JP2016502132A - リソグラフィ装置 - Google Patents
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Abstract
Description
[0001] 本出願は、2012年10月26日に出願された米国仮出願第61/718,908号の利益を主張し、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。
ここで、λは、使用される放射の波長であり、NAは、パターンを印刷するために使用される投影システムの開口数であり、k1は、レイリー定数とも呼ばれているプロセス依存調整係数であり、CDは、印刷されたフィーチャのフィーチャサイズ(又はクリティカルディメンジョン)である。式(1)から、フィーチャの最小印刷可能サイズは、露光波長λを短くすること、開口数NAを大きくすること、あるいはk1の値を小さくすること、の3つの方法によって縮小することができると言える。
1.ステップモードにおいては、サポート構造(例えば、マスクテーブル)MT及び基板テーブルWTを基本的に静止状態に保ちつつ、放射ビームに付けられたパターン全体を一度にターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一静的露光)。その後、基板テーブルWTは、X及び/又はY方向に移動され、それによって別のターゲット部分Cを露光することができる。
2.スキャンモードにおいては、サポート構造(例えば、マスクテーブル)MT及び基板テーブルWTを同期的にスキャンする一方で、放射ビームに付けられたパターンをターゲット部分C上に投影する(すなわち、単一動的露光)。サポート構造(例えば、マスクテーブル)MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの(縮小)拡大率及び像反転特性によって決めることができる。
3.別のモードにおいては、プログラマブルパターニングデバイスを保持した状態で、サポート構造(例えば、マスクテーブル)MTを基本的に静止状態に保ち、また基板テーブルWTを動かす、又はスキャンする一方で、放射ビームに付けられているパターンをターゲット部分C上に投影する。このモードにおいては、通常、パルス放射源が採用されており、さらにプログラマブルパターニングデバイスは、基板テーブルWTの移動後ごとに、又はスキャン中の連続する放射パルスと放射パルスとの間に、必要に応じて更新される。この動作モードは、前述の型のプログラマブルミラーアレイといったプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
i. 個別レーザのアレイとビーム圧縮システムとを備える放射源を含むリソグラフィ装置であって、前記レーザは、使用中に燃料ターゲットが供給され得る共通焦点に集束するように構成される、リソグラフィ装置。
ii. 前記レーザはファイバレーザである、条項iに係る装置。
iii. 前記放射源は光軸を含み、前記複数の個別レーザは、前記光軸に平行な放射を放出するように配置される、条項i又はiiに係る装置。
iv. 前記レーザは、前記光軸について対称的に配置される、条項iiiに係る装置。
v. 光学システムが、前記個別レーザのアレイからの放射を集光し、かつ前記放射を前記共通焦点に集束させる、条項i乃至ivのいずれか1項に係る装置。
vi. 前記光学システムは、望遠鏡光学システムである、条項vに係る装置。
vii. 前記光学システムは、前記複数の個別レーザによって放出された放射を集光するための第1ミラーと、前記第1ミラーからの放射を受け、かつ前記放射を最終集束レンズに誘導する第2ミラーとを含む、条項viに係る装置。
viii. オリフィスが、前記第1ミラーと前記第2ミラーとの間に設けられる、条項viiに係る装置。
ix. 前記第1ミラーには、光軸上に位置付けられた開口部が形成される、条項vii又はviiiに係る装置。
x. 前記共通焦点での点火のための燃料ターゲットを搬送するための燃料搬送システムと、前記燃料ターゲットの点火によって生成された放射を集光するためのコレクタと、をさらに備え、前記コレクタは、前記共通焦点と前記第1ミラーとの間に設けられる、条項ixに係る装置。
