JP2016530546A

JP2016530546A - 光吸収モニタシステム

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Publication number: JP2016530546A
Application number: JP2016543395A
Authority: JP
Inventors: バハルガブ，アヌープ; スリニーヴァサン，ジェガナサン
Original assignee: GE Healthcare Bio Sciences AB; Amersham Bioscience AB
Current assignee: Cytiva Sweden AB
Priority date: 2013-09-24
Filing date: 2014-09-18
Publication date: 2016-09-29
Also published as: WO2015044020A2; CN105556282A; US20160231232A1; WO2015044020A3; EP3049791A2; EP3049791B1; US9880093B2

Abstract

吸収モニタシステムは、光源と光検出器の間に吸収検出光路を画成するように配置される光源及び光検出器と、光源の動作を制御するように構成されるコントローラとを備え、光源は、ＵＶ域の光を発光できる発光ダイオード（ＵＶ−ＬＥＤ）を備え、吸収モニタシステムは、対照光検出器を備えず、コントローラは、ＵＶ−ＬＥＤからの光出力強度の変動を補償するように構成される。【選択図】図２

Description

本開示は、光吸収モニタシステム、具体的には、フローセル吸収モニタシステムに関する。

多くの物質は、その化学成分に起因して紫外線又は可視光線を吸収する。物質による光の吸収は、長年にわたってこのような物質の存在の検出及びその濃度の測定のための基礎として使用されてきた。物質の濃度は、ランベルト・ベールの法則の使用によって求められ得る。

Ａ＝Ｅｂｃ
但し、Ａは、吸光度であり、
Ｅは、ｍｏｌ^-1ｃｍ^-1という単位を有するモル吸光係数であり、
ｂは、ｃｍで規定される、試料の経路長であり、
ｃは、溶液中の化合物の濃度（ｍｏｌ^-1で表される）である。
Ｅｍａｘは、所定の波長における物質の最大吸光を示す。

吸収モニタシステムは、一般的に、１種類以上の波長の光を流体試料に供給するための光源及び光と試料との相互作用を検出するための光検出システムを備える。流体試料は、光吸収度測定用の窓を備える適切な容器内の固定試料の場合もあれば、以下により詳細に開示されるようにフローセル内の流体の流れとして提供される場合もある。またさらに、モニタシステムは、浸漬タイプの場合があり、その場合、システムの複数の光学部品は、流体試料中に浸漬され、それらの間に光検出経路を画成するように配置される。

吸収モニタシステムの一例は、フローセルＵＶ吸収モニタシステムであり、フローセルＵＶ吸収モニタシステムは、分離される分子がカラムから溶出されるときにクロマトグラフィーシステムで様々な波長の光の異なる吸光度を測定するために利用される。しかしながら、フローセルＵＶ吸収モニタシステムは、クロマトグラフィーシステム以外の広範囲の用途（生産流体処理（ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎｆｌｕｉｄｐｒｏｃｅｓｓ）システム、研究室システム、分析システムなど）で試料を選択的に検出するために使用される場合もある。このタイプのモニタシステムは、光源、フローセル、及び光検出器を通常含む。理想的には、モニタシステムの構成要素は、最小のドリフト及び屈折率の感度を伴う信号対雑音比を確保するように選択及び設計される。光源は、一般的に、水銀ランプ、重水素ランプ、又はキセノンフラッシュランプから構成される。しかしながら、近年、光源としてＵＶ−ＬＥＤ（ＵＶ域の光を発光できる発光ダイオード）を使用するモニタシステムが開発されている。ＵＶ−ＬＥＤベースのモニタシステムの一例は、米国特許第８０６８２２７号明細書に開示されている。

上記に係る最小のドリフト及び屈折率の感度を伴う信号対雑音比を得るために、このタイプのモニタシステムは、通常は、光源からの光強度出力の変動及び／又はドリフトを記録するための対照光検出器を備える。対照光検出器からの出力は、モニタシステムからの出力の正規化などによってこのような変動などの影響を低減するために使用される。

米国特許第８０６８２２７号明細書に開示されているように、ＵＶ−ＬＥＤベースのモニタシステムは、他の光源に基づくモニタシステムに比べて小型でより複雑でないものであり得る。したがって、ＵＶ−ＬＥＤベースのモニタシステムの製造は、一般に、より費用が掛からないものである。しかしながら、依然として、より費用が掛からずより複雑でないモニタシステムが必要とされている。

