JP2016538576A - 光学結像系の光学特性を測定する方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
Description
12 光学結像系
13 光軸
14 照射機構
16 放射源
18 電磁放射線
20 照明系
22 物体平面
24 テストマスク
26 テスト構造領域
28 マスク基板
30 部分反射層構成
31 放射線変換層
32 メンブレン
34 開口絞り
36 瞳
38 解析格子
39 変更された有効放射線
40 像平面
41 変位デバイス
42 有効検出器
43 検出器表面
44 インターフェログラム
45 有効ビーム経路
46 出力結合デバイス
47 有効放射線
48 センサ放射線
49 センサビーム経路
50 強度センサ
51 さらに別の強度センサ
52 光学素子
54 2次元分解検出器
56 絞り
58 集束ミラー
60 ビーム遮断デバイス
62 閉鎖要素
63 変位方向
64 変位デバイス
66 評価デバイス
68 制御デバイス
70 照明モジュール
71 さらに別の照明モジュール
72 基板
74 散乱構造
76 集束素子
78 周波数フィルタ
80 一体型検出器
82 多層構成
84 シンチレータ層
86 キャリア素子
100 投影露光装置
113 反射光学素子
114 照射機構
116 放射源
118 放射線発生ユニット
120 照明系
121 放射線コレクタ
123 スペクトルフィルタ
125 マスクステージ
144 基板ステージ
Claims (22)
- 光学結像系(12)の光学特性を測定する装置(10)であって、
放射源(16)が発生させた電磁放射線(18)を前記結像系の物体平面(22)へ指向させるよう構成された照明系(20)と、
有効ビーム経路(45)に沿って進んだ後の前記電磁放射線を取り込むよう構成された、前記光学特性を測定する有効検出器(42)であり、前記有効ビーム経路(45)は、前記放射源から前記結像系を経て前記有効検出器まで延びる有効検出器(42)と、
前記有効ビーム経路に配置されてセンサ放射線(48)を前記有効ビーム経路から取り出すよう構成され、その結果として、取り出された前記センサ放射線が前記有効ビーム経路とは異なるセンサビーム経路(49)に沿って延びるようにする出力結合デバイス(46)と、
前記センサビーム経路に配置されて前記光学結像系の前記物体平面(22)内の少なくとも1つの点における角度分解強度分布を記録する強度センサ(50)であり、前記強度分布は、前記物体平面に対する入射角に応じて前記電磁放射線の強度を再現する強度センサ(50)と
を備えた装置。 - 請求項1に記載の装置において、
前記出力結合デバイス(46)は、前記有効ビーム経路(45)のうち前記結像系(12)の上流に位置付けられた領域内に配置される装置。 - 請求項1又は2に記載の装置において、
前記出力結合デバイス(46)は、前記照明系(20)に配置される装置。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載の装置において、
前記出力結合デバイス(46)は、少なくとも部分的に反射型の素子(30)を有する装置。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の装置において、
前記物体平面に配置されたテストマスク(24)をさらに有し、前記出力結合デバイス(46)は、テストマスクの一部である装置。 - 請求項1〜5のいずれか1項に記載の装置において、
前記照明系(20)は、前記物体平面(22)に前記電磁放射線(18)を斜めに照射するよう構成される装置。 - 請求項1〜6のいずれか1項に記載の装置において、
前記出力結合デバイス(46)は、前記有効ビーム経路(45)に沿って進む前記電磁放射線(18)の一部から波長の変更によって前記センサ放射線(48)を発生させるよう構成された放射線変換素子(31)を備える装置。 - 請求項1〜7のいずれか1項に記載の装置において、
前記出力結合デバイス(46)は、前記光学結像系の作動波長とは異なる波長を有する放射線を前記有効ビーム経路(45)の前記電磁放射線(18)からセンサ放射線(48)として取り出すよう構成される装置。 - 請求項1〜8のいずれか1項に記載の装置において、前記出力デバイス(46)は、+/−4次の回折又は絶対値に関してより大きな次数の回折によって前記センサ放射線(48)を前記有効ビーム経路(45)から取り出すよう構成される装置。
- 請求項1〜9のいずれか1項に記載の装置において、
前記出力結合デバイス(46)は、回折格子(123)を備える装置。 - 請求項1〜10のいずれか1項に記載の装置において、
前記出力結合デバイス(46)は、第1波長を有する前記電磁放射線(18)の放射線成分(47)から前記有効検出器(42)でインターフェログラムを生成すると共に、第2波長を有する前記電磁放射線の放射線成分(48)を0次の回折以外の回折次数で前記強度センサ(50)へ指向させるよう構成された解析格子(38)を備える装置。 - 請求項1〜11のいずれか1項に記載の装置において、
前記有効検出器(42)及び前記強度センサ(50)は、一体型検出器(80)に組み込まれる装置。 - 請求項1〜12のいずれか1項に記載の装置において、
前記照明系(20)が発した前記放射線(18)が時限放射線パケットとして前記物体平面(22)に入射するように前記放射線を周期的に遮断するよう構成された装置。 - 請求項1〜13のいずれか1項に記載の装置において、
EUV波長域の作動波長用に設計された装置。 - 請求項1〜14のいずれか1項に記載の装置において、
前記強度センサ(50)によって記録された角度分解強度分布に基づいて、前記有効検出器(42)によって測定された前記光学結像系の光学特性の補正を実行するよう構成された評価デバイス(66)をさらに有する装置。 - 請求項1〜15のいずれか1項に記載の装置において、
該装置(10)によって測定可能な前記光学特性は、前記光学結像系(12)の波面収差挙動を含む装置。 - 請求項1〜14のいずれか1項に記載の装置において、
前記有効検出器(42)の計測結果及び前記強度センサ(50)によって記録された角度分解強度分布を評価することによって、前記光学結像系(12)の瞳分解透過挙動を測定するよう構成された評価デバイス(66)をさらに有する装置。 - 請求項1〜17のいずれか1項に記載の装置において、
前記強度センサ(50)は、前記光学結像系(12)の前記物体平面における強度分布を空間分解的に記録するようさらに構成される装置。 - 請求項1〜18のいずれか1項に記載の装置(10)を組み込んだマイクロリソグラフィ投影露光装置。
- 光学系(12)の光学特性を測定する方法であって、
電磁放射線(18)を前記結像系(12)の物体平面(22)へ指向させるステップと、
前記電磁放射線の放射源(16)から前記結像系を経て有効検出器(42)まで延びる有効ビーム経路(45)に沿って進んだ後の前記放射線から前記有効検出器で前記光学特性を測定するステップと、
センサ放射線を前記有効ビーム経路(45)から取り出し、その結果として、取り出された前記センサ放射線が前記有効ビーム経路とは異なるセンサビーム経路(49)に沿って延びるようにするステップと、
前記光学結像系の前記物体平面(22)内の少なくとも1つの点における角度分解強度分布を、前記センサビーム経路(49)に配置された強度センサ(50)によって記録し、前記強度分布は、前記物体平面に対する入射角に応じて前記電磁放射線の強度を再現するステップと
を含む方法。 - 請求項20に記載の方法において、
前記光学特性を測定する際に、前記強度センサ(50)によって記録された角度分解強度分布に基づいて前記有効検出器(42)によって実行された計測の補正を実行する方法。 - 請求項20又は21に記載の方法において、
前記光学結像系(12)の瞳分解透過挙動を、前記有効検出器(42)の計測結果及び前記強度センサ(50)によって記録された角度分解強度分布を評価することによって前記光学特性として測定する方法。
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