JP2016189432A - 半導体デバイスの製造方法、基板処理装置およびプログラム - Google Patents
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Abstract
Description
以下、本発明の好適な第1の実施形態について図1〜3を用いて説明する。基板処理装置10は、半導体装置(デバイス)の製造工程の一工程である基板処理工程において使用される装置の一例として構成されている。
図1に示すように、処理炉202は加熱手段(加熱機構)としてのヒータ207を有する。ヒータ207は円筒形状であり、保持板としてのヒータベース(図示せず)に支持されることにより垂直に据え付けられている。
半導体装置(デバイス)の製造工程の一工程として、基板上に、例えばメタルハードマスクを構成する金属膜を形成する工程の一例について図4、5を用いて説明する。金属膜を形成する工程は、上述した基板処理装置10の処理炉202を用いて実行される。以下の説明において、基板処理装置10を構成する各部の動作はコントローラ121により制御される。
本実施形態の好適な成膜シーケンス(単にシーケンスとも称する)は、ウエハ200に対して、金属元素である第1の元素(例えばチタン(Ti))を含む有機系金属原料ガス(例えばTDEATガス)を供給する工程と、上記ウエハ200に対して、上記第1の元素を含むハロゲン系金属原料ガス(例えばTiCl4ガス)を供給する工程と、上記ウエハ200に対して、第2の元素(例えば窒素(N))を含み、上記第1の元素と反応する反応ガス(例えばNH3ガス)を供給する工程と、を時分割して(非同期、間欠的、パルス的に)所定回数行うことにより、上記第1の元素および上記第2の元素を含み、上記有機系金属原料ガスを供給する工程における上記有機系金属原料ガスの供給流量および供給時間のうち少なくともいずれかの値を制御することにより、上記金属含有膜の膜ストレスの値を制御する工程を有する。
複数枚のウエハ200がボート217に装填(ウエハチャージ)されると、図1に示されているように、複数枚のウエハ200を支持したボート217は、ボートエレベータ115によって持ち上げられて処理室201内に搬入(ボートロード)される。この状態で、シールキャップ219はOリング220を介してマニホールド209の下端開口を閉塞した状態となる。
処理室201内、すなわち、ウエハ200が存在する空間が所望の圧力(真空度)となるように真空ポンプ246によって真空排気される。この際、処理室201内の圧力は、圧力センサ245で測定され、この測定された圧力情報に基づき、APCバルブ243がフィードバック制御される(圧力調整)。真空ポンプ246は、少なくともウエハ200に対する処理が完了するまでの間は常時作動させた状態を維持する。また、処理室201内が所望の温度となるようにヒータ207によって加熱される。この際、処理室201内が所望の温度分布となるように、温度センサ263が検出した温度情報に基づきヒータ207への通電量がフィードバック制御される(温度調整)。ヒータ207による処理室201内の加熱は、少なくともウエハ200に対する処理が完了するまでの間は継続して行われる。続いて、回転機構267によりボート217およびウエハ200の回転を開始する。回転機構267によるボート217およびウエハ200の回転は、少なくとも、ウエハ200に対する処理が完了するまでの間は継続して行われる。
続いて,TiN膜を形成するステップを実行する。TiN膜形成ステップは、以下に説明する有機系原料ガス供給ステップ、残留ガス除去ステップ、ハロゲン系原料ガス供給ステップ、残留ガス除去ステップ、N含有ガス供給ステップ、残留ガス除去ステップを含む。