xi. 前記コレクタは開口部を有し、前記燃料搬送システムは、前記第1ミラーの前記開口部及び前記コレクタの前記開口部を通って延在する、条項xに係る装置。
xii. 前記開口部は、前記光軸上に設けられる、条項xiに係る装置。
xiii. 前記コレクタは前記光軸上に位置付けられた開口部を有し、ガス流ガイドが、ガスを前記コレクタの表面に搬送するために前記第1ミラーの前記開口部及び前記コレクタの前記開口部を通って延在する、条項xに係る装置。
xiv. 前記個別のレーザのアレイは、光軸について、前記レーザによって放出された放射が前記光軸に向かって誘導されるように配置される、条項i又はiiに係る装置。
xv. 前記ビーム圧縮システムは、前記放射を前記共通焦点に集束させるために設けられた最終集束レンズを備える、条項xivに係る装置。
xvi. 複数の個別レーザによって放出された放射は、複数のダイクロイックミラーによって単一の放射ビームに合成される、先行する条項のいずれかに係る装置。
xvii. 前記個別レーザは、取付け板に取り付けられる、先行する条項のいずれかに係る装置。
xviii. 各個別レーザにはコリメータが設けられる、先行する条項のいずれかに係る装置。
xix. 前記個別レーザのアレイは、2以上のグループとして配置され、それによって各前記グループは個別に制御され得る、先行する条項のいずれかに係る装置。
xx. 1つの前記グループのレーザは、別の前記グループのレーザと異なる時点で点火され得る、条項xixに係る装置。
xxi. 1つのグループのレーザからの放射は、別のグループのレーザと異なる位置に集束し得る、条項xix又はxxに係る装置。
xxii. 個別レーザ又はレーザグループは、時間の関数としてのパワーパルスを整形するように順に点火され得る、条項xixに係る装置。
xxiii. 選択された1つ以上のレーザグループは、プレパルスを提供するように構成され得る、条項xixに係る装置。
xxiv. 前記プレパルスを提供する1つ以上のレーザグループは、残りのレーザと異なる位置に集束する、条項xxiiiに係る装置。
xxv. 前記プレパルスを提供する前記1つ以上のレーザグループは、残りのレーザと異なる波長で動作する、条項xxiii又はxxivに係る装置。
xxvi. 前記個別レーザは、1〜5μmの波長で放射を放出する、先行する条項のいずれかに係る装置。
xxvii. 各前記個別レーザは、1Wを超えるパワーで放出する、先行する条項のいずれかに係る装置。
xxviii. 前記ファイバレーザの少なくともいくつかには、前記ファイバレーザの一区間を加熱することによって、又は前記ファイバレーザに機械的応力をかけることによって、位相制御が設けられ得る、先行する条項のいずれかに係る装置。
xxix. 各前記ファイバレーザにはコリメータが設けられる、先行する条項のいずれかに係る装置。
xxx. 前記コリメータは、各ファイバレーザの端部に位置付けられ、各前記コリメータ及び各前記ファイバレーザ端部は、液体に浸漬される、条項xxixに係る装置。
xxxi. 前記個別レーザは、光学システム内の制御された熱負荷を提供するように制御され得る、先行する条項のいずれかに係る装置。
xxxii. リソグラフィ装置で使用するための放射を生成する方法であって、燃料ターゲットを点火位置に供給することと、レーザ放射を用いて前記燃料ターゲットに点火してプラズマを生成することと、を含み、前記レーザ放射は、ビーム圧縮システムによって共通焦点に集束するように構成された個別レーザのアレイから放出される、方法。
xxxiii. 前記レーザはファイバレーザである、条項xxxiiに係る方法。
xxxiv. 前記放射源は光軸を含み、前記複数の個別レーザは、前記光軸に平行な放射を放出するように配置される、条項xxxii又はxxxiiiに係る方法。
xxxv. 前記ファイバレーザを前記光軸について対称的に設けることを含む、条項xxxivに係る方法。
