JP2016514324A5 - - Google Patents

Description

本明細書において用いられている術語は、特定の実施形態を説明するためのものにすぎず、本発明を限定することを意図するものではない。数量を指定していない名詞は、本明細書において用いられるとき、文脈上明らかに別段の指定がない限り、単数形だけでなく複数形も含むように意図されている。「備える」及び／又は「含む」という用語は、この明細書及び特許請求の範囲において用いられるとき、明記された特徴、完全体、ステップ、動作、要素、及び／又は構成要素の存在を指定しているが、１つ又は複数の他の特徴、完全体、ステップ、動作、要素、構成要素、及び／又はそれらの群の存在又は追加を排除するものではないことが更に理解されるであろう。添付の特許請求の範囲における全ての手段又はステップに機能を加えた要素の対応する構造、材料、動作、及び均等物は、その機能を、具体的に請求項に記載されている他の請求項記載の要素と組み合わせて実行するための任意の構造、材料、又は動作を含むように意図されている。本発明の説明は、例示及び説明の目的で提示されており、網羅的であることも、開示された形態の発明に限定されることも意図するものではない。本発明の範囲及び趣旨から逸脱することなく、多くの変更形態及び変形形態が当業者に明らかであろう。実施形態は、本発明の原理及び実用的な用途を説明するとともに、他の当業者が、考慮されている特定の使用に適するように様々な変更を有する様々な実施形態について本発明を理解することを可能にするために選ばれて記載されたものである。請求項の範囲は、開示の実施形態及び任意のそのような変更を広く包含するように意図されている。
なお、本発明は以下の特徴を以って実施することができる。
［特徴１］
質量流量制御器を改良するための方法であって、該方法は、前記質量流量制御器が、プロセッサを用いて、
ゼロから非ゼロへの設定点変更の初期応答の間に流量を監視することと、
バルブ応答が許容限度内に収まっているか否かを判断することと、
前記バルブ応答が前記許容限度内に収まっていないとの判断に応答して、前記バルブ応答を補正する自己調整を自動的に行うことと、
を含む動作を行う命令を実行することを含む、質量流量制御器を改良するための方法。
［特徴２］
前記バルブ応答を補正する前記自己調整は、制御ループの比例、積分、及び微分（ＰＩＤ）のパラメーターを調整することを含む特徴１に記載の方法。
［特徴３］
前記バルブ応答を補正する前記自己調整は、ペデスタルパラメーターを調整して、経時的に発生する変化を補正することを含む特徴１に記載の方法。
［特徴４］
前記バルブ応答を補正する前記自己調整は、流入口圧力の関数としてペデスタルを調整することを含む特徴１に記載の方法。
［特徴５］
前記バルブペデスタル値を流入口圧力の関数として調整することは、次のように求められ、
Ｐｅｄｅｓｔａｌ＝Ｐｒ _actual ＊（Ｐｅｄ _high −Ｐｅｄ _low ）／（Ｐｒ _high −Ｐｒ _low ）＋Ｐｒ０、
ここで、Ｐｒ _actual は、測定された圧力であり、Ｐｅｄ _high 、Ｐｅｄ _low は、工場調整プロセスの間に高圧力及び低圧力において得られたそれぞれのペデスタル値であり、Ｐｒ０は、前記工場調整プロセスの終了時に求められた定数である特徴４に記載の方法。
［特徴６］
前記バルブ応答が前記許容限度内に収まっているか否かを判断することは、
最終設定点の第１のパーセンテージに達する第１の測定された値を求めることと、
前記最終設定点の第２のパーセンテージに達する第２の測定された値を求めることと、
を含む特徴１に記載の方法。
［特徴７］
前記バルブ応答が前記許容限度内に収まっているか否かを判断することは、前記流量が前記最終設定点を最初に通過する時に発生するオーバーシュートの第３の測定された値を求めることを更に含む特徴６に記載の方法。
