JP2016207848A - Transfer method and transfer device for substrate - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液晶表示パネルなどの製造に用いられるカラーフィルタ基板等のガラス基板、プリント基板等の各種板状枚葉基板(以下、基板とする)を搬送する基板の搬送方法および搬送装置に関する。 The present invention relates to a substrate transport method and a transport apparatus for transporting a glass substrate such as a color filter substrate used for manufacturing a liquid crystal display panel or the like, and various plate-like single wafer substrates (hereinafter referred to as substrates) such as a printed circuit board.
現在、基板搬送は、一本の軸に複数個のローラが軸方向に配置した搬送ローラを搬送方向に対して複数本並べ、全搬送ローラの軸を同方向に回転させた水平搬送が主流である。 At present, the mainstream of substrate transport is horizontal transport in which a plurality of transport rollers each having a plurality of rollers arranged on the same axis are arranged in the transport direction and the shafts of all transport rollers are rotated in the same direction. is there.
しかしながら、例えばプリント基板のように、両面に回路パターンを形成した基板の搬送においては、少なくとも片面は搬送ローラに接触し、ローラ痕やローラ表面からの塵の付着などによって品質不良になる恐れがある。 However, when transporting a circuit board with circuit patterns formed on both sides, such as a printed circuit board, at least one surface may contact the transport roller, which may cause poor quality due to roller marks or adhesion of dust from the roller surface. .
この上記問題を解決するために、搬送ローラなど使用せず、気体や液体などの流体の流れにより発生する圧力を利用して基板を浮上させて、物理的な接触なく搬送・移戴する基板搬送装置が開発されている(特許文献1)。この技術は、基板の裏面と搬送装置面との間に流体の流れを発生させ、その領域の圧力を大気圧よりも少し高めに維持することにより、基板を浮上させるというものである。 In order to solve this problem, the substrate is transported and transferred without physical contact by using the pressure generated by the flow of a fluid such as gas or liquid without using a transport roller. An apparatus has been developed (Patent Document 1). In this technique, a fluid flow is generated between the back surface of the substrate and the surface of the transfer device, and the pressure in the region is maintained slightly higher than the atmospheric pressure, thereby floating the substrate.
この技術は、物理的な接触がないという点で非常に優れた技術であるが、搬送装置自体の規模が大きく、基板の浮上に利用される流体の制御などが難しい。
また、基板の下面側に流体の流れを発生させる必要があるため、例えば、ガラス基板の洗浄工程では、元来存在しているガラス基板裏面に付着する微粒子の除去など、基板裏面側に表面と同様のプロセス処理を行うことが不可能である。
This technique is very excellent in that there is no physical contact, but the scale of the transfer device itself is large, and it is difficult to control the fluid used for floating the substrate.
Also, since it is necessary to generate a fluid flow on the lower surface side of the substrate, for example, in the glass substrate cleaning process, the surface on the back surface side of the substrate is removed, such as removal of fine particles adhering to the back surface of the glass substrate. It is impossible to perform the same process.
本発明は、上記従来の問題を解決するもので、非常に簡易な機構で基板と搬送機構の接触面を最低限に抑えた基板搬送を可能とする搬送方法、搬送装置を提供するものである。 The present invention solves the above-described conventional problems, and provides a transport method and a transport apparatus that enable transport of a substrate with a very simple mechanism while minimizing the contact surface between the substrate and the transport mechanism. .
上記の課題を解決するための手段として、請求項1に記載の発明は、互いに対向する2辺を有する基板の搬送方法であって、前記2辺の中間に位置する前記基板の箇所を、前記2辺に対して前記基板の厚さ方向に変位させることで前記基板を湾曲させ、この湾曲させた状態を維持しつつ前記基板を搬送することを特徴とする。 As a means for solving the above-mentioned problem, the invention according to claim 1 is a method of transporting a substrate having two sides facing each other, wherein the location of the substrate located between the two sides is The substrate is curved by being displaced in the thickness direction of the substrate with respect to two sides, and the substrate is transported while maintaining the curved state.
