JP2016529835A - 容量性マイクロマシン超音波トランスデューサセル - Google Patents

容量性マイクロマシン超音波トランスデューサセル Download PDF

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Abstract

本発明は、第1の電極7を持つセルフロア31と、前記第1の電極に対向する第2の電極7'を持ち、音響エネルギの送信又は受信中に振動するセル膜5と、前記第1及び第2の電極に結合され、前記セル膜に音響周波数で振動させる及び/又は音響周波数において信号を受信させる送信器/受信器と、前記セル膜に重なり、前記セル膜に対向する内面及び患者に面する外面を持つ音響レンズ13とを有する容量性マイクロマシン超音波トランスデューサ(CMUT)セル6に関する。本発明によると、前記音響レンズは、ポリブタジエン、ポリエーテルブロックアミド(PEBAX)、ポリジメチルシロキサン(PDMS)及びブチルゴムのグループから選択された材料の少なくとも1つの層を有する。

Description

本発明は、第1の電極を持つセルフロア(cell floor)と、前記第1の電極に対向し、音響エネルギの送信又は受信中に振動する第2の電極を持つセル膜と、前記第1及び第2の電極に結合され、前記セル膜に音響周波数で振動させる及び/又は音響周波数で信号を受信させる送信器/受信器と、前記セル膜に重なり(overlaying)、前記セル膜に対向する内面及び患者に面する外面を持つ音響レンズとを有する容量性マイクロマシン超音波トランスデューサ(CMUT)セルに関する。
本発明は、更に、このようなセルを有する超音波撮像システムに関する。
いかなる超音波(撮像)システムの中心となるのは、電気エネルギを音響エネルギに変換し、戻す超音波トランスデューサである。半導体技術の近年の進歩は、容量性マイクロマシン超音波トランスデューサ(CMUT)の進歩をもたらした。これらのトランスデューサは、従来の圧電ベース超音波トランスデューサ(PZT)を置き換える潜在的な候補であると見なされる。CMUTトランスデューサセルは、膜とも称される可動機械部分を持つ空洞及び前記空洞により分離された電極の対を有する。超音波を受信する場合、超音波は、前記膜に移動又は振動させ、電極間の容量の変化が検出されることができる。これにより、超音波は、対応する電気信号に変換される。逆に、電極に印加された電気信号は、前記膜に移動又は振動させ、これにより超音波を送信する。
CMUTの利点は、半導体製造工程を使用して作成されることができ、したがって、特定用途向け集積回路(ASIC)と一体化されるのが、より容易でありうることであり、CMUTトランスデューサは、低コスト、拡張された周波数範囲、及び従来のPZTより微細な音響ピッチを提供する。
CMUTトランスデューサセルは、US2012/0320710A1から既知であり、前記セルは、図1に概略的に示される。既知のCMUTセルは、調査される対象(体)の位置に関してトランスデューサ11の裏側、すなわち、超音波伝搬の所望の方向の反対側に配置されるバッキング層12を含む。バッキング層12は、CMUT11の 前側、すなわち、超音波伝搬の方向に配置された音響レンズ14のものと実質的に同じ音響インピーダンスを持つ材料で形成される。バッキング層12が音響レンズ14と実質的に同じ音響インピーダンスを持つ材料で形成される理由は、以下のとおりである。音響インピーダンスの変化の量は、前側及び後ろ側方向において同じである。したがって、CMUTインタフェースにおける反射された波の音響エネルギは、これら2つの方向において同じ速度で分配される。これは、前記トランスデューサ及び前記バッキング層のインタフェースにおいて生じた多重反射の発生の抑制の結果となる。多重反射問題を解決するために、US2012/0320710A1は、音響レンズの材料としてシリコンゴムを利用することを提案している。
US2005/075572A1は、仰角方向において集束するマイクロマシン超音波トランスデューサアレイを記載している。湾曲レンズは、コントラスト分解能が向上され、臨床的に意義があるように、仰角方向においてビーム幅を狭めるのに使用される。代表的なレンズ材料は、GE RTV60、RTV 560及びRTV 630のようなシリコンゴムを含む。
