化剤としては、1分子中にエポキシ基と反応し得る官能基を2個以上有する化合物が好ましい。
前記官能基としてはフェノール性水酸基、アルコール性水酸基、アミノ基、カルボキシル基、酸基が無水物化された基等が挙げられる。これらの中でも、フェノール性水酸基、アミノ基、又は酸基が無水物化された基が好ましく、フェノール性水酸基又はアミノ基がより好ましく、アミノ基が更に好ましい。
(Thermosetting agent (B12))
The thermosetting agent (B12) functions as a curing agent for the epoxy compound (B11).
As a thermosetting agent, the compound which has 2 or more of functional groups which can react with an epoxy group in 1 molecule is preferable.
Examples of the functional group include a phenolic hydroxyl group, an alcoholic hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, and a group in which an acid group has been anhydrideized. Among these, a phenolic hydroxyl group, an amino group, or a group in which an acid group has been anhydrideized is preferable, a phenolic hydroxyl group or an amino group is more preferable, and an amino group is still more preferable.

フェノール性水酸基を有するフェノール系熱硬化剤としては、例えば、多官能系フェノール樹脂、ビフェノール、ノボラック型フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン系フェノール樹脂、ザイロック型フェノール樹脂、アラルキルフェノール樹脂等が挙げられる。
アミノ基を有するアミン系熱硬化剤としては、例えば、ジシアンジアミド(DICY)等が挙げられる。
Examples of the phenol-based thermosetting agent having a phenolic hydroxyl group include polyfunctional phenol resins, biphenols, novolac-type phenol resins, dicyclopentadiene-type phenol resins, zyloc-type phenol resins, and aralkyl phenol resins.
Examples of the amine-based thermosetting agent having an amino group include dicyandiamide (DICY).

熱硬化剤(B12)は、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   A thermosetting agent (B12) may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

保護膜形成用フィルムにおいて、熱硬化剤(B12)の含有量は、エポキシ化合物(B11)100質量部に対して、好ましくは0.1〜500質量部、より好ましくは1〜200質量部、である。   In the protective film-forming film, the content of the thermosetting agent (B12) is preferably 0.1 to 500 parts by mass, more preferably 1 to 200 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the epoxy compound (B11). is there.

(硬化促進剤(B13))
保護膜形成用フィルムは、その熱硬化の速度を調整するために、硬化促進剤(B13)を含んでもよい。硬化促進剤(B13)は、熱硬化性成分(B1)として、エポキシ化合物(B11)と併用することが好ましい。
(Curing accelerator (B13))
The protective film-forming film may contain a curing accelerator (B13) in order to adjust the rate of thermal curing. The curing accelerator (B13) is preferably used in combination with the epoxy compound (B11) as the thermosetting component (B1).

硬化促進剤(B13)としては、例えば、トリエチレンジアミン、ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール等の3級アミン類;2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール等のイミダゾール類;トリブチルホスフィン、ジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン等の有機ホスフィン類;テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリフェニルホスフィンテトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩等が挙げられる。
これらの硬化促進剤(B13)は、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of the curing accelerator (B13) include tertiary amines such as triethylenediamine, benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, and tris (dimethylaminomethyl) phenol; 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, Imidazoles such as 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole; tributylphosphine, diphenylphosphine, triphenylphosphine, etc. Organic phosphines; tetraphenyl boron salts such as tetraphenylphosphonium tetraphenylborate and triphenylphosphine tetraphenylborate.
These curing accelerators (B13) may be used alone or in combination of two or more.

保護膜形成用フィルムにおいて、硬化促進剤(B13)の含有量は、保護膜形成用フィルムから形成される保護膜の接着性の向上の観点、及び複合シートを用いて製造される保護膜付きチップの信頼性の向上の観点から、エポキシ化合物(B11)及び熱硬化剤(B12)の合計量100質量部に対して、好ましくは0.01〜10質量部、より好ましくは0.1〜6質量部、更に好ましくは0.3〜4質量部である。   In the protective film-forming film, the content of the curing accelerator (B13) is selected from the viewpoints of improving the adhesion of the protective film formed from the protective film-forming film, and the chip with the protective film manufactured using the composite sheet From the viewpoint of improving the reliability of the epoxy compound (B11) and the thermosetting agent (B12), the total amount of 100 parts by mass is preferably 0.01 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 6 parts by mass. Part, more preferably 0.3 to 4 parts by weight.

(エネルギー線硬化性成分(B2))
エネルギー線硬化性成分(B2)としては、エネルギー線照射により反応する官能基を有する化合物(B21)を単独で用いてもよいが、化合物(B21)と共に、光重合開始剤(B22)を組み合わせて用いることが好ましい。
(Energy ray curable component (B2))
As the energy ray-curable component (B2), the compound (B21) having a functional group that reacts by irradiation with energy rays may be used alone, but the photopolymerization initiator (B22) is combined with the compound (B21). It is preferable to use it.

(エネルギー線照射により反応する官能基を有する化合物(B21))
エネルギー線照射により反応する官能基を有する化合物(B21)(以下、「エネルギー線反応性化合物(B21)」ともいう)としては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、1,4−ブチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、オリゴエステルアクリレート、ウレタンアクリレート系オリゴマー、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレート、イタコン酸オリゴマー等が挙げられる。
これらのエネルギー線反応性化合物(B21)は、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
なお、エネルギー線反応性化合物(B21)の重量平均分子量(Mw)は、好ましくは100〜30000、より好ましくは300〜10000である。
(Compound (B21) having a functional group that reacts upon irradiation with energy rays)
Examples of the compound (B21) having a functional group that reacts upon irradiation with energy rays (hereinafter, also referred to as “energy ray-reactive compound (B21)”) include trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate. , Dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, 1,4-butylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, oligoester acrylate, urethane acrylate oligomer, epoxy acrylate, polyether acrylate, itacon Examples include acid oligomers.
These energy beam reactive compounds (B21) may be used alone or in combination of two or more.
In addition, the weight average molecular weight (Mw) of an energy-beam reactive compound (B21) becomes like this. Preferably it is 100-30000, More preferably, it is 300-10000.

保護膜形成用フィルムにおいて、エネルギー線反応性化合物(B21)の含有量は、(A)成分100質量部に対して、好ましくは1〜1500質量部、より好ましくは3〜1200質量部である。   In the protective film-forming film, the content of the energy ray-reactive compound (B21) is preferably 1 to 1500 parts by mass, more preferably 3 to 1200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A).

(光重合開始剤(B22))
上述のエネルギー線反応性化合物(B21)と共に、光重合開始剤(B22)を併用することで、重合硬化時間を短くし、光線照射量を少なくても、保護膜形成用フィルムの硬化を進行させることができる。
光重合開始剤(B22)としては、前記粘着剤組成物における光重合開始剤と同じものが挙げられる。
保護膜形成用フィルムにおいて、光重合開始剤(B22)の含有量は、硬化反応を十分に進行させると共に、残留物の生成を抑える観点から、エネルギー線反応性化合物(B21)100質量部に対して、好ましくは0.1〜10質量部、より好ましくは1〜5質量部である。
(Photopolymerization initiator (B22))
By using the photopolymerization initiator (B22) together with the energy ray-reactive compound (B21) described above, the curing of the protective film-forming film is advanced even if the polymerization curing time is shortened and the amount of light irradiation is small. be able to.
As a photoinitiator (B22), the same thing as the photoinitiator in the said adhesive composition is mentioned.
In the protective film-forming film, the content of the photopolymerization initiator (B22) is based on 100 parts by mass of the energy ray-reactive compound (B21) from the viewpoint of sufficiently promoting the curing reaction and suppressing the formation of a residue. The amount is preferably 0.1 to 10 parts by mass, more preferably 1 to 5 parts by mass.

