JP2016221925A - 積層体、タッチパネルセンサの製造方法、及び、タッチパネルセンサ - Google Patents

Abstract

【課題】本発明は、一つの基材上にパターン化された電極部とノイズシールド層を有する透明導電性フィルムから形成されるタッチパネルセンサを製造することができる積層体を提供することを目的とする。また、本発明は、当該積層体を用いたタッチパネルセンサの製造方法及びタッチパネルセンサを提供することも目的とする。【解決手段】透明基材の一方の面に電極用透明導電層を有し、他方の面にノイズシールド用透明導電層を有する透明導電性フィルムと、支持体の一方の面に粘着剤層を有する耐エッチング性表面保護フィルムが、前記透明導電性フィルムのノイズシールド用透明導電層と、前記耐エッチング性表面保護フィルムの粘着剤層が接するように貼り合わされており、前記耐エッチング性表面保護フィルムの粘着剤層のノイズシールド用透明導電層に対する粘着力が、０．０４Ｎ／２５ｍｍ以上であることを特徴とする積層体である。【選択図】図１

Description

本発明は、透明基材の一方の面にパターン化された電極用透明導電層を有し、他方の面にノイズシールド用透明導電層を有する透明導電性フィルムから形成されるタッチパネルセンサを製造することができる積層体、タッチパネルセンサの製造方法、及び、タッチパネルセンサに関する。

近年、携帯電話や携帯用音楽プレイヤー等の画像表示装置とタッチパネルを組み合わせて用いる入力装置が普及してきている。なかでも、静電容量方式のタッチパネルはその機能性から急速に普及してきている。

タッチパネルに用いる透明導電性フィルムとしては、透明プラスチックフィルム基材やガラスに透明導電性薄膜（酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）膜）が積層されたものが多く知られており、当該透明導電性フィルムは、他の部材に粘着剤層を介して積層される。

画像表示装置において、構成する部品からでる信号や外部からの電磁波がノイズとなり、誤作動を起こす場合があった。特に、静電容量方式のタッチパネルでは、ディスプレイモジュールから出る信号がノイズとなり、タッチ位置を正確に検知できなくなる場合があった。このようなディスプレイモジュールからの電磁波対策のため、タッチパネルと液晶表示パネルとの間に導電性のシールド膜を配置することが知られている。しかしながら、このような方法では、導電性のシールド膜を１枚追加することで、厚みやコスト、工数の点でデメリットであった。

また、例えば、操作体との間での静電容量変化を検出するセンサ部を有する入力装置であって、電極部の一部がシールド層として機能するものが知られている（例えば、特許文献１参照）。

特開２００８−１４０１３０号公報

特許文献１には、基材の表面に、導電膜が区画溝によって所定形状に分離されることによりセンサ部を構成する複数の電極部が配列されており、前記基板の裏面に、前記表面に形成された前記複数の電極部と同一の形状及び配列で重なり合う複数の電極部が設けられる入力装置が開示されている。特許文献１においては、レーザー装置を用いることにより基材の表裏面に同時に同一形状及び同一配列の電極部及び配線導電膜を形成することができるものである。従って、特許文献１には、両面に透明導電膜を有する透明導電性フィルムにおいて片面の透明導電膜のみをパターン化する方法については十分に検討されていないものである。

両面に透明導電膜を有する透明導電性フィルムにおいて、片面の透明導電層のみをパターン化する場合、パターン化の必要がない他方の透明導電層を保護する必要がある。例えば、透明導電層に表面保護フィルムを貼り合せて保護する方法が考えられるが、表面保護フィルムの種類によっては、透明導電層が腐食してしまい、透明導電層の抵抗値が高くなってしまう場合があった。また、エッチング溶液に浸漬した際に、表面保護フィルムと透明導電層の間にエッチング溶液が浸透し、透明導電層が腐食してしまう場合もあった。

本発明は、一つの基材上にパターン化された電極部とノイズシールド層を有する透明導電性フィルムから形成されるタッチパネルセンサを製造することができる積層体を提供することを目的とする。また、本発明は、当該積層体を用いたタッチパネルセンサの製造方法及びタッチパネルセンサを提供することも目的とする。

本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、下記構成を採用することにより上記目的を達成し得ることを見出し本発明に至った。

すなわち、本発明は、透明基材の一方の面に電極用透明導電層を有し、他方の面にノイズシールド用透明導電層を有する透明導電性フィルムと、支持体の一方の面に粘着剤層を有する耐エッチング性表面保護フィルムが、前記透明導電性フィルムのノイズシールド用透明導電層と、前記耐エッチング性表面保護フィルムの粘着剤層が接するように貼り合わされており、
前記耐エッチング性表面保護フィルムの粘着剤層のノイズシールド用透明導電層に対する粘着力が、０．０４Ｎ／２５ｍｍ以上であることを特徴とする積層体に関する。

前記耐エッチング性表面保護フィルムの粘着剤層が、（メタ）アクリル系ポリマーを含有するアクリル系粘着剤組成物から形成されたものであり、
前記粘着剤層を、純水中において１００℃、４５分の条件で処理した場合に抽出されるアクリル酸イオン及びメタクリル酸イオンの合計量が、前記粘着剤層の単位面積あたり２０ｎｇ／ｃｍ^２未満であることが好ましい。

前記粘着剤層の厚さが、２μｍ以上であることが好ましい。

前記支持体の粘着剤層を有さない面が表面処理されていないことが好ましい。

また、本発明は、
前記積層体の電極用透明導電層上にパターン形成用マスクを形成する工程、
前記パターン形成用マスクが形成された積層体をエッチング溶液に浸漬して、電極用透明導電層をエッチングする工程、
前記マスクを除去する工程、及び、
前記耐エッチング性表面保護フィルムを除去する工程を含むことを特徴とする、
透明基材の一方の面にパターン化された電極用透明導電層を有し、他方の面にノイズシールド用透明導電層を有する透明導電性フィルムから形成されるタッチパネルセンサの製造方法に関する。

さらに、本発明は、前記製造方法により得られた、透明基材の一方の面にパターン化された電極用透明導電層を有し、他方の面にノイズシールド用透明導電層を有する透明導電性フィルムから形成されることを特徴とするタッチパネルセンサに関する。

本発明の積層体は、透明導電性フィルムのノイズシールド用透明導電層が、特定の粘着力を有する耐エッチング性表面保護フィルムによって保護されているため、当該積層体をエッチング溶液に浸漬した場合でも、ノイズシールド用透明導電層を適切に保護することができる。従って、本発明の積層体から得られたタッチパネルセンサは、別途シールド層を設けることなく、液晶ディスプレイ等から発せられる電磁波を高度に遮蔽できるため、位置検出の精度を向上させることができる。また、本発明の積層体は、ノイズシールド用透明導電層と電極用透明導電層が同一の基材の表裏に形成されているため、タッチパネルセンサの製造工程において、貼り合わせの工数も増えないため、工程の簡略化をすることもできる。

