JP2016191819A - フレキシブル表示装置用基板及びそれを用いたフレキシブル表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】フレキシブル表示装置が曲げられたとしてもシール材がフレキシブル基材から剥離するのを防止することができるフレキシブル表示装置用基板及びそれを用いたフレキシブル表示装置を提供する。【解決手段】フレキシブル表示装置用基板１は、第１面２ａ及び当該第１面２ａに対向する第２面２ｂを有し、表示領域５１及び当該表示領域５１を取り囲む非表示領域５２を含むフレキシブル基材２と、フレキシブル基材２の第１面２ａ側に設けられてなる密着層３と、非表示領域５２内の密着層３上に設けられてなるシール材４とを備え、密着層３は、無機フィラーと樹脂組成物とを含み、無機フィラーの粒径は、１５０〜５００ｎｍである。【選択図】図２

Description

本発明は、フレキシブル表示装置用基板及びそれを用いたフレキシブル表示装置に関する。

近年、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、電子ペーパーディスプレイ等のフラットパネルディスプレイの急速な普及に伴い、ディスプレイを構成するディスプレイ部材の需要が拡大している。現在のフラットパネルディスプレイは、テレビやデスクトップモニター等の据置型電子機器の用途のみならず、携帯用ノートパソコン、携帯電話、携帯用ゲーム機、電子リーダー、電子ブック等の携帯型電子機器の用途にまで広く用いられる。そのため、フラットパネルディスプレイにおいては、さらなる軽量化、小型化、薄型化、耐衝撃性向上等が求められている。

このような状況において、上記ディスプレイ部材として、従来用いられてきたリジッドなガラス基板に替わり、可撓性を有するフレキシブル基材を用いたディスプレイ部材が提案されている。ディスプレイ部材においてフレキシブル基材を用いることにより、ディスプレイをフレキシブルディスプレイとすることが可能となり、またロール・ツー・ロールプロセスにより製造可能となる。このようなフレキシブルディスプレイとして、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、電子ペーパーディスプレイ等が知られている。

これらのフレキシブルディスプレイは、対向する２つのフレキシブル基材を備え、少なくとも一方のフレキシブル基材に有機ＥＬ素子、ＴＦＴ素子、液晶素子、半導体素子等の表示素子が形成されている。そして、２つのフレキシブル基材の最外周を囲むようにして設けられたシール材により、２つのフレキシブル基材間の空間が封止される。

このようなフレキシブルディスプレイにおいて、２つのフレキシブル基材間の空間に外部から水分やガス等が侵入してしまうと、その空間に存在する上記表示素子の特性が低下し、フレキシブルディスプレイの寿命が短縮してしまうという問題がある。そのため、当該空間を封止するシール材には、外部から水分やガス等が侵入するのを抑制し得る特性を有することが要求されるが、フレキシブルディスプレイにおいては、当該フレキシブルディスプレイが曲げられることによりフレキシブル基材からシール材が剥離してしまうと、その剥離により生じた隙間（フレキシブル基材とシール材との間の隙間）から上記空間に水分やガス等が侵入してしまうおそれがある。

このような課題を解決するために、従来、フレキシブル基材の最外周を囲むシール材のコーナー部分に突出部を有し、シール材がフレキシブル基材から剥離し難くしたフレキシブルディスプレイが提案されている（特許文献１等）。

特開２００６−１４６２２１号公報

上記特許文献１に記載のフレキシブルディスプレイにおいては、樹脂フィルム等により構成されるフレキシブル基材上に、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等により構成されるシール材が直接設けられている。しかしながら、これらの樹脂からなるシール材は、樹脂フィルム等により構成されるフレキシブル基材に対する接着強度が低いため、フレキシブルディスプレイが曲げられたときにシール材がフレキシブル基材から剥離しやすいという問題が依然としてある。上記樹脂により構成されるシール材をフレキシブル基材に確実に密着させるために熱融着させることも考えられるが、加熱によりシール材が溶融して表示領域に流れてしまうという問題もある。

本発明は、上述のような実情に鑑みてなされたものであり、フレキシブル表示装置が曲げられたとしてもフレキシブル基材からシール材が剥離するのを防止することができるフレキシブル表示装置用基板及びそれを用いたフレキシブル表示装置を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明は、第１面及び当該第１面に対向する第２面を有し、表示領域及び当該表示領域を取り囲む非表示領域を含むフレキシブル基材と、前記フレキシブル基材の前記第１面側の少なくとも前記非表示領域内に設けられてなる密着層と、前記非表示領域内の前記密着層上に設けられてなるシール材とを備え、前記密着層は、無機フィラーと樹脂組成物とを含み、前記無機フィラーの粒径は、１５０〜５００ｎｍであることを特徴とするフレキシブル表示装置用基板を提供する（発明１）。

上記発明（発明１）によれば、所定の粒径の無機フィラーと樹脂組成物とを含む密着層がフレキシブル基材とシール材との間に介在することで、フレキシブル基材に対するシール材の接着強度が増大するため、上記発明（発明１）に係るフレキシブル表示装置用基板を用いるフレキシブル表示装置において、フレキシブル基材からシール材が剥離するのを防止することができる。

上記発明（発明１）において、前記密着層は、前記シール材の一部に少なくとも接触し、前記フレキシブル基材の第１面と前記シール材との界面に位置するのが好ましい（発明２）。

上記発明（発明１，２）において、前記シール材の線幅が、５０〜５０００μｍであるのが好ましい（発明３）。かかる発明（発明３）によれば、シール材の線幅が上記範囲内であることで、フレキシブル基材からシール材が剥離するのを効果的に防止しつつ、フレキシブル表示装置における表示領域を相対的に大きくすることができる。

上記発明（発明１〜３）において、前記密着層の厚みが、０．５〜５．０μｍであるのが好ましい（発明４）。

上記発明（発明１〜４）において、前記無機フィラーが、酸化チタン、シリカ又は酸化ジルコニウムであるのが好ましく（発明５）、前記密着層における前記無機フィラーの含有量が、前記樹脂組成物１００質量部に対して１０〜２００質量部であるのが好ましい（発明６）。

上記発明（発明１〜６）において、前記密着層は、前記非表示領域における前記フレキシブル基材を部分的に露出させるようにして設けられていてもよく（発明７）、かかる発明（発明７）において、前記非表示領域内に断続的に設けられているのが好ましく（発明８）、前記密着層の切断端面であって、前記フレキシブル基材の前記第１面に対する垂直方向、かつ前記密着層の線幅方向に沿った当該切断端面が、前記フレキシブル基材の前記第１面に対する垂直方向に向かって開放する略コの字状であるのが好ましい（発明９）。

上記発明（発明１〜６）において、前記密着層が、前記フレキシブル基材の前記第１面側における前記表示領域及び前記非表示領域を覆うようにして設けられていてもよい（発明１０）。