請求項2に記載の発明は、前記基板を、前記2辺の延在方向に沿って搬送させることを特徴とする。 The invention described in claim 2 is characterized in that the substrate is transported along the extending direction of the two sides.
請求項3に記載の発明は、前記基板を、前記2辺の延在方向と直交する方向に沿って搬送させることを特徴とする。
請求項4に記載の発明は、前記基板の厚さ方向の両端に位置する2つの面のうちの一方の面は上方に向けられ、前記基板を湾曲させた状態において、前記2辺の中間に位置する前記基板の箇所は、前記2辺に対して上方に変位していることを特徴とする。
The invention described in claim 3 is characterized in that the substrate is transported along a direction orthogonal to the extending direction of the two sides.
According to a fourth aspect of the present invention, one of the two surfaces located at both ends in the thickness direction of the substrate is directed upward, and is in the middle of the two sides when the substrate is curved. The location of the board | substrate located is displaced upwards with respect to the said 2 sides, It is characterized by the above-mentioned.
請求項5に記載の発明は、互いに対向する2辺を有する基板をそれら2辺の延在方向に沿って搬送させる基板の搬送装置であって、前記搬送方向と直交する方向において互いに同軸上に対向配置され前記搬送方向に間隔をおいて複数組配置された一対のローラと、前記搬送方向の上流端に位置する複数組の前記一対のローラのうちの少なくとも一方のローラを他方のローラに対して接近離間する方向に移動させるローラ移動機構と、前記複数組の一対のローラを、前記基板を前記搬送方向に搬送させる方向に回転させるローラ回転機構とを備え、前記ローラは、小径部と、前記小径部から起立する端面を有する大径部とを備え、前記搬送方向の上流端に位置する複数組の前記一対のローラを除いた残りの前記一対のローラの間隔は、前記小径部と前記端面との角部に前記2辺が当接し前記2辺の中間に位置する前記基板の箇所が前記2辺に対して上方に変位した前記基板の湾曲状態が形成される寸法で配置されていることを特徴とする。
請求項6記載の発明は、前記基板の下方から基板に向けて気体を噴射する気体噴射機構をさらに備えることを特徴とする。
The invention according to claim 5 is a substrate transport apparatus for transporting a substrate having two sides facing each other along the extending direction of the two sides, and is coaxial with each other in a direction perpendicular to the transport direction. A pair of rollers arranged opposite to each other and spaced apart in the transport direction, and at least one of the pair of rollers positioned at the upstream end in the transport direction with respect to the other roller And a roller rotation mechanism that rotates the plurality of pairs of rollers in a direction in which the substrate is conveyed in the conveyance direction, and the roller includes a small diameter portion, A large-diameter portion having an end surface rising from the small-diameter portion, and the interval between the remaining pair of rollers excluding the plurality of pairs of rollers located at the upstream end in the transport direction is the small-diameter The two sides abut on the corners of the substrate and the end face, and the substrate is located in the middle of the two sides so that the substrate is displaced upward with respect to the two sides. It is characterized by.
The invention described in claim 6 further includes a gas injection mechanism for injecting gas from below the substrate toward the substrate.
本発明による基板の搬送方法、搬送装置によれば、基板と搬送機構の接触面を最低限に抑えた状態で搬送が簡易に可能となる。その結果、従来の方法に比べ、装置の規模が大幅に小さくなり、装置コストが抑制される。また、上面凸形状に寄与する機構が基板側面に存在するため、基板下面からのプロセス処理の際に障害がなく、両面とも同様のプロセス処理が可能となる。 According to the substrate transfer method and the transfer apparatus of the present invention, the transfer can be easily performed with the contact surface between the substrate and the transfer mechanism being minimized. As a result, compared with the conventional method, the scale of the apparatus is significantly reduced, and the apparatus cost is suppressed. In addition, since a mechanism that contributes to the convex shape on the upper surface exists on the side surface of the substrate, there is no obstacle in the process processing from the lower surface of the substrate, and the same process processing is possible on both sides.
