JP2016530728A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016530728A5 JP2016530728A5 JP2016539575A JP2016539575A JP2016530728A5 JP 2016530728 A5 JP2016530728 A5 JP 2016530728A5 JP 2016539575 A JP2016539575 A JP 2016539575A JP 2016539575 A JP2016539575 A JP 2016539575A JP 2016530728 A5 JP2016530728 A5 JP 2016530728A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conduit
- lens assembly
- projection lens
- parallel
- processing unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims 16
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims 7
- 230000000295 complement Effects 0.000 claims 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims 1
Claims (21)
- 標的処理ユニットであって、
標的に向かうビームを発生させ、成形し、および配向する投影コラムであって、前記標的に前記ビームを配向するための投影レンズアセンブリを備えた投影コラムと、
前記投影レンズアセンブリを収容するためのキャリアフレームと、ここで、前記投影レンズアセンブリは、レンズ素子を収容するための平面レンズ支持体を備え、ここにおいて、前記平面レンズ支持体は、面に広がり、接続領域と側方エッジとを備え、前記平面レンズ支持体は、前記キャリアフレーム内へと前記面に対して平行な挿入方向に沿った挿入用に構成されるものであり、
前記接続領域から起始し、前記面に対して平行に配向された複数の導管と、
前記複数の導管を収容するように構成された導管ガイド体と、を備え、
前記導管ガイド体は、前記側方エッジを越えて側方領域まで、前記面に対して平行におよび前記挿入方向に対して垂直な非ゼロの方向成分を有して前記接続領域から前記導管を案内するように構成された第1のガイド部分と、
前記導管ガイド体の傾斜エッジに向かって、前記面に対して垂直な非ゼロの方向成分を有して前記側方領域から前記導管を案内するための第2のガイド部分とを備える、標的処理ユニット。 - 前記キャリアフレームは、前記投影レンズアセンブリの前記導管ガイド体の少なくとも一部に対して相補的な形状を有する切欠部を前記側方領域に備える、請求項1に記載の標的処理ユニット。
- 前記投影レンズアセンブリと前記標的処理ユニットに設けられたソースデバイスおよび/または宛先デバイスとの間に電気接続および/または流体連通を確立するために、前記導管の遠位端部に接続するための相補コネクタを備えるコネクタパネルを備える、請求項1に記載の標的処理ユニット。
- 前記導管は、前記導管ガイド体の内部に収容され、前記導管ガイド体の外側は、前記挿入方向に沿って実質的に線対称である、請求項1に記載の標的処理ユニット。
- 前記平面レンズ支持体、前記第1のガイド部分、ならびに前記平面レンズ支持体および前記第1のガイド部分により収容される前記導管の部分は、前記面に対して平行な第1の面と前記面に対して平行な第2の面との間に垂直方向に完全に画定される、請求項1に記載の標的処理ユニット。
- 前記平面レンズ支持体は、前記挿入方向に対して共に平行である2つの相対側方エッジを備える大体において多角形の剛性支持プレートを備え、後方エッジが、前記挿入方向に対して少なくとも部分的に逆方向である方向を向く、請求項1に記載の標的処理ユニット。
- 前記挿入方向に沿っておよび前記面に対して平行に前記キャリアフレーム内へと前記平面レンズ支持体を位置決めするために、前記多角形の剛性支持プレートの前記相対側方エッジに沿ってガイド部材を備える、請求項6に記載の標的処理ユニット。
- 各導管は、遠位導管端部に導管コネクタを備え、前記導管コネクタは、前記面から垂直に距離を置いて前記側方領域に設けられたコネクタパネル上の相補コネクタに接続するように構成される、請求項1に記載の標的処理ユニット。
- コネクタパネルおよび相補コネクタは、前記面に対して垂直である垂直方向に配置される、請求項2に記載の標的処理ユニット。
- 標的に向かってビームを配向するための投影レンズアセンブリであって、
レンズ素子を収容するための平面レンズ支持体と、ここで、前記平面レンズ支持体は、面に広がり、接続領域と側方エッジとを備え、前記平面レンズ支持体は、標的処理ユニットのキャリアフレーム内へと前記面に対して平行な挿入方向に沿った挿入用に構成されるものであり、
前記接続領域から起始し、前記面に対して平行に配向された複数の導管と、
前記複数の導管を収容するように構成された導管ガイド体と、を備え、
前記導管ガイド体は、前記側方エッジを越えて側方領域まで、前記面に対して平行におよび前記挿入方向に対して垂直な非ゼロの方向成分を有して前記接続領域から前記導管を案内するように構成された第1のガイド部分と、
前記導管ガイド体の傾斜エッジに向かって、前記面に対して垂直な非ゼロの方向成分を有して前記側方領域から前記導管を案内するための第2のガイド部分とを備える、投影レンズアセンブリ。 - 前記導管は、前記導管ガイド体の内部に収容され、前記導管ガイド体の外側は、前記挿入方向に沿って実質的に線対称である、請求項10に記載の投影レンズアセンブリ。
- 前記導管は、局所的に平行な構成で前記導管ガイド体内に収容される、請求項10に記載の投影レンズアセンブリ。
- 前記平面レンズ支持体、前記第1のガイド部分、ならびに前記平面レンズ支持体により収容される前記導管の部分は、前記面に対して平行な第1の面と第2の面との間に垂直方向に完全に画定される、請求項10に記載の投影レンズアセンブリ。
- 前記接続領域は、前記平面レンズ支持体の後方エッジを形成する、請求項10に記載の投影レンズアセンブリ。