上記発明（発明１〜９）において、前記密着層のヘイズ値が１０〜８０％であるのが好ましく（発明１１）、上記発明（発明１０）においては、前記密着層のヘイズ値が１５％以下であるのが好ましい（発明１２）。

上記発明（発明１〜１２）において、前記フレキシブル基材の前記第１面側における前記表示領域にカラーフィルタ層が設けられているのが好ましい（発明１３）。

また、本発明は、上記発明（発明１〜１３）に係るフレキシブル表示装置用基板と、前記フレキシブル表示装置用基板に対向して配置されてなる対向フレキシブル基板とを備え、前記対向フレキシブル基板は、第１面及び当該第１面に対向する第２面を有し、当該第１面側にバリア層を有し、前記フレキシブル表示装置用基板の第１面と前記対向フレキシブル基板の第１面とを対向させ、前記シール材を前記対向フレキシブル基板の前記バリア層に接触させるようにして、前記シール材を介して前記フレキシブル表示装置用基板と前記対向フレキシブル基板とを接着させてなることを特徴とするフレキシブル表示装置を提供する（発明１４）。

本発明によれば、フレキシブル表示装置が曲げられたとしてもフレキシブル基材からシール材が剥離するのを防止することができるフレキシブル表示装置用基板及びそれを用いたフレキシブル表示装置を提供することができる。

図１は、本発明の一実施形態に係るフレキシブル表示装置用基板の概略構成を示す平面図である。 図２は、本発明の一実施形態に係るフレキシブル表示装置用基板の概略構成を示す、図１におけるＩ−Ｉ線切断端面図である。 図３は、本発明の一実施形態における密着層の概略構成を示す平面図であるである。 図４（Ａ）は、本発明の一実施形態に係るフレキシブル表示装置用基板の他の態様（その１）の概略構成を示す平面図であり、図４（Ｂ）は、図４（Ａ）におけるII−II線切断端面図である。 図５（Ａ）は、本発明の一実施形態に係るフレキシブル表示装置用基板の他の態様（その２）の概略構成を示す平面図であり、図５（Ｂ）は、図５（Ａ）におけるIII−III線切断端面図であり、図５（Ｃ）は、図５（Ａ）におけるIV−IV線切断端面図である。 図６（Ａ）は、本発明の一実施形態に係るフレキシブル表示装置用基板の他の態様（その３）の概略構成を示す平面図であり、図６（Ｂ）は、図６（Ａ）におけるＶ−Ｖ線切断端面図である。 図７（Ａ）は、本発明の一実施形態に係るフレキシブル表示装置用基板の他の態様（その４）の概略構成を示す平面図であり、図７（Ｂ）は、図７（Ａ）におけるVI−VI線切断端面図である。 図８（Ａ）及び（Ｂ）は、本発明の一実施形態に係るフレキシブル表示装置用基板を製造する方法を概略的に示す側面図である。 図９は、本発明の一実施形態におけるフレキシブル表示装置の概略構成を示す切断端面図である。 図１０は、本発明の一実施形態におけるフレキシブル表示装置を製造する方法を概略的に示す側面図である。

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
［フレキシブル表示装置用基板］
図１は、本実施形態に係るフレキシブル表示装置用基板の概略構成を示す平面図であり、図２は、本実施形態に係るフレキシブル表示装置用基板の概略構成を示す、図１におけるＩ−Ｉ線切断端面図であり、図３は、本実施形態における密着層の概略構成を示す平面図である。

図１及び図２に示すように、本実施形態に係るフレキシブル表示装置用基板１は、第１面２ａ及び第１面２ａに対向する第２面２ｂを有する長尺状のフレキシブル基材２を有する。かかるフレキシブル表示装置用基板１においては、フレキシブル基材２の第１面２ａの長手方向（図２における横方向）に沿って所定の間隔で、表示領域５１及びそれを囲む非表示領域５２を含むディスプレイ領域５が複数設定され、各ディスプレイ領域５に含まれる表示領域５１に設けられたカラーフィルタ層６と、非表示領域５２に設けられている密着層３と、密着層３上に設けられているシール材４とが備えられる。

表示領域５１は、本実施形態に係るフレキシブル表示装置用基板１を用いて製造されるフレキシブル表示装置１０（図９参照）において画像等が表示される領域であり、非表示領域５２は、当該フレキシブル表示装置１０において主に配線等が取り回される領域である。

なお、本実施形態において「フレキシブル」とは、柔軟性があることを意味し、「フレキシブル基材」とは、一般的に可撓性があり、曲げることが可能な基材を意味する。本実施形態におけるフレキシブル基材２としては、フレキシブル表示装置用に用いることが可能な透明性を有するものであればよい。本実施形態において「透明」とは、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの光線の平均透過率が７０％以上であることを意味し、好ましくは８０％以上、特に好ましくは９０％以上である。

フレキシブル基材２を構成するフレキシブル材料としては、例えば、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、セルローストリアセテート（ＣＴＡ）、環状ポリオレフィン（ＣＯＰ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリサルフォン（ＰＳＦ）、ポリアミドイミド（ＰＡＩ）、ノボルネン系樹脂、アリルエステル樹脂等の合成樹脂が挙げられる。

フレキシブル基材２の厚みは、１０〜１０００μｍであるのが好ましく、３０〜５００μｍであるのがより好ましい。後述するように、本実施形態に係るフレキシブル表示装置用基板１は、ロール状に巻回された状態で、ロール・ツー・ロール方式により対向フレキシブル基板１１と対向させて貼り合わされ、それによりフレキシブル表示装置１０が製造される（図１０参照）。そのため、フレキシブル基材２の厚みが１０００μｍを超えると、フレキシブル基材２の可撓性が損なわれて折れやすくなり、ロール状に巻き取ることが困難になるおそれがある。一方、フレキシブル基材２の厚みが１０μｍ未満であると、フレキシブル基材２のこしがなくなり、フレキシブル表示装置用基板の製造工程における取り扱いが困難になるおそれがある。

フレキシブル基材２の幅（短手方向（図１における縦方向）の長さ）は、本実施形態に係るフレキシブル表示装置用基板１を用いて製造されるフレキシブル表示装置１０（図９参照）の大きさに応じて適宜選択され得るものであって、特に限定されるものではない。なお、フレキシブル基材２は、単一層の構成を有するものであってもよいし、複数の層が積層された構成を有するものであってもよい。

図３に示すように、本実施形態における密着層３は、フレキシブル基材２の第１面２ａにおける非表示領域５２内に、表示領域５１を囲むようにして環状（フレーム状）に設けられている。なお、図３においては、フレキシブル基材２上における密着層３の構造の理解を容易にするために、シール材４及びカラーフィルタ層６の図示が省略されている。

密着層３は、樹脂組成物と無機フィラーとを含む。密着層３が樹脂組成物と無機フィラーとを含むことで、密着層３を介してフレキシブル基材２に接着されるシール材４のフレキシブル基材２に対する接着強度が増大し、フレキシブル基材２が曲げられたとしてもシール材４がフレキシブル基材２から剥離するのを防止することができる。