まず、本発明における搬送方法を基板搬送装置と共に説明する。
図1に示すように、搬送装置は、複数組の一対のローラ105と、ローラ移動機構102と、ローラ回転機構と、気体噴射機構103とを備えている。
一対のローラ105は、基板104の搬送方向と直交する方向において互いに同軸上に対向配置され、搬送方向に間隔をおいて複数組配置されており、一対のローラ105の各回転軸1051は互いに切り離されている。
First, the transfer method according to the present invention will be described together with a substrate transfer apparatus.
As shown in FIG. 1, the transport device includes a plurality of pairs of
The pair of
本実施の形態では、基板104の搬送方向の上流端に位置する複数組の一対のローラ105の間に基板設置部101が設けられている。すなわち搬送装置に基板104が供給される箇所に基板設置部101が設けられている。基板設置部101は、基板104を設置する役割である。基板104下面と基板設置部101の接触を最低限の接触にする場合においては、基板104の端部や側面のみ保持することが好ましく、基板104のできるだけ外側を4本の支持ピンで支える方法が好ましい。基板設置部101を4本の支持ピンで構成した場合、支持ピンを昇降可能に設け、支持ピンにより基板104を、一対のローラ105の小径部105Aの上面を結ぶ想像線よりも上方の箇所で支持し、一対のローラ105間の間隔が、一対のローラ105の小径部105A上に基板104の互いに対向する2辺が載置される寸法になった際に、支持ピンを下降させ、基板104の互いに対向する2辺を一対のローラ105の小径部105A上に載置し、その後、一対のローラ105間の間隔を狭め、基板104を湾曲させるようにしてもよい。あるいは、支持ピンにより支持される基板104を、一対のローラ105の小径部105Aの上面を結ぶ想像線よりも僅かに上方に位置させるように支持ピンの高さを設定しておき、一対のローラ105間の間隔を狭め、基板104を湾曲させ、基板104を支持ピンから離すようにしてもよい。
ただし、本発明においては、基板104の中央面に接触がないこと、基板104をローラ105を用いて押し込んで湾曲させる際に、ローラ105との干渉がないこと、基板104の湾曲変形を阻害しないことを満たしていれば、これに限定されるものではない。例えば、支持ピンを省略し、基板104の搬送方向の上流端に位置する複数組の一対のローラ105間の間隔を、一対のローラ105の小径部105A上に基板104の互いに対向する2辺が載置される寸法で設定することで基板設置部101としてもよい。
In the present embodiment, the
However, in the present invention, there is no contact with the central surface of the
ローラ移動機構102は、図2に示すように、基板104の搬送方向の上流端に位置する複数組の一対のローラ105のうちの少なくとも一方のローラ105を、他方のローラ105に対して接近離間する方向に移動させるものであり、基板104を湾曲させる役割を果たしている。本実施の形態では、ローラ移動機構102は、一対のローラ105の双方を、互いに接近離間する方向に移動するようにしている。
ローラ移動機構102は、搬送方向の上流端に基板104が供給される毎に、搬送方向の上流端に位置する複数組の一対のローラ105を接近離間させる。すなわち、基板104が供給される前は、複数組の一対のローラ105は離間しており、基板104が供給されると、複数組の一対のローラ105を接近させ、基板104を湾曲させる。複数組の一対のローラ105は、それぞれフレームで支持されており、複数組の一対のローラ105の接近離間は、それぞれアクチュエータによりフレームを接近離間する方向に移動することで行なわれる。
ローラ移動機構102は、一対のローラ105間の間隔を狭め、ローラ105と基板104が接触することで基板104を湾曲させる。その際に、基板104とローラ105の接点の位置が動かないことが好ましい。
As shown in FIG. 2, the
Each time the
The
そのために、ローラ105は基板104との接点が動きづらくなるように形成されている。
本実施の形態では、図3に示すように、ローラ105は、小径部105Aと、小径部105Aから直角に起立する端面105Bを有する大径部105Cとを備えている。そして、一対のローラ105間の間隔を狭めることで、小径部105Aと端面105Bとの角部に基板104の2辺が当接し、2辺の中間に位置する基板104の箇所が2辺に対して上方に変位した基板104の湾曲状態が形成されるように構成されている。小径部105Aの外周面に対して端面105Bが直角に近い角度を持つと、基板104の端面が小径部105Aの外周面と端面105Bとの角部に固定されることで、基板104の自重による滑りを物理的に抑制する上で好ましい。小径部105Aの外周面と端面105Bとの角部を鋭角にすると、基板104の2辺の上方への滑りを物理的に抑制する上でより好ましい。
Therefore, the
In the present embodiment, as shown in FIG. 3, the