既知のCMUTトランスデューサセルの欠点は、CMUT膜とレンズ14の材料との間の相互作用が、前記トランスデューサの音響性能を減じうることである。
本発明の目的は、改良された音響波伝搬を提供する冒頭の段落に記載された種類の容量性マイクロマシン超音波トランスデューサセルを提供することである。
この目的は、音響レンズが、ポリブタジエン、ポリエーテルブロックアミド(PEBAX)、ポリジメチルシロキサン(PDMS)及びブチルゴムのグループから選択された材料の少なくとも1つの層を有する、CMUTセルを提供することにより本発明により達成される。
材料のこのグループ、すなわち、ポリエーテルブロックアミド(PEBAX)、ポリジメチルシロキサン(PDMS)は、ブチルゴム及びポリブタジエンは、前記セルの膜に対する前記レンズの音響結合を提供する。これらの材料は、これらを通過する音響エネルギに対して、2MHzの音響周波数のエネルギに対する1.5dB以下のミリメートル単位の音響損失を示し、これらを通過する音響エネルギに対して、0.5乃至2.5mm/マイクロ秒の範囲内である音響伝搬速度を示す。
超音波トランスデューサに対して一般に使用されるレンズ材料の選択は、主に、シリコンゴムの一種である室温加硫シリコン(RTV)のようなPZTベース超音波システムの要件により規定される。CMUTは、電気エネルギの音響エネルギへの変換の異なるプロセスにより、CMUTトランスデューサの音響レンズに対して使用されうる材料に対して異なる要件を持つ。集束又は音響窓特性を持ちうる音響レンズは、音響エネルギに対する音響損失及び音響伝搬速度の範囲に対する特定の要件を満たすべきである。一例として、最適な動作に対して、PZTは、約30Mレイリーのインピーダンスを持つPZTと、1.6Mレイリーのインピーダンスを持つ水又は軟組織のような典型的な伝搬媒体との間のインピーダンス不整合の問題を解決することを目的とした追加の「整合」層を持つレンズを要求する。PZTとは異なり、CMUT音響インピーダンスは、組織のものに近い又はより低く、その結果、CMUTベース超音波トランスデューサは、PZTトランスデューサとは異なるタイプの整合層を要求する。
一般的な従来のRTV音響レンズ材料、容易に適所に流し込まれ、所望の形状に成型することにより形成される室温硬化ゴムが、通常の周波数依存減衰に加えて追加の音響損失メカニズムを導入することが、発見された。この損失は、2dBのオーダで増加された減衰及び4MHz以下の中心周波数の下降の形で現れる。
本発明による材料、すなわち、これらを通過する音響エネルギに対して、2MHzの音響周波数のエネルギに対する1.5dB以下のミリメートル単位の音響損失を示し、これらを通過する音響エネルギに対して、0.5乃至2.5mm/マイクロ秒の範囲内である音響伝搬速度を示す材料の選択は、前記CMUTから前記伝搬媒体への前記音響エネルギの優れた結合及び伝搬を提供する。従来のRTV音響材料と比較して、最小の減衰及び周波数下降が観察される。前記CMUTの前記膜に対する前記音響レンズの音響結合は、振動(移動)部分の機械的特性の最適な保存を提供し、結果として最適な音響エネルギ伝搬を生じる。
本発明の他の実施例において、前記音響レンズは、少なくとも1つの液体の層を更に有する。
材料は、200000センチポアズ以下の粘度を持つ場合に、液体であると見なされる。
本発明の他の実施例において、前記音響レンズは、少なくとも1つのゲルの層を更に有する。
ゲルは、固体の連続的な相内の液体の不連続な相の分子の分散状態、定常状態において流れを示さない架橋重合体分子の希薄な三次元ネットワークであると見なされる。
前記液体及びゲル材料は、これらを通過する音響エネルギに対して、2MHzの音響周波数のエネルギに対する1.5dB以下のミリメートル単位の音響損失を示し、これらを通過する音響エネルギに対して、0.5乃至2.5mm/マイクロ秒の範囲内である音響伝搬速度を示しうる。前記音響レンズの前記追加の層の1つとしてのこれらの利用は、前記トランスデューサから前記伝搬媒体(組織、体等)への前記音響エネルギの改良された結合及び伝達を提供する。
本発明の他の実施例において、前記CMUTセルの前記音響レンズは、以下の層、すなわち、(i)防湿バリアの層、(ii)接着材料の層、(iii)無線周波数シールドとして機能するように構成された導電性材料の層、(iv)音響波集束層、(v)外面として配置された耐久性外面層の少なくとも1つを更に有する。