密着層３に含まれる樹脂組成物としては、例えば、光（紫外線）硬化性樹脂組成物若しくは熱硬化性樹脂組成物、又はこれらの混合樹脂組成物等を用いることができるが、密着層３を形成する過程で、所定のフレキシブル材料からなるフレキシブル基材２に熱を印加するのを可能な限り避けることのできるよう、光（紫外線）硬化性樹脂組成物又は上記混合樹脂組成物を用いるのが好ましい。

光（紫外線）硬化性樹脂組成物としては、特に限定されるものではないが、例えば、アクリレート基又はメタクリレート基を有するモノマーやオリゴマーが挙げられ、アクリレート基又はメタクリレート基を有するポリマーをさらに含んでいてもよい。

上記モノマーとしては、例えば、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロシプロピルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，３−プロパンジオールアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、２，２−ジメチロールプロパンジアクリレート、グリセロールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、グリセロールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレート、ブチレングリコールジアクリレート、１，２，４−ブタントリオールトリアクリレート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオールジアクリレート、ジアリルフマレート、１，１０−デカンジオールジメチルアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート、テトラヒドロフルフリールアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、３−ブタンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート、フェノール−エチレンオキサイド変性アクリレート、フェノール−プロピレンオキサイド変性アクリレート、ビスフェノールＡ−エチレンオキサイド変性ジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリアクリレート、ペンタエリスリトールペンタアクリレート、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等のアクリレートモノマー、及びこれらのアクリレート基をメタクリレート基に置換したもの等が挙げられる。

上記オリゴマーとしては、例えば、ポリウレタン構造を有するオリゴマーにアクリレート基を結合させたウレタンアクリレートオリゴマー、ポリエステル構造を有するオリゴマーにアクリレート基を結合させたポリエステルアクリレートオリゴマー、エポキシ基を有するオリゴマーにアクリレート基を結合させたエポキシアクリレートオリゴマー、ポリウレタン構造を有するオリゴマーにメタクリレート基を結合させたウレタンメタクリレートオリゴマー、ポリエステル構造を有するオリゴマーにメタクリレート基を結合させたポリエステルメタクリレートオリゴマー、エポキシ基を有するオリゴマーにメタクリレート基を結合させたエポキシメタクリレートオリゴマー、アクリレート基を有するポリウレタンアクリレート、アクリレート基を有するポリエステルアクリレート、アクリレート基を有するエポキシアクリレート樹脂、メタクリレート基を有するポリウレタンメタクリレート、メタクリレート基を有するポリエステルメタクリレート、ならびにメタクリレート基を有するエポキシメタクリレート樹脂等が挙げられる。

上記ポリマーとしては、例えば、ポリメタクリル酸樹脂、エチレンメタクリル酸樹脂、並びに重合可能なモノマーであるメチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルアクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、ｎ−ペンチルメタクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ｎ−デシルアクリレート、ｎ−デシルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、グリシジル（メタ）アクリレートの１種以上と、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸の２量体、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸及びこれらの酸無水物との共重合体等が挙げられる。

密着層３は、さらに重合開始剤を含んでいてもよい。かかる重合開始剤としては、熱重合開始剤及び／又は光重合開始剤等を用いることができ、例えば、ベンジル（ビベンゾイルとも言う）、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、ベンジルメチルケタール、ジメチルアミノメチルベンゾエート、２−ｎ−ブトキシエチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、メチロベンゾイルフォーメート、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、及び１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン等が挙げられる。

上記混合樹脂組成物における光（紫外線）硬化性樹脂組成物と熱硬化性樹脂組成物との質量比は、特に限定されるものではないが、例えば、１：０．１〜１程度、好ましくは１：０．１〜０．５程度である。

密着層３に含まれる無機フィラーとしては、例えば、酸化チタン、シリカ、酸化ジルコニウム等を用いることができる。無機フィラーの形状は、略球状、略針状、略板状等の定形でもよいし、不定形でもよい。

略球状の無機フィラーの粒径は、特に限定されるものでなく、１５０〜５００ｎｍであり、２００〜４００ｎｍであるのが好ましい。略針状又は略板状の無機フィラーの長手方向の長さは、３００〜６００ｎｍ程度であるのが好ましく、アスペクト比は、０．５〜０．７程度であるのが好ましい。なお、本実施形態において「粒径」とは、算術平均粒子径を意味し、当該粒径は、例えば、動的光散乱法（日機装社製，製品名： Nanotrac Wave-EX250）等を用いて測定することができる。

密着層３における無機フィラーの含有量は、樹脂組成物１００質量部に対して１０〜２００質量部であるのが好ましく、２０〜１００質量部であるのが好ましい。無機フィラーの含有量が２００質量部を超えると、シール材４のフレキシブル基材２に対する接着強度が低下するおそれがあるとともに、密着層３の剛性が増大し、フレキシブル基材２の可撓性が損なわれるおそれがある。一方、無機フィラーの含有量が１０質量部未満であると、シール材４の接着力が低下してしまうおそれがある。

密着層３の厚みＴ₃（図２参照）は、０．５〜５．０μｍであるのが好ましく、１〜４μｍであるのがより好ましい。密着層３の厚みＴ₃が上記範囲内であれば、フレキシブル基材２からシール材４の剥離を防止可能な程度の接着強度を発揮することができる。

密着層３のヘイズ値は、特に限定されるものではないが、１０〜８０％であるのが好ましく、２０〜６０％であるのがより好ましい。

図１及び図２に示すように、シール材４は、密着層３上に環状（フレーム状）に設けられている。本実施形態においては、密着層３の上面にシール材４の下面の全面が接触するようにしてシール材４が設けられているが、このような態様に限定されるものではなく、シール材４の下面の一部が密着層３に接触するようにしてシール材４が設けられていてもよい。

シール材４を構成する樹脂組成物としては、シール材４としての特性、特に本実施形態に係るフレキシブル表示装置用基板１に対向して貼り合わされる対向フレキシブル基板１１（図９，１０参照）に設けられている表示素子の種類（有機ＥＬ素子、ＴＦＴ素子、液晶素子、半導体素子等）等に応じて要求されるシール特性を発揮し得る材料であれば特に制限されるものではない。当該樹脂組成物としては、例えば、上述した密着層３を構成する材料と同様の光硬化性樹脂組成物や、光硬化性樹脂組成物と熱硬化性樹脂組成物との混合樹脂組成物等が用いられ得る。

シール材４の高さＴ₄は、本実施形態に係るフレキシブル表示装置用基板１を用いたフレキシブル表示装置の厚さ等に応じて適宜設定され得るものであり、例えば、５〜２００μｍ程度である。