ローラ105の形状は、その断面形状が直角に近い角を持ち、基板104の自重による滑りを物理的な支持で抑制する方法の場合、ローラ105と基板104の接点、つまり、ローラ105の材料の動摩擦係数は小さく、自重方向に滑り易い材料、例えばU−PEなどを用いることが好ましい。これは、仮にローラ105と基板104との接点が上方にずれたとしても、基板104の自重による滑りによって、接点が元の位置に復帰しやすいためである。
The shape of the
搬送方向の上流端に位置する複数組の一対のローラ105を除いた残りの一対のローラ105の間隔は、小径部105Aと端面105Bとの角部に基板104の2辺が当接し2辺の中間に位置する基板104の箇所が2辺に対して上方に変位した基板104の湾曲状態が形成される寸法で配置されている。すなわち、搬送方向の上流端に位置する複数組の一対のローラ105により、供給された基板104が湾曲され、上流端に位置する複数組の一対のローラ105を除いた残りの一対のローラ105によりこの基板104の湾曲した状態が維持されるように構成されている。本実施の形態では、基板104の厚さ方向の両端に位置する2つの面のうちの一方の面は上方に向けられ、基板104を湾曲させた状態において、2辺の中間に位置する基板104の箇所は、2辺に対して上方に変位している。なお、基板104の処理の種類によっては、基板104は、例えば、鉛直方向に搬送され、基板104を湾曲させた状態において、2辺の中間に位置する基板104の箇所は、2辺に対して水平方向に変位することになる。すなわち、基板104の搬送方向は、水平方向や鉛直方向に限定されない。
ローラ回転機構は、複数組の一対のローラ105を、基板104を搬送方向に搬送させる方向に回転させるものである。
具体的には、搬送方向と直交方向に分割した軸1051にそれぞれローラ105を取着し、その軸1051をフレーム上に搬送方向に対して複数本並べた構成であって、ローラ105が設置されている軸1051に対して搬送方向に直交に伸びる軸1053を備え、ローラ105が設置されている軸1051と搬送方向に直交に伸びる軸1053は、マグネットギアが配置しており、それぞれの軸1051,1053のマグネットギア同士が近接している機構である。ローラ移動機構102によるローラ105の押し込みに関しては、ローラ105が設置されている軸1051と、搬送方向に直交に伸びる軸1053と、フレームとを含んだ機構全体を低速用モータで基板中央の方向へゆっくり動作させることで、ローラ105が基板中央に向けて基板104を押し込む。ローラ回転機構によるローラ105の回転に関しては、搬送方向に直交に伸びる軸1053をモータで回転駆動させることで、その駆動をマグネットギアを介して、ローラ105が設置されている軸1051に伝達し、搬送装置の全てのローラ105が基板104を搬送する方向へ同期して回転し基板搬送をおこなう。
したがって、本実施の形態では、ローラ105は、基板中央に向かって基板104を押し込む役割と、基板104を搬送させる役割を兼ねている。
The distance between the remaining pair of
The roller rotation mechanism rotates a plurality of pairs of
Specifically, the
Therefore, in this embodiment, the
ローラ移動機構102が、基板104を押し込む際のローラ105の押し込み速度は特に限定するものではないが、低速動作することが好ましい。これは、基板104へのストレスが軽減するからである。その速度は、基板104の材料特性やローラ移動機構102の材料特性や形状に依るところが大きいが、基本的には5mm/sec以下に抑えることが好ましい。
The pushing speed of the
ローラ移動機構102を用いた基板側面の押し込みによって、基板104を上面凸形状へ湾曲させる量は可能な限り小さくすると良い。これは、湾曲させる量が大きい場合、ローラ105と基板104との接点において、湾曲から平らに戻ろうとする復元力によって、基板104とローラ105の接点が、自重方向と反対に動く作用が大きくなるからである。湾曲させる量としては、基板103のサイズ・材質・厚みにも関係するため、本発明では特に限定はするものではないが、基本的には、基板端部を基準にして、基板最上部が垂直方向に0mmより大きく、100mmより小さいことが好ましい。
The amount by which the
ローラ105による基板104の側面の押し込みは、必ずしも基板104の向かい合う2つの側面の外側からの押し込みでなく、基板104の少なくとも1つの側面の外側から、基板中央に向かって、ローラ移動機構102を用いて基板104の側面を押し込んでもよい。例えば、図2において、基板の向かい合う2つの側面の外側に存在する2つのローラ移動機構102のどちらか一方だけ、基板104を押し込むことができれば良い。その場合、予め、押し込みをおこなわず固定されるローラ移動機構102のローラ105の上に、基板104の1端面を保持し、もう1端面は、基板設置部101に保持する必要がある。そして、押し込みを行うローラ移動機構102を基板中央に向けて動作させ、基板104を押し込み湾曲させることができる。
The pressing of the side surface of the
気体噴射機構103は基板104下面から気体を噴射させるにより、上方向へ押し上げる役割である。気体噴射機構103には線状に気体を噴射できるスリットノズルを用いて、エアを噴射させるのが好ましい。その際には、フレームの側面とスリットノズルの長手方向が平行になるように設置をして、基板104の中央に向かってエアを噴射することが好ましい。
