JP2016516042A - フルオロオレフィン中のアルキン不純物の低減のための方法 - Google Patents
フルオロオレフィン中のアルキン不純物の低減のための方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016516042A JP2016516042A JP2016502369A JP2016502369A JP2016516042A JP 2016516042 A JP2016516042 A JP 2016516042A JP 2016502369 A JP2016502369 A JP 2016502369A JP 2016502369 A JP2016502369 A JP 2016502369A JP 2016516042 A JP2016516042 A JP 2016516042A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- zeolite
- mixtures
- group
- mixture
- product
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/25—Preparation of halogenated hydrocarbons by splitting-off hydrogen halides from halogenated hydrocarbons
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J29/00—Catalysts comprising molecular sieves
- B01J29/04—Catalysts comprising molecular sieves having base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites
- B01J29/06—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/07—Preparation of halogenated hydrocarbons by addition of hydrogen halides
- C07C17/087—Preparation of halogenated hydrocarbons by addition of hydrogen halides to unsaturated halogenated hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
- C07C17/20—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms
- C07C17/202—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms two or more compounds being involved in the reaction
- C07C17/206—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms two or more compounds being involved in the reaction the other compound being HX
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/38—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C17/389—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by adsorption on solids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/38—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C17/395—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by treatment giving rise to a chemical modification of at least one compound
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C19/00—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms
- C07C19/08—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms containing fluorine
- C07C19/10—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms containing fluorine and chlorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C21/00—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms
- C07C21/02—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds
- C07C21/18—Acyclic unsaturated compounds containing halogen atoms containing carbon-to-carbon double bonds containing fluorine
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/582—Recycling of unreacted starting or intermediate materials
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
Description
(i)式I、II、またはIII:
CX2=CCl−CH2X(I);
CX3−CCl=CH2(II);または
CX3−CHCl−CH2X(III)
(式中、Xは、F、Cl、Br、およびIから独立して選択され、ただし、少なくとも1つのXはフッ素ではない)
の化合物を含む出発組成物を準備するステップと、
(ii)出発組成物と第1のフッ素化剤とを接触させて、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンおよび第1の塩素含有副産物を含む第1の中間体組成物を生成するステップと、
(iii)第1の中間体組成物と第2のフッ素化剤とを接触させて、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンおよび2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを含む第2の中間体組成物を生成するステップと、
(iv)2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンおよび2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを含む第2の中間体組成物の少なくとも一部を脱塩化水素して、2,3,3,3−テトラフルオロプロペンおよびCF3C≡CH不純物を含む反応生成物を生成するステップと、
(v)ステップivの生成物と少なくとも1種のゼオライトとを接触させて、2,3,3,3−テトラフルオロプロペンを提供するステップであって、反応生成物はCF3C≡CH不純物を実質的に含まず、少なくとも1種のゼオライトは、少なくとも4オングストロームであって約5オングストローム以下の細孔開口部を有するゼオライト、少なくとも約5オングストロームの細孔開口部および約2.6以下のSanderson電気陰性度を有するゼオライト、ならびにこれらの混合物からなる群から選択され;ただし、少なくとも1種のゼオライトはゼオライト4Aではない、ステップと、
(vi)ステップ(v)において生成した、CF3C≡CH不純物の濃度が低減した2,3,3,3−テトラフルオロプロペンを回収するステップと、
を含む、調製である。ある特定の態様では、HFO−1234yfの調製は一般に、以下:
(1)固体触媒を仕込んだ気相反応器中、(CX2=CCl−CH2XまたはCX3−CCl=CH2またはCX3−CHCl−CH2X)+HF→2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1233xf)+HCl;
(2)液体ヒドロフッ素化触媒を仕込んだ液相反応器中、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペン(HCFO−1233xf)+HF→2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(HCFC−244bb);および
(3)気相反応器中、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパン(HCFC−244bb)→2,3,3,3−テトラフルオロプロペン(HFO−1234yf)
の少なくとも3つの反応ステップを一般に含み、式中、Xは、F、Cl、Br、およびIから独立して選択され、ただし、少なくとも1つのXはフッ素ではない。
CX2=CCl−CH2X(式I)
CX3−CCl=CH2(式(II)
CX3−CHCl−CH2X(式III)
[式中、Xは、F、Cl、Br、およびIから独立して選択され、ただし、少なくとも1つのXはフッ素ではない]
による1種または複数の塩素化化合物により表すことができる。特定の実施形態では、これらの化合物は、少なくとも1つの塩素を含み、Xの大部分が塩素であるか、全てのXが塩素である。
実施例1〜13において使用する前に以下の手順に従ってゼオライトを活性化した。
実施例1〜2は、HFO−1234yf中に含有されるCF3C≡CH不純物が、ゼオライト3Aにより除去することができないことを実証する。ゼオライト3Aは、約3オングストロームの細孔開口部を有し、約2.25のSanderson電気陰性度を有する。
実施例3〜4は、HFO−1234yf中に含まれるCF3C≡CH不純物が、ゼオライト4Aにより除去することができないことを実証する。ゼオライト4Aは、約4オングストロームの細孔開口部を有し、約2.32のSanderson電気陰性度を有する。
実施例5〜7は、HFO−1234yfとのその混合物中のCF3C≡CH不純物の濃度を、ゼオライト5Aとの接触後に、大幅に低減させることができることを実証する。ゼオライト5Aは、約5オングストロームの細孔開口部を有し、約2.56のSanderson電気陰性度を有する。
実施例8〜9は、HFO−1234yfとのその混合物中のCF3C≡CH不純物の濃度を、ゼオライト13Xとの接触後に、大幅に低減させることができることを実証する。ゼオライト13Xは、約8オングストロームの細孔開口部を有し、約2.38のSanderson電気陰性度を有する。
実施例10〜11は、HFO−1234yf中に含有されるCF3C≡CH不純物が、ゼオライトCBV−600により除去することができないことを実証する。ゼオライトCBV−600は、約8オングストロームの細孔開口部を有し、約2.95のSanderson電気陰性度を有する。
実施例12は、HFO−1234yfとのその混合物中のCF3C≡CH不純物の濃度が、ゼオライトAW−300との接触後に、低減させることができることを実証する。ゼオライトAW−300は、約4オングストロームの細孔開口部を有し、約2.85のSanderson電気陰性度を有する。
実施例13は、HFO−1234yfとのその混合物中のCF3C≡CH不純物の濃度が、ゼオライトAW−500との接触後に低減させることができることを実証する。ゼオライトAW−500は、約4オングストロームの細孔開口部を有し、約2.77のSanderson電気陰性度を有する。
Claims (32)
- 少なくとも1種のフルオロオレフィンおよび少なくとも1種のRfC≡CX不純物を含む混合物と、少なくとも1種のゼオライトとを接触させて、前記混合物中の前記少なくとも1種のRfC≡CX不純物の濃度を低減させるステップを含み;
(a)Rfは直鎖過フッ素化アルキル基であり、XはH、F、Cl、BrまたはIであり;