シール材４の線幅Ｗ₄は、特に限定されるものではないが、当該線幅Ｗ₄を短くすることでディスプレイ領域５において表示領域５１の占める割合を相対的に大きくすることができる一方、線幅Ｗ₄が短すぎるとフレキシブル基材２に対するシール材４の接着強度が低下するおそれがある。このような観点から、当該線幅Ｗ₄は、例えば、５０〜５０００μｍ程度であるのが好ましく、１００〜２０００μｍ程度であるのがより好ましい。

本実施形態におけるカラーフィルタ層６は、開口部を有する所定パターン状に形成されてなる遮光部と、開口部を被覆するようにして設けられた複数色の着色部（例えば、赤色着色部、緑色着色部及び青色着色部の３色の着色部等）とにより構成される。

遮光部は、例えば、カーボン微粒子等の遮光性粒子を含有する樹脂材料の硬化体、クロム等の金属材料の厚み１０００〜２０００Å程度の薄膜等として構成され得る。なお、遮光部のパターン形状は、複数の開口部を有するパターン形状であれば特に限定されるものではなく、例えば、平行に設けられた複数のストライプ形状、格子形状等であればよい。

着色部は、パターン形状に形成された遮光部により構成される開口部のそれぞれを被覆するようにして設けられる。かかる着色部は、所望の着色材（顔料、染料等）を含む、公知のネガ型又はポジ型感光性樹脂材料等により構成される。

なお、カラーフィルタ層６は、遮光部及び各着色部を被覆する透明保護層を有していてもよい。透明保護層を有することで、各着色部からの不純物イオン成分の溶出や脱ガス等を防止することができる。

［フレキシブル表示装置用基板のその他の態様］
上述した構成を有するフレキシブル表示装置用基板１における密着層３の態様は、シール材４に対して所望とする接着強度が確保され得る限りにおいて、上述した態様に限定されるものではない。

例えば、図４（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、本実施形態における密着層３は、シール材４の剥離を防止し得る限りにおいて、シール材４の線幅Ｗ₄よりも小さい線幅Ｗ₃を有するものであってもよい。このような態様によれば、密着層３を構成する材料の使用量を低減することができる。なお、図４（Ａ）及び（Ｂ）においては、密着層３がシール材４の幅方向略中央に位置しているが、このような態様以外にも、密着層３がシール材４の幅方向外側（ディスプレイ領域５の外縁側）又は内側（表示領域５１側）に位置していてもよい。

また、図５（Ａ）〜（Ｃ）に示すように、本実施形態における密着層３は、非表示領域５２におけるフレキシブル基材２を部分的に露出させるようにして、非表示領域５２内に断続的に設けられていてもよい。このような態様であれば、断続的に設けられる密着層３のピッチを適切な範囲に設定することで、密着層３とシール材４との接触面積を増大させることができ、フレキシブル基材２に対するシール材４の接着強度をさらに向上させることができる。また、上記態様における密着層３を、印刷法等によりフレキシブル基材２上に形成することで、密着層３を構成する材料の使用量を低減することができるという効果も奏し得る。

さらに、図６（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、本実施形態における密着層３は、フレキシブル基材２の第１面２ａに対する垂直方向、かつ密着層３の線幅方向に沿った切断端面が、フレキシブル基材２の第１面２ａに対する略垂直方向に向かって開放する略コの字状であってもよい。このような態様によれば、密着層３とシール材４との接触面積を増大させることができるとともに、密着層３の略コの字状部分がシール材４に対するアンカー効果を奏することで、フレキシブル基材２に対するシール材４の接着強度をさらに向上させることができる。

さらにまた、図７（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、本実施形態における密着層３は、表示領域５１及び非表示領域５２を含むディスプレイ領域５の全面に設けられていてもよい。この態様において、本実施形態に係るフレキシブル表示装置用基板１が、透過型フレキシブル表示装置に用いられるものである場合、密着層３のヘイズ値は、１５％以下であるのが好ましく、１２％以下であるのがより好ましい。ヘイズ値が１５％を超えると、フレキシブル表示装置における表示画像の視認性に影響を及ぼすおそれがある。

一方、図７（Ａ）及び（Ｂ）に示す本実施形態に係るフレキシブル表示装置用基板１が、反射型フレキシブル表示装置に用いられるものである場合、密着層３のヘイズ値は、１５〜７０％であるのが好ましく、３０〜６０％であるのがより好ましい。ヘイズ値が１５％未満であると、フレキシブル表示装置における表示画像が暗くなり過ぎてしまい、視認性に影響を及ぼすおそれがある。一方、ヘイズ値が７０％を超えると、混色によりフレキシブル表示装置における表示画像のコントラストが低下してしまうおそれがある。

［フレキシブル表示装置用基板の製造方法］
次に、本実施形態に係るフレキシブル表示装置用基板１の製造方法を、以下に説明する。図８は、本実施形態に係るフレキシブル表示装置用基板１の製造方法を示す概略図である。

まず、表示領域５１にカラーフィルタ層６が形成されてなり、ロール状に巻回された長尺状のフレキシブル基材２を準備する。そして、当該フレキシブル基材２を繰り出し、所定の方向（図中矢印で示す方向）に搬送しながら、いわゆるロール・ツー・ロール方式により、フレキシブル基材２の第１面２ａにおける非表示領域５２に密着層３を形成し、密着層３が形成されたフレキシブル基材２をロール状に巻き取る。フレキシブル基材２の第１面２ａに密着層３を形成する方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、密着層３を形成するための材料（密着層形成用組成物）をダイコート法、グラビアコート法、インクジェット法、スピンコート法等により塗布する方法等を採用することができる。

なお、密着層形成用組成物の塗布後、例えば高圧水銀ランプを用い、５００ｍＪ／ｃｍ²以下、好ましくは３００ｍＪ／ｃｍ²以下の条件で露光してもよいし、露光後、２３０℃以下、好ましくは２００℃以下で焼成処理（乾燥処理）を行ってもよい。

本実施形態において、上記密着層形成用組成物として、市販のポリマーを用いてもよく、例えば、アロニックスＭ−５６００、アロニックスＭ−６２００、アロニックスＭ−７１００、アロニックスＭ−９０５０（いずれも東亞合成社製）等を用いることができる。また、当該密着層形成用組成物として、市販のモノマーを用いてもよく、例えば、ＳＲ３９９（サートマー社製）、アロニックスＭ−４００（東亞合成社製）、アロニックスＭ−４５０（東亞合成社製）等を用いることができる。なお、密着層形成用組成物には、市販の重合開始剤が含まれていてもよく、当該重合開始剤としては、例えば、イルガキュア１８４、イルガキュア３６９、イルガキュア６５１、イルガキュア９０７（いずれも、チバ・スペシャリティー・ケミカルズ社製）、ダロキュアー（メルク社製）、アデカ１７１７（旭電化工業社製）等のケトン系化合物；２，２’−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，５，４’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール（黒金化成社製）等のビイミダゾール系化合物等が挙げられる。