The
基板104の上面凸形状について、湾曲させる量を管理するために、接触式センサ、光学式センサ、超音波センサなどを具備することができる。とりわけ光学式センサは非接触、かつ、精度良く湾曲の量を管理できる。また、測定された湾曲の量は、ローラ移動機構102の押し込み量にフィードバックを行い、湾曲させる量の制御をおこなってもよい。
なお、本実施の形態では、一対のローラ105を回転させることで基板を湾曲させた状態で搬送させる場合について説明したが、基板を湾曲させた状態で搬送させる構造は種々考えられる。例えば、基板の2辺に沿ってベルト面を対向させつつ延在する一対のベルトを設け、この一対の互いに対向するベルト面に、ベルト面から直角に起立する突起をベルトの延在方向に延在させる。そして、基板104の搬送方向の上流端に位置する一対のベルトの背面に、軸心を上下方向に向けた回転可能な複数のローラを、ベルトの背面に対して離間接近可能に配置する。また、上流端に位置する一対のベルトを除いた残りの一対のベルトの間隔は、突起とベルト面との角部に基板104の2辺が当接し2辺の中間に位置する基板104の箇所が2辺に対して上方に変位した基板104の湾曲状態が形成される寸法に設定する。このような構成によれば、前記実施の形態と同様に、軸心を上下方向に向けた回転可能な複数のローラの移動により、基板104の搬送方向の上流端に位置する一対のベルトで基板104を湾曲させ、上流端に位置する一対のベルトを除いた残りの一対のベルトで基板を湾曲させた状態で搬送することができる。
また、本実施の形態では、基板を、基板の互いに対向する2辺の延在方向に沿って搬送させる場合について説明したが、基板を、基板の互いに対向する2辺の延在方向と直交する方向に沿って搬送させるようにしてもよい。この場合には、例えば、複数の矩形枠状の搬送板をチェーンに取り付け、搬送方向に移動な搬送板を複数設ける。そして、基板の互いに対向する2辺が搬送方向に沿った各搬送板の両端に位置した状態で、基板の2辺に当接し、基板を湾曲させる複数組の一対のローラ105を配置する。この場合には、ローラ105自体の構成は前記実施の形態と同様な構成でよく、搬送板に供給された基板を複数組の一対のローラ105で湾曲させるため、搬送板毎にローラ移動機構102は必要となるが、搬送板自体が移動することで基板を搬送するのでローラ105を回転させるローラ回転機構は不要となる。
A contact sensor, an optical sensor, an ultrasonic sensor, or the like can be provided to manage the amount of bending of the convex shape on the upper surface of the
Note that although the case where the substrate is conveyed in a curved state by rotating the pair of
In the present embodiment, the case where the substrate is transported along the extending direction of the two opposite sides of the substrate has been described. However, the substrate is orthogonal to the extending direction of the two opposite sides of the substrate. You may make it convey along a direction. In this case, for example, a plurality of rectangular frame-shaped conveyance plates are attached to the chain, and a plurality of conveyance plates that are movable in the conveyance direction are provided. Then, a plurality of pairs of
101 ・・・基板設置部
102 ・・・ローラ移動機構
103 ・・・気体噴射機構
104 ・・・基板
105 ・・・ローラ
DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記2辺の中間に位置する前記基板の箇所を、前記2辺に対して前記基板の厚さ方向に変位させることで前記基板を湾曲させ、この湾曲させた状態を維持しつつ前記基板を搬送する、
ことを特徴とする基板の搬送方法。 A method for transporting a substrate having two sides facing each other,
The substrate is bent by displacing the portion of the substrate located between the two sides in the thickness direction of the substrate with respect to the two sides, and the substrate is transported while maintaining the curved state. To
A method for transporting a substrate.