(B)硬化性成分の含有量は、保護膜形成用フィルムの全量(100質量%)に対して、好ましくは5〜50質量%、より好ましくは8〜40質量%、更に好ましくは10〜30質量%、特に好ましくは12〜25質量%である。
なお、(B)硬化性成分の含有量は、上述のエポキシ化合物(B11)、熱硬化剤(B12)、及び硬化促進剤(B13)を含む熱硬化性成分(B1)、並びに、エネルギー線反応性化合物(B21)、及び光重合開始剤(B22)を含むエネルギー線硬化性成分(B2)の合計含有量である。
(B) Content of a sclerosing | hardenable component becomes like this. Preferably it is 5-50 mass% with respect to the whole quantity (100 mass%) of the film for protective film formation, More preferably, it is 8-40 mass%, More preferably, it is 10-30. % By mass, particularly preferably 12 to 25% by mass.
In addition, content of (B) curable component is the thermosetting component (B1) containing the above-mentioned epoxy compound (B11), thermosetting agent (B12), and hardening accelerator (B13), and energy beam reaction. It is the total content of the energy ray-curable component (B2) including the functional compound (B21) and the photopolymerization initiator (B22).

[(C)着色剤]
保護膜形成用フィルムは、さらに(C)着色剤を含むことが好ましい。
保護膜形成用フィルムが(C)着色剤を含むことで、保護膜形成用フィルムから形成される保護膜を有する半導体チップを機器に組み込んだ際、周囲の装置から発生する赤外線等を遮蔽して、半導体チップの誤作動を防止することができる。
[(C) Colorant]
The protective film-forming film preferably further contains (C) a colorant.
The protective film-forming film contains the colorant (C), so that when a semiconductor chip having a protective film formed from the protective film-forming film is incorporated in a device, it shields infrared rays generated from surrounding devices. It is possible to prevent malfunction of the semiconductor chip.

(C)着色剤としては、有機又は無機の顔料及び染料を用いることができる。
染料としては、例えば、酸性染料、反応染料、直接染料、分散染料、カチオン染料等が挙げられる。
顔料としては、特に制限されず、公知の顔料から適宜選択して用いることができる。
これらの中でも、電磁波や赤外線の遮蔽性が良好で、且つレーザーマーキング法による識別性をより向上させる観点から、黒色顔料が好ましい。
黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック、酸化鉄、二酸化マンガン、アニリンブラック、活性炭等が挙げられるが、半導体チップの信頼性を高める観点から、カーボンブラックが好ましい。
なお、これらの(C)着色剤は、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(C) As the colorant, organic or inorganic pigments and dyes can be used.
Examples of the dye include acid dyes, reactive dyes, direct dyes, disperse dyes, and cationic dyes.
The pigment is not particularly limited and can be appropriately selected from known pigments.
Among these, black pigments are preferable from the viewpoints of good shielding properties against electromagnetic waves and infrared rays, and further improving the discriminability by the laser marking method.
Examples of the black pigment include carbon black, iron oxide, manganese dioxide, aniline black, activated carbon, and the like. From the viewpoint of improving the reliability of the semiconductor chip, carbon black is preferable.
In addition, these (C) coloring agents may be used independently and may be used in combination of 2 or more type.

(C)着色剤の含有量は、保護膜形成用フィルムの全量(100質量%)に対して、好ましくは0.1〜30質量%、より好ましくは0.5〜25質量%、更に好ましくは1.0〜15質量%、特に好ましくは1.2〜5質量%である。   The content of (C) the colorant is preferably 0.1 to 30% by mass, more preferably 0.5 to 25% by mass, and still more preferably based on the total amount (100% by mass) of the protective film-forming film. It is 1.0-15 mass%, Most preferably, it is 1.2-5 mass%.

[(D)カップリング剤]
保護膜形成用フィルムは、さらに(D)カップリング剤を含むことが好ましい。
保護膜形成用フィルムが(D)カップリング剤を含むことで、保護膜形成用フィルム中のポリマー成分と、被着体である半導体チップ表面や充填材表面とを結合させて、接着性や凝集性を向上させることができる。また、保護膜形成用フィルムから形成される保護膜の耐熱性を損なうことなく、耐水性を向上させることもできる。
[(D) Coupling agent]
The protective film-forming film preferably further includes (D) a coupling agent.
When the protective film-forming film contains (D) a coupling agent, the polymer component in the protective film-forming film is bonded to the surface of the semiconductor chip or the filler, which is the adherend, so that adhesion or aggregation Can be improved. Moreover, water resistance can also be improved without impairing the heat resistance of the protective film formed from the protective film-forming film.

(D)カップリング剤としては、(A)成分や(B)成分が有する官能基と反応する化合物が好ましく、シランカップリング剤がより好ましい。
シランカップリング剤としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−(メタクリロキシプロピル)トリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−6−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−6−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、ビス(3−トリエトキシシリルプロピル)テトラスルファン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、イミダゾールシラン等が挙げられる。
これらの(D)カップリング剤は、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(D) As a coupling agent, the compound which reacts with the functional group which (A) component and (B) component have is preferable, and a silane coupling agent is more preferable.
Examples of the silane coupling agent include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ- (methacryloxy). Propyl) trimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-6- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-6- (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, N -Phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, bis (3-triethoxysilylpropyl) tetrasulfane, methyltri Methoxysilane , Methyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, imidazolesilane and the like.
These (D) coupling agents may be used alone or in combination of two or more.

(D)カップリング剤としては、オリゴマータイプのカップリング剤が好ましい。
オリゴマータイプのカップリング剤も含めた(D)カップリング剤の分子量としては、好ましくは100〜15000、より好ましくは150〜10000、更に好ましくは200〜5000、特に好ましくは250〜3000、最も好ましくは350〜2000である。
(D) As a coupling agent, an oligomer type coupling agent is preferable.
The molecular weight of the (D) coupling agent including the oligomer type coupling agent is preferably 100-15000, more preferably 150-10000, still more preferably 200-5000, particularly preferably 250-3000, most preferably 350-2000.

(D)カップリング剤の含有量は、保護膜形成用フィルムの全量(100質量%)に対して、好ましくは0.01〜10質量%、より好ましくは0.05〜7質量%、更に好ましくは0.10〜4質量%、特に好ましくは0.15〜2質量%である。   (D) The content of the coupling agent is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.05 to 7% by mass, and still more preferably based on the total amount (100% by mass) of the protective film-forming film. Is 0.10 to 4% by mass, particularly preferably 0.15 to 2% by mass.

[(E)無機充填材]
保護膜形成用フィルムは、さらに(E)無機充填材を含むことが好ましい。
保護膜形成用フィルムが(E)無機充填材を含むことで、保護膜形成用フィルムの硬化後の保護膜における熱膨張係数を適度な範囲に調整することが可能となり、半導体チップに対して硬化後の保護膜の熱膨張係数を最適化することで半導体装置の信頼性を向上させることができる。また、硬化後の保護膜の吸湿率を低減させることも可能となる。
[(E) Inorganic filler]
The protective film-forming film preferably further contains (E) an inorganic filler.
When the protective film-forming film contains the inorganic filler (E), it becomes possible to adjust the thermal expansion coefficient in the protective film after curing of the protective film-forming film to an appropriate range, and it is cured to the semiconductor chip. The reliability of the semiconductor device can be improved by optimizing the thermal expansion coefficient of the subsequent protective film. Moreover, it becomes possible to reduce the moisture absorption rate of the protective film after hardening.

(E)無機充填材としては、例えば、シリカ、アルミナ、タルク、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化鉄、炭化珪素、窒化ホウ素等の粉末、これらを球形化したビーズ、単結晶繊維及びガラス繊維等が挙げられる。
これらの(E)無機充填材は、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらの中でも、(E)無機充填材としては、シリカ又はアルミナが好ましい。
Examples of the inorganic filler (E) include powders such as silica, alumina, talc, calcium carbonate, titanium oxide, iron oxide, silicon carbide, and boron nitride, beads formed by spheroidizing them, single crystal fibers, and glass fibers. Can be mentioned.
These (E) inorganic fillers may be used alone or in combination of two or more.
Among these, as the (E) inorganic filler, silica or alumina is preferable.

(E)無機充填材の平均粒径としては、保護膜形成用フィルムから形成される保護膜のグロス値を向上させる観点から、好ましくは0.3〜50μm、より好ましくは0.5〜30μm、更に好ましくは0.7〜10μmである。
なお、本発明において、(E)無機充填材の平均粒径は、レーザー回折散乱式粒度分布測定装置を用いて測定した値を意味する。
(E) The average particle size of the inorganic filler is preferably 0.3 to 50 μm, more preferably 0.5 to 30 μm, from the viewpoint of improving the gloss value of the protective film formed from the protective film-forming film. More preferably, it is 0.7-10 micrometers.
In the present invention, the average particle diameter of the (E) inorganic filler means a value measured using a laser diffraction / scattering particle size distribution analyzer.