xxxvi. 前記複数の個別レーザからの放射を集光し、かつ前記放射を前記共通焦点に集束させるように構成された光学システムを設けることを含む、先行する条項のいずれかに係る方法。
xxxvii. 前記光学システムは、望遠鏡光学システムである、条項xxxviに係る方法。
xxxviii. 前記光学システムは、前記複数の個別レーザによって放出された放射を集光するための第1ミラーと、前記第1ミラーからの放射を受け、かつ前記放射を最終集束レンズに誘導する第2ミラーとを含む、条項xxxviiに係る方法。
xxxix. 前記第1ミラーと前記第2ミラーとの間に、後方散乱放射を遮断するように適合された遮断要素を設けることを含む、条項xxxviiiに係る方法。
xl. 前記第1ミラーに、前記光軸上に位置付けられた開口部を形成することを含む、条項xxxviii又はxxxixに係る方法。
xli. 前記共通焦点での点火のための燃料ターゲットを搬送することと、前記燃料ターゲットの点火によって生成された放射をコレクタによって集光することと、をさらに含む、条項xlに係る方法。
xlii. 前記第1ミラーの開口部及び前記コレクタの前記開口部を通って燃料搬送システムを延在させることを含む、条項xliに係る方法。
xliii. 前記開口部を前記光軸上に設けることを含む、条項xliiに係る方法。
xliv. 前記第1ミラーの開口部及び前記コレクタの開口部を通って延在するガス流ガイドを介してガスを前記コレクタの表面に搬送することを含む、条項xliに係る方法。
xlv. 前記レーザによって放出された放射が前記光軸に向かって誘導されるように、前記複数の個別レーザを光軸について配置することを含む、条項xxxiiに係る方法。
xlvi. 最終集束レンズによって前記放射を前記共通焦点に集束させることを含む、条項xlvに係る方法。
xlvii. 複数のダイクロイックミラーを用いて、複数の個別レーザによって放出された放射を単一の放射ビームに合成することを含む、条項xxxiiに係る方法。
xlviii. 前記個別レーザを取付け板に取り付けることを含む、条項xxxii乃至xlviiのいずれか1項に係る方法。
xlix. 各個別レーザの出力はコリメートされる、条項xxxii乃至xlviiiのいずれか1項に係る方法。
l. 前記個別レーザのアレイを1つ以上のグループとして配置し、それによって各前記グループは個別に制御され得ることを含む、先行する条項のいずれかに係る方法。
li. 1つの前記グループのレーザは、別の前記グループのレーザと異なる時点で点火され得る、条項lに係る方法。
lii. 1つのグループのレーザからの放射は、別のグループのレーザと異なる位置に集束し得る、条項l又はliに係る方法。
liii. 個別レーザ又はレーザグループは、時間の関数としてのパワーパルスを整形するように順に点火され得る、条項lに係る方法。
liv. 選択された1つ以上のレーザグループは、プレパルスを提供するように構成され得る、条項lに係る方法。
lv. 前記プレパルスを提供する1つ以上のレーザグループは、残りのレーザと異なる位置に集束する、条項livに係る方法。
lvi. 前記プレパルスを提供する前記1つ以上のレーザグループは、残りのレーザと異なる波長で動作する、条項lvi又はlvに係る方法。
lvii. 前記個別レーザは、1〜5μmの波長で放射を放出する、条項xxxii乃至lviのいずれか1項に係る方法。
lviii. 各前記個別レーザは、1Wを超えるパワーで放出する、条項xxxii乃至lviiのいずれか1項に係る方法。
lix. 前記ファイバレーザの少なくともいくつかには、前記ファイバレーザの一区間を加熱することによって、又は前記ファイバレーザに機械的応力をかけることによって、位相制御が設けられ得る、条項xxxii乃至lviiiのいずれか1項に係る方法。
lx. 各前記ファイバレーザにはコリメータが設けられる、条項xxxii乃至lixのいずれか1項に係る方法。
lxi. 各ファイバレーザの端部に前記コリメータを位置付けることと、各前記コリメータ及び各前記ファイバレーザ端部を液体に浸漬することとを、を含む、条項lxに係る方法。
lxii. 前記個別レーザを制御して光学システム内の制御された熱負荷を提供することをさらに含む、条項xxxii乃至lxiのいずれか1項に係る方法。