前記防湿バリアの層は、湿気防止を提供し、前記導電材料の層は、無線周波数(RF)シールドとして機能するように構成されうる。本質的に、前記音響波集束層は、音響波伝搬に対する所望の集束手段を提供し、外側の患者に面する面として配置される前記耐久性外面層は、耐摩耗性、溶媒又は殺菌溶液に対する耐性を提供することができる。これらの層の厚さは、前記CMUTセルの前記膜に対するエラストマ、又は液体、又はゲル層の音響結合を保つために、可能な限り小さく、例えば20マイクロメートル以下に保たれるべきである。
本発明の一実施例において、前記液体は、水及び未硬化PDMSの1つである。
本発明の一実施例において、前記ゲルは、シリコーンゲルである。
水及びシリコーンゲルは、臨界的な剛性及び減衰特性を有し、これらの特性は、伝搬される音響波の最小の減衰及び周波数下降を生じる。
更に、本発明の他の実施例において、前記音響レンズは、ポリイミド、マイラー、ポリエチレン又はパリレンの1つである防湿バリアを更に有する。
更に、本発明の他の実施例において、前記音響レンズは、ポリイミド又はポリエチレンの1つであり、前記外面として配置された耐久性外面層を更に有する。
更に、本発明の他の実施例において、前記音響レンズは、酸化シリコンである接着材料を更に有する。
本発明のこれら及び他の態様は、以下に記載される実施例を参照して説明され、明らかになるだろう。
従来技術のCMUTセルの側面図を概略的に及び典型的に示す。 本発明による音響レンズを有するCMUTセルの側面図を概略的に及び典型的に示す。 CMUTセルに対する音響レンズのインパクトを示すように3つの超音波トランスデューサのインパルス応答を示すグラフである。 音響レンズに含まれる追加の層を有するCMUTセルの側面図を概略的に及び典型的に示す。 本発明の他の実施例による音響レンズに含まれる追加の層を有するCMUTセルの側面図を概略的に及び典型的に示す。 CMUTセルの側面図を概略的に及び典型的に示す。 膜が崩壊した膜であるCMUTセルの側面図を概略的に及び典型的に示す。 膜が「ばね」膜であるCMUTセルの側面図を概略的に及び典型的に示す。 超音波撮像システムの一実施例の概略図を示す。
図2は、本発明によるCMUTセルを断面図において概略的に及び典型的に示す。このようなCMUTセルは、典型的には、シリコンウエハのような基板4上に製造される。前記超音波システムの前記CMUTトランスデューサは、1以上のCMUTセル6を有しうる。前記CMUTセルは、個別に又は互いに組み合わせてのいずれかで作動されうる。個別のセルは、丸、長方形、六角形又は他の周囲形状を持つことができる。
各CMUTセルは、空洞8により分離された少なくとも一対の電極7'及び7を持つ。空洞8は、セルフロア31上に架けられる膜5の間に形成される。膜5は、窒化シリコンで作られてもよく、移動又は振動するように構成される。これは、複数の支持部9(図2において2つの支持部9が示される)によりセルフロア31上に架けられることができる。電極7、7'は、金属のような導電材料で作られている。底部電極7は、セルのフロア31に埋め込まれてもよく、上部電極7'は、膜5内に埋め込まれてもよい。電極7及び7'は、追加の層としてセルフロア31又は膜5上に配置されてもよい。底部電極7は、典型的には、(描かれていない)追加の層を用いて空洞に面する面において絶縁される。好適な絶縁層は、底部電極7の上かつ膜電極7'の下に形成された酸化‐窒化‐酸化(ONO)誘電層である。前記ONO誘電層は、有利には、装置不安定性及び音響出力圧力のドリフト及び減少を引き起こす前記電極における電化蓄積を減少させる。支持部9は、酸化シリコン又は窒化シリコンのような絶縁材料で作成されうる。空洞8は、空気若しくはガス充填されるか、又は全体的に若しくは部分的に真空であるかのいずれかであることができる。空洞8により分離された2つの電極7及び7'は、キャパシタンスを表す。電極7及び7'に結合された送信器/受信器32を通る電気信号の印加は、膜5の機械的な移動/振動を生じ、結果として前記キャパシタンスの変化を生じ、関連付けられたCMUTトランスデューサ電子装置により操作されることができる。