次に、ロール状に巻き取られた、密着層３を有するフレキシブル基材２を繰り出し、所定の方向（図中矢印で示す方向）に搬送しながら、いわゆるロール・ツー・ロール方式により、密着層３上にシール材４を形成するための材料（シール材形成用組成物）を、ディスペンサー等を用いて塗布し、シール材４を形成する。

シール材４を形成するための材料（シール材形成用組成物）としては、上述したシール材４を構成する樹脂組成物を含む組成物を用いることができる。当該樹脂組成物の粘度（２５℃）は、１０００〜１００００００ｃＰであるのが好ましい。当該粘度が１０００ｃＰ未満であると、密着層３上に形成したシール材４が表示領域５１や、ディスプレイ領域５の外側に流れ出てしまうおそれがある。一方、当該粘度が１００００００ｃＰを超えると、シール材４を構成する樹脂組成物の塗布性が低下するおそれがある。

そして、密着層３上にシール材４が形成されて得られたフレキシブル表示装置用基板１をロール状に巻き取る。このようにして、ロール状に巻回されたフレキシブル表示装置用基板１が製造される。

このように、本実施形態に係るフレキシブル表示装置用基板１の製造方法によれば、ロール・ツー・ロール方式により、効率良く大量生産が可能となる。

［フレキシブル表示装置］
続いて、上述した本実施形態に係るフレキシブル表示装置用基板１を用いたフレキシブル表示装置について説明する。図９は、本実施形態におけるフレキシブル表示装置の概略構成を示す切断端面図である。

図９に示すように、本実施形態におけるフレキシブル表示装置１０は、上記フレキシブル表示装置用基板１と、当該フレキシブル表示装置用基板１と対向配置させてなる対向フレキシブル基板１１とを備え、両基板１，１１はシール材４により封止されている。なお、フレキシブル表示装置用基板１は、上記製造方法により製造された、ロール状に巻回されてなるフレキシブル表示装置用基板１がディスプレイ領域５に沿って切断されてなるものである。

対向フレキシブル基板１１は、第１面１２ａ及び第１面１２ａに対向する第２面１２ｂを有する対向フレキシブル基材１２と、対向フレキシブル基材１２の第１面１２ａ側に形成されたハードコート層１３と、ハードコート層１３上に形成されたバリア層１４と、バリア層１４上に形成された反射層１５と、反射層１５上に形成された表示素子層１６とを備える。本実施形態におけるフレキシブル表示装置１０は、いわゆる反射型電子ペーパーと称されるものである。

対向フレキシブル基材１２としては、本実施形態に係るフレキシブル表示装置用基板１のフレキシブル基材２と同様のものを用いることができるが、フレキシブル性を有する基材であれば特に限定されるものではなく、透明性を有するものであってもよいし、透明性を有しないものであってもよい。

ハードコート層１３は、対向フレキシブル基材１２とバリア層１４との密着性を向上させたり、対向フレキシブル基材１２とバリア層１４との間の膜応力差を緩和し、バリア層の割れやシワを防いだりするための層である。ハードコート層１３を構成する材料としては、例えば、ＫＺ６４４５Ａ（ＪＳＲ社製）等が挙げられる。ハードコート層１３の厚みとしては、１〜３０μｍの範囲内であるのが好ましい。当該厚みが１μｍ未満であると対向フレキシブル基板１１の硬度が不足するおそれがあり、３０μｍを超えると硬化収縮による応力が発生し、対向フレキシブル基材１２との密着性が低下するおそれがある。ハードコート層１３の形成方法としては、例えば、スピンコート、ディップコート、スリットコート等が挙げられる。

バリア層１４は、本実施形態におけるフレキシブル表示装置１０内を水分や酸素等から保護する層である。バリア層１４を構成する材料としては、水分や酸素等に対するバリア性能を発揮し得るものであればよく、例えば、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化タンタル、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム等の無機酸化物等が挙げられる。

バリア層１４の厚みとしては、所望とするバリア性能が発現し得る厚みであればよく、バリア層を構成する材料等に応じて適宜設定される。例えば、バリア層１４の厚みは、１０〜１０００ｎｍの範囲内であるのが好ましい。バリア層１４の厚みが１０ｎｍ未満であると、所望とするバリア性能を得ることが困難となるおそれがあり、バリア層１４の厚みが１０００ｎｍを超えるとバリア層１４に割れ等が生じやすくなるおそれがある。バリア層１４の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法等が挙げられる。

反射層１５は、フレキシブル表示装置１０の外部（フレキシブル表示装置用基板１側）から入射する外光を反射させるための層である。反射層１５を構成する材料としては、アルミ、酸化チタン、銀等が挙げられ、その他、ポリエステル系反射フィルム等を反射層１５として用いてもよい。反射層１５の厚みは、１０ｎｍ〜１００μｍの範囲内であるのが好ましい。反射層１５の厚みが１０ｎｍ未満であると、反射ムラが生じやすく、１００μｍを超えると製造コストが高くなるおそれがある。反射層１５の形成方法としては、例えば、スピンコート、ディップコート、スリットコート、スパッタ、蒸着、ＣＶＤ等が挙げられる。

表示素子層１６は、フレキシブル表示装置１０の外部（フレキシブル表示装置用基板１側）から入射した外光を反射層１５により反射させるためのシャッターとしての機能を有する層である。かかる表示素子層１６の構成は、本実施形態におけるフレキシブル表示装置１０の表示方式に応じて適宜選択され得るものである。フレキシブル表示装置１０の表示方式としては、特に限定されるものではなく、例えば、電気泳動方式、ツイストボール方式、粉体移動方式（電子粉流体方式、帯電トナー型方式）、液晶表示方式、サーマル方式（発色方式、光散乱方式）、エレクトロクロミック方式、エレクトロウェッティング方式、磁気泳動方式等が挙げられる。

上記構成を有するフレキシブル表示装置１０においては、当該フレキシブル表示装置１０を構成するフレキシブル表示装置用基板１のフレキシブル基材２とシール材４とが密着層３を介して高い接着強度で接着している。そのため、当該フレキシブル表示装置１０が曲げられたとしても、フレキシブル基材２とシール材４とが剥離し難い。また、フレキシブル表示装置１０を構成する対向フレキシブル基板１１の対向フレキシブル基材１２とシール材４とは、シール材４との密着性の高いバリア層１４を介して接着している。そのため、当該フレキシブル表示装置１０が曲げられたとしても、対向フレキシブル基材１２（バリア層１４）とシール材４とが剥離し難い。よって、本実施形態におけるフレキシブル表示装置１０によれば、表示装置としてのフレキシブル性を十分に発揮しつつ、シール材４の剥離による表示装置の信頼性低下を防止することができる。