- 前記平面レンズ支持体は、前記挿入方向に対して共に平行である2つの相対側方エッジを備える大体において多角形の剛性支持プレートを備え、前記後方エッジは、前記挿入方向に対して少なくとも部分的に逆方向である方向を向く、請求項14に記載の投影レンズアセンブリ。
- 前記多角形の剛性支持プレートは、正五角形を有し、前記2つの相対側方エッジおよび前記後方エッジは、相互連結され、2つの残りのエッジは、中間に位置する角部に当接部材を有する先端部を形成する、請求項15に記載の投影レンズアセンブリ。
- 前記導管ガイド体は、前記平面レンズ支持体の前記後方エッジに沿って設けられ、前記第1のガイド部分は、前記面内に配置されたおよび前記挿入方向に対して共に平行である2つのさらなる相対側方エッジを備える大体において四辺形の剛性支持プレートを備える、請求項14に記載の投影レンズアセンブリ。
- 前記多角形の剛性支持プレートおよび/または四辺形の剛性支持プレートは、磁気遮蔽材料を備える、請求項15に記載の投影レンズアセンブリ。
- 前記挿入方向に沿っておよび前記面に対して平行に前記キャリアフレーム内へと前記平面レンズ支持体を位置決めするために、前記多角形の剛性支持プレートの前記相対側方エッジに沿ってガイド部材を備える、請求項15に記載の投影レンズアセンブリ。
- 各導管は、遠位導管端部に導管コネクタを備え、前記導管コネクタは、前記面から垂直に距離を置いて前記側方領域に設けられたコネクタパネル上の相補コネクタに接続するように構成される、請求項10に記載の投影レンズアセンブリ。
- 前記導管ガイド体は、スレッジを備え、前記スレッジは、前記第2のガイド部分と前記第1のガイド部分の少なくとも一部とを備え、前記スレッジは、前記キャリアフレーム内へと前記スレッジを位置決めするために前記挿入方向に沿ってスレッジガイド部材を備える、請求項10に記載の投影レンズアセンブリ。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201361875016P | 2013-09-07 | 2013-09-07 | |
US61/875,016 | 2013-09-07 | ||
PCT/EP2014/069116 WO2015032955A1 (en) | 2013-09-07 | 2014-09-08 | Target processing unit |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017129332A Division JP6580634B2 (ja) | 2013-09-07 | 2017-06-30 | 標的処理ユニット |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016530728A JP2016530728A (ja) | 2016-09-29 |
JP2016530728A5 true JP2016530728A5 (ja) | 2017-02-09 |
JP6224252B2 JP6224252B2 (ja) | 2017-11-01 |
Family
ID=51492355
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016539575A Active JP6224252B2 (ja) | 2013-09-07 | 2014-09-08 | 標的処理ユニット |
JP2017129332A Active JP6580634B2 (ja) | 2013-09-07 | 2017-06-30 | 標的処理ユニット |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017129332A Active JP6580634B2 (ja) | 2013-09-07 | 2017-06-30 | 標的処理ユニット |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US9263234B2 (ja) |
JP (2) | JP6224252B2 (ja) |
KR (2) | KR101784752B1 (ja) |
CN (2) | CN107272352B (ja) |
NL (2) | NL2013438B1 (ja) |
WO (1) | WO2015032955A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2014114517A (ru) * | 2011-09-12 | 2015-10-20 | МЭППЕР ЛИТОГРАФИ АйПи Б.В. | Устройство обработки подложки |
DE112014001777T5 (de) * | 2013-05-10 | 2016-01-14 | Hitachi High-Technologies Corporation | Mit einem Strahl geladener Teilchen arbeitende Vorrichtung |
DE102016217285A1 (de) * | 2016-09-12 | 2018-03-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung zur übertragung von elektrischen signalen sowie lithographieanlage |
WO2018074306A1 (ja) * | 2016-10-17 | 2018-04-26 | 株式会社ニコン | 露光システム及びリソグラフィシステム |
US10905025B1 (en) * | 2019-06-12 | 2021-01-26 | Facebook, Inc. | Interconnection module and server rack |
CN111239916B (zh) * | 2020-02-12 | 2021-05-18 | 烽火通信科技股份有限公司 | 光纤背板上光纤连接器用的清洁工具及清洁方法 |
KR102467191B1 (ko) * | 2020-03-11 | 2022-11-16 | 주식회사 포스코 | 광 점퍼 코드 안전 장치 및 그를 이용한 전력 계통 시스템 |
CN113495436B (zh) * | 2021-07-13 | 2023-12-29 | 江门市和盈新材料科技有限公司 | 一种光电子元件智能制造的光刻机 |