(b)前記少なくとも1種のゼオライトは、少なくとも4オングストロームであって約5オングストローム以下の細孔開口部を有するゼオライト、少なくとも約5オングストロームの細孔開口部および約2.6以下のSanderson電気陰性度を有するゼオライト、ならびにこれらの混合物からなる群から選択される;
ただし、前記少なくとも1種のゼオライトは、ゼオライト4Aではない、ことを特徴とする方法。 - 前記混合物中の少なくとも1種のフルオロオレフィンの量は、前記混合物の総重量に基づいて、少なくとも90wt%である請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1種のフルオロオレフィンは、CF3CF=CH2、CF3CH=CHF、CF3CH=CH2、CF3CCl=CH2、CF3CH=CHCl、CF3CH=CFCl、CF3CH=CF2、CF3CCl=CHF、CF3CF=CHF、CF3CF=CHCl、CF3CH=CCl2、CF3CCl=CHCl、およびこれらの混合物からなる群から選択され、前記少なくとも1種のRfC≡CX不純物は、CF3C≡CH、CF3C≡CCl、CF3C≡CF、およびこれらの混合物からなる群から選択される請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1種のフルオロオレフィンは、CF3CF=CH2、CF3CH=CHF、CF3CH=CH2、CF3CCl=CH2、CF3CH=CHCl、CF3CF=CHCl、およびこれらの混合物からなる群から選択され、前記少なくとも1種のRfC≡CX不純物は、CF3C≡CH、CF3C≡CCl、CF3C≡CF、およびこれらの混合物からなる群から選択される請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1種のフルオロオレフィンは、CF3CF=CH2、CF3CH=CHF、CF3CCl=CH2、CF3CH=CHCl、およびこれらの混合物からなる群から選択され、前記少なくとも1種のRfC≡CX不純物は、CF3C≡CH、CF3C≡CCl、およびこれらの混合物からなる群から選択される請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1種のフルオロオレフィンはCF3CF=CH2であり、前記少なくとも1種のRfC≡CX不純物は、CF3C≡CH、CF3C≡CCl、およびこれらの混合物からなる群から選択される請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1種のフルオロオレフィンはCF3CF=CH2であり、前記少なくとも1種のRfC≡CX不純物はCF3C≡CHである請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1種のフルオロオレフィンはCF3CH=CHFであり、少なくとも1種のRfC≡CX不純物は、CF3C≡CHである請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1種のフルオロオレフィンはCF3CF=CH2およびCF3CH=CHFの混合物であり、前記少なくとも1種のRfC≡CX不純物はCF3C≡CHである請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1種のフルオロオレフィンはCF3CH=CHClであり、前記少なくとも1種のRfC≡CX不純物は、CF3C≡CHである請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1種のゼオライトは、少なくとも約5オングストロームの細孔開口部および約2.6以下のSanderson電気陰性度を有する請求項1〜10の何れか一項に記載の方法。
- 前記少なくとも1種のゼオライトは、ゼオライト5A、ゼオライト13X、ゼオライトLSX、ゼオライトAW−300、ゼオライトAW−500、およびこれらの混合物からなる群から選択される請求項1〜10の何れか一項に記載の方法。
- 前記少なくとも1種のゼオライトは、ゼオライト5A、ゼオライト13X、または、これらの混合物である請求項1〜10の何れか一項に記載の方法。
- 前記混合物中の前記少なくとも1種のRfC≡CX不純物の濃度は、300ppm以下に低減される請求項1〜13の何れか一項に記載の方法。
- 前記混合物中の前記少なくとも1種のRfC≡CX不純物の量は、少なくとも約20重量%低減される請求項1〜13の何れか一項に記載の方法。
- 前記少なくともRfC≡CX不純物の濃度が低減した前記少なくとも1種のフルオロオレフィンを回収するステップを更に含む請求項1〜15の何れか一項に記載の方法。
- CF3CF=CH2、CF3CH=CHF、およびこれらの混合物からなる群から選択される少なくとも1種のヒドロテトラフルオロプロペン生成物を製造するための方法であって、
(a)CF3CFClCH3、CF3CHFCH2Cl、CF3CHClCH2F、CF3CH2CHFCl、CF3CHFCH2F、CF3CH2CF2H、CF3CF2CH3、およびこれらの混合物からなる群から選択される少なくとも1種の出発原料を脱ハロゲン化水素して、CF3C≡CH不純物および前記少なくとも1種のヒドロテトラフルオロプロペン生成物を含む生成物混合物を生成するステップと;
(b)前記生成物混合物と少なくとも1種のゼオライトとを接触させて、前記生成物混合物中の前記CF3C≡CH不純物の濃度を低減させるステップと;
(c)前記CF3C≡CH不純物の濃度が低減した前記少なくとも1種のヒドロテトラフルオロプロペン生成物を回収するステップとを含み;
前記少なくとも1種のゼオライトは、少なくとも4オングストロームであって約5オングストローム以下の細孔開口部を有するゼオライト、少なくとも約5オングストロームの細孔開口部および約2.6以下のSanderson電気陰性度を有するゼオライト、ならびにこれらの混合物からなる群から選択され;
ただし、前記少なくとも1種のゼオライトは、ゼオライト4Aではない、ことを特徴とする方法。 - 前記少なくとも1種のヒドロテトラフルオロプロペン生成物はCF3CF=CH2であり、前記少なくとも1種の出発原料は、CF3CFClCH3、CF3CHFCH2Cl、CF3CHFCH2F、CF3CF2CH3、およびこれらの混合物からなる群から選択される請求項17に記載の方法。