(E)無機充填材の含有量は、保護膜形成用フィルムの全量(100質量%)に対して、好ましくは25〜80質量%、より好ましくは30〜70質量%、更に好ましくは40〜65質量%、特に好ましくは45〜60質量%である。   (E) The content of the inorganic filler is preferably 25 to 80% by mass, more preferably 30 to 70% by mass, and still more preferably 40 to 65% with respect to the total amount (100% by mass) of the protective film-forming film. % By mass, particularly preferably 45 to 60% by mass.

[(F)汎用添加剤]
保護膜形成用フィルムは、上記の他に、必要に応じて各種の(F)汎用添加剤が配合されてなるものでもよい。
(F)汎用添加剤としては、架橋剤、レベリング剤、可塑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、イオン捕捉剤、ゲッタリング剤、連鎖移動剤等が挙げられる。
[(F) General-purpose additive]
In addition to the above, the protective film-forming film may contain various (F) general-purpose additives as required.
(F) General-purpose additives include crosslinking agents, leveling agents, plasticizers, antistatic agents, antioxidants, ion scavengers, gettering agents, chain transfer agents, and the like.

<保護膜形成用フィルムの製造方法>
保護膜形成用フィルムの製造方法としては、特に制限はなく、公知の方法により製造することができる。例えば、上述の各成分を含む原料組成物に、有機溶媒を加えて、原料組成物の溶液の形態とし、前記溶液を上述の剥離シート上に公知の塗布方法により塗布して塗膜を形成した後、この塗膜を乾燥させて、剥離シート上に保護膜形成用フィルムを形成し製造することができる。
<Method for producing protective film-forming film>
There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the film for protective film formation, It can manufacture by a well-known method. For example, an organic solvent is added to the raw material composition containing the above-described components to form a raw material composition solution, and the coating solution is formed on the release sheet by a known coating method to form a coating film. Then, this coating film can be dried, and the film for protective film formation can be formed and manufactured on a peeling sheet.

使用する有機溶媒としては、トルエン、酢酸エチル、メチルエチルケトン等が挙げられる。
有機溶媒を配合した場合の原料組成物の溶液の固形分濃度は、好ましくは10〜80質量%、より好ましくは20〜70質量%、更に好ましくは30〜65質量%である。
塗布方法としては、例えば、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ロールナイフコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等が挙げられる。
Examples of the organic solvent to be used include toluene, ethyl acetate, methyl ethyl ketone and the like.
The solid content concentration of the raw material composition solution when an organic solvent is blended is preferably 10 to 80% by mass, more preferably 20 to 70% by mass, and still more preferably 30 to 65% by mass.
Examples of the coating method include spin coating, spray coating, bar coating, knife coating, roll coating, roll knife coating, blade coating, die coating, and gravure coating.

本発明の複合シートが有する保護膜形成用フィルムは、単層であってもよく、2層以上の多層構造であってもよい。
保護膜形成用フィルムの厚さは特に限定されないが、好ましくは3〜300μm、より好ましくは5〜250μm、更に好ましくは7〜200μmであり、保護膜形成用フィルムが多層の構成である場合も、合計の厚さが前記範囲であることが好ましい。
The protective film-forming film of the composite sheet of the present invention may be a single layer or a multilayer structure of two or more layers.
The thickness of the protective film-forming film is not particularly limited, but is preferably 3 to 300 μm, more preferably 5 to 250 μm, still more preferably 7 to 200 μm, and even when the protective film forming film has a multilayer structure, The total thickness is preferably in the above range.

〔保護膜形成用複合シートの物性、用途〕
本発明の複合シートは、上述の粘着シートの粘着剤層と、保護膜形成用フィルムとを貼り合せることで製造することができる。
[Physical properties and application of composite sheet for protective film formation]
The composite sheet of this invention can be manufactured by bonding the adhesive layer of the above-mentioned adhesive sheet and the protective film-forming film.

本発明の複合シートの保護膜形成用フィルムは、硬化させることで、被着体の保護膜となる。保護膜形成用フィルムは、フェースダウン方式のチップ用半導体ウエハや半導体チップ等のワークの裏面に貼付され、適当な手段により硬化されて封止樹脂の代替として、半導体ウエハや半導体チップ等のワークの裏面を保護する機能を有する。例えば、半導体ウエハに貼付した場合には、保護膜がウエハを補強する機能を有するためにウエハの破損等を防止し得る。   The protective film-forming film of the composite sheet of the present invention is cured to become a protective film for the adherend. The protective film-forming film is affixed to the back side of a workpiece such as a semiconductor wafer or semiconductor chip for a face-down chip and cured by an appropriate means to replace the sealing resin. It has a function to protect the back surface. For example, when affixed to a semiconductor wafer, the protective film has a function of reinforcing the wafer, so that damage to the wafer can be prevented.

また、本発明の複合シートは、ブレードダイシングする際に半導体ウエハ等のワークを固定するためのシート(すなわちダイシングシート)として使用でき、別途ダイシングシートを貼り合せてダイシングをする必要がなくなり、半導体装置の製造工程を簡略化できる。
他に、本発明の複合シートは、いわゆる先ダイシング法(半導体ウエハに回路面側から、得ようとするチップの厚さよりも深い溝を形成し、少なくとも溝に達するまで半導体ウエハの裏面側から薄化処理を行うことで、チップ群を得る方法)においても使用でき、個片化されたチップ群に貼付して用いてもよい。
Further, the composite sheet of the present invention can be used as a sheet for fixing a workpiece such as a semiconductor wafer (ie, a dicing sheet) when blade dicing, and it is not necessary to separately dice the dicing sheet and dice the semiconductor device. The manufacturing process can be simplified.
In addition, the composite sheet of the present invention is formed by a so-called tip dicing method (a groove deeper than the thickness of the chip to be obtained is formed on the semiconductor wafer from the circuit surface side, and is thinned from the back surface side of the semiconductor wafer at least until the groove is reached. Can be used in a method of obtaining a chip group by carrying out the separation process, or may be used by being attached to a chip group separated into individual pieces.

本発明の保護膜形成用複合シートを用いた場合、前記保護膜形成用複合シートが有する保護膜形成用フィルムをワークに貼付した後、前記保護膜形成用複合シートから前記保護膜形成用フィルムを剥離せずに、130℃、2時間の条件下で、前記保護膜形成用フィルムを硬化させて形成した保護膜は、例えば、グロス値が30以上のものとなる。そして、本発明においては、さらにグロス値が高い前記保護膜を形成することが可能である。例えば、前記保護膜のグロス値を、好ましくは40以上、より好ましくは44以上とすることが可能である。   When the protective film-forming composite sheet of the present invention is used, after the protective film-forming film of the protective film-forming composite sheet is attached to a workpiece, the protective film-forming film is removed from the protective film-forming composite sheet. The protective film formed by curing the protective film-forming film under the conditions of 130 ° C. and 2 hours without peeling off has, for example, a gloss value of 30 or more. In the present invention, the protective film having a higher gloss value can be formed. For example, the gloss value of the protective film can be preferably 40 or more, more preferably 44 or more.

〔保護膜付きチップ〕
本発明の保護膜付きチップは、半導体チップ等のチップの裏面に、本発明の保護膜形成用複合シートが貼付され、前記複合シートの保護膜形成用フィルムを硬化してなる保護膜を有するものである。
なお、本発明の保護膜付きチップが有する保護膜は、完全に硬化されたものであってもよいし、一部が硬化されたものであってもよいが、完全に硬化されたものであることが好ましい。
[Chip with protective film]
The chip with protective film of the present invention has a protective film formed by affixing the protective film-forming composite sheet of the present invention to the back surface of a chip such as a semiconductor chip and curing the protective film-forming film of the composite sheet. It is.
The protective film of the chip with protective film of the present invention may be completely cured, or may be partially cured, but is completely cured. It is preferable.