バルブ314を開き、ガス供給管310内に有機系原料ガスであるTDEATガスを流す。ガス供給管310内を流れたTDEATガスは、MFC312により流量調整される。流量調整されたTDEATガスは、ノズル410のガス供給孔410aから処理室201内へ供給され、排気管231から排気される。このときウエハ200に対してTDEATガスが供給されることとなる。すなわちウエハ200の表面はTDEATガスに暴露されることとなる。このとき同時にバルブ514を開き、ガス供給管510内にN2ガスを流す。ガス供給管510内を流れたN2ガスは、MFC512により流量調整される。流量調整されたN2ガスはTDEATガスと一緒に処理室201内へ供給され、排気管231から排気される。なお、このとき、ノズル420,430内へのTDEATガスの侵入を防止するために、バルブ524,534を開き、ガス供給管520,530内にN2ガスを流す。N2ガスは、ガス供給管320,330、ノズル420,430を介して処理室201内に供給され、排気管231から排気される。
その後、バルブ314を閉じてTDEATガスの供給を停止する。このとき、排気管231のAPCバルブ243は開いたままとして、真空ポンプ246により処理室201内を真空排気し、処理室201内に残留する未反応もしくは上記した第1のTi含有層の形成に寄与した後のTDEATガスを処理室201内から排除する。なお、このときバルブ510,520,530は開いたままとして、N2ガスの処理室201内への供給を維持する。N2ガスはパージガスとして作用し、これにより、処理室201内に残留する未反応もしくは上記した第1のTi含有層の形成に寄与した後のTDEATガスを処理室201内から排除する効果を高めることができる。
次に、バルブ324を開き、ガス供給管320内にハロゲン系原料であるTiCl4ガスを流す。ガス供給管320内を流れたTiCl4ガスは、MFC322により流量調整される。流量調整されたTiCl4ガスは、ノズル420のガス供給孔420aから処理室201内に供給され、排気管231から排気される。このとき、ウエハ200に対してTiCl4ガスが供給されることとなる。すなわちウエハ200の表面はTiCl4ガスに暴露されることとなる。このとき同時にバルブ524を開き、ガス供給管520内にN2ガス等の不活性ガスを流す。ガス供給管520内を流れたN2ガスは、MFC522により流量調整される。流量調整されたN2ガスはTiCl4ガスと一緒に処理室201内に供給され、排気管231から排気される。なお、このとき、ノズル410、ノズル430内へのTiCl4ガスの侵入を防止するために、バルブ514、534を開き、ガス供給管510、ガス供給管530内にN2ガスを流す。N2ガスは、ガス供給管310、ガス供給管330、ノズル410、ノズル430を介して処理室201内に供給され、排気管231から排気される。
第2のTi含有膜が形成された後、バルブ324を閉じ、TiCl4ガスの供給を停止する。そして、有機系原料ガス供給ステップ後の残留ガス除去ステップと同様の処理手順により、処理室201内、第2のTi含有層が形成されたウエハ200が存在する空間に残留する未反応もしくは第2のTi含有層の形成に寄与した後のTiCl4ガスを処理室201内から排除する。このとき、処理室201内に残留するガスを完全に排除しなくてもよい点は、有機系原料ガス供給ステップ後の残留ガス除去ステップと同様である。
処理室201内の残留ガスを除去した後、バルブ334を開き、ガス供給管330内にN含有ガスであるNH3ガスを流す。ガス供給管330内を流れたNH3ガスは、MFC332により流量調整される。流量調整されたNH3ガスは、ノズル430のガス供給孔430aから処理室201内に供給される。処理室201内に供給されたNH3ガスは熱で活性化された後、排気管231から排気される。このときウエハ200に対して、熱で活性化されたNH3ガスが供給されることとなる。すなわちウエハ200の表面は熱で活性化されたNH3ガスに暴露されることとなる。このとき同時にバルブ534を開き、ガス供給管530内にN2ガスを流す。ガス供給管530内を流れたN2ガスは、MFC532により流量調整される。N2ガスはNH3ガスと一緒に処理室201内に供給され、排気管231から排気される。このとき、ノズル410,420内へのNH3ガスの侵入を防止するために、バルブ514,524を開き、ガス供給管510,520内にN2ガスを流す。N2ガスは、ガス供給管310,320,ノズル410,ノズル420を介して処理室201内に供給され、排気管231から排気される。