本発明の一実施形態に係る積層体の模式的断面図である。 本発明の一実施形態に係る積層体において、電極用透明導電層がパターン化された積層体の模式的断面図である。 実施例の一実施形態に係るタッチパネルセンサの模式的断面図である。

１．積層体
本発明の積層体は、透明基材の一方の面に電極用透明導電層を有し、他方の面にノイズシールド用透明導電層を有する透明導電性フィルムと、支持体の一方の面に粘着剤層を有する耐エッチング性表面保護フィルムが、前記透明導電性フィルムのノイズシールド用透明導電層と、前記耐エッチング性表面保護フィルムの粘着剤層が接するように貼り合わされており、前記耐エッチング性表面保護フィルムの粘着剤層のノイズシールド用透明導電層に対する粘着力が、０．０４Ｎ／２５ｍｍ以上であることを特徴とする。

本発明の積層体の実施形態について、図面を参照しながら以下に説明する。図面の一部又は全部において、説明に不要な部分は省略し、また説明を容易にするために拡大又は縮小等して図示した部分がある。また、本発明は図の形態に限定されるものではない。

図１は、本発明の一実施形態に係る積層体の模式的断面図である。積層体１を構成する透明導電性フィルム５は、透明基材３の一方の面に電極用透明導電層２を有し、透明基材３の他方の面にノイズシールド用透明導電層４を有する。また、積層体１を構成する耐エッチング性表面保護フィルム８は、支持体６の一方の面に粘着剤層７を有する。また、前記透明導電性フィルム５と、耐エッチング性表面保護フィルム８は、ノイズシールド用透明導電層４と粘着剤層７が接するように貼り合わされる。以下、それぞれの構成について説明する。

（１）耐エッチング性表面保護フィルム
（１−１）支持体
支持体６としては、特に限定されないが、プラスチックのフィルムやシート等のプラスチック系支持体等を挙げることができる。

前記プラスチックのフィルムやシートにおける素材としては、例えば、低密度、高密度、直鎖状低密度ポリエチレン（ＰＥ）、ホモ、ランダム、ブロックポリプロピレン（ＰＰ）、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）等のα−オレフィンをモノマー成分とするオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）等のポリエステル系樹脂；ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）；酢酸ビニル系樹脂；ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）；ポリアミド（ナイロン）、全芳香族ポリアミド（アラミド）等のアミド系樹脂；ポリイミド系樹脂；ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）等が挙げられる。これらの素材は単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。これらの中でも、強靭性、加工性、透明性等を有するポリエステル系樹脂は、作業性・検査性が向上するため好ましい。

前記ポリエステル系樹脂としては、シート状やフィルム状等に形成できるものであれば特に限定されるものでなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステルフィルムが挙げられる。これらのポリエステル系樹脂は単独（ホモポリマー）で使用してもよく、また２種以上を混合・重合（コポリマー等）して使用してもよい。これらの中でも特に、ポリエチレンテレフタレートが好ましく用いられる。ポリエチレンテレフタレートを用いることにより、強靭性、加工性、透明性に優れた表面保護フィルムとなり、作業性が向上し、好ましい態様となる。

前記支持体６の厚みは、特に限定されないが、１０〜５００μｍであることが好ましく、１５〜３００μｍであることがより好ましく、２０〜２００μｍであることがさらに好ましい。支持体６の厚みが前記範囲内であると、薄膜化の傾向が見られる透明導電性フィルムに適用することで積層体の層厚を保持することができる。そのため加工工程や搬送工程等において搬送性に優れ、かつ結晶化処理やエッチング処理等の加熱時のカールの不具合を未然に防止でき有用である。

また、前記支持体６の粘着剤層７を形成する面には、必要に応じて、酸処理、アルカリ処理、プライマー処理、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線処理等の易接着処理、塗布型、練り込み型、蒸着型等の静電防止処理をすることもできる。これらの中でも、粘着剤層７と支持体６間の密着性を向上させることができるため、支持体６の粘着剤層７形成面にはコロナ処理、プラズマ処理、プライマー処理を行うことが好ましい。

また、支持体６の粘着剤層７を有さない側（背面側）に、ハードコート層等を形成したり、表面処理がなされた場合には、形成する層や表面処理の種類によっては、本発明の積層体を巻いた際に、表面処理剤が透明導電層表面に移行し、汚染される場合がある。また、積層体をエッチング溶液に浸漬した場合に、表面処理面が白化してしまう場合がある。従って、支持体６の粘着剤層７を有さない側には処理を施さないことが好ましい。但し、エッチング溶液に浸漬しても白化しにくい処理や、透明導電層表面への転写の少ない表面処理であれば行うことができる。

（１−２）粘着剤層
本発明における粘着剤層７は、ベースポリマー及び架橋剤を含む粘着剤組成物から形成されることが好ましい。当該粘着剤組成物は、アクリル系、合成ゴム系、ゴム系、シリコーン系等の粘着剤等とすることができるが、透明性、耐熱性等の観点から、（メタ）アクリル系ポリマーをベースポリマーとするアクリル系粘着剤組成物が好ましい。

アクリル系粘着剤組成物のベースポリマーとなる（メタ）アクリル系ポリマーは、炭素数２〜１４であるアルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステルを含むモノマー成分を重合して得られることが好ましい。前記（メタ）アクリル酸エステルを使用することは、取り扱いの容易性等の点から、有用である。

前記炭素数２〜１４であるアルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート（ＢＡ）、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、へキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート（２ＥＨＡ）、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ドデシル（メタ）アクリレート、ｎ−トリデシル（メタ）アクリレート、ｎ−テトラデシル（メタ）アクリレート等を挙げることができ、これらを一種単独で、又は２種以上を混合して使用することができる。これらの中でも、炭素数４〜１４であるアルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステルがより好ましく、ｎ−ブチル(メタ)アクリレート（ＢＡ）や２−エチルへキシル(メタ)アクリレート（２ＥＨＡ）を主モノマーとして使用することがより好ましい。ここで主モノマーとは、モノマー成分に含まれる「炭素数２〜１４であるアルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステル」の全量に対して、５０重量％以上であり、より好ましくは６０重量％以上であり、さらに好ましくは８０重量％以上であり、特に好ましくは１００重量％である。

前記炭素数２〜１４であるアルキル基を有する（メタ）アクリル系モノマーの配合量は、モノマー成分中、５５重量％以上が好ましく、６０〜１００重量％がより好ましく、６０〜９８重量％が特に好ましい。

前記モノマー成分には、炭素数が２〜１４であるアルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステル以外のその他の重合性モノマーを含むことができる。前記その他の重合性モノマーとしては、（メタ）アクリル系ポリマーのガラス転移点や剥離性を調整するための重合性モノマー等を、本発明の効果を損なわない範囲で使用することができる。また、これらのモノマーは単独で用いても良いし組み合わせて用いても良いが、前記その他の重合性モノマーの配合量としては、モノマー成分中４５重量％以下が好ましく、０〜４０重量％がより好ましい。