本発明の保護膜付きチップについて、保護膜付きチップのチップがある側とは反対側から測定した保護膜のグロス値は、例えば、30以上であり、好ましくは40以上、より好ましくは44以上であり、また、好ましくは90以下である。前記グロス値が40以上であれば、レーザーマーキング適性に特に優れた保護膜付きチップとなり得る。
なお、保護膜付きチップの保護膜のグロス値は、後述の実施例のとおり、硬化処理を行い、保護膜を形成した、ダイシング前の保護膜付きワークを用いて測定してもよい。
保護膜付きチップのチップがある側とは反対側から測定した、保護膜付きチップの保護膜のグロス値と、保護膜付きワークがある側とは反対側から測定した、保護膜付きワークの保護膜のグロス値とは、ほぼ同じものと考えられる。
About the chip | tip with a protective film of this invention, the gross value of the protective film measured from the opposite side to the chip | tip side of the chip | tip with a protective film is 30 or more, for example, Preferably it is 40 or more, More preferably, it is 44 or more. Yes, and preferably 90 or less. When the gloss value is 40 or more, a chip with a protective film that is particularly excellent in laser marking suitability can be obtained.
In addition, you may measure the gloss value of the protective film of the chip | tip with a protective film using the workpiece | work with the protective film before dicing which performed the hardening process and formed the protective film like the below-mentioned Example.
Protecting workpieces with protective film measured from the side opposite to the side with the protective film tip, measured from the side opposite to the side with the protective film. The gross value of the film is considered to be almost the same.

フェースダウン方式で基材等の上に前記保護膜付きチップを実装することで、半導体装置を製造することができる。また、ダイパッド部又は別の半導体チップ等の他の部材上(チップ搭載部上)に、前記保護膜付きチップを接着することにより、半導体装置を製造することもできる。   A semiconductor device can be manufactured by mounting the chip with a protective film on a substrate or the like by a face-down method. Further, the semiconductor device can be manufactured by adhering the chip with the protective film on another member (on the chip mounting part) such as a die pad part or another semiconductor chip.

〔保護膜付きチップの製造方法〕
本発明の保護膜付きチップの製造方法としては、特に制限はないが、例えば、下記工程(1)〜(4)を有する、ブレードダイシングによる方法が好ましい。
工程(1):ワークの裏面に、本発明の保護膜形成用複合シートを貼付する工程
工程(2):ワークをダイシングする工程
工程(3):前記保護膜形成用複合シートの粘着シートを剥離せずに保護膜形成用フィルムを硬化させる工程
工程(4):工程(1)〜(3)を経て得られたダイシングされた保護膜付きワークをピックアップし、保護膜付きチップを得る工程
[Method of manufacturing chip with protective film]
Although there is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the chip | tip with a protective film of this invention, For example, the method by a blade dicing which has the following process (1)-(4) is preferable.
Step (1): Step of attaching the composite sheet for forming a protective film of the present invention to the back surface of the work Step (2): Step of dicing the work Step (3): Peeling the adhesive sheet of the composite sheet for forming the protective film Step (4) of curing the protective film forming film without picking up: Picking up the diced workpiece with protective film obtained through steps (1) to (3) to obtain a chip with protective film

なお、本発明の保護膜付きチップの製造方法においては、工程(2)及び(3)の順序
は問わず、工程(1)、(2)、(3)、(4)の順序で保護膜付きチップを製造してもよいし、工程(1)、(3)、(2)、(4)の順序で保護膜付きチップを製造してもよい。
In addition, in the manufacturing method of the chip | tip with a protective film of this invention, regardless of the order of process (2) and (3), it is protective film in order of process (1), (2), (3), (4). A chip with a protective film may be manufactured, or a chip with a protective film may be manufactured in the order of steps (1), (3), (2), and (4).

<工程(1)>
工程(1)では、半導体ウエハ等のワークの裏面に、本発明の複合シートの保護膜形成用フィルムを貼付し、保護膜形成用フィルム付きワークを得る工程である。
ここで、半導体ウエハは、シリコンウエハであってもよく、例えば、ガリウム・砒素等の化合物半導体ウエハであってもよい。また、半導体ウエハは、その表面に回路が形成されていると共に、裏面が適宜研削等され、厚さが50〜500μm程度とされたものであってもよい。
<Step (1)>
In the step (1), the protective film-forming film of the composite sheet of the present invention is attached to the back surface of the work such as a semiconductor wafer to obtain a work with the protective film-forming film.
Here, the semiconductor wafer may be a silicon wafer, for example, a compound semiconductor wafer such as gallium / arsenic. In addition, the semiconductor wafer may have a circuit formed on the front surface thereof and the back surface appropriately ground or the like to have a thickness of about 50 to 500 μm.

<工程(2)>
工程(2)では、ワークをダイシングし、ワーク表面に形成された回路ごとにダイシングし、ワークをチップに加工する工程である。
なお、本工程でダイシングを行う対象物であるワークは、工程(1)を経て得られた保護膜形成用フィルム付きワークであってもよいし、工程(1)の後、先に工程(3)を経て得られた保護膜付きワークであってもよい。
なお、ワークのダイシングは、公知の方法により行うことができる。
<Step (2)>
In the step (2), the work is diced, the circuit formed on the work surface is diced, and the work is processed into chips.
In addition, the workpiece | work with the film for protective film formation obtained through the process (1) may be sufficient as the workpiece | work which is the target object which carries out a dicing at this process, and after a process (1), a process (3) is preceded. It may be a workpiece with a protective film obtained through).
The workpiece dicing can be performed by a known method.

本工程において、本発明の複合シートは、粘着剤層と保護膜形成用フィルム(保護膜)との密着性に優れているため、粘着剤層と保護膜形成用フィルム(保護膜)との間に、切削水が浸入する現象を効果的に抑制することができる。そのため、本発明の保護膜付きチップの製造方法によれば、生産性を向上させながら、保護膜が切削水に汚染されていない保護膜付きチップを製造することができる。   In this step, the composite sheet of the present invention is excellent in adhesion between the pressure-sensitive adhesive layer and the protective film-forming film (protective film), and therefore between the pressure-sensitive adhesive layer and the protective film-forming film (protective film). In addition, the phenomenon that the cutting water enters can be effectively suppressed. Therefore, according to the method for manufacturing a chip with a protective film of the present invention, it is possible to manufacture a chip with a protective film in which the protective film is not contaminated with cutting water while improving the productivity.

ここで、工程(1)の後、本工程を経た場合には、ダイシングされた保護膜形成用フィルム付きワークが得られ、次の工程(3)にて、保護膜形成用フィルムを硬化させ、ダイシングされた保護膜付きワークとなる。
一方、工程(1)の後、工程(3)を経た場合、本工程にて、工程(3)で得られた保護膜付きワークをダイシングして、ダイシングされた保護膜付きワークとなる。
Here, after this step (1), when this step is performed, a diced workpiece with a protective film-forming film is obtained, and in the next step (3), the protective film-forming film is cured, The workpiece with a protective film is diced.
On the other hand, when the step (3) is passed after the step (1), the workpiece with the protective film obtained in the step (3) is diced in this step to obtain a diced workpiece with the protective film.

<工程(3)>
工程(3)では、前記保護膜形成用複合シートの粘着シートを剥離せずに保護膜形成用フィルムを硬化させて、硬化した保護膜を形成する工程である。
ワークに貼付された保護膜形成用複合シートの粘着シートが有する粘着剤層は、加熱時における流動性が低く保たれる。
そのため、本発明の製造方法においては、ワークに貼付された保護膜形成用複合シートの粘着シートを剥離せずに保護膜形成用フィルムを硬化させることで、熱を加えても粘着シートの粘着剤層の表面の平滑性が維持され、例えば上述のように、グロス値が40以上の保護膜を形成することもできる。
<Step (3)>
Step (3) is a step of forming a cured protective film by curing the protective film-forming film without peeling off the adhesive sheet of the protective film-forming composite sheet.
The pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive sheet of the protective film-forming composite sheet attached to the work is kept low in fluidity during heating.
Therefore, in the production method of the present invention, the pressure-sensitive adhesive of the pressure-sensitive adhesive sheet can be cured even if heat is applied by curing the film for forming a protective film without peeling off the pressure-sensitive adhesive sheet of the composite sheet for forming a protective film attached to the workpiece. The smoothness of the surface of the layer is maintained, and for example, as described above, a protective film having a gloss value of 40 or more can be formed.

