JP2016225050A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
(1)誘電体窓2の温度上昇部=圧縮応力発生部(誘電体窓2の中央部)に冷却エアーを吹き付けて冷却する。
(2)誘電体窓2の外周部=引張り応力発生部をヒータで直接・間接的に加熱する。
ことが考えられる。
2 誘電体窓
3 試料
4 誘導アンテナ
5 試料台
6 整合器
7 第1の高周波電源
8 ファラデーシールド
9 圧縮リング
10 第2の高周波電源
11 プラズマ
12 排気口
13 ガス供給装置
14 監視装置
15 サーキュレータ
16 メタライズ層
Claims (7)
- 試料がプラズマ処理される金属製の処理室と、前記処理室の上部を気密に封止する誘電体の誘電体窓と、円板状の前記誘電体窓の上方に配置され誘導磁場を発生させる誘導アンテナと、前記誘導アンテナに高周波電力を供給する高周波電源とを備えるプラズマ処理装置において、
前記誘導体窓の外側に配置され前記誘電体窓に圧着された金属製のリング状部材をさらに備え、
前記リング状部材の線膨張率は、前記誘電体窓の線膨張率より大きいことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1に記載のプラズマ処理装置において、
前記誘電体窓の温度が予め設定された所定の温度範囲内の場合、前記リング状部材の内径は、前記誘電体窓の直径より小さいとともに前記プラズマ処理時の前記誘電体窓の温度分布による引張り応力に基づいて規定されていることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項2に記載のプラズマ処理装置において、
前記誘電体窓の温度が前記所定の温度範囲の上限値より高い場合、前記リング状部材の内径は、前記誘電体窓の直径以上の値であることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1ないし請求項3のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置において、
前記リング状部材を温度調整するための冷媒の流路が前記リング状部材に形成されていることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1ないし請求項4のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置において、
前記誘電体窓の外周がメタライズ処理されていることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1ないし請求項3のいずれか一項に記載のプラズマ処理装置において、
モニタされた前記誘電体窓の温度およびモニタされた前記リング状部材の温度またはモニタされた前記リング状部材の応力に基づいて前記高周波電源を停止させる監視装置をさらに備えることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項4または請求項5に記載のプラズマ処理装置において、
モニタされた前記リング状部材の応力に基づいて前記高周波電源を停止させる監視装置をさらに備えることを特徴とするプラズマ処理装置。
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2015
- 2015-05-28 JP JP2015108071A patent/JP6594664B2/ja active Active
Patent Citations (6)
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