国際公開第２０１３／０６４９７３号

本発明の目的は、従来技術の１つ以上の欠点を克服する新しい吸収モニタシステムを提供することである。このことは、独立請求項に規定されている吸収モニタシステムによって達成される。

この吸収モニタシステムに関する１つの利点は、これが、現行システムに比べて複雑でなく、したがって、より費用が掛からないものでありながらも、最小のドリフト及び屈折率の感度を伴う信号対雑音比を実現することである。

別の利点は、この吸収モニタシステムが、ＵＶ−ＬＥＤのライフサイクルにわたって最適点でＵＶ−ＬＥＤにバイアスをかけることを可能にするように構成され、これにより、ＬＥＤの寿命が向上することである。ＵＶ−ＬＥＤは、モニタシステムの総コストのかなりの部分を示すため、その寿命を大幅に延ばすことは、モニタシステムの総生涯コストに大きく影響する。また、コントローラは、バイアス点を承知し、したがって、光検出器における正しい電圧範囲を予測することができる。このことは、フローセル内の物質の存在によるところの吸光度に起因する、対照の誤差の除去に役立つ。

一態様において、吸収モニタシステムであって、光源と光検出器の間に吸収検出光路を画成するように配置される光源及び光検出器と、光源の動作を制御するように構成されるコントローラとを備え、光源が、ＵＶ域の光を発光できる発光ダイオード（ＵＶ−ＬＥＤ）を備え、吸収モニタシステムが、対照光検出器を備えず、コントローラが、ＵＶ−ＬＥＤからの光出力強度の変動を補償するように構成される吸収モニタシステムが提供される。

一態様において、吸収モニタシステムは、ＵＶ−ＬＥＤの温度を記録するための温度センサを備え、コントローラは、温度変化に起因するＵＶ−ＬＥＤからの光出力強度の変動を補償するために、記録された温度に応じてＵＶ−ＬＥＤからの光出力強度を制御するように構成される。

一態様において、吸収モニタシステムでは、コントローラが、使用時間に起因するＵＶ−ＬＥＤからの光出力強度の変動を補償するために、ＵＶ−ＬＥＤが動作した総時間（ＬＥＤ使用時間）を記録し、記録されたＬＥＤ使用時間に応じてＵＶ−ＬＥＤからの光出力強度を制御するように構成される。

一態様において、吸収モニタシステムでは、コントローラが、知られている吸収能力を有する試料に関する対照吸収信号を記録及び記憶し、対照吸収信号を用いて、光検出器によって記録された吸収信号に対照補正を加えるように構成される。

一態様において、吸収モニタシステムでは、コントローラが、対照吸収信号が所定の閾値を超えたときに警告信号を供給するように構成される。

一態様において、吸収モニタシステムは、流体流路及び２つの対向する窓を有するフローセルを備え、流体流路及び２つの対向する窓は、２つの対向する窓の間に吸収検出光路を提供し、一方の窓は、ＵＶ−ＬＥＤからの光を受光するように配置され、他方の窓は、吸収検出光路からの光を光検出器へ出力するように配置される。

本発明のより完全な理解並びにそのさらなる特徴及び利点は、以下の詳細な説明及び図面への対照によって得られる。しかしながら、詳細な説明及び特定の例は、本発明の好ましい実施形態を示しているが、例証として与えられているに過ぎないことが理解されるべきである。本発明の精神及び範囲内の様々な変更例及び修正例は、以下の詳細な説明から当業者には明らかとなる。

従来技術の吸収モニタシステムの概略ブロック図である。本発明に係る吸収モニタシステムの概略ブロック図である。従来のＵＶ−ＬＥＤに関してある温度範囲にわたる光強度の例を示している。補償されない対照なしのモニタシステムを用いて記録された実験データを示しており、ここでは、ＵＶ−ＬＥＤの温度が、時間とともに段階的に変更されている。典型的なＵＶ−ＬＥＤに関して出力強度の低下の例を示している。本発明のモニタシステムを用いて同じ試料配列に関して異なる温度のＵＶ−ＬＥＤで記録された重ね合わされた４つのＵＶ吸収曲線を概略的に示している。本発明に係る吸収モニタシステムを備える液体クロマトグラフィーシステムの概略ブロック図である。

