JP2016531905A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. 式（Ｉ）のヒドロキシシラン：
   （式中、
   Ｒ^１ａ及びＲ^１ｂは互いに独立して、それぞれ水素原子若しくは炭素数１〜１２の一価炭化水素ラジカルであるか、又は結合して炭素数２〜６のアルキレンラジカルとなり、
   Ｒ^２は、水素原子又は任意にエーテル基、エステル基、ニトリル基、アミノ基又はシラン基を含む炭素数１〜１２の一価炭化水素ラジカルであり、
   Ｒ^３は、炭素数１〜６の直鎖又は分岐アルキレンラジカルであり、
   Ｒ^４は炭素数１〜８のアルキルラジカルであり、
   Ｒ^５は任意にエーテル基を含む炭素数１〜１０のアルキルラジカルであり、
   ｎは１又は２であり、
   ｘは０、１又は２である）。
2. Ｒ^１ａ及びＲ^１ｂは互いに独立して、それぞれ水素原子又はメチルラジカルであることを特徴とする、請求項１に記載のヒドロキシシラン。
3. Ｒ^２が水素原子又はアルキルラジカル又はシクロアルキルラジカル又はアルコキシシリルアルキルラジカルであることを特徴とする、請求項１又は２に記載のヒドロキシシラン。
4. Ｒ^３が１，３−プロピレン、２−メチル−１，３−プロピレン、１，４−ブチレン、３−メチル−１，４−ブチレン及び３，３−ジメチル−１，４−ブチレンからなる群から選択されることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載のヒドロキシシラン。
5. Ｒ^５がメチルラジカル又はエチルラジカルであることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載のヒドロキシシラン。
6. ｘが１又は０、特に０であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載のヒドロキシシラン。
7. Ｎ−（３−トリエトキシシリルプロピル）−２−ヒドロキシアセトアミド、Ｎ−（３−トリメトキシシリルプロピル）−２−ヒドロキシアセトアミド、Ｎ−（３−ジエトキシメチルシリルプロピル）−２−ヒドロキシアセトアミド、Ｎ−（３−ジメトキシメチルシリルプロピル）−２−ヒドロキシアセトアミド、Ｎ−（３−トリエトキシシリルプロピル）−２−ヒドロキシプロパンアミド、Ｎ−（３−トリメトキシシリルプロピル）−２−ヒドロキシプロパンアミド、Ｎ−（３−ジエトキシメチルシリルプロピル）−２−ヒドロキシプロパンアミド、Ｎ−（３−ジメトキシメチルシリルプロピル）−２−ヒドロキシプロパンアミド、Ｎ−（３−トリエトキシシリルプロピル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパンアミド、Ｎ−（３−トリメトキシシリルプロピル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパンアミド、Ｎ−（３−ジエトキシメチルシリルプロピル）−２−ヒドロキシ−２−メチル−プロパンアミド及びＮ−（３−ジメトキシメチルシリルプロピル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパンアミドからなる群から選択されることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載のヒドロキシシラン。
8. 少なくとも１種の式（ＩＩ）のラクチド又は少なくとも１種の式（ＩＩＩ）のヒドロキシエステルを、
   少なくとも１種の式（ＩＶ）のアミノシランと反応させることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載のヒドロキシシランを作製する方法：
   （式中、
   ｍは１〜１００の整数であり、
   Ｒ^６は炭素数１〜１２の一価炭化水素ラジカルである）。
9. 少なくとも１種の式（ＩＩ）のラクチドを用いて行われることを特徴とする、請求項８に記載の方法。
10. 少なくとも１種の請求項１〜７のいずれか一項に記載のヒドロキシシランと、ヒドロキシル基に対して反応性である少なくとも１つの基を有する少なくとも１種の化合物との反応により得られることを特徴とする、シラン官能性化合物。
11. ヒドロキシル基に対して反応性である前記基が、イソシアネート基、エポキシ基、アクリレート基、メタクリレート基、無水物基、カルボン酸基、エステル基、カーボネート基及びシクロカーボネート基からなる群から選択されることを特徴とする、請求項１０に記載のシラン官能性化合物。
12. ヒドロキシル基に対して反応性である少なくとも１つの基を有する前記化合物が、イソシアナトシラン、ジイソシアネート、それらのオリゴマー及び誘導体、並びにイソシアネート基を有するポリマーからなる群から選択されることを特徴とする、請求項１０又は１１に記載のシラン官能性化合物。
13. 硬化性組成物の構成要素としての請求項１〜７のいずれか一項に記載のヒドロキシシラン又は請求項１０〜１２のいずれか一項に記載のシラン官能性化合物の使用。
14. 前記硬化性組成物が前処理剤又はコーティング剤又はシーラント又は接着剤であることを特徴とする、請求項１３に記載の使用。
15. 請求項１３又は１４に記載の使用により得られる物品。