TiN層を形成した後、バルブ334を閉じて、NH3ガスの供給を停止する。そして、
有機系原料ガス供給ステップ後の残留ガス除去ステップと同様の処理手順により、処理室201内、すなわちTiN層が形成されたウエハ200が存在する空間に残留する未反応のNH3ガス、反応副生成物、TiN層の形成に寄与した後のNH3ガス等を処理室201から排除する。このとき、処理室201内に残留するガスを完全に排除しなくてもよい点は、有機系原料ガス供給ステップ後の残留ガス除去ステップと同様である。
上記した有機系原料ガス供給ステップ、残留ガス除去ステップ、ハロゲン系原料ガス供給ステップ、残留ガス除去ステップ、N含有ガス供給ステップ、残留ガス供給ステップを順に時分割して行うサイクルを1回以上(所定回数)行うことにより、すなわち、有機系原料ガス供給ステップ、残留ガス除去ステップ、ハロゲン系原料ガス供給ステップ、残留ガス除去ステップ、N含有ガス供給ステップ、残留ガス供給ステップの処理を1サイクルとして、これらの処理をnサイクル(nは1以上の整数)だけ実行することにより、ウエハ200上に、所定の厚さ(例えば0.1〜10nm)の金属複合膜としてのTiN膜を形成する。上述のサイクルは、複数回繰り返すのが好ましい。
バルブ514,524,534を開き、ガス供給管510,520,530のそれぞれからN2ガスを処理室201内へ供給し、排気管231から排気する。N2ガスはパージガスとして作用し、これにより処理室201内が不活性ガスでパージされ、処理室201内に残留するガスや副生成物が処理室201内から除去される(パージ)。その後、処理室201内の雰囲気が不活性ガスに置換され(不活性ガス置換)、処理室201内の圧力が常圧に復帰される(大気圧復帰)。
その後、ボートエレベータ115によりシールキャップ219が下降されて、反応管203の下端が開口される。そして、処理済ウエハ200がボート217に支持された状態で反応管203の下端から反応管203の外部に搬出(ボートアンロード)される。その後、処理済のウエハ200は、ボート217より取り出される(ウエハディスチャージ)。
本実施形態によれば、以下に示す1つまたは複数の効果が得られる。
(B)有機系原料ガスの供給流量および供給時間を調整して、最終的に得られるTiN膜に含まれる各元素(Ti,N,C,H,Cl等)の原子濃度の制御性を高めることにより、TiN膜の膜ストレスの制御性を高めることができる。例えば、Ti含有ガスとしてハロゲン系原料ガスと有機系原料ガスとを用いてTiN膜を形成する際、有機系Ti含有ガスに由来するTi以外の元素(C,H,N)の原子濃度がハロゲン系原料ガスに由来するTi以外の元素(Cl)の原子濃度より高くなるように、有機系原料ガスの供給流量および/または供給時間を調整することにより、TiN膜の膜密度が低くなり、成膜レートが速くなり、膜ストレスを低下させることが可能となる。
(C)Ti含有ガスとしてハロゲン系原料ガスと有機系原料ガスとを用いることにより、TiN膜の結晶性を制御することが可能となる。有機系原料ガスに由来するTi以外の元素(C,H,N)の原子濃度がハロゲン系原料ガスに由来するTi以外の元素(Cl)の原子濃度より高くなるように、有機系原料ガスの供給流量および/または供給時間を調整することにより、TiN膜の結晶性をアモルファスに近くなるよう変化させることができ、バリア性を高くすることが可能となる。
(D)先に有機系原料ガスを用いて第1のTi含有層を形成した後、ハロゲン系原料ガスを用いて第2のTi含有層を形成することにより、基板の濡れ性が向上し、または、結晶核の表面エネルギーが低くなり、膜の表面ラフネスが改善するという効果を得ることができる。