上で言及したように、本発明の吸収モニタシステムは、フローセル吸収モニタシステムとして示されるが、このシステムは、固定タイプ又は浸漬タイプなどのものであってもよいことに留意すべきである。主な特徴は、分析される試料の典型的な体積部を通る検出光のための光路が存在することである。

図１は、ＵＶ−ＬＥＤベースのフローセル吸収モニタシステム１０の形態の従来技術の吸収モニタシステムの概略図である。モニタシステム１０は、一般に、ＵＶ−ＬＥＤ２０の形態の光源と、フローセル３０と、吸収光検出器４０と、対照光検出器４２と、コントローラ５０とを備える。ＵＶ−ＬＥＤ２０は、本質的に、所望のＵＶスペクトルの光を発光できる任意のタイプのＵＶ−ＬＥＤであってもよい。開示されている実施形態では、バンドパス干渉フィルタ２２が、ＵＶ−ＬＥＤ２０と、フローセル３０の入射窓３６との間に設けられている。バンドパスフィルタ２２は、所定の狭い波長範囲の光が透過することを可能にする一方で他の波長の光が透過することを阻止する光学フィルタである。一実施形態によれば、フィルタの帯域幅は、良好な線形性及び大きなダイナミックレンジを提供するために１０ｎｍ未満又は以下であることが好ましい。代替的な実施形態によれば、バンドパスフィルタ２２は、所望の波長の十分に狭い発光スペクトルを有するＵＶ−ＬＥＤ２０を選択することによって省略されてもよい。或いは、光源２０は、２つ以上のＵＶ−ＬＥＤであって、それぞれが異なる波長の光を提供する２つ以上のＵＶ−ＬＥＤから構成されてもよく、これにより、多波長モニタシステム１０が得られてもよい。

試料に照射するために用いられるＵＶ光の波長は、特定波長のＵＶ光を発する適切なＬＥＤ（例えば、ＵＶＴＯＰ（登録商標）の２６０ｎｍもしくは２８０ｎｍのＬＥＤ）の使用によって、又は深ＵＶ（ｄｅｅｐＵＶ）のより広い発光スペクトルを有する発光ダイオードを用いることによって選択されてもよい。ＵＶＴＯＰ（登録商標）のＬＥＤは、ＳｅｎｓｏｒＥｌｅｃｔｒｏｎｉｃＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙＩｎｃ．（ＳＣ，ＵＳＡ）から入手可能である（例えば、「ＴＯ−３９」パッケージは、２５０〜３６５ｎｍの範囲で発光する多数のＵＶ−発光ダイオードを含む）。

次に、光は、ビームスプリッタ２４を透過し、ビームスプリッタ２４は、光の一部を対照光検出器４２にそらす一方で、残りは、窓３６を介してフローセル３０内の溶液に向けられる。ビームスプリッタ２４及び対照光検出器４２は、発光ダイオード２０の強度変化に追随するために、したがって、出力データの安定したベースラインを提供するために使用される。入口３２及び出口３４を有するフローセル３０は、窓３６及び３８を有し、窓３６及び３８は、ＵＶ透過性材料（サファイア、石英、又は合成溶融シリカなど）から作られ、既知の経路長を有する。それは、ＵＶ感受性フォトマルチプライヤ又はＵＶ感受性フォトダイオードのいずれかであってもよい。

試料（例えば、タンパク質又は核酸）の流体の流れを含む溶液は、単一矢印によって示されているように、入口３２及び出口３４を通ってフローセル３０を通過する。ＵＶ発光ダイオード２０は、フローセル３０内の溶液に照射するために使用され、光は、ブロック矢印によって示されているように、ＵＶ透過窓３６を通ってフローセル３０に入射する。溶液及び窓３８を透過した光（ブロック矢印によって示されている）は、次に、光検出器４０によって検出される。

次に、必要に応じて、溶液中の物質の濃度が、物質のモル吸光係数（Ｅ）が既知である場合、ランベルト・ベールの法則の使用によって求められてもよい。或いは、物質の濃度は、目的の物質に関して所定の波長（例えば、２８０ｎｍ）で以前に作成された用量反応曲線の使用によって求められてもよい。