lxiii. リソグラフィ装置であって、個別レーザのアレイとビーム圧縮システムとを備える放射源を備え、前記レーザは、燃料ターゲットが供給される共通焦点に集束するように構成される、リソグラフィ装置。
lxiv. 前記レーザはファイバレーザである、条項lxiiiの装置。
lxv. 前記放射源は光軸を含み、前記複数の個別レーザは、前記光軸に平行な放射を放出するように配置される、条項lxiiiの装置。
lxvi. 前記レーザは、前記光軸について対称的に配置される、条項lxvの装置。
lxvii. 光学システムが、前記個別レーザのアレイからの放射を集光し、かつ前記放射を前記共通焦点に集束させる、条項lxiiiの装置。
lxviii. 前記光学システムは、望遠鏡光学システムである、条項lxviiの装置。
lxix. 前記光学システムは、前記複数の個別レーザによって放出された放射を集光するための第1ミラーと、前記第1ミラーからの放射を受け、かつ前記放射を最終集束レンズに誘導する第2ミラーとを含む、条項lxviiiの装置。
lxx. オリフィスが、前記第1ミラーと前記第2ミラーとの間に設けられる、条項lxixの装置。
lxxi. 前記第1ミラーには、光軸上に位置付けられた開口部が形成される、条項lxxの装置。
lxxii. 前記共通焦点での点火のための燃料ターゲットを搬送するための燃料搬送システムと、前記燃料ターゲットの点火によって生成された放射を集光するためのコレクタと、をさらに備え、前記コレクタは、前記共通焦点と前記第1ミラーとの間に設けられる、条項lxxiの装置。
lxxiii. 前記コレクタは開口部を有し、前記燃料搬送システムは、前記第1ミラーの前記開口部及び前記コレクタの前記開口部を通って延在する、条項lxxiiの装置。
lxxiv. 前記開口部は、前記光軸上に設けられる、条項lxxiiiの装置。
lxxv. 前記コレクタは前記光軸上に位置付けられた開口部を有し、ガス流ガイドが、ガスを前記コレクタの表面に搬送するために前記第1ミラーの前記開口部及び前記コレクタの前記開口部を通って延在する、条項lxxiiの装置。
lxxvi. 前記個別のレーザのアレイは、前記レーザによって放出された放射が前記光軸に向かって誘導されるように、光軸について配置される、条項lxiiiの装置。
lxxvii. 前記ビーム圧縮システムは、前記放射を前記共通焦点に集束させるために設けられた最終集束レンズを備える、条項lxxviの装置。
lxxviii. 複数の個別レーザによって放出された放射は、複数のダイクロイックミラーによって単一の放射ビームに合成される、条項lxiiiの装置。
lxxix. 前記個別レーザは、取付け板に取り付けられる、条項lxiiiの装置。
lxxx. 各個別レーザにはコリメータが設けられる、条項lxiiiの装置。
lxxxi. 前記個別レーザのアレイは、2以上のグループとして配置され、それによって各前記グループは個別に制御され得る、条項lxiiiの装置。
lxxxii. 1つの前記グループのレーザは、別の前記グループのレーザと異なる時点で点火され得る、条項lxxxiの装置。
lxxxiii. 1つのグループのレーザからの放射は、別のグループのレーザと異なる位置に集束し得る、条項lxxxiiの装置。
lxxxiv. 個別レーザ又はレーザグループは、時間の関数としてのパワーパルスを整形するように順に点火され得る、条項lxxxiの装置。
lxxxv. 選択された1つ以上のレーザグループは、プレパルスを提供するように構成され得る、条項lxxxiの装置。
lxxxvi. 前記プレパルスを提供する1つ以上のレーザグループは、残りのレーザと異なる位置に集束する、条項lxxxvの装置。
lxxxvii. 前記プレパルスを提供する前記1つ以上のレーザグループは、残りのレーザと異なる波長で動作する、条項lxxxviの装置。
lxxxviii. 前記個別レーザは、1〜5μmの波長で放射を放出する、条項lxiiiの装置。
lxxxix. 各前記個別レーザは、1Wを超えるパワーで放出する、条項lxiiiの装置。