前記その他の重合性モノマーとしては、例えば、スルホン酸基含有モノマー、リン酸基含有モノマー、シアノ基含有モノマー、ビニルエステルモノマー、芳香族ビニルモノマー等の凝集力・耐熱性向上成分や、ヒドロキシル基含有モノマー、カルボキシル基含有モノマー、酸無水物基含有モノマー、アミド基含有モノマー、アミノ基含有モノマー、エポキシ基含有モノマー、Ｎ−アクリロイルモルホリン、ビニルエーテルモノマー等、架橋化基点として働く官能基を有するモノマー成分を適宜用いることができる。これらのモノマー成分は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

前記カルボキシル基含有モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸等が挙げられる。

前記酸無水物基含有モノマーとしては、例えば、無水マレイン酸、無水イタコン酸等が挙げられる。

前記ヒドロキシル基含有モノマーとしては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、１０−ヒドロキシデシル（メタ）アクリレート、１２−ヒドロキシラウリル（メタ）アクリレート、（４−ヒドロキシメチルシクロへキシル）メチルアクリレート、Ｎ−メチロ−ル（メタ）アクリルアミド、ビニルアルコール、アリルアルコール、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル等が挙げられる。

前記スルホン酸基含有モノマーとしては、例えば、スチレンスルホン酸、アリルスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、（メタ）アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸等が挙げられる。

前記リン酸基含有モノマーとしては、例えば、２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェートが挙げられる。

前記シアノ基含有モノマーとしては、例えば、アクリロニトリル等が挙げられる。

前記ビニルエステルモノマーとしては、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ラウリン酸ビニル等が挙げられる。

前記芳香族ビニルモノマーとしては、例えば、スチレン、クロロスチレン、クロロメチルスチレン、α−メチルスチレン等が挙げられる。

前記アミド基含有モノマーとしては、例えば、アクリルアミド、ジエチルアクリルアミド等が挙げられる。

前記アミノ基含有モノマーとしては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。

前記エポキシ基含有モノマーとしては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、アリルグリシジルエーテル等が挙げられる。

前記ビニルエーテルモノマーとしては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル等が挙げられる。

本発明に用いられる（メタ）アクリル系ポリマーは、重量平均分子量が２０万〜５００万が好ましく、より好ましくは３０万〜２００万である。重量平均分子量が２０万より小さい場合は、被着体である透明導電性フィルムの透明導電層への濡れ性の向上により、剥離時の粘着力が大きくなるため、剥離時に透明導電層の損傷の原因になることがあり、また、粘着剤層の凝集力が小さくなることにより糊残りを生じる傾向がある。一方、重量平均分子量が５００万を超える場合は、ポリマーの流動性が低下し、被着体である透明導電性フィルムの透明導電層への濡れが不十分となり、被着体と粘着剤層との間に発生するフクレの原因となる傾向がある。なお、重量平均分子量は、ＧＰＣ（ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー）により測定して得られたものをいう。

本発明に用いられる（メタ）アクリル系ポリマーは、前記モノマー成分を重合することにより得られるものであり、その重合方法は、特に制限されるものではなく、溶液重合、乳化重合、塊状重合、懸濁重合等の公知の方法により重合でき、作業性等の観点から、溶液重合がより好ましい。また、得られるポリマーは、ホモポリマーやランダムコポリマー、ブロックコポリマー等いずれでもよい。

溶液重合においては、重合溶媒として、例えば、酢酸エチル、トルエンなどが用いられる。具体的な溶液重合例としては、反応は窒素などの不活性ガス気流下で、重合開始剤を加え、通常、５０〜７０℃程度で、５〜３０時間程度の反応条件で行われる。

ラジカル重合に用いられる重合開始剤、連鎖移動剤、乳化剤などは特に限定されず適宜選択して使用することができる。なお、（メタ）アクリル系ポリマーの重量平均分子量は、重合開始剤、連鎖移動剤の使用量、反応条件により制御可能であり、これらの種類に応じて適宜のその使用量が調整される。

重合開始剤としては、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）ジヒドロクロライド、２，２’−アゾビス［２−（５−メチル−２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］ジヒドロクロライド、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）二硫酸塩、２，２’−アゾビス（Ｎ，Ｎ’−ジメチレンイソブチルアミジン）、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−カルボキシエチル）−２−メチルプロピオンアミジン］ハイドレート（商品名：ＶＡ−０５７、和光純薬工業（株）製）などのアゾ系開始剤、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムなどの過硫酸塩、ジ（２−エチルヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ジラウロイルパーオキシド、ジ−ｎ−オクタノイルパーオキシド、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ジ（４−メチルベンゾイル）パーオキシド、ジベンゾイルパーオキシド、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、１，１−ジ（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、ｔ−ブチルハイドロパーオキシド、過酸化水素、過酸化ベンゾイルなどの過酸化物系開始剤、過硫酸塩と亜硫酸水素ナトリウムの組み合わせ、過酸化物とアスコルビン酸ナトリウムの組み合わせなどの過酸化物と還元剤とを組み合わせたレドックス系開始剤などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。

前記重合開始剤は、単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量は、前記（メタ）アクリル系ポリマーを形成するモノマー成分１００重量部に対して、０．００５〜１重量部程度であることが好ましい。

本発明において用いられる粘着剤層は、前記（メタ）アクリル系ポリマーの構成単位、構成比率、また、後述する架橋剤の選択及び配合比率等を適宜調節して、（メタ）アクリル系ポリマーを適宜架橋することにより、透明導電層への粘着剤による汚染の低減、粘着力上昇抑制、エッチング液の耐液浸入性に優れたものとなる。

本発明に用いられる架橋剤としては、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、メラミン系樹脂、アジリジン誘導体、及び金属キレート化合物等が用いられる。これらの中でも、主に適度な凝集力を得る観点から、イソシアネート化合物やエポキシ化合物が特に好ましく用いられる。これらの化合物は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

前記イソシアネート化合物としては、例えば、ブチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の低級脂肪族ポリイソシアネート類、シクロペンチレンジイソシアネート、シクロへキシレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等の脂環族イソシアネート類、２，４−トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート類、トリメチロールプロパン／トリレンジイソシアネート３量体付加物（商品名：コロネートＬ、日本ポリウレタン工業（株）製）、トリメチロールプロパン／へキサメチレンジイソシアネート３量体付加物（商品名：コロネートＨＬ、日本ポリウレタン工業（株）製）、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体（商品名：コロネートＨＸ、日本ポリウレタン工業（株）製）等のイソシアネート付加物等が挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

前記エポキシ化合物としては、例えば、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン（商品名：ＴＥＴＲＡＤ−Ｘ、三菱瓦斯化学（株）製）や１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロへキサン（商品名：ＴＥＴＲＡＤ−Ｃ、三菱瓦斯化学（株）製）等が挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