ことを特徴とする請求項1記載の基板の搬送方法。 Transporting the substrate along the extending direction of the two sides;
The substrate transport method according to claim 1, wherein:
ことを特徴とする請求項1記載の基板の搬送方法。 Transporting the substrate along a direction orthogonal to the extending direction of the two sides;
The substrate transport method according to claim 1, wherein:
前記基板を湾曲させた状態において、前記2辺の中間に位置する前記基板の箇所は、前記2辺に対して上方に変位している、
ことを特徴とする請求項1〜3の何れか1項記載の基板の搬送方法。 One of the two surfaces located at both ends in the thickness direction of the substrate is directed upward,
In a state where the substrate is curved, the location of the substrate located in the middle of the two sides is displaced upward with respect to the two sides.
The method for transporting a substrate according to any one of claims 1 to 3.
前記搬送方向と直交する方向において互いに同軸上に対向配置され前記搬送方向に間隔をおいて複数組配置された一対のローラと、
前記搬送方向の上流端に位置する複数組の前記一対のローラのうちの少なくとも一方のローラを他方のローラに対して接近離間する方向に移動させるローラ移動機構と、
前記複数組の一対のローラを、前記基板を前記搬送方向に搬送させる方向に回転させるローラ回転機構とを備え、
前記ローラは、小径部と、前記小径部から起立する端面を有する大径部とを備え、
前記搬送方向の上流端に位置する複数組の前記一対のローラを除いた残りの前記一対のローラの間隔は、前記小径部と前記端面との角部に前記2辺が当接し前記2辺の中間に位置する前記基板の箇所が前記2辺に対して上方に変位した前記基板の湾曲状態が形成される寸法で配置されている、
ことを特徴とする基板の搬送装置。 A substrate transfer apparatus for transferring a substrate having two sides facing each other along the extending direction of the two sides,
A pair of rollers arranged coaxially opposite to each other in a direction orthogonal to the transport direction and disposed in pairs in the transport direction;
A roller moving mechanism for moving at least one of the pair of rollers located at the upstream end in the transport direction in a direction approaching and separating from the other roller;
A roller rotating mechanism for rotating the plurality of pairs of rollers in a direction in which the substrate is transported in the transport direction;
The roller includes a small-diameter portion and a large-diameter portion having an end surface rising from the small-diameter portion,
The interval between the remaining pair of rollers excluding the plurality of pairs of rollers positioned at the upstream end in the transport direction is such that the two sides come into contact with the corners of the small diameter portion and the end surface. The location of the substrate located in the middle is arranged with a dimension that forms a curved state of the substrate displaced upward with respect to the two sides,
A substrate transfer apparatus.
ことを特徴とする請求項5に記載の基板搬送装置。 A gas injection mechanism for injecting gas from below the substrate toward the substrate;
The substrate transfer apparatus according to claim 5.
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CN113307028A (en) * | 2021-04-27 | 2021-08-27 | 蔡燕山 | Production equipment of flat-panel display |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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