コントローラ５０は、所望のバイアス電流を設定することによってＵＶ−ＬＥＤ２０からのＵＶ光出力を制御するように構成される。図１において、コントローラは、直流給電回路であってもよい通信線５２によってＵＶ−ＬＥＤに接続されているが、代替的に、別個のＵＶ−ＬＥＤドライバ（図示せず）が存在してもよく、この場合、別個のＵＶ−ＬＥＤドライバは、当業者によって認識されているようにコントローラ５０などによって制御される。同様に、光検出器４０及び対照検出器４２は、それぞれ通信線５６及び５４によってコントローラ５０に接続されており、通信線は、各ユニットからの記録された光強度の伝送を可能にする任意の適切な方法で実施されてもよい。コントローラ５０は、フローセル内の試料流体の吸光度を反映した対照補償出力（ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ−ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄｏｕｔｐｕｔ）を提供するように構成され、この出力は、ＵＶ−ＬＥＤ２０からの光出力の変動に関して補償されたものである。一実施形態では、コントローラ５０は、デジタルマイクロコントローラ回路７０を備え、デジタルマイクロコントローラ回路７０は、ＵＶ−ＬＥＤ２０の動作を制御するために配置された１以上のデジタル・アナログ出力及び２以上のアナログ・デジタル入力であって、それぞれが光検出器４０及び４２のそれぞれに接続される２以上のアナログ・デジタル入力を備える。コントローラ５０は、モニタシステム１０が組み込まれる流体システムの主コントローラと相互作用するための通信インターフェース（図示せず）をさらに備えるか、或いは、モニタシステム１０がスタンドアロンユニットとして動作される場合はさらにユーザインターフェースを直接備える。

多くの用途において、このタイプのモニタシステム１０の全体のコストを低減することは非常に望ましく、コストの低減を達成する１つの方法は、高価な構成要素を取り除くことである。図２は、本発明の一実施形態に係るＵＶ−ＬＥＤベースのフローセル吸収モニタシステム１０の概略図である。図２では、図１と同様の対応する特徴を示すために、同じ対照符号が使用されている。図２の実施形態では、対照検出器４２及び関連するビームスプリッタ２４が、モニタシステム１０のコスト及び複雑度を低減するために取り除かれている。

しかしながら、対照検出器４２を取り除いたことによって、モニタシステム１０からの出力は、ＵＶ−ＬＥＤ２０からの光出力の変動に関してもはや能動的に補償され得ない。このような対照なしのモニタシステム１０を実現可能にするために、本発明は、ＵＶ−ＬＥＤ２０からの安定した出力を確立するための手段を提供する。

ＵＶ−ＬＥＤの１つの周知の特性は、出力光強度に関する著しい温度依存性である。図３は、従来のＵＶ−ＬＥＤに関してある温度範囲にわたる光強度の例を示している。図３から分かるように、出力強度は、本質的に、温度に応じて逆線形である。すなわち、出力強度は、温度が上昇するにつれて線形的に低下する。図４は、補償されない対照なしのモニタシステム１０を用いて記録された実験データを示しており、そこでは、ＵＶ−ＬＥＤの温度が、時間とともに段階的に変化されている。この図から、モニタシステム１０から関連出力を得るために温度依存性を緩和する必要があることは明らかである。したがって、ＵＶ−ＬＥＤ２０の温度依存性を補償するために、モニタシステム１０は、ＵＶ−ＬＥＤ２０の温度を記録するために配置された温度センサ６２を備える。温度センサ６２は、任意の適切なセンサ（サーモレジスタ（ｔｈｅｒｍｏｒｅｓｉｓｔｏｒ）など）であってもよく、適切な通信線６４を介してコントローラ５０に接続される。一実施形態によれば、コントローラ５０は、略一定の出力強度がＵＶ−ＬＥＤ２０から得られるように、温度センサ６２によって記録された温度に応じてＵＶ−ＬＥＤ２０の出力強度を制御する（例えば、所定の温度依存性曲線に応じて、ＵＶ−ＬＥＤ２０に供給されるバイアス電流を制御することによって）ように構成される。或いは、ＵＶ−ＬＥＤ２０からの出力強度は、温度とともに変化することを許されてもよく、コントローラ５０は、所定の温度依存性曲線に基づいて、光検出器４０によって記録された吸収信号に温度補償を加えるように構成される。一実施形態によれば、ＵＶ−ＬＥＤ２０の温度は、設定温度に能動的に制御されてもよい（例えば、ＵＶ−ＬＥＤ２０の温度を所望の設定点に維持するためにＵＶ−ＬＥＤ２０を加熱及び／又は冷却するための、ペルチェ素子などの熱伝達ユニットを備える温度制御機構（図示せず）によって）。また一方で、モニタシステム１０は、周囲温度が比較的広範囲にわたって変化し得る環境で使用される場合があるため、温度制御機構は、所定の温度依存性曲線を用いる温度補償と適切に組み合わされる。