［特徴８］
ペデスタルパラメーターを調整することは、次のように行われ、
Ｐｅｄ _corrected ＝Ｐｅｄｅｓｔａｌ＊（１＋Ｐ _{correctionfactor} ）、
ここで、Ｐｅｄｅｓｔａｌ＝Ｐｒ _actual ＊（Ｐｅｄ _high −Ｐｅｄ _low ）／（Ｐｒ _high −Ｐｒ _low ）＋Ｐｒ０であり、Ｐｒ _actual は、測定された圧力であり、Ｐｅｄ _high 、Ｐｅｄ _low は、工場調整プロセスの間に高圧力及び低圧力において得られたそれぞれのペデスタル値であり、Ｐｒ０は、前記工場調整プロセスの終了時に求められた定数であり、
Ｐ _{correctionfactor} は、前記設定点変更後に反復して調整され、ここで、前記バルブ応答が過度に速い場合には、前記Ｐ _{correctionfactor} は、少しずつディクリメントされ、前記応答が過度に遅い場合には、前記Ｐ _{correctionfactor} は、少しずつインクリメントされる特徴３に記載の方法。
［特徴９］
前記ペデスタルパラメーターは、メモリに保存される特徴８に記載の方法。
［特徴１０］
前記質量流量制御器は、前記プロセッサを用いて、メモリに保存された前記ペデスタルパラメーターに基づいて電力サイクル後に補正を引き続き行う命令を実行するように更に構成されている特徴９に記載の方法。
［特徴１１］
質量流量制御器であって、
流体を受け取る流入口と、
前記流体が該質量流量制御器を通過する流路と、
前記流路を通る前記流体の質量流量に対応する信号を提供する質量流量センサーと、
該質量流量制御器の流出口から出る前記流体の流量を調整するバルブと、
以下の作用をなす命令を実行するように構成された少なくとも１つの処理構成要素とを具備し、
前記作用は、
ゼロから非ゼロへの設定点変更の初期応答の間に流量を監視することと、
バルブ応答が許容限度内に収まっているか否かを判断することと、
前記バルブ応答が前記許容限度内に収まっていないとの判断に応答して、前記バルブ応答を補正する自己調整を自動的に行うこととを含んで成る質量流量制御器。
［特徴１２］
前記バルブ応答を補正する前記自己調整は、制御ループの比例、積分、及び微分（ＰＩＤ）のパラメーターを調整することを含む特徴１１に記載の質量流量制御器。
［特徴１３］
前記バルブ応答を補正する前記自己調整は、ペデスタルパラメーターを調整して、経時的に発生する変化を補正することを含む特徴１１に記載の質量流量制御器。
［特徴１４］
前記バルブ応答を補正する前記自己調整は、流入口圧力の関数としてペデスタルを調整することを含む特徴１１に記載の質量流量制御器。
［特徴１５］
前記バルブペデスタル値を流入口圧力の関数として調整することは、次のように求められ、
Ｐｅｄｅｓｔａｌ＝Ｐｒ _actual ＊（Ｐｅｄ _high −Ｐｅｄ _low ）／（Ｐｒ _high −Ｐｒ _low ）＋Ｐｒ０
ここで、Ｐｒ _actual は、測定された圧力であり、Ｐｅｄ _high 、Ｐｅｄ _low は、工場調整プロセスの間に高圧力及び低圧力において得られたそれぞれのペデスタル値であり、Ｐｒ０は、前記工場調整プロセスの終了時に求められた定数である特徴１４に記載の質量流量制御器。
［特徴１６］
前記バルブ応答が前記許容限度内に収まっているか否かを判断することは、
最終設定点の第１のパーセンテージに達する第１の測定された値を求めることと、
前記最終設定点の第２のパーセンテージに達する第２の測定された値を求めることと、
を含む特徴１１に記載の質量流量制御器。
［特徴１７］
前記バルブ応答が前記許容限度内に収まっているか否かを判断することは、