(E)膜を形成する際、形成される膜の主たる組成を構成する元素のうち、金属元素を含む層を基板上に形成する際、用いる金属含有原料ガスとして、例えば有機系原料ガスおよびハロゲン系原料ガスのように異なる分子構造(化学構造)を有するものを選択することにより、基板上に形成する膜に含まれる各原料ガスに由来する各元素の組成比を調整(制御、変調、チューニング)することができ、閾値電圧が調整可能となり、仕事関数を制御(調整、変調、チューニング)することができる。
(F)有機系原料ガスの供給流量および供給時間を調整して、最終的に得られるTiN膜に含まれる各元素(Ti,N,C,H,Cl等)の原子濃度の制御性を高めることにより、TiN膜の仕事関数の制御性を高めることが可能となる。
本実施形態では、図6に示すように、ハロゲン系原料(TiCl4)ガス供給ステップ、残留ガス除去ステップ、有機系原料(TDEAT)ガス供給ステップ、残留ガス除去ステップ、N含有(NH3)ガス供給ステップ、残留ガス除去ステップのサイクルを1サイクルとして順に時分割してnサイクル(nは1以上の整数)繰り返すことにより、ウエハ200上にTiN膜を形成する。
(B)有機系原料ガスの供給流量および/または供給時間を調整して、最終的に得られるTiN膜に含まれる各元素(Ti,N,C,H,Cl等)の原子濃度の制御性を高めることにより、TiN膜の膜ストレスの制御性を高めることができる。例えば、Ti含有ガスとしてハロゲン系原料ガスと有機系原料ガスとを用いてTiN膜を形成する際、有機系Ti含有ガスに由来するTi以外の元素(C,H,N)の原子濃度がハロゲン系原料ガスに由来するTi以外の元素(Cl)の原子濃度より高くなるように、有機系原料ガスの供給流量および/または供給時間を調整することにより、TiN膜の膜密度が低くなり、成膜レートが速くなり、膜ストレスを低下させることが可能となる。
(C)Ti含有ガスとしてハロゲン系原料ガスと有機系原料ガスとを用いることにより、TiN膜の結晶性を制御することが可能となる。有機系原料ガスに由来するTi以外の元素(C,H,N)の原子濃度がハロゲン系原料ガスに由来するTi以外の元素(Cl)の原子濃度より高くなるように、有機系原料ガスの供給流量および/または供給時間を調整することにより、TiN膜の結晶性をアモルファスに近くなるよう変化させることができ、バリア性を高くすることが可能となる。
(D)膜を形成する際、形成される膜の主たる組成を構成する元素のうち、金属元素を含む層を基板上に形成する際、用いる金属含有原料ガスとして、例えば有機系原料ガスおよびハロゲン系原料ガスのように異なる分子構造(化学構造)を有するものを選択することにより、基板上に形成する膜に含まれる各原料ガスに由来する各元素の組成比を調整(制御、変調、チューニング)することができ、閾値電圧が調整可能となり、仕事関数を制御(調整、変調、チューニング)することができる。
(E)有機系原料ガスの供給流量および/または供給時間を調整して、最終的に得られるTiN膜に含まれる各元素(Ti,N,C,H,Cl等)の原子濃度の制御性を高めることにより、TiN膜の仕事関数の制御性を高めることが可能となる。
本実施形態では、図7に示すように、有機系原料(TDEAT)ガス供給ステップ、残留ガス除去ステップ、ハロゲン系原料(TiCl4)ガス供給ステップ、残留ガス除去ステップ、のサイクルを1サイクルとして順に時分割してn1サイクル(n1は1以上の整数)行った後、N含有(NH3)ガス供給ステップ、残留ガス除去ステップを1サイクルとしてn2サイクル(n2は1以上の整数)行い、これらをn3回(n3は1以上の整数)繰り返すことにより、ウエハ200上にTiN膜を形成する。