さらに、市販のＵＶ−ＬＥＤに関する、一定のバイアス電流における出力強度は、多くの場合、ＵＶ−ＬＥＤの寿命にわたって低下することが分かっている。図５は、典型的なＵＶ−ＬＥＤに関して出力強度の低下の例を示している。図５から分かるように、この特定のＵＶ−ＬＥＤに関する出力強度は、４０００時間の期間に約５０％低下する。さらに、低下の速度は、直線的ではなく、時間とともに可変であることが結論され得る。このモニタシステム１０では、コントローラ５０は、ＵＶ−ＬＥＤ２０の出力強度の減少を自動的に補償するように構成されている。一実施形態によれば、コントローラ５０は、使用時間補正（ａｇｅｃｏｒｒｅｃｔｉｏｎ）曲線を記憶するためのメモリ７２を備え、コントローラは、ＵＶ−ＬＥＤ２０が動作した総時間（ＬＥＤ使用時間（ＬＥＤ−ａｇｅ））を記録及び記憶し、使用時間補正曲線に従って、記録されたＬＥＤ使用時間における使用時間補正を加えるようにさらに構成される。温度補正と同様に、使用時間補正は、一実施形態では、ＵＶ−ＬＥＤ２０から略一定の出力強度がその寿命にわたって得られるように所定の使用時間補正曲線に従って、ＵＶ−ＬＥＤ２０に供給されるバイアス電流を制御するようにコントローラ５０を構成することによって実施されてもよい。或いは、ＵＶ−ＬＥＤ２０からの出力強度は、ＵＶ−ＬＥＤの寿命にわたって変化することを許されてもよく、コントローラ５０は、所定の使用時間補正曲線に基づいて、光検出器４０によって記録された吸収信号に使用時間補正を加えるように構成される。図５によって示されているように、ＵＶ−ＬＥＤの使用時間補正曲線は、実験を通して適切に求められる。また、異なるモデルのＵＶ−ＬＥＤは、異なる経年劣化挙動を示すと予想され得るため、モニタシステム１０に使用され得るモデルのそれぞれに関して、個々の使用時間補正曲線が必要とされ得る。図１の実施形態のように、コントローラ５０は、ＵＶ−ＬＥＤ２０の動作を制御するために配置された１以上のデジタル・アナログ出力及び光検出器４０のための１以上のアナログ・デジタル入力を備えるデジタルマイクロコントローラ回路を備えてもよい。一実施形態によれば、マイクロコントローラ回路は、ＵＶ−ＬＥＤ２０と直列に接続された電流検出抵抗（図示せず）における電圧降下を記録することによってＵＶ−ＬＥＤ２０を駆動するバイアス電流を記録するために配置される第２のアナログ・デジタル入力を備える。

一実施形態では、ＵＶ−ＬＥＤ２０のバイアス電流は、検知され、ＵＶ−ＬＥＤの使用のある時間数の後に消費される電流に関して所定のバイアス閾値と比較される。電流が、所定の閾値内にない場合、電流は、光検出器側で記録される強度を所定のレベルに設定するようにコントローラ５０によって変更される（一実施形態では、３Ｖ〜４Ｖ）。このバイアス電流調整は、前の実行中のＵＶ−ＬＥＤ２０のドリフトを補償する。記録されたバイアス電流が、電流が所定のレベルよりも高いことを示す場合、コントローラ５０は、不測の障害などに関してフローセルを調べるようユーザに要求する警告を出すように構成されてもよい。正常なバイアス電流レベルを検出したら、バイアス電流は、この実行に関して記憶される。また、ＵＶ−ＬＥＤがこの実行に使用される時間数を計数する計数器が、この時点で始動される。この計数器は、ＵＶ−ＬＥＤがこの実行中にオンされる時間数を記録するために実行の間にわたって更新される。光検出器側の電圧は、機器によってサポートされるクロマトグラフィー法のタイプに基づいて機器のために構成されてもよい。また、モニタシステムは、ＵＶ−ＬＥＤが新しいＵＶ−ＬＥＤの取り付け以後に使用された総時間数の記録を有する。さらに、所定のサイクルの較正期間が、必要に応じてユーザ要求の通りにＵＶ測定値を微調整する目的で自動較正を更新する（ｏｖｅｒ−ｒｉｄｅ）ために設けられてもよい。

