JP2016538040A5

JP2016538040A5 -

Info

Publication number: JP2016538040A5
Application number: JP2016529893A
Authority: JP
Filing date: 2014-11-06
Publication date: 2019-02-28
Anticipated expiration: 2034-11-06

Description

本発明の別の形態において、方法と設備は、例えば以下のように、
即ち、
バッファタンクが処理媒体を少なくとも冷却領域の一部のためにも供給するように
および／または
バッファタンクの処理媒体が、低温殺菌温度あるいは滅菌温度を超えている温度まで、例えば７０と９５℃の間の範囲の温度まで加熱されるように、
および／または
少なくとも一つのヒートポンプを介して、加熱領域において、好ましくは最も低い温度レベルを有する加熱領域において生じる処理媒体の熱エネルギーが使用されるように、
および／または
バッファタンクの処理媒体を加熱するために、加熱領域および／または冷却領域から来る、収集タンク内に収集される処理媒体の熱エネルギーが使用されるように、
および／または
滅菌領域あるいは低温殺菌領域の少なくとも一つの領域に生じる処理媒体がバッファタンクに案内されるように、
および／または
バッファタンクの処理媒体を加熱するために、少なくとも一つのヒートポンプに加えて一つの加熱装置が使用されるように、
および／または
バッファタンク内の処理媒体を加熱するために、このバッファタンクを含む加熱回路が使用されており、この加熱回路に、循環ポンプ、ヒートポンプの出口を形成する熱交換器ならびに加熱装置が設けられているように、
構成されており、先に挙げた特徴は、各々個別にあるいは任意の組合せで使用されていてもよい。

Claims

容器（２）の搬送方向（Ａ）に連続して複数の処理領域（Ｈ１〜Ｈ４；Ｐ１〜Ｐ４；Ｃ４〜Ｃ１）を備えた設備（１）を使用して、加熱により容器（２）内に満たされた製品を滅菌あるいは低温殺菌するための方法であって、
これらの処理領域が、加熱領域、低温殺菌範囲の領域ならびに冷却領域を形成し、これらの処理領域において、各容器（２）が液体の処理媒体の作用を受け、
この処理媒体の温度が、予熱領域において搬送方向（Ａ）に対して領域から領域へと上昇し、低温殺菌範囲の領域で滅菌温度あるいは低温殺菌温度に達し、冷却領域において搬送方向（Ａ）に対して領域から領域へと低下し、
処理の際に低い温度レベルで生じる処理媒体の熱エネルギーが、高い温度レベルへ処理媒体を加熱するために少なくとも一つのヒートポンプ（２０）を用いて使用される方法において、
低い温度レベルの処理媒体の熱エネルギーが、少なくともヒートポンプ（２０）を備えた加熱回路を用いて、処理媒体を加熱するためにバッファタンク（１７）内で使用され、このバッファタンクが処理媒体を少なくとも低温殺菌温度あるいは滅菌温度に相当する温度でもって案内し、バッファタンク（１７）がこの処理媒体を低温殺菌範囲の少なくとも一つの領域のために直接供給することを特徴とする方法。
バッファタンク（１７）の処理媒体を加熱するために、加熱領域および／または冷却領域から来る、収集タンク（１２）内で収集される処理媒体の熱エネルギーが使用されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載の方法。
バッファタンク（１７）の処理媒体を加熱するために、加熱装置（２１）が少なくとも一つのヒートポンプ（２０）に加えて使用されることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一つに記載の方法。
バッファタンク（１７）内の処理媒体を加熱するために、このバッファタンクを含む加熱回路が使用されており、この加熱回路に、循環ポンプ（１９）、ヒートポンプ（２０）の出口を形成する熱交換器（２０．１）ならびに加熱装置（２１）が設けられていることを特徴とする請求項７に記載の方法。
容器（２）の搬送方向（Ａ）に連続する処理領域（Ｈ１〜Ｈ４；Ｐ１〜Ｐ４；Ｃ４〜Ｃ１）を備えた、加熱により容器（２）内に満たされた製品を滅菌あるいは低温殺菌するための設備であって、
これらの処理領域が、加熱領域、低温殺菌範囲の領域ならびに冷却領域を形成し、これらの処理領域において、各容器（２）が液体の処理媒体の作用を受け、
この処理媒体の温度が、予熱領域において搬送方向（Ａ）に対して領域から領域へと上昇し、低温殺菌範囲の領域で滅菌温度あるいは低温殺菌温度に達し、冷却領域において搬送方向（Ａ）に対して領域から領域へと低下し、
ならびに高い温度レベルまで処理媒体を加熱するために、処理の際に低い温度レベルで生じる処理媒体の熱エネルギーを使用するための少なくとも一つのヒートポンプ（２０）を備えた設備において、
少なくとも一つのヒートポンプ（２０）が、バッファタンク（１７）内の処理媒体を加熱するための加熱回路の一部であり、
このバッファタンクが処理媒体を少なくとも低温殺菌温度あるいは滅菌温度に相当する温度で案内し、この処理媒体を制御弁（１４）を介して少なくとも低温殺菌範囲の全領域のために直接供給することを特徴とする設備。
バッファタンク（１７）内の処理媒体を加熱するために、このバッファタンクを含む加熱回路が設けられており、この加熱回路に、循環ポンプ（１９）、ヒートポンプ（２０）の出口を形成する熱交換器（２０．１）ならびに加熱装置（２１）が配置されていることを特徴とする請求項１５に記載の設備。