保護膜形成用フィルムは、その中に含まれる硬化性成分の種類に応じて、加熱により、若しくはエネルギー線の照射により、又はその両方を行うことにより、硬化させることができる。ただし、保護膜形成用フィルムから形成される保護膜の着色を抑える観点、硬化反応を十分に進行させる観点、及び、コスト低減の観点から、少なくとも加熱により硬化させることが好ましい。
加熱により硬化を行う場合には、硬化温度は好ましくは100〜150℃であり、硬化時間は好ましくは1〜3時間である。
また、エネルギー線の照射により硬化を行う場合の硬化条件は、使用するエネルギー線の種類により適宜設定される。例えば、紫外線を用いる場合、照度は170〜250mw/cmが好ましく、光量は600〜1000mJ/cmが好ましい。
The protective film-forming film can be cured by heating, irradiation with energy rays, or both depending on the type of the curable component contained therein. However, it is preferable to cure at least by heating from the viewpoint of suppressing coloring of the protective film formed from the protective film-forming film, from the viewpoint of sufficiently proceeding the curing reaction, and from the viewpoint of cost reduction.
When curing is performed by heating, the curing temperature is preferably 100 to 150 ° C., and the curing time is preferably 1 to 3 hours.
Moreover, the curing conditions for curing by irradiation with energy rays are appropriately set depending on the type of energy rays to be used. For example, when ultraviolet rays are used, the illuminance is preferably 170~250mw / cm 2, light quantity is preferably 600~1000mJ / cm 2.

<工程(4)>
工程(4)では、工程(1)〜(3)を経て得られたダイシングされた保護膜付きワークをコレット等の汎用手段によりピックアップし、保護膜付きチップを得る工程である。
本工程を経ることで、個片化された、裏面に保護膜を有する半導体チップ(保護膜付きチップ)が得られる。
なお、一般的に、工程(3)で熱硬化を行った後に本工程を行う場合、ピックアップが困難になる傾向にある。それに対して、本発明の保護膜付きチップの製造方法においては、特定のエネルギー線硬化型アクリル共重合体を含む粘着剤組成物からなる粘着剤層を形成することで、ピックアップ適性が良好となり、保護膜付きチップの生産性を向上させることもできる。
<Process (4)>
In step (4), the diced workpiece with protective film obtained through steps (1) to (3) is picked up by a general-purpose means such as a collet to obtain a chip with protective film.
By passing through this process, the separated semiconductor chip (chip with a protective film) which has a protective film on the back surface is obtained.
In general, when this step is performed after thermosetting in step (3), pickup tends to be difficult. On the other hand, in the method for producing a chip with a protective film of the present invention, by forming a pressure-sensitive adhesive layer comprising a pressure-sensitive adhesive composition containing a specific energy ray-curable acrylic copolymer, the pickup suitability becomes good, The productivity of the chip with protective film can also be improved.

本発明の製造方法により得られる保護膜付きチップは、保護膜のグロス値を高くすることが可能であるため、レーザーマーキング適性に優れた保護膜付きチップとなり得る。
本発明の製造方法により得られる保護膜付きチップについて、保護膜付きチップのチップがある側とは反対側から測定した保護膜のグロス値は、例えば、30以上であり、好ましくは40以上、より好ましくは44以上である。
Since the chip with a protective film obtained by the production method of the present invention can increase the gloss value of the protective film, it can be a chip with a protective film excellent in laser marking suitability.
About the chip | tip with a protective film obtained by the manufacturing method of this invention, the gross value of the protective film measured from the opposite side to the chip | tip side of the chip | tip with a protective film is 30 or more, for example, Preferably it is 40 or more, more Preferably it is 44 or more.

以下、具体的実施例により、本発明についてより詳細に説明する。ただし、本発明は、以下に示す実施例に、何ら限定されるものではない。
以下の記載において、各成分の重量平均分子量(Mw)及びガラス転移温度(Tg)は、以下に示す方法により測定もしくは算出された値である。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples. However, the present invention is not limited to the following examples.
In the following description, the weight average molecular weight (Mw) and glass transition temperature (Tg) of each component are values measured or calculated by the method described below.

<重量平均分子量(Mw)>
ゲル浸透クロマトグラフ装置(東ソー株式会社製、製品名「HLC−8220GPC」)を用いて、下記の条件下で測定し、標準ポリスチレン換算にて測定した値を用いた。
(測定条件)
・カラム:「TSK guard column HXL−H」、「TSK gel GMHXL(×2)」、「TSK gel G2000HXL」(いずれも東ソー株式会社製)
・カラム温度:40℃
・展開溶媒:テトラヒドロフラン
・流速:1.0mL/min
<Weight average molecular weight (Mw)>
Using a gel permeation chromatograph (manufactured by Tosoh Corporation, product name “HLC-8220GPC”), measurement was performed under the following conditions, and values measured in terms of standard polystyrene were used.
(Measurement condition)
Column: “TSK guard column HXL-H”, “TSK gel GMHXL (× 2)”, “TSK gel G2000HXL” (all manufactured by Tosoh Corporation)
-Column temperature: 40 ° C
・ Developing solvent: Tetrahydrofuran ・ Flow rate: 1.0 mL / min

<ガラス転移温度(Tg)>
上述の式(1)により算出された値を用いた。
<Glass transition temperature (Tg)>
The value calculated by the above equation (1) was used.

[製造例1]
(保護膜形成用フィルムの作製)
(1)保護膜形成用フィルムの原料組成物の溶液の調製
下記(A)〜(F)成分を、下記に示す配合量で添加し、メチルエチルケトンで希釈して、固形分濃度61質量%の保護膜形成用フィルムの原料組成物の溶液を調製した。
<(A)重合体成分>
・n−ブチルアクリレート(BA)、メチルメタクリレート(MMA)、グリシジルメタクリレート(GMA)、及び2−ヒドロキシエチルアクリレート(HEA)からなるアクリル共重合体(BA/MMA/GMA/HEA=55/10/20/15(質量%)、重量平均分子量:90万、Tg:−28℃):100質量部(固形分比)。
<(B)硬化性成分>
・ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製、商品名「jER828」、エポキシ当量:180〜200、分子量:370(重量平均分子量が2万未満の化合物)):50質量部(固形分比)。
・ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂(DIC(株)製、商品名「エピクロンHP−7200HH」、重量平均分子量が2万未満の化合物。):50質量部(固形分比)。
・ジシアンジアミド(ADEKA(株)製、商品名「アデカハードナー3636AS」、アミン系硬化剤):2.8質量部(固形分比)。
・2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール(四国化成工業社製、商品名「キュアゾール2PHZ」、硬化促進剤):2.8質量部(固形分比)。
<(C)着色剤>
・カーボンブラック:10質量部(固形分比)。
<(D)カップリング剤>
・シランカップリング剤(日本ユニカー(株)、製商品名「A−1110」):1質量部(固形分比)。
<(E)無機充填材>
・溶融シリカ(平均粒径8μm):300質量部(固形分比)。
[Production Example 1]
(Preparation of protective film-forming film)
(1) Preparation of solution of raw material composition for protective film-forming film The following components (A) to (F) are added in the amounts shown below, diluted with methyl ethyl ketone, and a solid content concentration of 61% by mass is protected. A solution of the raw material composition of the film forming film was prepared.
<(A) Polymer component>
An acrylic copolymer (BA / MMA / GMA / HEA = 55/10/20) composed of n-butyl acrylate (BA), methyl methacrylate (MMA), glycidyl methacrylate (GMA), and 2-hydroxyethyl acrylate (HEA) / 15 (mass%), weight average molecular weight: 900,000, Tg: -28 ° C): 100 parts by mass (solid content ratio).
<(B) Curing component>
-Bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trade name “jER828”, epoxy equivalent: 180 to 200, molecular weight: 370 (compound having a weight average molecular weight of less than 20,000)): 50 parts by mass (solid content ratio) ).
Dicyclopentadiene type epoxy resin (manufactured by DIC Corporation, trade name “Epicron HP-7200HH”, compound having a weight average molecular weight of less than 20,000): 50 parts by mass (solid content ratio).
Dicyandiamide (trade name “ADEKA HARDNER 3636AS” manufactured by ADEKA Corporation, amine-based curing agent): 2.8 parts by mass (solid content ratio).
-2-Phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., trade name “Cureazole 2PHZ”, curing accelerator): 2.8 parts by mass (solid content ratio).
<(C) Colorant>
Carbon black: 10 parts by mass (solid content ratio).
<(D) Coupling agent>
Silane coupling agent (Nihon Unicar Co., Ltd., trade name “A-1110”): 1 part by mass (solid content ratio).
<(E) Inorganic filler>
-Fused silica (average particle size 8 μm): 300 parts by mass (solid content ratio).