(B)有機系原料ガスの供給流量および/または供給時間を調整して、最終的に得られるTiN膜に含まれる各元素(Ti,N,C,H,Cl等)の原子濃度の制御性を高めることにより、TiN膜の膜ストレスの制御性を高めることができる。例えば、Ti含有ガスとしてハロゲン系原料ガスと有機系原料ガスとを用いてTiN膜を形成する際、有機系Ti含有ガスに由来するTi以外の元素(C,H,N)の原子濃度がハロゲン系原料ガスに由来するTi以外の元素(Cl)の原子濃度より高くなるように、有機系原料ガスの供給流量および/または供給時間を調整することにより、TiN膜の膜密度が低くなり、成膜レートが速くなり、膜ストレスを低下させることが可能となる。
(C)Ti含有ガスとしてハロゲン系原料ガスと有機系原料ガスとを用いることにより、TiN膜の結晶性を制御することが可能となる。有機系原料ガスに由来するTi以外の元素(C,H,N)の原子濃度がハロゲン系原料ガスに由来するTi以外の元素(Cl)の原子濃度より高くなるように、有機系原料ガスの供給流量および/または供給時間を調整することにより、TiN膜の結晶性をアモルファスに近くなるよう変化させることができ、バリア性を高くすることが可能となる。
(D)先に有機系原料ガスを用いて第1のTi含有層を形成した後、ハロゲン系原料ガスを用いて第2のTi含有層を形成することにより、基板の濡れ性が向上し、または、結晶核の表面エネルギーが低くなり、膜の表面ラフネスが改善するという効果を得ることができる。
(E)膜を形成する際、形成される膜の主たる組成を構成する元素のうち、金属元素を含む層を基板上に形成する際、用いる金属含有原料ガスとして、例えば有機系原料ガスおよびハロゲン系原料ガスのように異なる分子構造(化学構造)を有するものを選択することにより、基板上に形成する膜に含まれる各原料ガスに由来する各元素の組成比を調整(制御、変調、チューニング)することができ、閾値電圧が調整可能となり、仕事関数を制御(調整、変調、チューニング)することができる。
(F)有機系原料ガスの供給流量および/または供給時間を調整して、最終的に得られるTiN膜に含まれる各元素(Ti,N,C,H,Cl等)の原子濃度の制御性を高めることにより、TiN膜の仕事関数の制御性を高めることが可能となる。
(G)N含有ガス供給ステップを含むサイクルを、有機原料ガス供給ステップを含むサイクルとは異なるサイクルで行うことにより、CとNとの濃度比をそれぞれ独立して制御することができるため、より制御性を高めることができる。
本実施形態では、図8に示すように、ハロゲン系原料(TiCl4)ガス供給ステップ、残留ガス除去ステップ、有機系原料(TDEAT)ガス供給ステップ、残留ガス除去ステップ、のサイクルを1サイクルとして順に時分割してn1サイクル(n1は1以上の整数)行った後、N含有(NH3)ガス供給ステップ、残留ガス除去ステップを1サイクルとしてn2サイクル(n2は1以上の整数)行い、これらをn3回(n3は1以上の整数)繰り返すことにより、ウエハ200上にTiN膜を形成する。
(B)有機系原料ガスの供給流量および/または供給時間を調整して、最終的に得られるTiN膜に含まれる各元素(Ti,N,C,H,Cl等)の原子濃度の制御性を高めることにより、TiN膜の膜ストレスの制御性を高めることができる。例えば、Ti含有ガスとしてハロゲン系原料ガスと有機系原料ガスとを用いてTiN膜を形成する際、有機系Ti含有ガスに由来するTi以外の元素(C,H,N)の原子濃度がハロゲン系原料ガスに由来するTi以外の元素(Cl)の原子濃度より高くなるように、有機系原料ガスの供給流量および/または供給時間を調整することにより、TiN膜の膜密度が低くなり、成膜レートが速くなり、膜ストレスを低下させることが可能となる。
(C)Ti含有ガスとしてハロゲン系原料ガスと有機系原料ガスとを用いることにより、TiN膜の結晶性を制御することが可能となる。有機系原料ガスに由来するTi以外の元素(C,H,N)の原子濃度がハロゲン系原料ガスに由来するTi以外の元素(Cl)の原子濃度より高くなるように、有機系原料ガスの供給流量および/または供給時間を調整することにより、TiN膜の結晶性をアモルファスに近くなるよう変化させることができ、バリア性を高くすることが可能となる。