xc. 前記ファイバレーザの少なくともいくつかには、前記ファイバレーザの一区間を加熱することによって、又は前記ファイバレーザに機械的応力をかけることによって、位相制御が設けられ得る、条項lxiiiの装置。
xci. 各前記ファイバレーザにはコリメータが設けられる、条項lxiiiの装置。
xcii. 前記コリメータは、各ファイバレーザの端部に位置付けられ、各前記コリメータ及び各前記ファイバレーザ端部は、液体に浸漬される、条項xciの装置。
xciii. 前記個別レーザは、光学システム内の制御された熱負荷を提供するように制御され得る、条項lxiiiの装置。
xciv. リソグラフィ装置で使用するための放射を生成する方法であって、
燃料ターゲットを点火位置に供給することと、
レーザ放射を用いて前記燃料ターゲットに点火してプラズマを生成することと、を含み、
前記レーザ放射は、ビーム圧縮システムによって共通焦点に集束するように構成された個別レーザのアレイから放出される、方法。
xcv. 前記レーザはファイバレーザである、条項xcivの方法。
xcvi. 前記放射源は光軸を含み、前記複数の個別レーザは、前記光軸に平行な放射を放出するように配置される、条項xcivの方法。
xcvii. 前記ファイバレーザを前記光軸について対称的に設けることをさらに含む、条項xcviの方法。
xcviii. 前記複数の個別レーザのアレイからの放射を集光し、かつ前記放射を前記共通焦点に集束させるように構成された光学システムを設けることをさらに含む、条項xcivの方法。
xcix. 前記光学システムは、望遠鏡光学システムである、条項xcviiiの方法。
c.前記光学システムは、前記複数の個別レーザによって放出された放射を集光するための第1ミラーと、前記第1ミラーからの放射を受け、かつ前記放射を最終集束レンズに誘導する第2ミラーとを含む、条項xcixの方法。
ci. 前記第1ミラーと前記第2ミラーとの間に、後方散乱放射を遮断するように適合された遮断要素を設けることをさらに含む、条項cの方法。
cii. 前記第1ミラーに、前記光軸上に位置付けられた開口部を形成することをさらに含む、条項cの方法。
ciii. 前記共通焦点での点火のための燃料ターゲットを搬送することと、前記燃料ターゲットの点火によって生成された放射をコレクタによって集光することと、をさらに含む、条項ciiの方法。
civ. 前記第1ミラーの開口部及び前記コレクタの開口部を通って燃料搬送システムを延在させることをさらに含む、条項ciiiの方法。
cv. 前記開口部を前記光軸上に設けることをさらに含む、条項civの方法。
cvi. 前記第1ミラーの開口部及び前記コレクタの開口部を通って延在するガス流ガイドを介してガスを前記コレクタの表面に搬送することをさらに含む、条項ciiiの方法。
cvii. 前記個別のレーザのアレイは、前記レーザによって放出された放射が前記光軸に向かって誘導されるように、前記複数の個別レーザを光軸について配置することをさらに含む、条項xcivの方法。
cviii. 最終集束レンズによって前記放射を前記共通焦点に集束させることをさらに含む、条項cviiの方法。
cix. 複数のダイクロイックミラーを用いて、複数の個別レーザによって放出された放射を単一の放射ビームに合成することをさらに含む、条項xcivの方法。
cx. 前記個別レーザを取付け板に取り付けることをさらに含む、条項xcivの方法。
cxi. 各個別レーザの出力はコリメートされる、条項xcivの方法。
cxii. 前記個別レーザのアレイを2以上のグループとして配置し、それによって各前記グループは個別に制御され得ることをさらに含む、条項xcivの方法。
cxiii. 1つの前記グループのレーザは、別の前記グループのレーザと異なる時点で点火され得る、条項cxiiの方法。
cxiv. 1つのグループのレーザからの放射は、別のグループのレーザと異なる位置に集束し得る、条項cxiiiの方法。
cxv. 個別レーザ又はレーザグループは、時間の関数としてのパワーパルスを整形するように順に点火され得る、条項cxiiの方法。
cxvi. 選択された1つ以上のレーザグループは、プレパルスを提供するように構成され得る、条項cxiiの方法。