(2)保護膜形成用フィルムの作製
調製した原料組成物の溶液を、剥離シート(リンテック社製、商品名「SP−PET3811」、厚さ:38μm)の剥離処理面上に、乾燥後の厚さが25μmとなるように塗布し、120℃で2分間の乾燥処理を行い、剥離シート上に保護膜形成用フィルムを形成した。
そして、この形成した保護膜形成用フィルム上に、他の剥離シート(リンテック社製、商品名「SP−PET381031」、厚さ:38μm)の剥離処理面を貼り合わせ、2枚の剥離シートで挟持された厚さ25μmの保護膜形成用フィルムを作製した。
(2) Production of protective film-forming film A solution of the prepared raw material composition was dried on the release-treated surface of a release sheet (trade name “SP-PET3811”, thickness: 38 μm, manufactured by Lintec Corporation). Was applied to a thickness of 25 μm and dried at 120 ° C. for 2 minutes to form a protective film-forming film on the release sheet.
Then, on this formed film for forming a protective film, a release treatment surface of another release sheet (product name “SP-PET381031”, thickness: 38 μm, manufactured by Lintec Corporation) is bonded, and sandwiched between two release sheets. A film for forming a protective film having a thickness of 25 μm was prepared.

[実施例1〜5、比較例1]
(1)粘着剤組成物の溶液の調製
表2に示す種類及び配合量の各成分を添加し、酢酸エチルで希釈して、固形分濃度24質量%の粘着剤組成物の溶液を調製した。各成分の詳細は、以下のとおりである。
[Examples 1 to 5, Comparative Example 1]
(1) Preparation of solution of pressure-sensitive adhesive composition Each component of the type and blending amount shown in Table 2 was added and diluted with ethyl acetate to prepare a pressure-sensitive adhesive composition solution having a solid content concentration of 24% by mass. Details of each component are as follows.

<アクリル共重合体>
表1に示す種類及び割合の原料モノマー由来のアクリル系ポリマーに対し、メタクリロイルオキシエチルアクリレートを表1に示す配合量で添加し、酢酸エチルを添加して酢酸エチル溶液とし、触媒としてジブチル錫ラウレートを用いて、25℃、常圧にて、24時間反応させて合成した、アクリル共重合体A1〜A6を用いた。
なお、表1中のTgは、アクリル系ポリマーのガラス転移温度であり、Mwは、メタクリロイルオキシエチルアクリレートと反応させて得られたアクリル共重合体A1〜A6の重量平均分子量を示す。また、アクリル共重合体A1〜A6は、メタクリロイル基を有するエネルギー線硬化型アクリル共重合体である。
<Acrylic copolymer>
Addition of methacryloyloxyethyl acrylate to the acrylic polymer derived from the raw material monomers of the types and proportions shown in Table 1 in the blending amounts shown in Table 1, ethyl acetate is added to form an ethyl acetate solution, and dibutyltin laurate is used as a catalyst. Acrylic copolymers A1 to A6 synthesized by reaction at 25 ° C. and normal pressure for 24 hours were used.
In Table 1, Tg is the glass transition temperature of the acrylic polymer, and Mw is the weight average molecular weight of acrylic copolymers A1 to A6 obtained by reacting with methacryloyloxyethyl acrylate. The acrylic copolymers A1 to A6 are energy ray curable acrylic copolymers having a methacryloyl group.

Figure 2017008255
Figure 2017008255

<光重合開始剤>
・イルガキュア184:商品名(「イルガキュア」は登録商標)、BASF社製、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン。
<架橋剤>
・BHS−8515:商品名、東洋インキ製造社製、トリレンジイソシアネート系化合物。
<Photopolymerization initiator>
Irgacure 184: trade name (“Irgacure” is a registered trademark), manufactured by BASF, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone.
<Crosslinking agent>
BHS-8515: trade name, manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd., a tolylene diisocyanate compound.

(2)粘着シートの作製
調製した粘着剤組成物の溶液を、剥離シート(リンテック社製、商品名「SP−PET3811」、厚さ:38μm)の剥離処理面上に、乾燥後の塗布量が10g/mとなるように塗布し、100℃で1分間の乾燥処理を行い、剥離シート上に粘着剤層を形成し、前記粘着剤層上に、基材として、厚さ100μmのポリプロピレンフィルム(三菱樹脂(株)製、商品名「CT265」)を積層した。
そして、剥離シート側から、紫外線照射装置(リンテック社製、製品名「RAD−20
00m/12」を用いて、紫外線(照度140mW/cm、光量510mJ/cm)を照射し、粘着剤層の全面を硬化させ、硬化領域を含む粘着剤層を有する粘着シートを作製した。
(2) Preparation of pressure-sensitive adhesive sheet A solution of the prepared pressure-sensitive adhesive composition was applied onto the release-treated surface of a release sheet (trade name “SP-PET3811”, thickness: 38 μm, manufactured by Lintec Corporation) and the coating amount after drying was It is applied so as to be 10 g / m 2, is dried at 100 ° C. for 1 minute, forms an adhesive layer on the release sheet, and has a thickness of 100 μm as a base material on the adhesive layer. (Mitsubishi Resin Co., Ltd., brand name "CT265") was laminated.
Then, from the release sheet side, an ultraviolet irradiation device (product name “RAD-20, manufactured by Lintec Corporation”).
00m / 12 "was irradiated with ultraviolet rays (illuminance 140 mW / cm 2 , light amount 510 mJ / cm 2 ) to cure the entire surface of the pressure-sensitive adhesive layer, and a pressure-sensitive adhesive sheet having a pressure-sensitive adhesive layer including a cured region was produced.

(3)保護膜形成用複合シートの作製
作製した粘着シートの剥離シートを除去し、粘着剤層を表出させた。さらに、製造例1で作製した保護膜形成用フィルムにおいて、挟持された2枚の剥離シートのうちの一方を除去して、保護膜形成用フィルムを表出させた。そして、粘着シートの表出させた粘着剤層の硬化領域上に、表出させた保護膜形成用フィルムを直接積層した後、残りの剥離シートも除去して、さらに保護膜形成用フィルムを表出させた。
一方、粘着層の両面に剥離シートを有する両面粘着テープ(リンテック社製、商品名「Adwill G−01DF」)において、直径245mmの円形状の部位を切って抜き出し、残った部位の両面粘着テープにおいて、一方の剥離シートを除去し、粘着層を表出させた。そして、上記の表出させた保護膜形成用フィルムの表面上に、この粘着層を積層して、リングフレーム部に貼付される治具接着層を形成した。
さらに、リングフレームに対する糊しろの外径(直径270mm)に合わせて、両面粘着テープの抜き取った円形状の部分と同心円となるように、上記で得られた積層体を円形状に型抜きし、図2(b)に示された構成を有する保護膜形成用複合シートを作製した。
(3) Preparation of protective sheet-forming composite sheet The release sheet of the produced pressure-sensitive adhesive sheet was removed to expose the pressure-sensitive adhesive layer. Furthermore, in the protective film-forming film produced in Production Example 1, one of the sandwiched two release sheets was removed to expose the protective film-forming film. Then, after directly laminating the exposed protective film-forming film on the cured area of the adhesive layer exposed on the adhesive sheet, the remaining release sheet is also removed to further display the protective film-forming film. I made it come out.
On the other hand, in a double-sided pressure-sensitive adhesive tape having a release sheet on both sides of the pressure-sensitive adhesive layer (product name “Adwill G-01DF”, manufactured by Lintec Corporation) One release sheet was removed, and the adhesive layer was exposed. And this adhesive layer was laminated | stacked on the surface of said exposed film for protective film formation, and the jig | tool adhesion layer stuck on a ring frame part was formed.
Furthermore, in accordance with the outer diameter (diameter 270 mm) of the margin for the ring frame, the laminated body obtained above is die-cut in a circular shape so as to be concentric with the circular part extracted from the double-sided adhesive tape, A composite sheet for forming a protective film having the configuration shown in FIG.