- 前記少なくとも1種の出発原料は、CF3CFClCH3である請求項18に記載の方法。
- 前記少なくとも1種の出発原料は、CF3CHFCH2Fである請求項18に記載の方法。
- 前記少なくとも1種のヒドロテトラフルオロプロペン生成物はCF3CH=CHFであり、前記少なくとも1種の出発原料は、CF3CH2CHF2、CF3CH2CHFCl、CF3CHClCH2F、およびこれらの混合物からなる群から選択される請求項17に記載の方法。
- 接触ステップ(b)において、前記生成物混合物中の前記CF3C≡CH不純物の濃度は、300ppm以下に低減される請求項17〜21の何れか一項に記載の方法。
- 接触ステップ(b)は、前記生成物混合物中の前記CF3C≡CH不純物の量を、最初に存在していた量に対して、少なくとも約20重量%低減させる請求項17〜21の何れか一項に記載の方法。
- CF3CCl=CH2、CF3CH=CHCl、およびこれらの混合物からなる群から選択される少なくとも1種のヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物を製造するための方法であって、
(a)CF3CCl2CH3、CF3CHClCH2Cl、CF3CHClCH2F、CF3CH2CHCl2、CF3CHFCH2Cl、CF3CFClCH3、CF3CH2CHFCl、およびこれらの混合物からなる群から選択される少なくとも1種の出発原料を脱ハロゲン化水素して、CF3C≡CH不純物および前記少なくとも1種のヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物を含む生成物混合物を生成するステップと;
(b)前記生成物混合物と少なくとも1種のゼオライトとを接触させて、前記生成物混合物中の前記CF3C≡CH不純物の濃度を低減させるステップと;
(c)前記CF3C≡CH不純物の濃度が低減した前記少なくとも1種のヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物を回収するステップとを含み;
前記少なくとも1種のゼオライトは、少なくとも4オングストロームであって約5オングストローム以下の細孔開口部を有するゼオライト、少なくとも約5オングストロームの細孔開口部および約2.6以下のSanderson電気陰性度を有するゼオライト、ならびにこれらの混合物からなる群から選択され;
ただし、前記少なくとも1種のゼオライトは、ゼオライト4Aではない、ことを特徴とする方法。 - 前記少なくとも1種のヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物はCF3CH=CHClであり、前記少なくとも1種の出発原料は、CF3CHClCH2Cl、CF3CH2CHCl2、およびこれらの混合物からなる群から選択される請求項24に記載の方法。
- 前記少なくとも1種のヒドロクロロトリフルオロプロペン生成物はCF3CHCl=CH2であり、前記少なくとも1種の出発原料は、CF3CHClCH2Cl、CF3CCl2CH3、およびこれらの混合物からなる群から選択される請求項24に記載の方法。
- 接触ステップ(b)において、前記生成物混合物中の前記CF3C≡CH不純物の濃度は、300ppm以下に低減される請求項24、25または26に記載の方法。
- 接触ステップ(b)は、前記生成物混合物中の前記CF3C≡CH不純物の量は、最初に存在していた量に対して、少なくとも約20重量%低減させる請求項24、25または26に記載の方法。
- 前記少なくとも1種のゼオライトは、少なくとも約5オングストロームの細孔開口部および約2.6以下のSanderson電気陰性度を有する請求項17〜28の何れか一項に記載の方法。
- 前記少なくとも1種のゼオライトは、ゼオライト5A、ゼオライト13X、ゼオライトLSX、ゼオライトAW−300、ゼオライトAW−500、およびこれらの混合物からなる群から選択される請求項17〜28の何れか一項に記載の方法。
- 前記少なくとも1種のゼオライトは、ゼオライト5A、ゼオライト13X、およびこれらの混合物からなる群から選択される請求項17〜28の何れか一項に記載の方法。
- 2,3,3,3−テトラフルオロプロペンを調製する方法であって、
(i)式I、II、またはIII:
CX2=CCl−CH2X(I);
CX3−CCl=CH2(II);または
CX3−CHCl−CH2X(III)
(式中、Xは、F、Cl、Br、およびIから独立して選択され、ただし、少なくとも1つのXはフッ素ではない)の化合物を含む出発組成物を準備するステップと、
(ii)出発組成物と第1のフッ素化剤とを接触させて、2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンおよび第1の塩素含有副産物を含む第1の中間体組成物を生成するステップと、
(iii)第1の中間体組成物と第2のフッ素化剤とを接触させて、2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンおよび2−クロロ−3,3,3−トリフルオロプロペンを含む第2の中間体組成物を生成するステップと、
(iv)2−クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロプロパンを含む第2の中間体組成物の少なくとも一部を脱塩化水素して、2,3,3,3−テトラフルオロプロペンおよびCF3C≡CH不純物を含む反応生成物を生成するステップと、
(v)ステップ(iv)で生成された前記反応生成物と少なくとも1種のゼオライトとを接触させて、前記生成物混合物中の前記CF3C≡CH不純物の濃度を低減させるステップであって、前記少なくとも1種のゼオライトは、少なくとも4オングストロームであって約5オングストローム以下の細孔開口部を有するゼオライト、少なくとも約5オングストロームの細孔開口部および約2.6以下のSanderson電気陰性度を有するゼオライト、ならびにこれらの混合物からなる群から選択され;
ただし、前記少なくとも1種のゼオライトはゼオライト4Aではない、ステップと、