前記メラミン系樹脂としてはヘキサメチロールメラミン等が挙げられる。アジリジン誘導体としては、例えば、市販品としての商品名ＨＤＵ（相互薬工（株）製）、商品名ＴＡＺＭ（相互薬工（株）製）、商品名ＴＡＺＯ（相互薬工（株）製）等が挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

前記金属キレート化合物としては、金属成分としてアルミニウム、鉄、スズ、チタン、ニッケル等、キレート成分としてアセチレン、アセト酢酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。これらの化合物は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

本発明に用いられる架橋剤の配合量は、（メタ）アクリル系ポリマー１００重量部(固形分)に対し、０．５重量部以上であることが好ましく、１重量部以上であることがより好ましく、２重量部以上であることがさらに好ましい。また、上限値としては、２０重量部以下であることが好ましく、１５重量部以下であることがより好ましい。配合量が０．５重量部よりも少ない場合、架橋剤による架橋形成が不十分となり、粘着剤層の凝集力が小さくなって、透明導電層への粘着剤による汚染の低減、粘着力上昇抑制ができない場合もある。一方、配合量が２０重量部を超える場合、粘着剤層の凝集力が大きく、流動性が低下し、被着体である透明導電性フィルムの透明導電層に対して、濡れが不十分となって、被着体と粘着剤層との間に発生するフクレの原因となる傾向があり、好ましくない。また、これらの架橋剤は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

また、本発明において、前記架橋剤と供に、又は、単独で、架橋成分として、放射線反応性不飽和結合を２個以上有する多官能モノマーを配合することができる。かかる場合には、放射線等を照射することにより（メタ）アクリル系ポリマーを架橋させる。一分子中に放射線反応性不飽和結合を２個以上有する多官能モノマーとしては、例えば、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルベンジル基等の放射線の照射で架橋処理（硬化）することができる１種又は２種以上の放射線反応性を２個以上有す多官能モノマーが挙げられる。また、前記多官能モノマーとしては、一般的には放射線反応性不飽和結合が１０個以下のものが好適に用いられる。これらの化合物は単独で使用してもよく、また２種以上を混合して使用してもよい。

前記多官能モノマーの具体例としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６へキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン、Ｎ，Ｎ’−メチレンビスアクリルアミド等を挙げることができる。

前記架橋成分の配合量は、（メタ）アクリル系ポリマー１００重量部(固形分)に対し、３０重量部以下であることが好ましく、２〜２５重量部であることがより好ましい。

放射線としては、例えば、紫外線、レーザー線、α線、β線、γ線、Ｘ線、電子線等が挙げられるが、制御性及び取り扱い性の良さ、コストの点から紫外線が好適に用いられる。より好ましくは、波長２００〜４００ｎｍの紫外線が用いられる。紫外線は、高圧水銀灯、マイクロ波励起型ランプ、ケミカルランプ等の適宜光源を用いて照射することができる。なお、放射線として紫外線を用いる場合には粘着剤組成物に光重合開始剤を配合する。光重合開始剤としては、放射線反応性成分の種類に応じ、その重合反応の引金となり得る適当な波長の紫外線を照射することによりラジカルもしくはカチオンを生成する物質であればよく、従来より用いられているものを好適に用いることができる。

さらに、本発明で用いられる粘着剤組成物には、その他の公知の添加剤を含有していてもよく、例えば、着色剤、顔料等の粉体、界面活性剤、可塑剤、粘着性付与剤、低分子量ポリマー、表面潤滑剤、レベリング剤、酸化防止剤、腐食防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、シランカップリング剤、無機又は有機の充填剤、金属粉、粒子状、箔状物等を使用する用途に応じて適宜配合することができる。

また、粘着剤組成物の固形分としては、特に限定されるものではなく、２０重量％以上であることが好ましく、３０重量％以上であることがより好ましい。

本発明において用いられる粘着剤層は、以上のような粘着剤組成物から形成されるものであり、前記（メタ）アクリル系ポリマーを前記架橋剤により架橋することにより得られるものであることが好ましい。また、本発明で用いる耐エッチング性表面保護フィルムは、かかる粘着剤層を支持体上に形成してなるものである。その際、（メタ）アクリル系ポリマーの架橋は、粘着剤組成物の塗布後に行うのが一般的であるが、架橋後の粘着剤組成物からなる粘着剤層を支持体等に転写することも可能である。

（１−３）耐エッチング性表面保護フィルムの製造方法
支持体６上に、粘着剤層７を形成する方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、前記粘着剤組成物を支持体６に塗布し、重合溶剤等を乾燥除去して粘着剤層７を支持体６上に形成することにより作製される。その後、粘着剤層７の成分移行の調整や架橋反応の調整等を目的として養生をおこなってもよい。また、粘着剤組成物を支持体６上に塗布して、表面保護フィルムを作製する際には、支持体上に均一に塗布できるよう、粘着剤組成物中に重合溶剤以外の一種以上の溶剤を新たに加えてもよい。

また、前記粘着剤組成物の塗布方法としては、粘着テープ等の製造に用いられる公知の方法が用いられる。具体的には、例えば、ロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、エアーナイフコート法等が挙げられる。

支持体６に塗布した粘着剤組成物を乾燥する際の乾燥条件は、粘着剤組成物の組成、濃度、組成物中の溶媒の種類等によって適宜決定できるものであり、特に限定されるものではないが、例えば、２０〜２００℃で１秒〜２４時間程度で乾燥することができる。

本発明で用いる耐エッチング性表面保護フィルムの粘着剤層７の厚みは、エッチング溶液の侵入の抑制の観点から、２μｍ以上であることが好ましく、３μｍ以上であることがより好ましく、４μｍ以上であることがさらに好ましい。また、厚みの上限値は特に限定されないが、取扱い性の観点から５０μｍ以下であることが好ましく、３０μｍ以下であることがより好ましい。

本発明の積層体は、後述する透明導電性フィルムのノイズシールド用透明導電層上に、前記耐エッチング性表面保護フィルムの粘着剤層を貼り合わせることで得ることができる。

前記耐エッチング性表面保護フィルムの粘着剤層のノイズシールド用透明導電層に対する粘着力は、０．０４Ｎ／２５ｍｍ以上であり、０．０８〜２Ｎ／２５ｍｍであることが好ましい。粘着力が前記範囲にあることで、積層体をエッチング溶液に浸漬した際にも、表面保護フィルムがノイズシールド用透明導電層から剥離することがなく、ノイズシールド用透明導電層を適切に保護できる。また、粘着力が２Ｎ／２５ｍｍを超える場合は、エッチング処理後、ノイズシールド用透明導電層から表面保護フィルムを剥離する際に、透明導電層が損傷したり、糊残りしたりする場合があり、好ましくない。前記粘着力の測定は、実施例に記載の方法により行うことができる。