EP4290550A1 (en) * | 2022-06-10 | 2023-12-13 | ASML Netherlands B.V. | Electron-optical device |
Family Cites Families (26)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4831270A (en) * | 1987-05-21 | 1989-05-16 | Ion Implant Services | Ion implantation apparatus |
US5250808A (en) * | 1987-05-21 | 1993-10-05 | Electroscan Corporation | Integrated electron optical/differential pumping/imaging signal system for an environmental scanning electron microscope |
AU3794097A (en) * | 1996-06-10 | 1998-01-07 | Holographic Lithography Systems, Inc. | Holographic patterning method and tool for production environments |
US6714278B2 (en) * | 1996-11-25 | 2004-03-30 | Nikon Corporation | Exposure apparatus |
TW591694B (en) * | 2001-02-13 | 2004-06-11 | Nikon Corp | Specification determining method, making method and adjusting method of projection optical system, exposure apparatus and making method thereof, and computer system |
US6756706B2 (en) * | 2002-01-18 | 2004-06-29 | Nikon Corporation | Method and apparatus for cooling power supply wires used to drive stages in electron beam lithography machines |
JP2004055933A (ja) | 2002-07-22 | 2004-02-19 | Advantest Corp | 電子ビーム露光装置、及び電子ビーム計測モジュール |
JP2005106166A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Nikon Corp | アクティブ除振装置及び露光装置 |
JP2005209702A (ja) * | 2004-01-20 | 2005-08-04 | Fujitsu Access Ltd | 電子機器用キャビネット |
JP4405867B2 (ja) * | 2004-06-29 | 2010-01-27 | キヤノン株式会社 | 電子線露光装置、および、デバイス製造方法 |
JP2006079911A (ja) * | 2004-09-09 | 2006-03-23 | Hitachi High-Technologies Corp | 電子ビーム電流計測方法、電子ビーム描画装置および電子ビーム検出器 |
KR101481950B1 (ko) | 2008-02-26 | 2015-01-14 | 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이. | 투사 렌즈 배열체 |
US8226795B2 (en) * | 2009-02-03 | 2012-07-24 | Nordson Corporation | Magnetic clips and substrate holders for use in a plasma processing system |
NL1036912C2 (en) * | 2009-04-29 | 2010-11-01 | Mapper Lithography Ip Bv | Charged particle optical system comprising an electrostatic deflector. |
NL2003619C2 (en) * | 2009-10-09 | 2011-04-12 | Mapper Lithography Ip Bv | Projection lens assembly. |
US8362441B2 (en) * | 2009-10-09 | 2013-01-29 | Mapper Lithography Ip B.V. | Enhanced integrity projection lens assembly |
US20110261344A1 (en) * | 2009-12-31 | 2011-10-27 | Mapper Lithography Ip B.V. | Exposure method |
NL2006258A (en) | 2010-02-23 | 2011-08-24 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method. |
US20120069317A1 (en) * | 2010-09-20 | 2012-03-22 | Jerry Peijster | Lithography system arranged on a foundation, and method for arranging a lithography system on said foundation |
RU2579533C2 (ru) * | 2010-12-14 | 2016-04-10 | МЭППЕР ЛИТОГРАФИ АйПи Б. В. | Литографическая система и способ обработки подложек в такой литографической системе |
JP6038882B2 (ja) | 2011-04-20 | 2016-12-07 | マッパー・リソグラフィー・アイピー・ビー.ブイ. | 光ファイバの構成体及びこのような構成体を形成する方法 |