上述した構成を有するフレキシブル表示装置１０は、図１０に示すように、例えば、ロール状に巻回されたフレキシブル表示装置用基板１と、同様にロール状に巻回された対向フレキシブル基板１１とを、それぞれ繰り出し、所定の方向（図中矢印にて示す方向）に搬送しながら、いわゆるロール・ツー・ロール方式により、シール材４を介して、フレキシブル表示装置用基板１と対向フレキシブル基板１１とを貼り合わすことにより製造され得る。このとき、シール材４が光硬化性樹脂組成物を含むことで、熱を印加することなく光の照射により対向する２つの基板１，１１を強固に貼り合わせ、シールすることが可能となる。よって、シール材４が表示領域５１側にはみ出すことなく上記フレキシブル表示装置１０を製造することができる。

以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。

上記実施形態において、シール材４に粒径数μｍ程度の無機粒子（シリカ等）が含まれていてもよい。

上記実施形態において、フレキシブル表示装置用基板１の最表面に表面保護層がさらに設けられていてもよい。かかる表面保護層としては、例えば、防傷層（ハードコート層）、防汚層、帯電防止層、抗菌層等が挙げられる。

上記実施形態において、フレキシブル表示装置用基板１は、防眩層（アンチグレア層）、反射防止層（アンチリフレクション層）、低反射層、のぞき見防止層等の光学的機能層を有していてもよい。

上記実施形態において、フレキシブル表示装置用基板１は、光拡散層を有していてもよい。光拡散層を有することで、高いコントラストで画像等を表示することができる。なお、この場合、密着層３をフレキシブル基材２の第１面の全面に設けてなるフレキシブル表示装置用基板１（図７（Ａ）及び（Ｂ）参照）において、密着層３が光拡散層としての機能を併せ持っていてもよい。

上記実施形態において、フレキシブル表示装置用基板１の第１面２ａ側の表示領域５１にカラーフィルタ層６が設けられているが、本発明はこのような態様に限定されるものではなく、カラーフィルタ層６を有していなくてもよい。また、フレキシブル表示装置用基板１は、タッチパネル層を有していてもよい。

上記実施形態において、フレキシブル表示装置１０として電子ペーパーを例に挙げて説明したが、本発明はこのような態様に限定されるものではない。上記実施形態におけるフレキシブル表示装置１０は、表示素子として液晶素子やＴＦＴ素子等を対向フレキシブル基板１１に具備してなる液晶ディスプレイ、表示素子として有機ＥＬ素子等を対向フレキシブル基板１１に具備してなる有機ＥＬディスプレイであってもよい。この場合において、フレキシブル表示装置１０は、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等に応じた必須の構成を当然に具備する。

上記実施形態において、対向フレキシブル基板１１は、ハードコート層１３を有していなくてもよいし、さらにバリア層１４を有していなくてもよい。対向フレキシブル基板１１がバリア層１４を有しない場合、対向フレキシブル基材１２とシール材４との間に密着層３を介在させて、対向フレキシブル基材１２とシール材４とを接着すればよい。

以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は下記の実施例等に何ら限定されるものではない。

〔実施例１〕
［樹脂組成物の調製］
重合槽中にメタクリル酸メチル（ＭＭＡ，クラレ社製）６３質量部、アクリル酸（ＡＡ，日本触媒社製）１２質量部、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ，日本触媒社製）６質量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ，純正化学社製）８８質量部を仕込み、攪拌し溶解させた後、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）（重合開始剤，ＡＢＮ−Ｒ，日本ファインケム社製）７質量部を添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下、８５℃で２時間攪拌し、さらに１００℃で１時間反応させた。得られた溶液に、さらにメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ，日本油脂社製）７質量部、トリエチルアミン（和光純薬社製）０．４質量部及びハイドロキノン（重合禁止剤，精工化学社製）０．２質量部を添加し、１００℃で５時間攪拌し、樹脂組成物（固形分濃度５０質量％）を得た。

［無機フィラー分散液Ａの調製］
酸化チタン（TIPAQUE CR-90、石原産業社製）４０質量部と、分散剤（アジスパーPB-821、味の素ファインテクノ社製）１０質量部と、プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート５０質量部とを混合し、ペイントシェイカー（ジルコニアビーズ、１ｍｍφ）により分散し、無機フィラー分散液Ａを得た。得られた無機フィラー分散液Ａ中の無機フィラー（酸化チタン）の粒子径（算術平均粒子径）を、粒子径分布測定装置（日機装社製，製品名：Nanotrac Wave-EX250）を用いて測定したところ、当該粒子径は３８０ｎｍであった。

［密着層形成用組成物Ａの調製］
下記材料を室温で攪拌して混合し、密着層形成用組成物Ａを調製した。
無機フィラー分散液Ａ １質量部
樹脂組成物（固形分濃度５０質量％） ７質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
（商品名：ＳＲ３９９、サートマー社製） ５．５質量部
２−メチル−１−(４−メチルチオフェニル)−２−モルフォリノプロパン−１−オン
（商品名：IRACURE907、Ciba社製） ０．５質量部
ジエチレングリコールジメチルエーテル（純正化学社製） ８５質量部

［被験用フィルム基板の作製］
ＰＣフィルム（帝人社製，SS120A）上に密着層形成用組成物Ａを３μｍの膜厚となるようにスピンコートし、高圧水銀ランプで１００ｍＪ／ｃｍ²（ｉ線換算）露光後、乾燥炉にて１２０℃で３０分間乾燥し密着層を形成した。その後、バーコーター♯５を使用して、シール材形成用組成物（協立化学産業社製、World Rock 723）を密着層上に塗布し、高圧水銀ランプで３０００ｍＪ／ｃｍ²露光してシール材（膜厚：１０μｍ）を形成し、被験用フィルム基板を作製した。

〔実施例２〕
［密着層形成用組成物Ｂの調製］
下記材料を室温で攪拌して混合し、密着層形成用組成物Ｂを調製した。
無機フィラー分散液Ａ ３質量部
樹脂組成物（固形分濃度５０質量％） ５質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
（商品名：ＳＲ３９９、サートマー社製） ５．５質量部
２−メチル−１−(４−メチルチオフェニル)−２−モルフォリノプロパン−１−オン
（商品名：IRACURE907、Ciba社製） ０．５質量部
ジエチレングリコールジメチルエーテル（純正化学社製） ８５質量部

［被験用フィルム基板の作製］
密着層形成用組成物Ａに代えて密着層形成用組成物Ｂを使用した以外は、実施例１と同様にして被験用フィルム基板を作製した。

〔実施例３〕
［密着層形成用組成物Ｃの調製］
下記材料を室温で攪拌して混合し、密着層形成用組成物Ｃを調製した。
無機フィラー分散液Ａ ７質量部
樹脂組成物（固形分濃度５０質量％） １質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
（商品名：ＳＲ３９９、サートマー社製） ５．５質量部
２−メチル−１−(４−メチルチオフェニル)−２−モルフォリノプロパン−１−オン
（商品名：IRACURE907、Ciba社製） ０．５質量部
ジエチレングリコールジメチルエーテル（純正化学社製） ８５質量部