前記耐エッチング性表面保護フィルムの粘着剤層７を、純水中において１００℃、４５分の条件で処理した場合に抽出される（メタ）アクリル酸イオン合計量は、粘着剤層７の単位面積あたり、２０ｎｇ／ｃｍ^２以下であることが好ましく、１０ｎｇ／ｃｍ^２以下であることがより好ましく、５ｎｇ／ｃｍ^２以下であることがさらに好ましい。また、抽出（メタ）アクリル酸イオン合計量の下限値は特に限定されるものではなく、小さければ小さいほど好ましいものであり、理想的には０ｎｇ／ｃｍ^２であることが好ましい。抽出（メタ）アクリル酸イオン合計量が、２０ｎｇ／ｃｍ^２を超える場合には、粘着剤層７から遊離した（メタ）アクリル酸イオンの影響で、透明導電層が腐食し、抵抗値（導電性）が変化しやすくなる傾向があり好ましくない。抽出（メタ）アクリル酸イオン合計量の測定は、実施例に記載の方法により行うことができる。

粘着剤層７から水分中に遊離してくる（メタ）アクリル酸イオンは、一般的に、粘着剤層７中に存在する（メタ）アクリル酸に起因する。上記（メタ）アクリル酸イオンは、高温高湿環境下において透明導電層に移行し、当該透明導電層の抵抗値上昇（腐食）を引き起こす。一般的に、粘着剤組成物に含まれる（メタ）アクリル系ポリマーを構成するモノマー成分として（メタ）アクリル酸を多量（例えば、１５重量％以上）に使用した場合には、粘着剤層７中に未反応の（メタ）アクリル酸が残留しやすくなり、粘着剤層７から水分によって遊離してくる（メタ）アクリル酸イオンも増加する傾向にある。例えば、粘着剤層形成時の乾燥を十分に行う、（メタ）アクリル系ポリマーの重合時間を長くする、モノマー成分として用いる（メタ）アクリル酸の量を低減する、等の方法により、遊離してくる（メタ）アクリル酸イオン量を減少することができる。

（２）透明導電性フィルム
（２−１）透明基材
透明基材３としては、透明性を有するものであればよく、例えば、樹脂フィルムや、ガラス等からなる基材（例えば、シート状やフィルム状、板状の基材等）等が挙げられ、樹脂フィルムが特に好ましい。透明基材３の厚さは、特に限定されないが、１０〜２００μｍ程度が好ましく、１５〜１５０μｍ程度がより好ましい。

前記樹脂フィルムの材料としては、特に制限されないが、透明性を有する各種のプラスチック材料が挙げられる。例えば、その材料として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹脂及びポリエーテルスルホン系樹脂が好ましい。

また、前記透明基材３には、表面に予めスパッタリング、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化等のエッチング処理や下塗り処理を施して、この上に設けられる電極用透明導電層２及びノイズシールド用透明導電層４の前記透明基材３に対する密着性を向上させるようにしてもよい。また、電極用透明導電層２及びノイズシールド用透明導電層４を設ける前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄等により除塵、清浄化してもよい。

（２−２）透明導電層
電極用透明導電層２及びノイズシールド用透明導電層４は、金属酸化物により形成された層であることが好ましい。金属酸化物としては、インジウム、スズ、亜鉛、ガリウム、アンチモン、チタン、珪素、ジルコニウム、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、銅、パラジウム、タングステンからなる群より選択される少なくとも１種の金属の金属酸化物が好適に用いられる。当該金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子を含んでいてもよい。これらの中でも、インジウム・スズ複合酸化物（ＩＴＯ）であることが好ましい。電極用透明導電層２及びノイズシールド用透明導電層４は、同じ材料から形成されていてもよく、異なる材料から形成されていてもよい。

電極用透明導電層２、ノイズシールド用透明導電層４の厚さは特に制限されないが、その表面抵抗を１×１０^３Ω／□以下の良好な導電性を有する連続被膜とするには、厚さを１０ｎｍ以上とするのが好ましい。膜厚が、厚くなりすぎると透明性の低下等をきたすため、１５〜３５ｎｍであることが好ましく、２０〜３０ｎｍがより好ましい。電極用透明導電層２、ノイズシールド用透明導電層４の厚さが１５ｎｍ未満であると膜表面の電気抵抗が高くなり、かつ連続被膜になり難くなる。また、電極用透明導電層２、ノイズシールド用透明導電層４の厚さが３５ｎｍを超えると透明性の低下等をきたす場合がある。電極用透明導電層２の厚さと、ノイズシールド用透明導電層４の厚さは、同じであっても異なっていてもよい。また、いずれの透明導電層も、異なる組成の透明導電膜を複数層積層した構造であってもよい。

電極用透明導電層２及びノイズシールド用透明導電層４の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法を例示できる。また、必要とする膜厚に応じて適宜の方法を採用することもできる。

また、電極用透明導電層２及びノイズシールド用透明導電層４は、非晶質であっても結晶質であってもよい。

また、エッチング処理前の電極用透明導電層２及びノイズシールド用透明導電層４のいずれもが、パターンが形成されていない、全面塗布膜（いわゆる、べた膜）である。

本発明において用いる透明導電性フィルム５においては、前記電極用透明導電層２及びノイズシールド用透明導電層４は、前記透明基材３上に直接形成されているものであるが、電極用透明導電層２やノイズシールド用透明導電層４と、透明基材３との間に、必要に応じて、ブロッキング防止層、光学調整層、ハードコート層等を設けることもできる。

ブロッキング防止層としては、硬化型樹脂層中に微粒子を含有させたものや、硬化型樹脂組成物として相分離する２種以上の成分を含有するコーティング組成物を用いたもの、あるいはこれらを併用することによって、表面に凹凸が形成されたものが好適に用いられる。硬化型樹脂層の成分としては、ハードコート層の各成分として前記したものが好適に用いられる。また、相分離する２種以上の成分を含有するコーティング組成物としては、例えば国際公開第２００５／０７３７６３号パンフレットに記載の組成物を好適に用いることができる。

光学調整層は、無機物、有機物、あるいは無機物と有機物との混合物により形成される。光学調整層を形成する材料としては、ＮａＦ、Ｎａ_３ＡｌＦ_６、ＬｉＦ、ＭｇＦ_２、ＣａＦ_２、ＳｉＯ_２、ＬａＦ_３、ＣｅＦ_３、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、ＺｒＯ_２、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＳｉＯ_ｘ（ｘは１．５以上２未満）等の無機物や、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シロキサン系ポリマー等の有機物が挙げられる。特に、有機物として、メラミン樹脂とアルキド樹脂と有機シラン縮合物の混合物からなる熱硬化型樹脂を使用することが好ましい。光学調整層は、上記の材料を用いて、グラビアコート法やバーコート法等の塗工法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等により形成できる。