(vi)ステップ(v)の前記生成物混合物から、前記2,3,3,3−テトラフルオロプロペンを回収するステップであって、前記2,3,3,3−テトラフルオロプロペンは、ステップ(iv)の前記反応生成物中に最初に存在していた量に対して、少なくとも低減した前記CF3C≡CH不純物の濃度である、ステップと、
を含む、ことを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201361791304P | 2013-03-15 | 2013-03-15 | |
US61/791,304 | 2013-03-15 | ||
PCT/US2014/027213 WO2014152325A1 (en) | 2013-03-15 | 2014-03-14 | Process for the reduction of alkyne impurities in fluoroolefins |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019021021A Division JP2019070050A (ja) | 2013-03-15 | 2019-02-07 | フルオロオレフィン中のアルキン不純物の低減のための方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016516042A true JP2016516042A (ja) | 2016-06-02 |
Family
ID=51581186
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016502369A Ceased JP2016516042A (ja) | 2013-03-15 | 2014-03-14 | フルオロオレフィン中のアルキン不純物の低減のための方法 |
JP2019021021A Pending JP2019070050A (ja) | 2013-03-15 | 2019-02-07 | フルオロオレフィン中のアルキン不純物の低減のための方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019021021A Pending JP2019070050A (ja) | 2013-03-15 | 2019-02-07 | フルオロオレフィン中のアルキン不純物の低減のための方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
EP (2) | EP2970055B1 (ja) |
JP (2) | JP2016516042A (ja) |
KR (1) | KR20150132289A (ja) |
CN (2) | CN107879890B (ja) |
MX (2) | MX362043B (ja) |
WO (1) | WO2014152325A1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019532977A (ja) * | 2016-11-02 | 2019-11-14 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドHoneywell International Inc. | 2,3,3,3−テトラフルオロプロペン中の3,3,3−トリフルオロプロピンを減少させる方法 |
JPWO2019221136A1 (ja) * | 2018-05-15 | 2021-05-27 | Agc株式会社 | 1−クロロ−2,3,3,4,4,5,5−ヘプタフルオロ−1−ペンテンの製造方法、および組成物 |
JP2022145954A (ja) * | 2017-12-21 | 2022-10-04 | Agc株式会社 | 2-クロロ-1,3,3,3-テトラフルオロプロペンの除去方法及び1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180000720A (ko) | 2015-05-21 | 2018-01-03 | 더 케무어스 컴퍼니 에프씨, 엘엘씨 | SbF5에 의한 1233xf의 244bb로의 히드로플루오린화 |
US10843192B2 (en) | 2015-11-04 | 2020-11-24 | Robert Bosch Gmbh | Integration of electrochemical pH modulation with lab on a chip technologies |
FR3048429B1 (fr) * | 2016-03-04 | 2019-09-27 | Arkema France | Composition azeotropique ou quasi-azeotropique comprenant de la trifluoropropyne |
WO2018092780A1 (ja) * | 2016-11-15 | 2018-05-24 | 旭硝子株式会社 | 1-クロロ-2,3,3-トリフルオロプロペンの製造方法 |
GB201701099D0 (en) | 2017-01-23 | 2017-03-08 | Mexichem Fluor Sa De Cv | Process |
US11555002B2 (en) | 2018-11-15 | 2023-01-17 | Arkema Inc. | Method to neutralize and remove HF from a crude stream containing hydrochlorofluoroolefin |
WO2021036060A1 (en) * | 2019-08-29 | 2021-03-04 | Fujian Yongjing Technology Co., Ltd | Process for preparing fluorobenzene and catalyst therefore |
CN114042432B (zh) * | 2021-11-05 | 2023-04-11 | 临海市利民化工有限公司 | 一种用于干法分离氯化氢精馏塔填料及其制备方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6440436A (en) * | 1987-08-06 | 1989-02-10 | Asahi Chemical Ind | Purification of hexafluoropropylene |