(D)膜を形成する際、形成される膜の主たる組成を構成する元素のうち、金属元素を含む層を基板上に形成する際、用いる金属含有原料ガスとして、例えば有機系原料ガスおよびハロゲン系原料ガスのように異なる分子構造(化学構造)を有するものを選択することにより、基板上に形成する膜に含まれる各原料ガスに由来する各元素の組成比を調整(制御、変調、チューニング)することができ、閾値電圧が調整可能となり、仕事関数を制御(調整、変調、チューニング)することができる。
(E)有機系原料ガスの供給流量および/または供給時間を調整して、最終的に得られるTiN膜に含まれる各元素(Ti,N,C,H,Cl等)の原子濃度の制御性を高めることにより、TiN膜の仕事関数の制御性を高めることが可能となる。
(F)N含有ガス供給ステップを含むサイクルを、有機原料ガス供給ステップを含むサイクルとは異なるサイクルで行うことにより、CとNとの濃度比をそれぞれ独立して制御することができるため、より制御性を高めることができる。
本実施形態では、図9に示すように、ハロゲン系原料(TiCl4)ガス供給ステップ、残留ガス除去ステップ、有機系原料(TDEAT)ガス供給ステップ、残留ガス除去ステップ、のサイクルを1サイクルとして順に時分割してnサイクル(nは1以上の整数)繰り返すことにより、ウエハ200上にTiC膜(チタン炭化膜)を形成する。なお、本シーケンスでは、TDEATガス中に含まれるNが膜中に残る場合があり、実質的にTiCN膜(チタン炭窒化膜)となるともいえる。TiC(N)膜、Ti(C)N膜とも称する。
(B)有機系原料ガスの供給流量および/または供給時間を調整して、最終的に得られるTi(C)N膜に含まれる各元素(Ti,N,C,H,Cl等)の原子濃度の制御性を高めることにより、TiCの膜ストレスの制御性を高めることができる。例えば、Ti含有ガスとしてハロゲン系原料ガスと有機系原料ガスとを用いてTi(C)N膜を形成する際、有機系Ti含有ガスに由来するTi以外の元素(C,H,N)の原子濃度がハロゲン系原料ガスに由来するTi以外の元素(Cl)の原子濃度より高くなるように、有機系原料ガスの供給流量および/または供給時間を調整することにより、Ti(C)N膜の膜密度が低くなり、成膜レートが速くなり、膜ストレスを低下させることが可能となる。
(C)Ti含有ガスとしてハロゲン系原料ガスと有機系原料ガスとを用いることにより、Ti(C)N膜の結晶性を制御することが可能となる。有機系原料ガスに由来するTi以外の元素(C,H,N)の原子濃度がハロゲン系原料ガスに由来するTi以外の元素(Cl)の原子濃度より高くなるように、有機系原料ガスの供給流量および/または供給時間を調整することにより、Ti(C)N膜の結晶性をアモルファスに近くなるよう変化させることができ、バリア性を高くすることが可能となる。
(D)膜を形成する際、形成される膜の主たる組成を構成する元素のうち、金属元素を含む層を基板上に形成する際、用いる金属含有原料ガスとして、例えば有機系原料ガスおよびハロゲン系原料ガスのように異なる分子構造(化学構造)を有するものを選択することにより、基板上に形成する膜に含まれる各原料ガスに由来する各元素の組成比を調整(制御、変調、チューニング)することができ、閾値電圧が調整可能となり、仕事関数を制御(調整、変調、チューニング)することができる。
(E)有機系原料ガスの供給流量および/または供給時間を調整して、最終的に得られるTi(C)N膜に含まれる各元素(Ti,N,C,H,Cl等)の原子濃度の制御性を高めることにより、TiC膜の仕事関数の制御性を高めることが可能となる。
(F)NH3ガス等のN含有ガスを使用してTiN膜を形成した場合は結晶化が進むため、N含有ガスを使用せずにTi(C)N膜を形成することにより、Ti(C)N膜の結晶性をアモルファスに近くなるようにすることができ、バリア性を高くすることができる。