以上のようにして作製した保護膜形成用複合シートについて、下記方法により評価を行った。その評価結果を表2に示す。   The composite film for forming a protective film produced as described above was evaluated by the following method. The evaluation results are shown in Table 2.

(1)ダイシング時の切削水の浸入の有無
厚さ200μm、直径8インチ、#2000研磨を行ったシリコンウエハの研磨面と、実施例及び比較例で作製した保護膜形成用複合シートの保護膜形成用フィルムとを、粘着シート貼付装置(リンテック社製、製品名「Adwill RAD2700」)を用いて、70℃に加熱しながら貼付した。また、同時にリングフレームも貼付した。
そして、保護膜形成用複合シートを貼付したウエハを、130℃の加熱オーブンに2時間投入して、保護膜形成用フィルムを硬化させ、保護膜を形成した。
そして、ダイサー(ディスコ(株)製、製品名「DFD651」)を用いて、ブレード速度40mm/秒で、保護膜形成用複合シートの基材に15μmの深さまで切り込みが入るようにし、3mm×3mmのサイズのチップにウエハをダイシングした。
その後、切断部から保護膜と粘着剤層との間に、切削水の浸入がないかを目視で観察した。
表2には、上記の作業を30枚のウエハについて行った上で、上記の切削水の浸入がなかったウエハの枚数を記載している。
(1) Intrusion of cutting water during dicing Thickness 200 μm, diameter 8 inches, polished surface of silicon wafer subjected to # 2000 polishing, and protective film of protective film forming composite sheet prepared in Examples and Comparative Examples The film for formation was stuck while heating to 70 ° C. using an adhesive sheet sticking device (product name “Adwill RAD2700” manufactured by Lintec Corporation). At the same time, a ring frame was also attached.
And the wafer which stuck the composite sheet for protective film formation was thrown into the 130 degreeC heating oven for 2 hours, the film for protective film formation was hardened, and the protective film was formed.
Then, using a dicer (manufactured by Disco Corporation, product name “DFD651”), the base material of the composite sheet for protective film formation was cut to a depth of 15 μm at a blade speed of 40 mm / sec. The wafer was diced into chips of a size.
Then, it was observed visually whether there was infiltration of cutting water between a protective film and an adhesive layer from a cutting part.
Table 2 shows the number of wafers in which the above operation was performed on 30 wafers and the above cutting water did not enter.

(2)グロス値
#2000研磨したシリコンウエハ(直径200mm、厚さ280μm)の研磨面と、実施例及び比較例で作製した保護膜形成用複合シートの保護膜形成用フィルムとを、粘着シート貼付装置(リンテック社製、製品名「Adwill RAD−2700」)を用いて、70℃に加熱しながら貼付した。
そして、保護膜形成用複合シートを貼付したウエハを、130℃の加熱オーブンに2時間投入して、保護膜形成用フィルムを硬化させ、保護膜を形成し、形成した保護膜上の粘着シートを除去し、試験サンプルを作製した。
そして、光沢計(日本電色工業株式会社製、製品名「VG 2000」)を用いて、JIS Z 8741に準じ、試験サンプルのシリコンウエハがある側とは反対側から保護膜の表面の60度の鏡面光沢度を測定し、その測定値を保護膜のグロス値とした。
(2) Gloss value Adhesive sheet pasting the polished surface of # 2000 polished silicon wafer (diameter 200 mm, thickness 280 μm) and the protective film forming film of the protective film forming composite sheet prepared in Examples and Comparative Examples Using an apparatus (product name “Adwill RAD-2700”, manufactured by Lintec Corporation), it was attached while heating to 70 ° C.
Then, the wafer with the protective film-forming composite sheet attached is placed in a heating oven at 130 ° C. for 2 hours to cure the protective film-forming film, form a protective film, and attach the adhesive sheet on the formed protective film. Removed to make a test sample.
Then, using a gloss meter (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., product name “VG 2000”), according to JIS Z 8741, the surface of the protective film is 60 degrees from the side opposite to the side where the silicon wafer is present. The specular gloss was measured, and the measured value was taken as the gloss value of the protective film.

(3)レーザーマーキング適性
厚さ200μm、直径8インチ、#2000研磨を行ったシリコンウエハの研磨面と、実施例及び比較例で作製した保護膜形成用複合シートの保護膜形成用フィルムとを、粘着シート貼付装置(リンテック社製、製品名「Adwill RAD2700」)を用いて、70℃に加熱しながら貼付した。また、同時にリングフレームも貼付した。
そして、保護膜形成用複合シートを貼付したウエハを、130℃の加熱オーブンに2時間投入して、保護膜形成用フィルムを硬化させ、保護膜を形成した。
次に、レーザーマーカー(日立建機ファインテック(株)製、製品名「YAGレーザーマーカーLM5000」)を用いて、縦400μm、横200μmの文字を、粘着シートの基材側から保護膜に印字した。
そして、保護膜形成用複合シートの粘着シートを除去した後、保護膜に印字された文字を肉眼により観察し、下記の基準により評価した。
A:文字が鮮明である。
F:文字が不鮮明である。
(3) Laser marking suitability A thickness of 200 μm, a diameter of 8 inches, a polished surface of a silicon wafer subjected to # 2000 polishing, and a protective film forming film of a composite sheet for forming a protective film prepared in Examples and Comparative Examples, Using an adhesive sheet sticking device (product name “Adwill RAD2700” manufactured by Lintec Corporation), the sticking was performed while heating to 70 ° C. At the same time, a ring frame was also attached.
And the wafer which stuck the composite sheet for protective film formation was thrown into the 130 degreeC heating oven for 2 hours, the film for protective film formation was hardened, and the protective film was formed.
Next, using a laser marker (manufactured by Hitachi Construction Machinery Finetech Co., Ltd., product name “YAG Laser Marker LM5000”), characters of 400 μm length and 200 μm width were printed on the protective film from the base material side of the adhesive sheet. .
And after removing the adhesive sheet of the composite sheet for protective film formation, the characters printed on the protective film were observed with the naked eye and evaluated according to the following criteria.
A: Characters are clear.
F: Characters are unclear.

Figure 2017008255
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実施例1〜5の保護膜形成用複合シートを用いて保護膜付きチップを製造した際、ダイシング時に、保護膜と粘着剤層との間に切削水の浸入が見られなかった。
さらに、実施例1〜3の保護膜形成用複合シートを用いて製造した保護膜付きウエハのウエハがある側とは反対側から測定した保護膜のグロス値は、高い結果となった。そのため、実施例1〜3の保護膜形成用複合シートを用いて製造される保護膜付きチップのチップがある側とは反対側から測定した保護膜のグロス値も高く、前記保護膜付きチップはレーザーマーキング適性にも優れると考えられる。
一方、比較例1の保護膜形成用複合シートを用いて保護膜付きチップを製造した際には、保護膜と粘着剤層との間に切削水の浸入が見られた。
When manufacturing the chip | tip with a protective film using the composite sheet for protective film formation of Examples 1-5, the penetration | invasion of cutting water was not seen between the protective film and the adhesive layer at the time of dicing.
Furthermore, the gross value of the protective film measured from the opposite side of the wafer with the protective film manufactured using the protective film-forming composite sheets of Examples 1 to 3 was high. Therefore, the gloss value of the protective film measured from the side opposite to the side where the chip of the chip with protective film manufactured using the composite sheet for forming a protective film of Examples 1 to 3 is high, the chip with protective film is It is considered that the laser marking suitability is also excellent.
On the other hand, when a chip with a protective film was manufactured using the composite sheet for forming a protective film of Comparative Example 1, intrusion of cutting water was observed between the protective film and the adhesive layer.