US20120065437A1 (en) * | 2008-07-31 | 2012-03-15 | Honeywell International Inc. | Process for producing 2,3,3,3-tetrafluoropropene |
US8252964B2 (en) * | 2008-07-03 | 2012-08-28 | Arkema France | Process for the purification of 2,3,3,3-tetrafluoro-1-propene (HFO-1234yf) |
GB2492847A (en) * | 2011-07-15 | 2013-01-16 | Mexichem Amanco Holding Sa | A process for reducing TFMA content in R-1234 |
JP2013508265A (ja) * | 2009-10-15 | 2013-03-07 | メキシケム、アマンコ、ホールディング、ソシエダッド、アノニマ、デ、カピタル、バリアブレ | (ヒドロ)フルオロアルケン類を精製する方法 |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5155082A (en) | 1991-04-12 | 1992-10-13 | Allied-Signal Inc. | Catalyst for the manufacture of chlorofluorocarbons, hydrochlorofluorocarbons and hydrofluorocarbons |
JPH0656713A (ja) * | 1991-04-27 | 1994-03-01 | Hoechst Ag | クロロフルオロ炭化水素の精製方法 |
US6013846A (en) | 1998-03-05 | 2000-01-11 | Elf Atochem North America, Inc. | Azeotrope of HF and 1233zd |
US7084315B2 (en) * | 2000-05-04 | 2006-08-01 | Ineos Fluor Holdings Limited | Removal of (hydro)haloalkene impurities from product streams |
US7674939B2 (en) | 2004-04-29 | 2010-03-09 | Honeywell International Inc. | Method for producing fluorinated organic compounds |
US8084653B2 (en) | 2004-04-29 | 2011-12-27 | Honeywell International, Inc. | Method for producing fluorinated organic compounds |
US8058486B2 (en) * | 2004-04-29 | 2011-11-15 | Honeywell International Inc. | Integrated process to produce 2,3,3,3-tetrafluoropropene |
US7897823B2 (en) | 2004-10-29 | 2011-03-01 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for production of azeotrope compositions comprising hydrofluoroolefin and hydrogen fluoride and uses of said azeotrope compositions in separation processes |
EP2377610A3 (en) | 2004-12-22 | 2012-02-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for increasing the fluorine content by photochemical reactions |
US7423188B2 (en) | 2005-11-01 | 2008-09-09 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Azeotrope compositions comprising E-1,3,3,3-tetrafluoropropene and hydrogen fluoride and uses thereof |
US7476771B2 (en) | 2005-11-01 | 2009-01-13 | E.I. Du Pont De Nemours + Company | Azeotrope compositions comprising 2,3,3,3-tetrafluoropropene and hydrogen fluoride and uses thereof |
US8377327B2 (en) | 2006-06-27 | 2013-02-19 | E I Du Pont De Nemours And Company | Tetrafluoropropene production processes |
WO2008002499A2 (en) | 2006-06-27 | 2008-01-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Tetrafluoropropene production processes |
WO2008001844A1 (fr) † | 2006-06-30 | 2008-01-03 | Showa Denko K.K. | Procédé de production d'hexafluoropropylène à haut degré de pureté et gaz nettoyant |
