JP2016213359A - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、プラズマを用いて試料がプラズマ処理される処理室と、前記プラズマを生成するための高周波電力を供給する高周波電源と、温度センサーおよびヒーターが内部に配置され前記試料が載置される試料台とを備えるプラズマ処理装置において、前記温度センサーの値と前記ヒーターの出力値に基づいて前記プラズマ処理の開始の判定を行う制御装置をさらに備えることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
Claims (7)
- プラズマを用いて試料がプラズマ処理される処理室と、前記プラズマを生成するための高周波電力を供給する高周波電源と、温度センサーおよびヒーターが内部に配置され前記試料が載置される試料台とを備えるプラズマ処理装置において、
前記温度センサーの値と前記ヒーターの出力値に基づいて前記プラズマ処理の開始の判定を行う制御装置をさらに備えることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1に記載のプラズマ処理装置において、
前記制御装置は、前記ヒーターの出力値が所定の範囲内の値である場合、前記プラズマ処理を開始させ、前記ヒーターの出力値が前記所定の範囲内の値で無い場合、前記処理室を昇温させる昇温処理を行った後、前記温度センサーの値と前記ヒーターの出力値に基づいて前記プラズマ処理の開始の判定を行うことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項2に記載のプラズマ処理装置において、
前記昇温処理は、プラズマ処理であることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 温度センサーおよびヒーターが内部に配置された試料台に載置された試料をプラズマ処理するプラズマ処理方法において、
前記温度センサーの値と前記ヒーターの出力値に基づいて前記プラズマ処理の開始を判定することを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項4に記載のプラズマ処理方法において、
前記ヒーターの出力値が所定の範囲内の値である場合、前記プラズマ処理を開始し、
前記ヒーターの出力値が前記所定の範囲内の値で無い場合、前記処理室を昇温させる昇温処理を行った後、前記温度センサーの値と前記ヒーターの出力値に基づいて前記プラズマ処理の開始を判定することを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項5に記載のプラズマ処理方法において、
前記昇温処理は、プラズマ処理であり、
前記昇温処理のプラズマ処理の処理条件は、基本単位である複数のステップからなり、
前記昇温処理のプラズマ処理の最終ステップは、前記試料のプラズマ処理前に行われる前記処理室をプラズマクリーニングする処理条件と同じ処理条件のステップであることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項4に記載のプラズマ処理方法において、
前記ヒーターの出力値が所定の範囲内の値である場合、前記プラズマ処理を開始し、
前記ヒーターの出力値が前記所定の範囲内の値で無い場合、所望のプラズマ処理結果となるようにフィードバック制御またはフィードフォワード制御によりプラズマ処理の変動を抑制する制御を用いて前記プラズマ処理条件のパラメータを補正し、前記パラメータの補正後、前記パラメータが補正されたプラズマ処理条件のプラズマ処理を開始することを特徴とするプラズマ処理方法。
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