本発明の原理によると、前記CMUTセルの膜5は、前記セル膜に重なり且つ前記セル膜に対応する内面及び前記内面の反対方向に配置された外面を持つ音響レンズ13に音響的に結合される。前記外面は、超音波検査の対象であることができる患者又は対象のいずれかに面する側でありうる。本発明の際立ったフィーチャは、音響レンズ13が、ポリブタジエン、ポリエーテルブロックアミド(PEBAX)、ポリジメチルシロキサン(PDMS)及びブチルゴムのグループから選択された材料の少なくとも1つの層を有する。これらの材料は、エラストマ(20乃至60デュロメータの範囲の硬さを持つ場合にエラストマであると見なされる材料)であり、これらを通過する音響エネルギに対して、2MHzの音響周波数のエネルギに対する1.5dB以下のミリメートル単位の音響損失を示し、前記レンズは、これらを通過する音響エネルギに対して、0.5乃至2.5mm/マイクロ秒の範囲内である音響伝搬速度を更に示す。音響レンズ13は、集束又は音響窓(非集束手段)特性のいずれかを持つと理解されるべきである。
前記レンズに含まれることができるこれらの特定の材料は、音響波伝搬に対する最適な状態を提供し、前記最適な状態は、電気エネルギの音響エネルギへの変換の特定のCMUTプロセスにより規定される。
音響エネルギに対する音響伝搬速度(v)のレンズ材料特性は、密度(p)及び音響速度の積、すなわちZ=p×vとして規定される。したがって、レンズ材料としてポリエーテルブロックアミド(PEBAX)、又はポリジメチルシロキサン(PDMS)、又はブチルゴム、又はポリブタジエンのいずれかを利用する提供される利点は、これらを通過する音響エネルギに対して、2MHzの音響周波数のエネルギに対する1.5dB以下のミリメートル単位の音響損失を示し且つこれらを通過する音響エネルギに対して、0.5乃至2.0Mレイリーの範囲内である音響伝搬速度を更に示す音響レンズ13として表されることもありうる。
本発明の他の実施例において、音響レンズ13は、材料、すなわち、ポリエーテルブロックアミド(PEBAX)、ポリジメチルシロキサン(PDMS)、ブチルゴム及びポリブタジエンのグループから選択された少なくとも1つの層を有し、前記層は、好ましくは、膜13と接触する(重なる)。ポリエーテルブロックアミド(PEBAX)、硬化ポリジメチルシロキサン(PDMS)、ブチルゴム及びポリブタジエンのようなエラストマ材料は、これらを通過する音響エネルギに対して、2MHzの音響周波数のエネルギに対する1.5dB以下のミリメートル単位の音響損失と、これらを通過する音響エネルギに対して、0.5乃至2.5mm/マイクロ秒の範囲内である音響伝搬速度とを提供する要件を満たす。音響レンズ13におけるエラストマの少なくとも1つの層の利用は、CMUTトランスデューサの広い帯域幅内の前記音響信号の周波数ダウンシフト及び最小の減衰を提供しうる。
これは、図3に示される。この図は、周波数の所定の範囲内の3つの超音波トランスデューサの単一のインパルス応答のグラフを示す。
RTV560でコーティングされたPZT(円)−従来のRTVレンズ材料を重ねられ(適用され)、9MHzを中心とした比較的狭い帯域幅を持つ標準的なPZTトランスデューサアレイ。
RTV 560でコーティングされたCMUT(破線)−上(A)と同じレンズ材料であるが、同じ開口寸法を持つCMUTトランスデューサに適用される。8MHz CMUTスペクトルは、約4MHzの中心周波数で大幅にダウンシフトされている。
PEBAXでコーティングされたCMUT(点鎖線)−上(B)と同じ8MHz CMUTアレイであるが、エラストマPEBAX材料を重ねられる。中心周波数は、皆無かそれに近いダウンシフトを示し、帯域幅は、かなり大きく、PZT同等物を大きく超過する。これは、音響レンズ材料としてPEBAXのようなエラストマ材料を使用する利点を示す。
ポリエーテルブロックアミド(PEBAX)、ポリジメチルシロキサン(PDMS)、ブチルゴム及びポリブタジエン層の1つが、既知の製造プロセス、例えば、スピンコーティング、ディップコーティング、スプレーコーティング、オーバーモールディング、真空蒸着によって前記CMUTセルに適用されうる。
本発明の他の実施例において、音響レンズ13は、好ましくは膜13と接触する少なくとも1つの液体の層を更に有する。液体材料の一例は、水又は未硬化ポリジメチルシロキサン(PDMS)でありうる。更に、本発明の他の実施例において、音響レンズ13は、ゲル、例えば、シリコーンゲルの少なくとも1つの層を有する。
