JP2016225050A5 - - Google Patents
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Description
本発明は、試料がプラズマ処理される金属製の処理室と、前記処理室の上部を気密に封止する誘電体製の誘電体窓と、円板状の前記誘電体窓の上方に配置され、誘導磁場を生じさせる誘導アンテナと、前記誘導アンテナに高周波電力を供給する高周波電源とを備えるプラズマ処理装置において、前記誘導体窓の外側に配置され、前記誘電体窓に圧着された金属製のリング状部材をさらに備え、前記リング状部材の線膨張率は、前記誘電体窓の線膨張率より大きいことを特徴とする。
Claims (7)
- 試料がプラズマ処理される金属製の処理室と、前記処理室の上部を気密に封止する誘電体製の誘電体窓と、円板状の前記誘電体窓の上方に配置され、誘導磁場を生じさせる誘導アンテナと、前記誘導アンテナに高周波電力を供給する高周波電源とを備えるプラズマ処理装置において、
前記誘導体窓の外側に配置され、前記誘電体窓に圧着された金属製のリング状部材をさらに備え、
前記リング状部材の線膨張率は、前記誘電体窓の線膨張率より大きいことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項１に記載のプラズマ処理装置において、
前記誘電体窓の温度が所定の温度範囲内の場合、前記リング状部材の内径は、前記誘電体窓の直径より小さいとともに前記プラズマ処理時の前記誘電体窓の温度分布による引張り応力に基づいて規定されていることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項２に記載のプラズマ処理装置において、
前記誘電体窓の温度が前記所定の温度範囲の上限値より高い場合、前記リング状部材の内径は、前記誘電体窓の直径以上の値であることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置において、
前記リング状部材は、温度を調整するための冷媒の流路が形成されていることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置において、
前記誘電体窓の外周がメタライズ処理されていることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置において、
モニタされた前記リング状部材の温度またはモニタされた前記リング状部材の応力に基づいて前記高周波電源を停止させる監視装置をさらに備えることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項４または請求項５に記載のプラズマ処理装置において、
モニタされた前記リング状部材の応力に基づいて前記高周波電源を停止させる監視装置をさらに備えることを特徴とするプラズマ処理装置。
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Applications Claiming Priority (1)
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| JP2015108071A JP6594664B2 (ja) | 2015-05-28 | 2015-05-28 | プラズマ処理装置 |
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