CN103483140B (zh) | 2006-10-31 | 2015-09-09 | 纳幕尔杜邦公司 | 氟丙烷、卤代丙烯以及2-氯-3,3,3-三氟-1-丙烯与hf的共沸组合物和1,1,1,2,2-五氟丙烷与hf的共沸组合物的制备方法 |
SG10201707156RA (en) * | 2008-05-07 | 2017-10-30 | Du Pont | Compositions comprising 1,1,1,2,3-pentafluoropropane or 2,3,3,3- tetrafluoropropene |
WO2009142642A1 (en) * | 2008-05-23 | 2009-11-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | High selectivity process to make dihydrofluoroalkenes |
EP2326613B1 (en) * | 2008-08-26 | 2018-10-10 | Daikin Industries, Ltd. | Producing 2,3,3,3-tetrafluoropropene |
JP5277813B2 (ja) * | 2008-09-11 | 2013-08-28 | セントラル硝子株式会社 | フッ素化プロペンの製造方法 |
US8203022B2 (en) | 2008-10-27 | 2012-06-19 | E I Du Pont De Nemours And Company | Conversion of 2-chloro-1,1,1,2-tetrafluoropropane to 2,3,3,3-tetrafluoropropene |
EP2349958A2 (en) † | 2008-10-29 | 2011-08-03 | Daikin Industries, Ltd. | Process for preparing 2,3,3,3-tetrafluoropropene |
CN102421728B (zh) | 2009-05-08 | 2014-11-19 | 纳幕尔杜邦公司 | 用于降低氟代烯烃制备中一氟乙酸盐含量的方法 |
TW201114727A (en) | 2009-06-03 | 2011-05-01 | Du Pont | Catalysts and process to manufacture 2,3,3,3-tetrafluoropropene |
US8337595B2 (en) * | 2011-04-20 | 2012-12-25 | Honeywell International Inc. | Purification of trans-1,3,3,3-tetrafluoropropene |
JP6107466B2 (ja) * | 2012-06-28 | 2017-04-05 | セントラル硝子株式会社 | トランス−1,3,3,3−テトラフルオロプロペンの精製方法 |
-
2014
- 2014-03-14 WO PCT/US2014/027213 patent/WO2014152325A1/en active Application Filing
- 2014-03-14 EP EP14770673.3A patent/EP2970055B1/en active Active
- 2014-03-14 CN CN201711164188.3A patent/CN107879890B/zh active Active
- 2014-03-14 MX MX2015012198A patent/MX362043B/es active IP Right Grant
- 2014-03-14 EP EP18183940.8A patent/EP3412647B2/en active Active
- 2014-03-14 KR KR1020157028420A patent/KR20150132289A/ko unknown
- 2014-03-14 MX MX2019000093A patent/MX370100B/es unknown
- 2014-03-14 JP JP2016502369A patent/JP2016516042A/ja not_active Ceased
- 2014-03-14 CN CN201480027843.9A patent/CN105431399B/zh active Active
-
2019
- 2019-02-07 JP JP2019021021A patent/JP2019070050A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6440436A (en) * | 1987-08-06 | 1989-02-10 | Asahi Chemical Ind | Purification of hexafluoropropylene |
US8252964B2 (en) * | 2008-07-03 | 2012-08-28 | Arkema France | Process for the purification of 2,3,3,3-tetrafluoro-1-propene (HFO-1234yf) |
US20120065437A1 (en) * | 2008-07-31 | 2012-03-15 | Honeywell International Inc. | Process for producing 2,3,3,3-tetrafluoropropene |
JP2013508265A (ja) * | 2009-10-15 | 2013-03-07 | メキシケム、アマンコ、ホールディング、ソシエダッド、アノニマ、デ、カピタル、バリアブレ | (ヒドロ)フルオロアルケン類を精製する方法 |
GB2492847A (en) * | 2011-07-15 | 2013-01-16 | Mexichem Amanco Holding Sa | A process for reducing TFMA content in R-1234 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019532977A (ja) * | 2016-11-02 | 2019-11-14 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッドHoneywell International Inc. | 2,3,3,3−テトラフルオロプロペン中の3,3,3−トリフルオロプロピンを減少させる方法 |