低減衰及び低周波数ダウンシフトのような音響レンズ13により提供される音響波伝搬利益を、超音波トランスデューサ動作に要求されうる他の特性(生体適合性、摩耗耐性等)と組み合わせるために、追加の材料層が、音響レンズ13に含められてもよい。化学蒸着、イオンスパッタリング、電子ビーム蒸着、スピンコーティング等のような材料堆積の従来の方法が、適用されることができる。
本発明の他の実施例の概略的な表現は、図4に示される。CMUTトランスデューサ6を防水にするために、薄い防湿バリア層10、例えばポリイミド、マイラー、ポリエチレン又はパリレンが、レンズ13に含められてもよい。好適な実施例において、前記防湿バリア層は、膜5の(空洞側に対向する)外面に適用されうる。前記CMUTトランスデューサの電気的遮蔽又は無線周波数シールディングに対して、金属のような導電材料1の層が、音響レンズ13に含められてもよい。CMUTトランスデューサを生体適合にするために、生体適合材料の層が、レンズ13の外側層17として適用(堆積)されてもよい。音響レンズ13の安定性及び音響伝導性を保証するために、追加の接着材料が、レンズ13の層の間の結合の改良のために含められることができる。好適な実施例において、酸化シリコンの薄層が、トランスデューサ6の膜5と接触するように堆積されてもよい。0.5マイクロメートル以下の厚さの酸化シリコンは、CMUTの機械的部分に一般に使用される窒化シリコンに対して音響レンズ13の改良された接着を提供する。
金属付着のステップは、エッチング技術(ドライ又はウェットエッチング)と組み合わせられることもありえ、金属層は、前記CMUTセルのアレイ内のボンドパッドの表面を開けるために、エッチマスクとして使用されてもよい。これは、CMUTアレイ全体に対するRFシールド及び電気相互接続を提供することを可能にする。
外側の患者に面する面として配置される耐久性外面層は、レンズ13の他の機械的特性に対処してもよい。例えば、前記超音波トランスデューサの目的に依存して、以下の層、すなわちポリイミド又はポリエチレンのようなエラストマ摩耗耐性とは異なる材料、異なる摩擦係数を持つ材料が、前記レンズに導入されてもよい。
前記エラストマ(液体及び/又はゲル)層に加えて、レンズ13は、所望の焦点への音響波の集束を提供する集束材料、例えばRTVを有してもよい。
レンズ13への追加的に導入される層の順序が、開示された実施例に限定されないことに注意することは必須である。通過する音響エネルギに対して、2MHzの音響周波数のエネルギに対する1.5dB以下のミリメートル単位の音響損失と、通過する音響エネルギに対して、0.5乃至2.5mm/マイクロ秒の範囲内である音響伝搬速度とを示すべきである音響レンズ13に対する重要な要件の1つは、追加的に導入された層が、前記音響レンズに対するCMUTトランスデューサ6の膜5の音響結合を保ち、例えば、周波数の小さいシフト及び最小の減衰が、前記トランスデューサの実行時に観測されることができることである。
前記追加の層が音響レンズ13に含められ、前記CMUTの膜5とエラストマ、液体又はゲルのいずれかの層との間に加えられる場合に、膜5及び前記エラストマの音響結合は、これらの追加の層の厚さを薄くすることにより達成されることができる。好適な実施例において、前記追加の層の厚さは、5マイクロメートル以下でありうる。
一例として、防湿バリアとして(前記空洞側の反対の)膜5の外面に適用されうるパリレンの層は、7MHzの周波数における最適な音響波伝搬に対して5マイクロメートルの厚さでありうる。
本発明の他の実施例において、CMUTトランスデューサ6の音響レンズ13は、膜5に重なるパリレンの層、前記パリレンの層に重なるブチルゴムの層、続いて、無線周波数シールドとして機能するように構成されることができる重なる金属層を有する。更に、PEBAX、PDMS、ポリブタジエンの少なくとも1つであるエラストマ層が、前記金属層に重なり、レンズ13の外側の患者に面する面に配置される。本発明の原理による音響レンズ13の所望の音響特性は、以下の層の厚さで達成されることができ、すなわち、7MHzの周波数を持つ音響波に対して、パリレン及びブチルゴム層の結合された厚さが、5マイクロメートルであり、前記金属層の厚さが、0.2マイクロメートル以下である。
本発明の他の実施例において、図5に概略的に表される。CMUTトランスデューサ6の音響レンズ13は、膜5に重なり、無線周波数シールドとして機能するように構成される金属の層21と、金属層21に重なるパリレンの層22と、パリレンの層22に重なるブチルゴム層23と、続いて、ブチルゴム層23に重なる液体25の層と、前記液体槽に重なり、レンズ13の外側の患者に面する面上に堆積されるPEBAX、PDMS、ポリブタジエンの少なくとも1つである前記エラストマ層とを有する。