cxvii. 前記プレパルスを提供する1つ以上のレーザグループは、残りのレーザと異なる位置に集束する、条項cxviの方法。
cxviii. 前記プレパルスを提供する前記1つ以上のレーザグループは、残りのレーザと異なる波長で動作する、条項cxviiの方法。
cxix. 前記個別レーザは、1〜5μmの波長で放射を放出する、条項xcivの方法。
cxx. 各前記個別レーザは、1Wを超えるパワーで放出する、条項xcivの方法。
cxxi. 前記ファイバレーザの少なくともいくつかには、前記ファイバレーザの一区間を加熱することによって、又は前記ファイバレーザに機械的応力をかけることによって、位相制御が設けられ得る、条項xcivの方法。
cxxii. 各前記ファイバレーザにはコリメータが設けられる、条項xcivの方法。
cxxiii. 各ファイバレーザの端部に前記コリメータを位置付けることと、各前記コリメータ及び各前記ファイバレーザ端部を液体に浸漬することと、をさらに含む、条項cxxiiの方法。
cxxiv. 前記個別レーザを制御して光学システム内の制御された熱負荷を提供することをさらに含む、条項xcivの方法。
Claims (15)
- ファイバレーザなどの個別レーザのアレイと、ビーム圧縮システムと、を備える放射源を含むリソグラフィ装置であって、前記レーザは、使用中に燃料ターゲットが供給され得る共通焦点に集束する、リソグラフィ装置。
- 光学システムが、前記個別レーザのアレイからの放射を集光し、かつ、前記放射を前記共通焦点に集束させる、請求項1に記載の装置。
- 前記光学システムは望遠鏡光学システムであり、前記光学システムは、前記複数の個別レーザによって放出された放射を集光するための第1ミラーと、前記第1ミラーからの放射を受け、かつ、前記放射を最終集束レンズに誘導する第2ミラーと、を含む、請求項2に記載の装置。
- 前記第1ミラーには、光軸上に位置付けられた開口部が形成される、請求項3に記載の装置。
- 前記共通焦点での点火のための燃料ターゲットを搬送する燃料搬送システムと、前記燃料ターゲットの点火によって生成された放射を集光するコレクタと、をさらに備え、前記コレクタは前記共通焦点と前記第1ミラーとの間に設けられる、請求項4に記載の装置。
- 前記コレクタは開口部を有し、前記燃料搬送システムは、前記第1ミラーの前記開口部及び前記コレクタの前記開口部を通って延在する、請求項5に記載の装置。
- 前記コレクタは前記光軸上に位置付けられた開口部を有し、ガス流ガイドが、前記コレクタの表面にガスを搬送するために前記第1ミラーの前記開口部及び前記コレクタの前記開口部を通って延在する、請求項5に記載の装置。
- 前記個別レーザのアレイは2以上のグループとして配置され、それによって各前記グループは個別に制御され得る、請求項1〜7のいずれか1項に記載の装置。
- 1つの前記グループのレーザは、別の前記グループのレーザと異なる時点で点火され得る、請求項8に記載の装置。
- 1つのグループのレーザからの放射は、別のグループのレーザと異なる位置に集束し得る、請求項8又は9に記載の装置。
- 個別レーザ又はレーザのグループは、時間の関数としてのパワーパルスを整形するように順に点火され得る、請求項8に記載の装置。
- 選択された1つ以上のレーザグループは、プレパルスを提供するように構成され得る、請求項8に記載の装置。
- 前記プレパルスを提供する1つ以上のレーザグループは、残りのレーザと異なる位置に集束する、請求項12に記載の装置。
- 前記プレパルスを提供する前記1つ以上のレーザグループは、残りのレーザと異なる波長で動作する、請求項12又は13に記載の装置。
- リソグラフィ装置で使用するための放射を生成する方法であって、燃料ターゲットを点火位置に供給することと、レーザ放射を用いて前記燃料ターゲットに点火してプラズマを生成することと、を含み、前記レーザ放射は、ビーム圧縮システムによって共通焦点に集束する個別レーザのアレイから放出される、方法。
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