NL2007392C2 (en) | 2011-09-12 | 2013-03-13 | Mapper Lithography Ip Bv | Assembly for providing an aligned stack of two or more modules and a lithography system or a microscopy system comprising such an assembly. |
RU2014114517A (ru) * | 2011-09-12 | 2015-10-20 | МЭППЕР ЛИТОГРАФИ АйПи Б.В. | Устройство обработки подложки |
US9939728B2 (en) | 2011-09-12 | 2018-04-10 | Mapper Lithography Ip B.V. | Vacuum chamber with a thick aluminum base plate |
WO2013171216A1 (en) * | 2012-05-14 | 2013-11-21 | Mapper Lithography Ip B.V. | Charged particle multi-beamlet lithography system and cooling arrangement manufacturing method |
JP5936484B2 (ja) * | 2012-08-20 | 2016-06-22 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置及び試料観察方法 |
-
2014
- 2014-09-08 KR KR1020167009273A patent/KR101784752B1/ko active IP Right Grant
- 2014-09-08 NL NL2013438A patent/NL2013438B1/en active
- 2014-09-08 US US14/479,648 patent/US9263234B2/en active Active
- 2014-09-08 JP JP2016539575A patent/JP6224252B2/ja active Active
- 2014-09-08 NL NL2013437A patent/NL2013437B1/en active
- 2014-09-08 KR KR1020177020391A patent/KR102124913B1/ko active IP Right Grant
- 2014-09-08 CN CN201710637657.2A patent/CN107272352B/zh active Active
- 2014-09-08 CN CN201480061165.8A patent/CN105745577B/zh active Active
- 2014-09-08 WO PCT/EP2014/069116 patent/WO2015032955A1/en active Application Filing
-
2016
- 2016-01-11 US US14/992,049 patent/US9941093B2/en active Active
-
2017
- 2017-06-30 JP JP2017129332A patent/JP6580634B2/ja active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2016530728A5 (ja) | ||
USD847752S1 (en) | Electrical or optical connector | |
USD813759S1 (en) | Vehicle hood | |
USD800016S1 (en) | Unmanned aerial vehicle | |
USD795763S1 (en) | Vehicle grille | |
USD786758S1 (en) | Instrument panel for a motor vehicle | |
USD816056S1 (en) | All-in-one speakerphone device | |
USD819604S1 (en) | Earbud connector plate | |
USD742315S1 (en) | Power adapter | |
USD794107S1 (en) | Camera lens | |
USD731940S1 (en) | Instrument panel for an automobile | |
USD781736S1 (en) | Operating panel | |
USD780937S1 (en) | Automated teller machine enclosure | |
RU2015118127A (ru) | Устройство управления | |
USD747634S1 (en) | Guide instrument for optical connector | |
USD757152S1 (en) | Device holder and activation apparatus | |
USD773468S1 (en) | Optical and SSD drive faceplate | |
USD771571S1 (en) | Electrical contact | |
USD798752S1 (en) | Focal plate for surveying instrument | |
USD948074S1 (en) | Cassette clamp for electrophoresis gel casting | |
USD819803S1 (en) | Suction tool connector | |
USD759603S1 (en) | Chamber of charged particle beam drawing apparatus | |
USD810058S1 (en) | Antenna apparatus | |
USD750567S1 (en) | Optical connector | |
USD784053S1 (en) | Display rack |