この実施例において、前記パリレン及びブチルゴム層は、水の層に対してCMUT面に対する防湿バリアとして機能する。膜5に対する前記エラストマの音響結合を保つために、前記追加の層の厚さは、以前の実施例と同じに保たれることができる。前記液体層は、20マイクロメートル以下でありうる。
更に、本発明の他の実施例において、音響レンズ13は、膜5に重なる硬化又は未硬化のいずれかのPDMSと、PDMSに重なる防湿バリア及び導電層と、レンズ13の外側の患者に面する面として適用されるPEBAXのようなエラストマ材料とを有する。特定の所望の特性を持つ他の追加の層が、同様にこの実施例においてPEBAX層の上に加えられてもよい。
前記CMUTセルの係数を電気機械的に改良するために、異なるタイプの膜設計が、使用されてもよい。
本発明の他の実施例を概略的に及び典型的に示す図6Aを参照すると、CMUTセル6の膜5は、印加された電気信号の下で又は受信された音響的方法の下で振動するように構成されることができる「従来の」膜15である。膜15を有する前記CMUTセルは、例えば、犠牲層の堆積ステップ、前記膜材料の堆積ステップ、前記犠牲材料のドライ又はウェットエッチングのステップ、後に続く前記空洞を密閉するステップを有することができる既知の製造方法を使用して製造されうる。
図6Bは、本発明の更に他の実施例を示し、CMUTセル6の膜5は、崩壊した膜16である。CMUT動作中の崩壊した膜16は、セルフロア31に対して崩壊されることができ、支持部9と接触する前記膜の懸架部は、電極7の間で印加された電気信号の下で移動/振動するように構成されることができる。技術的視点から、崩壊した膜を持つCMUTは、原理的に、CMUTに膜を設けるステップと、前記膜を崩壊状態にするために、電気(バイアス電圧)又は圧力のような異なる手段を適用するステップとを有するいかなる従来の方法においても製造されることができる。
図6Cは、本発明の更に他の実施例を示し、CMUTセル6の膜5は、「ばね」膜である。前記「ばね」膜は、支持部9により支持されるばね層33及び質量層34を有する。質量層34は、上部電極7'を有し、コネクタ35を介して前記ばね層に結合される。この設計において、ばね層33は、前記層が前記CMUT動作中に振動することを可能にする可撓性材料を有し、質量層34は、好ましくは、セルフロア31に平行なままである。
図7は、超音波撮像システム202の原理的設計を示す。
前記超音波撮像システムは、大まかに参照番号202で示される。超音波撮像システム202は、例えば患者201の体の領域又は堆積をスキャンするのに使用される。超音波システム202が、他の領域又は体積、例えば動物又は他の生物の身体部分をスキャンするのに使用されてもよい。
患者201をスキャンするために、超音波プローブ200が、設けられうる。図示された実施例において、超音波プローブ200は、コンソール装置203に接続される。コンソール装置203は、モバイルコンソールとして図7に示されている。このコンソール203は、しかしながら、静止装置として実現されてもよい。コンソール装置203は、有線で形成されたインタフェース206を介してプローブ200に接続される。更に、コンソール装置203が、無線で、例えばUWB送信技術を使用してプローブ200に接続されてもよい。コンソール装置203は、入力装置205を更に有してもよい。前記入力装置は、超音波撮像システム202のユーザに入力メカニズムを提供するボタン、キーパッド及び/又はタッチスクリーンを持ちうる。加えて又は代わりに、他のメカニズムは、ユーザが超音波撮像システム202を制御することを可能にするように入力装置205内に存在してもよい。
更に、コンソール装置203は、超音波撮像システム10により生成された表示データを前記ユーザに表示するディスプレイ204を有する。これにより、超音波プローブ200によりスキャンされる患者201内の体積は、超音波システム200のユーザによりコンソール装置203上で見られることができる。
超音波プローブ200は、本発明によって構成されたCMUTトランスデューサアレイを有する。