光学調整層の厚さは、１０〜２００ｎｍであることが好ましく、２０〜１５０ｎｍであることがより好ましく、２０〜１３０ｎｍであることがさらに好ましい。

光学調整層は、平均粒径が１ｎｍ〜５００ｎｍのナノ微粒子を有していてもよい。ナノ微粒子を形成する無機酸化物としては、例えば、酸化ケイ素（シリカ）、中空ナノシリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ等の微粒子が挙げられる。これらの中でも、酸化ケイ素（シリカ）、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化ニオブの微粒子が好ましい。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。光学調整層中のナノ微粒子の含有量は０．１重量％〜９０重量％であることが好ましい。

前記光学調整層等の配置は特に限定されないが、電極用透明導電層２と透明基材３との間には、ブロッキング防止層、光学調整、及びハードコート層から選択される１種以上の層を設けることが好ましい。また、ノイズシールド用透明導電層４と透明基材３との間にも、ブロッキング防止層、光学調整層、及びハードコート層から選択される１種以上の層を設けることが好ましい。

本発明で用いる透明導電性フィルム５は、長尺状の透明導電性フィルム５がロール状に巻回された透明導電性フィルム巻回体とすることができる。また、長尺状の透明導電性フィルム５の巻回体は、長尺状の透明樹脂フィルムのロール状巻回体を用い、前述の透明導電層、及び必要に応じて光学調整層等の付加的な層を、いずれもロール・トゥ・ロール法により形成することによっても形成し得る。

２．タッチパネルセンサの製造方法
本発明のタッチパネルセンサの製造方法は、図３に示すように、透明基材３の一方の面にパターン化された電極用透明導電層２’を有し、他方の面にノイズシールド用透明導電層４を有する透明導電性フィルム５’から形成されるタッチパネルセンサを提供するものである。

本発明のタッチパネルセンサの製造方法は、
本発明の積層体の電極用透明導電層上にパターン形成用マスクを形成する工程、
前記パターン形成用マスクが形成された積層体をエッチング溶液に浸漬して、電極用透明導電層をエッチングする工程、
前記パターン形成用マスクを除去する工程、及び、
前記耐エッチング性表面保護フィルムを除去する工程を含むことを特徴とする。

本発明の積層体は、前述の通りである。

パターン形成用マスクは、例えば、電極用透明導電層上にパターン状のエッチングレジスト膜を、フォトリソグラフィ法、レーザー露光法、印刷法等により形成することができる。

パターンの態様については、特に限定されず、透明導電性フィルムが適用される用途に応じて、ストライプ形状、ダイヤモンド形状等の各種のパターンを形成することができる。

前記パターン形成用マスクが形成された積層体を浸漬するエッチング溶液としては、従来から公知のものが用いられる。エッチング溶液としては、例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、及びこれらの混合物、並びにそれらの水溶液等を挙げることができる。これらの中でも、塩酸を用いることが好ましい。

積層体をエッチング溶液に浸漬する時間や温度は、特に限定されるものではなく、所望のパターン形状、マスクの種類、エッチング溶液の種類等によって適宜選択することができる。例えば、１０重量％塩酸であれば、液温５０℃、浸漬時間６０秒の条件を採用することができる。

前記パターン形成用マスクが形成された積層体を前記エッチング溶液に浸漬することで、べた膜状であった電極用透明導電層が所望のパターン形状となる。すなわち、図１の積層体を用いた前記製造方法とすることで、図２に示すように、パターン化された電極用透明導電層２’／透明基材３／ノイズシールド用透明導電層４／粘着剤層７／支持体８からなる積層体を得ることができる。

電極用透明導電膜２がパターン化された後、パターン形成用マスクは通常の方法により剥離除去される。具体的には、パターン形成用マスクがエッチングレジスト膜の場合は、アルカリ水溶液により剥離除去することができる。剥離除去に用いられるアルカリ水溶液としては、１〜５重量％の水酸化ナトリウム水溶液や水酸化カリウム水溶液等を挙げることができる。

電極用透明導電層２をパターン化した後、必要に応じて、パターン化された電極用透明導電層２’を熱処理してもよい。パターン化された電極用透明導電層２’の構成成分が結晶化されるため、透明性及び導電性を向上させることができるからである。この際の加熱温度は、例えば、１００〜１８０℃であり、処理時間は、例えば１〜１８０分である。

また、前記耐エッチング性表面保護フィルムは、エッチング処理後に剥離して除去するが、実用に供されるまで保護フィルムとして積層しておいてもよい。

３．タッチパネルセンサ
本発明のタッチパネルセンサは、前記製造方法により形成され、透明基材の一方の面にパターン化された電極用透明導電層を有し、他方の面にノイズシールド用透明導電層を有する透明導電性フィルムから形成される。前記ノイズシールド用透明導電層は、パターンが形成されていない、全面塗布膜（いわゆる、べた膜）である。但し、全面塗布膜は、全面にわたって一切の膜の欠損がないものに限定されない。全面塗布膜は、ノイズシールド機能を損なわない範疇で膜の欠損を有し、基材下地が一部露出する形態であってもよい。全面塗布膜が膜欠損を有する場合、全塗布面積に対する膜欠損面積の比（膜欠損面積／全塗布面積）は０．２以下であることが好ましい。

本発明のタッチパネルセンサは、前記ノイズシールド用透明導電層が表示装置側となるように表示装置に貼り合せることで、表示装置からの電磁波の伝搬を前記ノイズシールド用透明導電層により遮断することができる。

また、本発明のタッチパネルセンサは、前述の透明基材の一方の面にパターン化された電極用透明導電層を有し、他方の面にノイズシールド用透明導電層を有する透明導電性フィルムを含むものであればよく、その他の電極部材等を含んでいてもよい。

以下、本発明に関して実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。

実施例１
ポリエチレン樹脂（商品名：ペトロセン２５１Ｒ、東ソー（株）製）を、インフレーション成形機（ダイス温度：１５５℃）を用いて成形した後、片面側にコロナ処理を行い、厚さ４０μｍの基材（１）（支持体）を得た。

冷却管、窒素導入管、温度計、及び撹拌装置を備えた反応容器に、アクリル酸ブチル（ＢＡ）１００重量部、及びアクリル酸（ＡＡ）５重量部、重合開始剤として過酸化ベンゾイル０．２０重量部、トルエン３００重量部を入れ、６０℃で７時間重合し、アクリル系ポリマー（重量平均分子量：４５万）を得た。得られたアクリル系ポリマーの固形分１００重量部に対して、エポキシ系架橋剤３．０重量部（商品名：ＴＥＴＲＡＤ−Ｃ、三菱瓦斯化学（株）製）を添加した混合溶液を、基材（１）のコロナ処理面に、乾燥後の粘着剤層の厚みが５μｍとなるように塗布し、７５℃、５分で乾燥し、耐エッチング性表面保護フィルムを作製した。得られた耐エッチング性表面保護フィルムの粘着剤層に、剥離フィルム（ＰＥＴフィルムにシリコーン離型処理がされた剥離フィルム）を貼合し、４０℃で２日間放置した。