［被験用フィルム基板の作製］
密着層形成用組成物Ａに代えて密着層形成用組成物Ｃを使用した以外は、実施例１と同様にして被験用フィルム基板を作製した。

〔実施例４〕
［無機フィラー分散液Ｂの調製］
酸化ジルコニウム（関東化学社製）４０質量部と、分散剤（アジスパーPB-821、味の素ファインテクノ社製）１０質量部と、プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート５０質量部とを混合し、ペイントシェイカー（ジルコニアビーズ、１ｍｍφ）により分散し、無機フィラー分散液Ｂを得た。得られた無機フィラー分散液Ｂ中の無機フィラー（酸化ジルコニウム）の粒子径（算術平均粒子径）を、粒子径分布測定装置（日機装社製，製品名：Nanotrac Wave-EX250）を用いて測定したところ、当該粒子径は２１０ｎｍであった。

［密着層形成用組成物Ｄの調製］
下記材料を室温で攪拌して混合し、密着層形成用組成物Ｄを調製した。
無機フィラー分散液Ｂ １質量部
樹脂組成物（固形分濃度５０質量％） ７質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
（商品名：ＳＲ３９９、サートマー社製） ５．５質量部
２−メチル−１−(４−メチルチオフェニル)−２−モルフォリノプロパン−１−オン
（商品名：IRACURE907、Ciba社製） ０．５質量部
ジエチレングリコールジメチルエーテル（純正化学社製） ８５質量部

［被験用フィルム基板の作製］
密着層形成用組成物Ａに代えて密着層形成用組成物Ｄを使用した以外は、実施例１と同様にして被験用フィルム基板を作製した。

〔実施例５〕
［無機フィラー分散液Ｃの調製］
酸化チタン（TIPAQUE CR-90、石原産業社製）４０質量部と、分散剤（アジスパーPB-821、味の素ファインテクノ社製）１０質量部と、プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート５０質量部とを混合し、ペイントシェイカー（ジルコニアビーズ、０．３ｍｍφ）により分散し、無機フィラー分散液Ｃを得た。得られた無機フィラー分散液Ｃ中の無機フィラー（酸化チタン）の粒子径（算術平均粒子径）を、粒子径分布測定装置（日機装社製，製品名：Nanotrac Wave-EX250）を用いて測定したところ、当該粒子径は１５０ｎｍであった。

［密着層形成用組成物Ｅの調製］
下記材料を室温で攪拌して混合し、密着層形成用組成物Ｅを調製した。
無機フィラー分散液Ｃ ３質量部
樹脂組成物（固形分濃度５０質量％） ５質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
（商品名：ＳＲ３９９、サートマー社製） ５．５質量部
２−メチル−１−(４−メチルチオフェニル)−２−モルフォリノプロパン−１−オン
（商品名：IRACURE907、Ciba社製） ０．５質量部
ジエチレングリコールジメチルエーテル（純正化学社製） ８５質量部

［被験用フィルム基板の作製］
密着層形成用組成物Ａに代えて密着層形成用組成物Ｅを使用した以外は、実施例１と同様にして被験用フィルム基板を作製した。

〔実施例６〕
［無機フィラー分散液Ｄの調製］
酸化チタン（TIPAQUE CR-90、石原産業社製）４３質量部と、分散剤（アジスパーPB-821、味の素ファインテクノ社製）７質量部と、プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート５０質量部とを混合し、ペイントシェイカー（ジルコニアビーズ、１ｍｍφ）により分散し、無機フィラー分散液Ｄを得た。得られた無機フィラー分散液Ｄ中の無機フィラー（酸化チタン）の粒子径（算術平均粒子径）を、粒子径分布測定装置（日機装社製，製品名：Nanotrac Wave-EX250）を用いて測定したところ、当該粒子径は５００ｎｍであった。

［密着層形成用組成物Ｆの調製］
下記材料を室温で攪拌して混合し、密着層形成用組成物Ｆを調製した。
無機フィラー分散液Ｄ ３質量部
樹脂組成物（固形分濃度５０質量％） ５質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
（商品名：ＳＲ３９９、サートマー社製） ５．５質量部
２−メチル−１−(４−メチルチオフェニル)−２−モルフォリノプロパン−１−オン
（商品名：IRACURE907、Ciba社製） ０．５質量部
ジエチレングリコールジメチルエーテル（純正化学社製） ８５質量部

［被験用フィルム基板の作製］
密着層形成用組成物Ａに代えて密着層形成用組成物Ｆを使用した以外は、実施例１と同様にして被験用フィルム基板を作製した。

〔比較例１〕
密着層を形成せずに、フィルム上に直接シール材を形成した以外は、実施例１と同様にして被験用フィルム基板を作製した。

〔比較例２〕
［無機フィラー分散液Ｅの調製］
酸化ジルコニウム（関東化学社製）４０質量部と、分散剤（アジスパーPB-821、味の素ファインテクノ社製）１０質量部と、プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート５０質量部とを混合し、ペイントシェイカー（ジルコニアビーズ、１ｍｍφ）により分散し、さらにジルコニアビーズ（０．１ｍｍφ）を追加して分散し、無機フィラー分散液Ｅを得た。得られた無機フィラー分散液Ｅ中の無機フィラー（酸化ジルコニウム）の粒子径（算術平均粒子径）を、粒子径分布測定装置（日機装社製，製品名：Nanotrac Wave-EX250）を用いて測定したところ、当該粒子径は２０ｎｍであった。

［密着層形成用組成物Ｇの調製］
下記材料を室温で攪拌して混合し、密着層形成用組成物Ｇを調製した。
無機フィラー分散液Ｅ １質量部
樹脂組成物（固形分濃度５０質量％） ７質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
（商品名：ＳＲ３９９、サートマー社製） ５．５質量部
２−メチル−１−(４−メチルチオフェニル)−２−モルフォリノプロパン−１−オン
（商品名：IRACURE907、Ciba社製） ０．５質量部
ジエチレングリコールジメチルエーテル（純正化学社製） ８５質量部

［被験用フィルム基板の作製］
密着層形成用組成物Ａに代えて密着層形成用組成物Ｇを使用した以外は、実施例１と同様にしてフ被験用フィルム基板を作製した。

〔比較例３〕
［無機フィラー分散液Ｆの調製］
酸化チタン（TIPAQUE CR-90、石原産業社製）４３質量部と、分散剤（アジスパーPB-821、味の素ファインテクノ社製）７質量部と、プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート５０質量部とを混合し、ペイントシェイカー（ジルコニアビーズ、２ｍｍφ）により分散し、無機フィラー分散液Ｆを得た。得られた無機フィラー分散液Ｆ中の無機フィラー（酸化チタン）の粒子径（算術平均粒子径）を、粒子径分布測定装置（日機装社製，製品名：Nanotrac Wave-EX250）を用いて測定したところ、当該粒子径は５５０ｎｍであった。