JP2022145954A (ja) * | 2017-12-21 | 2022-10-04 | Agc株式会社 | 2-クロロ-1,3,3,3-テトラフルオロプロペンの除去方法及び1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法 |
JP7371738B2 (ja) | 2017-12-21 | 2023-10-31 | Agc株式会社 | 2-クロロ-1,3,3,3-テトラフルオロプロペンの除去方法及び1-クロロ-2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法 |
JPWO2019221136A1 (ja) * | 2018-05-15 | 2021-05-27 | Agc株式会社 | 1−クロロ−2,3,3,4,4,5,5−ヘプタフルオロ−1−ペンテンの製造方法、および組成物 |
JP7331844B2 (ja) | 2018-05-15 | 2023-08-23 | Agc株式会社 | 1-クロロ-2,3,3,4,4,5,5-ヘプタフルオロ-1-ペンテンの製造方法、および組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2970055A4 (en) | 2016-11-23 |
MX2015012198A (es) | 2015-11-30 |
EP2970055A1 (en) | 2016-01-20 |
EP2970055B1 (en) | 2018-07-25 |
EP3412647A1 (en) | 2018-12-12 |
JP2019070050A (ja) | 2019-05-09 |
WO2014152325A1 (en) | 2014-09-25 |
CN107879890B (zh) | 2022-01-18 |
KR20150132289A (ko) | 2015-11-25 |
MX370100B (es) | 2019-12-02 |
CN107879890A (zh) | 2018-04-06 |
CN105431399A (zh) | 2016-03-23 |
CN105431399B (zh) | 2017-12-26 |
EP3412647B1 (en) | 2020-10-28 |
MX362043B (es) | 2019-01-07 |
EP3412647B2 (en) | 2024-02-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP2970055B1 (en) | Process for the reduction of alkyne impurities in fluoroolefins | |
EP2867193B1 (en) | Process for the reduction of rfccx impurities in fluoroolefins | |
US10343961B2 (en) | Process for the reduction of RfC=CX impurities in fluoroolefins | |
KR102052141B1 (ko) | 2,3,3,3-테트라플루오로프로펜의 제조 방법 | |
KR20100068242A (ko) | 플루오르화 유기 화합물 제조방법 | |
JP6184968B2 (ja) | 2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法 | |
JP6271431B2 (ja) | 2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法 | |
JP2014533276A (ja) | ヒドロハロアルカンを製造する触媒的フッ素化プロセス | |
US10087127B2 (en) | Process for producing 2,3,3,3-tetrafluoropropene | |
US11905226B2 (en) | Process for the reduction of RƒC≡CX impurities in fluoroolefins | |
Nappa et al. | Process for the reduction of R f C= CX impurities in fluoroolefins |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170223 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20171109 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20171114 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20180214 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20180416 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180514 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180904 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181204 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190108 |
|
A045 | Written measure of dismissal of application [lapsed due to lack of payment] |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045 Effective date: 20190528 |