本実施形態では、図10に示すように、有機系原料(TDEAT)ガス供給ステップ、残留ガス除去ステップ、ハロゲン系原料(TiCl4)ガス供給ステップ、残留ガス除去ステップ、のサイクルを1サイクルとして順に時分割してnサイクル(nは1以上の整数)繰り返すことにより、ウエハ200上にTiC膜(チタン炭化膜)を形成する。なお、本シーケンスでは、TDEATガス中に含まれるNが膜中に残る場合があり、実質的にTiCN膜(チタン炭窒化膜)となるともいえる。TiC(N)膜、Ti(C)N膜とも称する。
(B)有機系原料ガスの供給流量および/または供給時間を調整して、最終的に得られるTi(C)N膜に含まれる各元素(Ti,N,C,H,Cl等)の原子濃度の制御性を高めることにより、TiCの膜ストレスの制御性を高めることができる。例えば、Ti含有ガスとしてハロゲン系原料ガスと有機系原料ガスとを用いてTi(C)N膜を形成する際、有機系Ti含有ガスに由来するTi以外の元素(C,H,N)の原子濃度がハロゲン系原料ガスに由来するTi以外の元素(Cl)の原子濃度より高くなるように、有機系原料ガスの供給流量および/または供給時間を調整することにより、Ti(C)N膜の膜密度が低くなり、成膜レートが速くなり、膜ストレスを低下させることが可能となる。
(C)Ti含有ガスとしてハロゲン系原料ガスと有機系原料ガスとを用いることにより、Ti(C)N膜の結晶性を制御することが可能となる。有機系原料ガスに由来するTi以外の元素(C,H,N)の原子濃度がハロゲン系原料ガスに由来するTi以外の元素(Cl)の原子濃度より高くなるように、有機系原料ガスの供給流量および/または供給時間を調整することにより、Ti(C)N膜の結晶性をアモルファスに近くなるよう変化させることができ、バリア性を高くすることが可能となる。
(D)先に有機系原料ガスを用いて第1のTi含有層を形成した後、ハロゲン系原料ガスを用いて第2のTi含有層を形成することにより、基板の濡れ性が向上し、または、結晶核の表面エネルギーが低くなり、膜の表面ラフネスが改善するという効果を得ることができる。
(E)膜を形成する際、形成される膜の主たる組成を構成する元素のうち、金属元素を含む層を基板上に形成する際、用いる金属含有原料ガスとして、例えば有機系原料ガスおよびハロゲン系原料ガスのように異なる分子構造(化学構造)を有するものを選択することにより、基板上に形成する膜に含まれる各原料ガスに由来する各元素の組成比を調整(制御、変調、チューニング)することができ、閾値電圧が調整可能となり、仕事関数を制御(調整、変調、チューニング)することができる。
(F)有機系原料ガスの供給流量および/または供給時間を調整して、最終的に得られるTi(C)N膜に含まれる各元素(Ti,N,C,H,Cl等)の原子濃度の制御性を高めることにより、Ti(C)N膜の仕事関数の制御性を高めることが可能となる。
(G)NH3ガス等のN含有ガスを使用してTiN膜を形成した場合は結晶化が進むため、N含有ガスを使用せずにTi(C)N膜を形成することにより、Ti(C)N膜の結晶性をアモルファスに近くなるようにすることができ、バリア性を高くすることができる。
本実験例では、ハロゲン系原料ガスであるTiCl4ガスと、有機系原料ガスであるTDEATガスを用いて上述した第5の実施形態の図9のシーケンスを用いてウエハ200上にTi(C)N膜を形成した。
本実験例では、実験例1にN含有ガスであるNH3ガスを供給する工程を加えた。具体的には、ハロゲン系原料ガスであるTiCl4ガスと、有機系原料ガスであるTDEATガスと、反応ガスとしてN含有ガスであるNH3ガスを用いて上述した第2の実施形態の図6のシーケンスを用いてウエハ200上にTiN膜を形成した。
比較例では、ハロゲン系原料ガスであるTiCl4ガスと、反応ガスとしてN含有ガスであるNH3ガスとを交互に供給してウエハ200上にTiN膜を形成した。
処理室内温度:200℃〜400℃
処理室内圧力:20Pa〜1330Pa
TiCl4ガス供給流量:10sccm〜200sccm
TDEATガス供給流量:10sccm〜200sccm
N2ガス供給流量:1sccm〜2000sccm
NH3ガス供給流量:300sccm〜10000sccm