開示された実施例に対する他の変形例は、図面、開示及び添付の請求項の検討から、請求された発明を実施する当業者により理解及び達成されることができる。
請求項において、単語「有する」は、他の要素又はステップを除外せず、不定冠詞「ある」("a" or "an")は、複数を除外しない。
単一のユニット又は装置が、請求項に記載された複数のアイテムの機能を満たしてもよい。特定の方策が相互に異なる従属請求項に記載されているという単なる事実は、これらの方策の組み合わせが有利に使用されることができないことを示さない。
コンピュータプログラムは、他のハードウェアと一緒に又は一部として供給される光記憶媒体又は半導体媒体のような適切な媒体に記憶/分配されてもよいが、インターネット又は他の有線若しくは無線電気通信システムを介するような他の形で分配されてもよい。
請求項内の参照符号は、範囲を限定すると解釈されるべきではない。

Claims (14)

  1. 容量性マイクロマシン超音波トランスデューサ(CMUT)セルにおいて、
    第1の電極を持つセルフロアと、
    前記第1の電極に対向する第2の電極を持ち、音響エネルギの送信又は受信中に振動するセル膜と、
    外面及び前記セル膜に対向する内面を持ち、前記セル膜に重なる音響レンズと、
    を有し、
    前記音響レンズが、ポリブタジエン、ポリエーテルブロックアミド(PEBAX)、ポリジメチルシロキサン(PDMS)及びブチルゴムのグループから選択された材料の少なくとも1つの層を有する、CMUTセル。
  2. 前記音響レンズが、
    (i)防湿バリア層、
    (ii)接着材料の層、
    (iii)無線周波数シールドとして機能するように結合された導電性材料の層、
    (iv)音響波集束層、
    (v)前記外面として配置された耐久性外面層、
    の少なくとも1つを有する、請求項1に記載のCMUTセル。
  3. 前記音響レンズが、少なくとも1つの液体の層を有する、請求項2に記載のCMUTセル。
  4. 前記音響レンズが、
    (i)防湿バリアの層、
    (ii)接着材料の層、
    (iii)無線周波数シールドとして機能する導電性材料の層、
    (iv)音響波集束層、
    (v)前記外面として配置された耐久性外面層、
    の少なくとも1つを有する、請求項3に記載のCMUTセル。
  5. 前記液体の層が、水及び未硬化PDMSの一方である、請求項3に記載のCMUTセル。
  6. 前記音響レンズが、少なくとも1つのゲルの層を有する、請求項1に記載のCMUTセル。
  7. 前記音響レンズが、
    (i)防湿バリアの層、
    (ii)接着材料の層、
    (iii)無線周波数シールドとして機能する導電性材料の層、
    (iv)音響波集束層、
    (v)前記外面として配置された耐久性外面層、
    の少なくとも1つを有する、請求項6に記載のCMUTセル。
  8. 前記ゲルの層が、シリコーンゲルである、請求項6に記載のCMUTセル。
  9. ポリイミド、マイラー、ポリエチレン又はパリレンの1つから作成された防湿バリア層を有する、請求項3及び6のいずれか一項に記載のCMUTセル。
  10. ポリイミド又はポリエチレンの一方から作成され、前記外面として配置された耐久性外面層を有する、請求項3及び6のいずれか一項に記載のCMUTセル。
  11. 酸化シリコンから作成された前記接着材料の層を有する、請求項3及び6のいずれか一項に記載のCMUTセル。
  12. 前記音響レンズが、前記セル膜に重なるパリレン層と、前記パリレン層に重なるブチルゴム層と、前記ブチルゴム層に重なる金属層とを有し、無線周波数シールドとして機能し、PEBAX、PDMS及びポリブタジエン層の1つが、前記レンズの前記外面として配置される、請求項1に記載のCMUTセル。
  13. 前記音響レンズが、前記セル膜に重なり、無線周波数シールドとして機能する金属の層と、前記金属層に重なるパリレン層と、前記パリレン層に重なるブチルゴム層と、前記ブチルゴム層に重なる液体の層とを有し、PEBAX、PDMS及びポリブタジエンの1つが、前記レンズの前記外面として配置される、請求項1に記載のCMUTセル。
  14. 請求項1乃至13のいずれか一項に記載のCMUTセルを有する超音波撮像システム。
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