実施例２
冷却管、窒素導入管、温度計、及び撹拌装置を備えた反応容器に、アクリル酸２−エチルヘキシル（２ＥＨＡ）１００重量部、及び４−ヒドロキシブチルアクリレート（４ＨＢＡ）５重量部、重合開始剤として２，２’−アゾビスイソブチロニトリル０．２重量部、酢酸エチル１５７重量部を入れ、６５℃で６時間重合し、アクリル系ポリマー（重量平均分子量：５４万）を得た。得られたアクリル系ポリマーの固形分１００重量部に対して、イソシアネート系架橋剤４．０重量部（商品名：コロネートＨＸ、日本ポリウレタン工業（株）製）を添加した混合溶液を、厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（商品名：ルミラーＳ−１０、東レ（株）製)に、乾燥後の粘着剤層の厚みが１０μｍとなるように塗布し、７５℃、５分で乾燥し、耐エッチング性表面保護フィルムを作製した。得られた耐エッチング性表面保護フィルムの粘着剤層に、剥離フィルム（ＰＥＴフィルムにシリコーン離型処理がされた剥離フィルム）を貼合し、４０℃で２日間放置した。

実施例３
冷却管、窒素導入管、温度計、及び撹拌装置を備えた反応容器に、アクリル酸２−エチルヘキシル５７部、酢酸ビニル４０部、アクリル酸３部、重合開始剤として２，２´−アゾビスイソブチロニトリル０．１５部、トルエン３００部を入れ、６０℃で７時間重合し、アクリル系ポリマー（重量平均分子量：４３万）を得た。得られたアクリル系ポリマーの固形分１００重量部に対して、エポキシ系架橋剤２．０重量部（商品名：ＴＥＴＲＡＤ−Ｃ、三菱瓦斯化学（株）製）を添加した混合溶液を、厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（商品名：ルミラーＳ−１０、東レ（株）製）に乾燥後の粘着剤層の厚みが２０μｍとなるように塗布し、７５℃、５分で乾燥し、耐エッチング性表面保護フィルムを作製した。得られた耐エッチング性表面保護フィルムの粘着剤層に、剥離フィルム（ＰＥＴフィルムにシリコーン離型処理がされた剥離フィルム）を貼合し、４０℃で２日間放置した。

実施例４
実施例１で得られたアクリル系ポリマー（重量平均分子量：４５万）の固形分１００重量部に対して、エポキシ系架橋剤９．０重量部（商品名：ＴＥＴＲＡＤ−Ｃ、三菱瓦斯化学（株）製）を添加した混合溶液を、厚さ１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（商品名：ルミラーＳ−１０、東レ（株）製）に乾燥後の粘着剤層の厚みが２０μｍとなるように塗布し、７５℃、５分で乾燥し、耐エッチング性表面保護フィルムを作製した。得られた耐エッチング性表面保護フィルムの粘着剤層に、剥離フィルム（ＰＥＴフィルムにシリコーン離型処理がされた剥離フィルム）を貼合し、４０℃で２日間放置した。

実施例５
実施例１で得られたアクリル系ポリマーの固形分１００重量部に対して、エポキシ系架橋剤０．５重量部（商品名：ＴＥＴＲＡＤ−Ｃ、三菱瓦斯化学（株）製）を添加した混合溶液を、厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（商品名：ルミラーＳ−１０、東レ（株）製）に乾燥後の粘着剤層の厚みが５μｍとなるように塗布した以外は実施例１と同様にして、耐エッチング性表面保護フィルムを作製した。

比較例１
ポリエチレン樹脂（商品名：ペトロセン２５１Ｒ、東ソー（株）製）からなる基材層とポリエチレン樹脂（商品名：エクセレンＦＸ ＣＸ４０２、住友化学（株）製）からなる粘着剤層をインフレーション成形機を用いて、ダイス温度１６０℃にて二層押出成形を行い、基材層の厚みが４０μｍ、粘着剤層の厚みが３０μｍとなるように表面保護フィルムを作製した。

比較例２
ウレタン系ポリマー（商品名：サイアパイン１０９Ｈ、東洋インキ（株）製）１００重量部に対して、イソシアネート架橋剤（商品名：コロネートＨＸ、日本ポリウレタン工業（株）製）５重量部、添加剤としてミリスチン酸イソプロピル（商品名：エキセパールＩＰＭ、花王（株）製）３０重量部、希釈溶剤としてトルエン２０８重量部からなる混合溶液を、厚さ３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（商品名：ルミラーＳ−１０、東レ（株）製）に乾燥後の粘着剤層の厚みが５μｍとなるように塗布し、７５℃、５分で乾燥し、表面保護フィルムを作製した。得られた表面保護フィルムの粘着剤層に、剥離フィルム（ＰＥＴフィルムにシリコーン離型処理がされた剥離フィルム）を貼合し、４０℃で２日間放置した。

実施例で得られた耐エッチング性表面保護フィルム及び比較例で得られた表面保護フィルムについて、以下の評価を行った。

＜（メタ）アクリル酸イオンの合計量＞
実施例で得られた耐エッチング性表面保護フィルム及び比較例で得られた表面保護フィルムを、それぞれ１０ｃｍ×１０ｃｍに切断し、剥離フィルムを剥離した後、温度１００℃の純水（５０ｍＬ）中に入れ、４５分間煮沸し、煮沸抽出を行い、抽出液を得た。次いで、イオンクロマトグラフ法（イオンクロマトグラフィー）により、上記で得られた抽出液中のアクリル酸イオン及びメタクリル酸イオンの合計量（単位：ｎｇ）を測定し、試験片の粘着面（露出した粘着面）の単位面積あたりのアクリル酸イオン及びメタクリル酸イオンの合計量（単位：ｎｇ／ｃｍ^２）を算出した。

（イオンクロマトグラフ法の測定条件）
分析装置：ＤＩＯＮＥＸ社製、ＤＸ−３２０
分離カラム：Ｉｏｎ Ｐａｃ ＡＳ１５（４ｍｍ×２５０ｍｍ）
ガードカラム：Ｉｏｎ Ｐａｃ ＡＧ１５（４ｍｍ×５０ｍｍ）
除去システム：ＡＳＲＳ−ＵＬＴＲＡ（エクスターナルモード、１００ｍＡ）
検出器：電気伝導度検出器
溶離液：７ｍＭ ＫＯＨ（０〜２０分）
４５ｍＭ ＫＯＨ（２０〜３０分）
（溶離液ジェネレーターＥＧ４０を使用）
溶離液流量：１．０ｍＬ／分
試料注入量：２５０μＬ