本発明の保護膜形成用複合シートは、半導体チップの裏面を保護する保護膜の形成材料として好適である。   The composite sheet for forming a protective film of the present invention is suitable as a protective film forming material for protecting the back surface of the semiconductor chip.

1a,1b,1c,1d,2a,2b,2c・・・保護膜形成用複合シート(複合シート)
10,10a・・・粘着シート
11・・・基材
12・・・粘着剤層
12a・・・硬化領域
13・・・エネルギー線遮蔽層
20・・・保護膜形成用フィルム
31・・・治具接着層
41・・・治具接着用粘着剤層
1a, 1b, 1c, 1d, 2a, 2b, 2c ... Composite sheet for forming a protective film (composite sheet)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10,10a ... Adhesive sheet 11 ... Base material 12 ... Adhesive layer 12a ... Curing area 13 ... Energy ray shielding layer 20 ... Film for protective film formation 31 ... Jig Adhesive layer 41 ... Jig adhesive adhesive layer

Claims (12)

基材及び粘着剤層を有する粘着シートと、前記粘着剤層上に直接積層した保護膜形成用フィルムと、を有する保護膜形成用複合シートであって、
前記粘着剤層が、エネルギー線硬化型アクリル共重合体を含む粘着剤組成物から形成されてなる層であり、
前記エネルギー線硬化型アクリル共重合体が、官能基含有モノマー由来の構成単位(x2)を35質量%以下含むアクリル系ポリマー(X)に、エネルギー線重合性基を有する重合性化合物(Y)を反応させて得られる、エネルギー線重合性基を導入したアクリル共重合体であり、
前記エネルギー線硬化型アクリル共重合体の下記式(2)より算出されるαの値が28以下である、保護膜形成用複合シート。
式(2):α=〔P〕×〔Q〕×〔R〕/100
〔式(2)中、〔P〕は、アクリル系ポリマー(X)の全構成単位100質量部に対する、官能基含有モノマー由来の構成単位(x2)の含有割合を示す。〔Q〕は、アクリル系ポリマー(X)が有する前記官能基含有モノマー由来の官能基100当量に対する、重合性化合物(Y)の当量を示す。〔R〕は、重合性化合物(Y)が有するエネルギー線重合性基の基数を示す。〕
A protective film-forming composite sheet comprising a pressure-sensitive adhesive sheet having a substrate and a pressure-sensitive adhesive layer, and a protective film-forming film laminated directly on the pressure-sensitive adhesive layer,
The pressure-sensitive adhesive layer is a layer formed from a pressure-sensitive adhesive composition containing an energy ray curable acrylic copolymer,
The above-mentioned energy ray-curable acrylic copolymer is prepared by adding a polymerizable compound (Y) having an energy ray-polymerizable group to an acrylic polymer (X) containing 35% by mass or less of a functional group-containing monomer-derived structural unit (x2). It is an acrylic copolymer into which an energy beam polymerizable group is introduced, obtained by reaction,
The composite sheet for protective film formation whose value of (alpha) computed from following formula (2) of the said energy-beam curable acrylic copolymer is 28 or less.
Formula (2): α = [P] × [Q] × [R] / 100
[In Formula (2), [P] shows the content rate of the structural unit (x2) derived from a functional group containing monomer with respect to 100 mass parts of all the structural units of acrylic polymer (X). [Q] represents an equivalent amount of the polymerizable compound (Y) with respect to 100 equivalents of the functional group derived from the functional group-containing monomer of the acrylic polymer (X). [R] represents the number of energy ray polymerizable groups of the polymerizable compound (Y). ]
前記アクリル系ポリマー(X)が、メチルメタクリレート由来の構成単位(x1)を10質量%以上含む、請求項1に記載の保護膜形成用複合シート。   The composite sheet for forming a protective film according to claim 1, wherein the acrylic polymer (X) contains 10 mass% or more of a structural unit (x1) derived from methyl methacrylate. 前記粘着剤層の少なくとも一部が硬化した硬化領域を形成し、前記硬化領域上に前記保護膜形成用フィルムが直接積層した構成を有する、請求項1又は2に記載の保護膜形成用複合シート。   3. The composite sheet for forming a protective film according to claim 1, wherein at least a part of the pressure-sensitive adhesive layer forms a cured region, and the protective film-forming film is directly laminated on the cured region. . 前記エネルギー線重合性基が(メタ)アクリロイル基である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の保護膜形成用複合シート。   The composite sheet for protective film formation as described in any one of Claims 1-3 whose said energy-beam polymeric group is a (meth) acryloyl group. 前記保護膜形成用フィルムが、(A)重合体成分、及び(B)硬化性成分を含む、請求項1〜4のいずれか一項に記載の保護膜形成用複合シート。   The composite sheet for protective film formation as described in any one of Claims 1-4 in which the said film for protective film formation contains (A) polymer component and (B) sclerosing | hardenable component. (B)硬化性成分が、(B1)熱硬化性成分を含む、請求項5に記載の保護膜形成用複合シート。   The composite sheet for forming a protective film according to claim 5, wherein the (B) curable component comprises (B1) a thermosetting component. 前記保護膜形成用複合シートが有する保護膜形成用フィルムをワークに貼付した後、前記保護膜形成用複合シートから前記保護膜形成用フィルムを剥離せずに、130℃、2時間の条件下で、前記保護膜形成用フィルムを硬化させて保護膜を形成した場合に、前記保護膜のグロス値が40以上である、請求項1〜6のいずれか一項に記載の保護膜形成用複合シート。   After affixing the protective film-forming film of the protective film-forming composite sheet to a workpiece, without peeling the protective film-forming film from the protective film-forming composite sheet, at 130 ° C. for 2 hours. The protective film-forming composite sheet according to any one of claims 1 to 6, wherein when the protective film is cured to form a protective film, the protective film has a gloss value of 40 or more. . 前記基材が、ポリプロピレンを含む基材である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の保護膜形成用複合シート。   The composite sheet for protective film formation according to any one of claims 1 to 7, wherein the base material is a base material containing polypropylene. チップの裏面に、請求項1〜8のいずれか一項に記載の保護膜形成用複合シートの保護膜形成用フィルムが硬化してなる保護膜を有する、保護膜付きチップ。   The chip | tip with a protective film which has a protective film formed by hardening | curing the protective film formation film of the composite sheet for protective film formation as described in any one of Claims 1-8 on the back surface of a chip | tip. 前記保護膜付きチップのチップがある側とは反対側から測定した保護膜のグロス値が40以上である、請求項9に記載の保護膜付きチップ。   The chip | tip with a protective film of Claim 9 whose gloss value of the protective film measured from the opposite side to the chip | tip side with the chip | tip with the said protective film is 40 or more. 下記工程(1)〜(4)を有する、保護膜付きチップの製造方法。
工程(1):ワークの裏面に、請求項1〜8のいずれか一項に記載の保護膜形成用複合シートを貼付する工程
工程(2):ワークをダイシングする工程
工程(3):前記保護膜形成用複合シートの粘着シートを剥離せずに保護膜形成用フィルムを硬化させる工程
工程(4):工程(1)〜(3)を経て得られたダイシングされた保護膜付きワークをピックアップし、保護膜付きチップを得る工程
The manufacturing method of the chip | tip with a protective film which has following process (1)-(4).
Process (1): The process of sticking the composite sheet for protective film formation as described in any one of Claims 1-8 on the back surface of a workpiece | work Process (2): The process of dicing a work process (3): Said protection Step of curing the protective film-forming film without peeling off the adhesive sheet of the film-forming composite sheet Step (4): Picking up the diced workpiece with the protective film obtained through the steps (1) to (3) , Process for obtaining chip with protective film
請求項11に記載の製造方法により得られる保護膜付きチップであって、前記保護膜付きチップのチップがある側とは反対側から測定した保護膜のグロス値が40以上である、保護膜付きチップ。   It is a chip | tip with a protective film obtained by the manufacturing method of Claim 11, Comprising: The gross value of the protective film measured from the opposite side to the chip | tip side of the said chip | tip with a protective film is 40 or more. Chip.
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