このように、ＵＶ−ＬＥＤ２０を通るバイアス電流は、コントローラ５０によって制御される可変要素であり、コントローラ５０は、電流フィードバックを記録するように構成される。また、光検出器４０によって記録された強度は、コントローラ５０に供給される。これと共に、ＵＶ−ＬＥＤ２０の使用の時間数及び前の実行中に記録されたＵＶ−ＬＥＤ２０の強度が、ＵＶ−ＬＥＤ２０のライフサイクル中の最適点でＵＶ−ＬＥＤのバイアス電流を制御するインテリジェンスを構築するためにコントローラのメモリ７２に記憶される。さらに、ＵＶ−ＬＥＤに、所定の範囲内でバイアスがかけられない場合、ＵＶ−ＬＥＤの寿命は悪影響を受け得る。したがって、ＵＶ−ＬＥＤの寿命にわたるバイアスレベルの上記の制御は、出力強度の変動を補償するだけでなく、ＵＶ−ＬＥＤの寿命を大幅に延ばし得る。また、これらのデータと共に、クロマトグラフィー法も、ＵＶ−ＬＥＤ２０の寿命にわたってこの最適なバイアス点における実行に関して対照値を取得する際の誤差を回避するために自己較正中に使用される。ＵＶ−ＬＥＤのための可変バイアス電流は、ＵＶ−ＬＥＤ２０のライフサイクルにわたって最適点でＵＶ−ＬＥＤ２０にバイアスをかけることを可能にし、これにより、ＵＶ−ＬＥＤの寿命が向上する。また、コントローラ５０は、バイアス点を承知し、したがって、検出器における正しい電圧範囲を予測することができる。このことは、フローセル内の物質の存在によるところの吸光度に起因する、対照の誤差の除去に役立つ。対照信号を取得し、検証する際のインテリジェンスは、ＵＶ測定値の誤差を低減する。

一実施形態によれば、コントローラ５０は、検出サイクルの一部として対照吸収信号を記録するように構成され、この場合、対照吸収信号は、モニタシステム１０の検出帯域では本質的に吸収を行わない対照試料に関して記録される。或いは、対照試料は、検出帯域の光を吸収する所定の濃度の試料を含んでもよい。対照吸収信号は、例えば、検出サイクルの初期設定ステップとして記録されてもよく、その場合、バッファ用の又は別の対照試料が、フローセル内に供給されるが、これは、検出サイクル中の他の時点で記録されてもよい。モニタシステム１０が、手動の液体処理システムの一部の場合、ユーザは、手動で対照試料をフローセル内に供給しなければならないが、自動化されたシステムでは、対照吸収信号の記録は、部分的に又は完全に自動化されてもよい。このとき、コントローラ５０は、対照吸収信号を用いて、光検出器４０によって記録された吸収信号に対照補正を加えるように構成される。一実施形態では、対照吸収信号が、吸収を行わない対照試料に関して記録されるとき、対照吸収信号は、フローセル３０内の他の要素又は例えば堆積物などによる吸収に起因する「バックグラウンド信号」であると考えられてもよく、対照吸収信号は、対照した出力信号を提供するために、記録された信号から差し引かれてもよい。

一実施形態によれば、コントローラ５０は、ＵＶ−ＬＥＤ２０のためのバイアス点を検出及び調整するために、ＵＶ−ＬＥＤ２０を通るバイアス電流と組合せて又はこれの代わりに、ＵＶ−ＬＥＤ２０のバイアス電流を調整するために光検出器４０からの信号レベルを使用するように構成されてもよい。