＜粘着力＞
実施例で得られた耐エッチング性表面保護フィルム及び比較例で得られた表面保護フィルムを、それぞれ幅２５ｍｍ、長さ８０ｍｍのサイズに切断し、剥離フィルムを剥離した後、ＩＴＯフィルム（幅：７０ｍｍ、長さ：１００ｍｍ、日東電工（株）製）のＩＴＯ面に０．２５ＭＰａの圧力でラミネートし、評価サンプルを作製した。ラミネート後、２３℃×５０％Ｒ．Ｈ．の環境下に３０分間放置した後、万能引張試験機（製品名：ＴＣＭ−１ｋＮＢ、ミネベア（株）製）を用いて、剥離速度３００ｍｍ／分、剥離角度１８０°で剥離したときの粘着力を測定した。測定は２３℃×５０％Ｒ．Ｈ．の環境下で行った。

＜エッチング溶液の侵入＞
厚みが１２５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（商品名：Ｏ３００Ｅ、三菱樹脂（株）製）と、酸化インジウム９７重量％、酸化スズ３重量％を含む焼結体ターゲットを備えるスパッタ装置を準備した。続いて、上記スパッタ装置を用いて、フィルム基材の一方の面に厚み２７ｎｍインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）層を形成した。前記フィルム基材の他方面にも、同様の方法で、厚み２７ｎｍのＩＴＯ層を形成した。両面にＩＴＯ層が形成されたフィルム基材を加熱オーブンに入れ、１４０℃で３０分間加熱処理をし、非晶質のＩＴＯ層を結晶化させて、基材の両面に結晶化ＩＴＯ層を有するＩＴＯフィルム（両面ＩＴＯフィルム（１）という）を得た。得られた両面ＩＴＯフィルム（１）のＩＴＯ層の表面抵抗値を４端子法で測定したところ、２７０Ω／□であった。また、各ＩＴＯ層の屈折率は、２．１であった。
実施例で得られた耐エッチング性表面保護フィルム及び比較例で得られた表面保護フィルムを、それぞれ幅２５ｍｍ、長さ８０ｍｍのサイズに切断し、剥離フィルムを剥離した後、前記両面ＩＴＯフィルム（１）（幅：７０ｍｍ、長さ：１００ｍｍ）の一方のＩＴＯ面に０．２５ＭＰａの圧力でラミネートし、評価サンプルを作製した。得られた評価サンプルを、エッチング溶液（１０重量％塩酸）に、５０℃、６０秒浸漬した。エッチング溶液から取り出した評価サンプルの、ＩＴＯと粘着剤層界面の様子を観察し、エッチング溶液の侵入の有無を目視で観察した。

＜耐腐食性＞
実施例で得られた耐エッチング性表面保護フィルム及び比較例で得られた表面保護フィルムを、それぞれ幅７０ｍｍ、長さ２５ｍｍのサイズに切断し、測定サンプルとした。前記サンプルから剥離フィルムを剥離して、長さ７０ｍｍ、幅２５ｍｍに切断した前記両面ＩＴＯフィルム（１）の一方のＩＴＯ層面に、前記サンプルを貼り合せた。２３℃の環境下で２４時間放置した後、６０℃、９５％Ｒ．Ｈ．と８０℃のそれぞれの環境下で２５０時間放置し、「貼付直後の抵抗値」に対する「６０℃、９５％Ｒ．Ｈ．、２５０時間放置後の抵抗値」の割合（％）［＝（６０℃、９５％Ｒ．Ｈ．、２５０時間放置後の抵抗値）／（貼付直後の抵抗値）×１００（％）］、及び、「貼付直後の抵抗値」に対する「８０℃、２５０時間放置後の抵抗値」の割合（％）［＝（８０℃、２５０時間放置後の抵抗値）／（貼付直後の抵抗値）×１００（％）］を、それぞれ測定した。なお、抵抗値は、４端子法で測定した。

「貼付直後の抵抗値」に対する「６０℃、９５％Ｒ．Ｈ．、２５０時間放置後の抵抗値」の割合、及び、「貼付直後の抵抗値」に対する「８０℃、２５０時間放置後の抵抗値」の割合が共に１２０％未満であれば耐腐食性が「良好」、いずれか一方でも１２０％以上であれば耐腐食性が「不良」と判断した。なお、ブランクとして表面保護フィルムを貼付しない導電性ＰＥＴフィルムのみで同様の試験を行った結果、「貼付直後の抵抗値」に対する「２５０時間放置後の抵抗値」の割合は、８０℃の条件では１１０％、６０℃、９５％Ｒ．Ｈ．の条件では１２０％であった。

１ 積層体
２ 電極用透明導電層
２’ パターン化された電極用透明導電層
３ 透明基材
４ ノイズシールド用透明導電層
５ 透明導電性フィルム
５’ パターン化された透明導電性フィルム
６ 支持体
７ 粘着剤層
８ 耐エッチング性表面保護フィルム

Claims (6)

1. 透明基材の一方の面に電極用透明導電層を有し、他方の面にノイズシールド用透明導電層を有する透明導電性フィルムと、支持体の一方の面に粘着剤層を有する耐エッチング性表面保護フィルムが、前記透明導電性フィルムのノイズシールド用透明導電層と、前記耐エッチング性表面保護フィルムの粘着剤層が接するように貼り合わされており、
   前記耐エッチング性表面保護フィルムの粘着剤層のノイズシールド用透明導電層に対する粘着力が、０．０４Ｎ／２５ｍｍ以上であることを特徴とする積層体。
2. 前記耐エッチング性表面保護フィルムの粘着剤層が、（メタ）アクリル系ポリマーを含有するアクリル系粘着剤組成物から形成されたものであり、
   前記粘着剤層を、純水中において１００℃、４５分の条件で処理した場合に抽出されるアクリル酸イオン及びメタクリル酸イオンの合計量が、前記粘着剤層の単位面積あたり２０ｎｇ／ｃｍ^２未満であることを特徴とする請求項１に記載の積層体。
3. 前記粘着剤層の厚さが、２μｍ以上であることを特徴とする請求項１又は２に記載の積層体。
4. 前記支持体の粘着剤層を有さない面に、表面処理がなされていないことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の積層体。
5. 請求項１〜４のいずれかに記載の積層体の電極用透明導電層上にパターン形成用マスクを形成する工程、
   前記パターン形成用マスクが形成された積層体をエッチング溶液に浸漬して、電極用透明導電層をエッチングする工程、
   前記マスクを除去する工程、及び、
   前記耐エッチング性表面保護フィルムを除去する工程を含むことを特徴とする、
   透明基材の一方の面にパターン化された電極用透明導電層を有し、他方の面にノイズシールド用透明導電層を有する透明導電性フィルムから形成されるタッチパネルセンサの製造方法。
6. 請求項５に記載の製造方法により得られた、透明基材の一方の面にパターン化された電極用透明導電層を有し、他方の面にノイズシールド用透明導電層を有する透明導電性フィルムから形成されることを特徴とするタッチパネルセンサ。
   

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