前記流量が前記最終設定点を最初に通過する時に発生するオーバーシュートの第３の測定された値を求めること、
を更に含む特徴１６に記載の質量流量制御器。
［特徴１８］
ペデスタルパラメーターを調整することは、次のように行われ、
Ｐｅｄ _corrected ＝Ｐｅｄｅｓｔａｌ＊（１＋Ｐ _{correctionfactor} ）、
ここで、Ｐｅｄｅｓｔａｌ＝Ｐｒ _actual ＊（Ｐｅｄ _high −Ｐｅｄ _low ）／（Ｐｒ _high −Ｐｒ _low ）＋Ｐｒ０であり、Ｐｒ _actual は、測定された圧力であり、Ｐｅｄ _high 、Ｐｅｄ _low は、工場調整プロセスの間に高圧力及び低圧力において得られたそれぞれのペデスタル値であり、Ｐｒ０は、前記工場調整プロセスの終了時に求められた定数であり、
Ｐ _{correctionfactor} は、前記設定点変更後に反復して調整され、ここで、前記バルブ応答が過度に速い場合には、前記Ｐ _{correctionfactor} は、少しずつディクリメントされ、前記応答が過度に遅い場合には、前記Ｐ _{correctionfactor} は、少しずつインクリメントされる特徴１３に記載の質量流量制御器。
［特徴１９］
前記ペデスタルパラメーターは、メモリに保存される特徴１８に記載の質量流量制御器。
［特徴２０］
質量流量制御器を改良するための方法であって、該方法は、前記質量流量制御器が、プロセッサを用いて、
ペデスタルを流入口圧力の関数として調整することと、
ゼロから非ゼロへの設定点変更の初期応答の間に流量を監視することと、
バルブ応答が許容限度内に収まっているか否かを判断することと、
前記バルブ応答が前記許容限度内に収まっていないとの判断に応答して、前記バルブ応答を補正する自己調整を自動的に行うこととを含む動作を行う命令を実行することを含む質量流量制御器を改良するための方法。

Claims (3)

1. 質量流量制御器を改良するための方法において、
   該方法は、前記質量流量制御器が、プロセッサを用いて、
   ゼロから非ゼロへの設定点変更の初期応答の間に流量を監視することと、
   バルブ応答が許容限度内に収まっているか否かを判断することと、
   前記バルブ応答が前記許容限度内に収まっていないとの判断に応答して、前記バルブ応答を補正する自己調整を自動的に行うこととを含む動作を行う命令を実行することを含む質量流量制御器を改良するための方法。
2. 質量流量制御器において、
   流体を受け取る流入口と、
   前記流体が該質量流量制御器を通過する流路と、
   前記流路を通る前記流体の質量流量に対応する信号を提供する質量流量センサーと、
   該質量流量制御器の流出口から出る前記流体の流量を調整するバルブと、
   以下の作用をなす命令を実行するように構成された少なくとも１つの処理構成要素とを具備し、
   前記作用は、
   ゼロから非ゼロへの設定点変更の初期応答の間に流量を監視することと、
   バルブ応答が許容限度内に収まっているか否かを判断することと、
   前記バルブ応答が前記許容限度内に収まっていないとの判断に応答して、前記バルブ応答を補正する自己調整を自動的に行うこととを含んで成る質量流量制御器。
3. 質量流量制御器を改良するための方法において、
   該方法は、前記質量流量制御器が、プロセッサを用いて、
   ペデスタルを流入口圧力の関数として調整することと、
   ゼロから非ゼロへの設定点変更の初期応答の間に流量を監視することと、
   バルブ応答が許容限度内に収まっているか否かを判断することと、
   前記バルブ応答が前記許容限度内に収まっていないとの判断に応答して、前記バルブ応答を補正する自己調整を自動的に行うこととを含む動作を行う命令を実行することを含む質量流量制御器を改良するための方法。