図６は、本発明のモニタシステムを用いて同じ試料配列に関して異なる温度のＵＶ−ＬＥＤで記録された重ね合わされた４つのＵＶ吸収曲線を概略的に示している。開示されている図において、吸収曲線は、３℃、６℃、２５℃、及び３７℃のそれぞれに関して記録されている。図４の、温度補償を行わないシステムに関する不満足な結果と比較すると、現在の解決策が、大きく改善された安定した出力を提供することは明らかである。

図７に概略的に開示されている一実施形態によれば、モニタシステム１０は、液体クロマトグラフィーシステム１９０の一部の構成要素として含まれてもよく、液体クロマトグラフィーシステム１９０は、例えば、
流体源Ａ１、Ａ２、Ｂ１、Ｂ２から入力流体を選択するために配置された２つの三方入力弁１６０及び１６１と、
２つのシステムポンプ１５０及び１５１と、
システムポンプの後の流路内のシステム圧力を記録するための圧力センサ２００と、
ポンプによって供給された流体の適切な混合を確保するミキサ２１０と、
流体通路に試料を注入するための注入弁２２０と、
カラム２４０と流体通路とを選択的に接続／切断するためのカラム接続弁２３０と、
カラム前圧力センサ２３５及びカラム後圧力センサ２３６と、
カラムからの出力を検出するための、本発明に係るモニタシステム１０と、
導電率モニタ２６０と、
ｐＨモニタ２６５と、
２つ以上の出力位置（例えば、フラクションコレクタ２８０又は廃棄物容器などと接続された）を有する出力選択弁２７０と、
システムを通る液体の流れを制御するためにポンプ及び弁に接続され、かつ流れをモニタリングするためにセンサ及びモニタに接続されたシステムコントローラ１００（接続は、点線３１０によって示されている）と
を備える。図７の実施形態では、モニタシステムのコントローラ５０は、モニタシステムの専用コントローラであってもよいし、或いは、その機能が、システムコントローラ１００に組み込まれてもよい。

図７のクロマトグラフィーシステムは、クロマトグラフィーシステムが設計され得る方法の一般的な例を示しており、他の実施形態は、一部の構成要素を２つ以上を備え、場合によっては構成要素の一部を欠いた異なる設計であってもよい。一実施形態によれば、クロマトグラフィーシステムは、液体クロマトグラフィーシステムである。

Claims

光源と光検出器の間に吸収検出光路を画成するように配置された光源及び光検出器と、光源の動作を制御するように構成されたコントローラとを備える吸収モニタシステムであって、光源が、ＵＶ域の光を発光できる発光ダイオード（ＵＶ−ＬＥＤ）を備え、吸収モニタシステムが、対照光検出器を備えておらず、コントローラが、ＵＶ−ＬＥＤからの光出力強度の変動を補償するように構成されている、吸収モニタシステム。
ＵＶ−ＬＥＤの温度を記録するための温度センサを備え、コントローラが、温度変化に起因するＵＶ−ＬＥＤからの光出力強度の変動を補償するために、記録された温度に応じてＵＶ−ＬＥＤからの光出力強度を制御するように構成されている、請求項１に記載の吸収モニタシステム。
コントローラが、使用時間に起因するＵＶ−ＬＥＤからの光出力強度の変動を補償するために、ＵＶ−ＬＥＤが動作した総時間（ＬＥＤ使用時間）を記録し、記録されたＬＥＤ使用時間に応じてＵＶ−ＬＥＤからの光出力強度を制御するように構成されている、請求項１又は２に記載の吸収モニタシステム。
コントローラが、知られている吸収能力を有する試料に関する対照吸収信号を記録及び記憶し、対照吸収信号を用いて、光検出器によって記録された吸収信号に対照補正を加えるように構成されている、請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の吸収モニタシステム。
コントローラが、対照吸収信号が所定の閾値を超えたときに警告信号を供給するように構成されている、請求項４に記載の吸収モニタシステム。
流体流路及び２つの対向する窓を有するフローセルを備え、流体流路及び２つの対向する窓が、２つの対向する窓の間に吸収検出光路を提供しており、一方の窓が、ＵＶ−ＬＥＤからの光を受光するように配置され、他方の窓が、吸収検出光路からの光を光検出器へ出力するように配置されている、請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の吸収モニタシステム。