［密着層形成用組成物Ｈの調製］
下記材料を室温で攪拌して混合し、密着層形成用組成物Ｈを調製した。
無機フィラー分散液Ｆ １質量部
樹脂組成物（固形分濃度５０質量％） ７質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
（商品名：ＳＲ３９９、サートマー社製） ５．５質量部
２−メチル−１−(４−メチルチオフェニル)−２−モルフォリノプロパン−１−オン
（商品名：IRACURE907、Ciba社製） ０．５質量部
ジエチレングリコールジメチルエーテル（純正化学社製） ８５質量部

［被験用フィルム基板の作製］
密着層形成用組成物Ａに代えて密着層形成用組成物Ｈを使用した以外は、実施例１と同様にして被験用フィルム基板を作製した。

〔比較例４〕
［無機フィラー分散液Ｇの調製］
酸化チタン（TIPAQUE CR-90、石原産業社製）４０質量部と、分散剤（アジスパーPB-821、味の素ファインテクノ社製）１０質量部と、プロピレングリコール１−モノメチルエーテル２−アセタート５０質量部とを混合し、ペイントシェイカー（ジルコニアビーズ、０．２ｍｍφ）により分散し、無機フィラー分散液Ｇを得た。得られた無機フィラー分散液Ｇ中の無機フィラー（酸化チタン）の粒子径（算術平均粒子径）を、粒子径分布測定装置（日機装社製，製品名：Nanotrac Wave-EX250）を用いて測定したところ、当該粒子径は１２０ｎｍであった。

［密着層形成用組成物Ｉの調製］
下記材料を室温で攪拌して混合し、密着層形成用組成物Ｉを調製した。
無機フィラー分散液Ｇ １質量部
樹脂組成物（固形分濃度５０質量％） ７質量部
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
（商品名：ＳＲ３９９、サートマー社製） ５．５質量部
２−メチル−１−(４−メチルチオフェニル)−２−モルフォリノプロパン−１−オン
（商品名：IRACURE907、Ciba社製） ０．５質量部
ジエチレングリコールジメチルエーテル（純正化学社製） ８５質量部

［被験用フィルム基板の作製］
密着層形成用組成物Ａに代えて密着層形成用組成物Ｉを使用した以外は、実施例１と同様にして被験用フィルム基板を作製した。

〔試験例１〕
実施例１〜６及び比較例１〜４の被験用フィルム基板を用い、ＪＩＳ Ｋ−５４００に準拠してクロスカット試験を行い、シール材とフィルム基材との接着強度（密着性）を評価した。結果を表１に示す。なお、評価基準としては、クロスカット試験における７点以上を「○」、５〜６点を「△」、４点以下を「×」とした。

表１に示すように、実施例１〜６の被験用フィルム基板においては、シール材がフィルム基材に対して強固に接着（密着）していることが確認された。一方、比較例１〜４の被験用フィルム基板においては、シール材のフィルム基材に対する接着強度（密着性）が不十分であることが確認された。

本発明は、フレキシブルディスプレイの技術分野において有用である。

１…フレキシブル表示装置用基板
２…フレキシブル基材
２ａ…第１面
２ｂ…第２面
３…密着層
４…シール材
５…ディスプレイ領域
５１…表示領域
５２…非表示領域
６…カラーフィルタ層
１０…フレキシブル表示装置
１１…対向フレキシブル基板
１２…対向フレキシブル基材
１２ａ…第１面
１２ｂ…第２面
１４…バリア層

Claims (14)

1. 第１面及び当該第１面に対向する第２面を有し、表示領域及び当該表示領域を取り囲む非表示領域を含むフレキシブル基材と、
   前記フレキシブル基材の前記第１面側の少なくとも前記非表示領域内に設けられてなる密着層と、
   前記非表示領域内の前記密着層上に設けられてなるシール材と
   を備え、
   前記密着層は、無機フィラーと樹脂組成物とを含み、
   前記無機フィラーの粒径は、１５０〜５００ｎｍであることを特徴とするフレキシブル表示装置用基板。
2. 前記密着層は、前記シール材の一部に少なくとも接触し、前記フレキシブル基材の第１面と前記シール材との界面に位置することを特徴とする請求項１に記載のフレキシブル表示装置用基板。
3. 前記シール材の線幅が、５０〜５０００μｍであることを特徴とする請求項１又は２に記載のフレキシブル表示装置用基板。
4. 前記密着層の厚みが、０．５〜５．０μｍであることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のフレキシブル表示装置用基板。
5. 前記無機フィラーが、酸化チタン、シリカ又は酸化ジルコニウムであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のフレキシブル表示装置用基板。
6. 前記密着層における前記無機フィラーの含有量が、前記樹脂組成物１００質量部に対して１０〜２００質量部であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のフレキシブル表示装置用基板。
7. 前記密着層は、前記非表示領域における前記フレキシブル基材を部分的に露出させるようにして設けられていることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のフレキシブル表示装置用基板。
8. 前記密着層が、前記非表示領域内に断続的に設けられていることを特徴とする請求項７に記載のフレキシブル表示装置用基板。
9. 前記密着層の切断端面であって、前記フレキシブル基材の前記第１面に対する垂直方向、かつ前記密着層の線幅方向に沿った当該切断端面が、前記フレキシブル基材の前記第１面に対する略垂直方向に向かって開放する略コの字状であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載のフレキシブル表示装置用基板。
10. 前記密着層が、前記フレキシブル基材の前記第１面側における前記表示領域及び前記非表示領域を覆うようにして設けられていることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のフレキシブル表示装置用基板。
11. 前記密着層のヘイズ値が１０〜８０％であることを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載のフレキシブル表示装置用基板。
12. 前記密着層のヘイズ値が１５％以下であることを特徴とする請求項１０に記載のフレキシブル表示装置用基板。
13. 前記フレキシブル基材の前記第１面側における前記表示領域にカラーフィルタ層が設けられていることを特徴とする請求項１〜１２のいずれかに記載のフレキシブル表示装置用基板。
14. 請求項１〜１３のいずれかに記載のフレキシブル表示装置用基板と、
    前記フレキシブル表示装置用基板に対向して配置されてなる対向フレキシブル基板と
    を備え、
    前記対向フレキシブル基板は、第１面及び当該第１面に対向する第２面を有し、当該第１面側にバリア層を有し、
    前記フレキシブル表示装置用基板の第１面と前記対向フレキシブル基板の第１面とを対向させ、前記シール材を前記対向フレキシブル基板の前記バリア層に接触させるようにして、前記シール材を介して前記フレキシブル表示装置用基板と前記対向フレキシブル基板とを接着させてなることを特徴とするフレキシブル表示装置。

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