TiCl4ガス照射時間:5秒
TDEATガス照射時間:10秒
NH3ガス照射時間:20秒
上述の各実施形態は、適宜組み合わせて用いることができる。さらに、本発明は上述の実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。
理条件とすることができる。
本発明の一態様によれば、
基板に対して、金属元素である第1の元素を含む有機系金属原料ガスを供給する工程と、
前記基板に対して、前記第1の元素を含むハロゲン系金属原料ガスを供給する工程と、
前記基板に対して、第2の元素を含み、前記第1の元素と反応する反応ガスを供給する工程と、
を時分割して(非同期、間欠的、パルス的に)所定回数行うことにより、前記第1の元素、前記第2の元素を含む金属含有膜を形成し、前記有機系金属原料ガスを供給する工程における前記有機系金属原料ガスの供給流量および供給時間のうち少なくともいずれかの値を制御(調整、チューニング)することにより、前記金属含有膜の膜ストレスの値を制御(調整、変調、チューニング)する半導体デバイスの製造方法または基板処理方法が提供される。
付記1に記載の方法であって、好ましくは、
前記有機系金属原料ガスを供給する工程、前記ハロゲン系金属原料ガスを供給する工程、前記反応ガスを供給する工程を順に時分割して所定回数行う。
付記1に記載の方法であって、好ましくは、
前記ハロゲン系金属原料ガスを供給する工程、前記有機系金属原料ガスを供給する工程、前記反応ガスを供給する工程を順に時分割して所定回数行う。
付記1から3に記載の方法のいずれかであって、好ましくは、
前記金属含有膜は前記基板に形成されたエッチング対象膜をエッチングするためのハードマスクとして形成される薄膜である。
付記1から4に記載の方法のいずれかであって、好ましくは、
前記第1の元素はチタン(Ti)、タンタル(Ta)、タングステン(W)、コバルト(Co)、イットリウム(Y)、ルテニウム(Ru)、アルミニウム(Al)、ハフニウム(Hf)、ジルコニウム(Zr)、モリブデン(Mo)のいずれかであり、前記第2の元素は窒素である。
付記1から5に記載の方法のいずれかであって、好ましくは、
前記金属含有膜に含まれる第2の元素および炭素の濃度比を制御することにより、前記金属含有膜の膜ストレスを制御する。
本発明の他の態様によれば、
基板に対して、金属元素である第1の元素を含む有機系金属原料ガスを供給する工程と、
前記基板に対して、前記第1の元素を含むハロゲン系金属原料ガスを供給する工程と、
を時分割して(非同期、間欠的、パルス的に)行うことにより、前記第1の元素を含む金属含有層を形成する工程と、
前記基板に対して、第2の元素を含み、前記第1の元素と反応する反応ガスを供給する工程と、
をそれぞれ所定回数ずつ行うことにより、前記第1の元素、前記第2の元素を含む金属含有膜を形成し、前記有機系金属原料ガスを供給する工程における前記有機系金属原料ガスの供給流量および供給時間のうち少なくともいずれかの値を制御(調整、チューニング)することにより、前記金属含有膜の膜ストレスの値を制御(調整、変調、チューニング)する半導体デバイスの製造方法または基板処理方法が提供される。
付記7に記載の方法であって、好ましくは、
前記有機系金属原料ガスを供給する工程、前記ハロゲン系金属原料ガスを供給する工程を、順に時分割して所定回数行う。
付記7に記載の方法であって、好ましくは、
前記ハロゲン系金属原料ガスを供給する工程、前記金属系金属原料ガスを供給する工程を、順に時分割して所定回数行う。
付記7から9に記載の方法のいずれかであって、好ましくは、
前記薄膜は前記基板に形成されたエッチング対象膜をエッチングするためのハードマスクとして形成される薄膜である。
付記7から10に記載の方法のいずれかであって、好ましくは、
前記第1の元素はチタン(Ti)、タンタル(Ta)、タングステン(W)、コバルト(Co)、イットリウム(Y)、ルテニウム(Ru)、アルミニウム(Al)、ハフニウム(Hf)、ジルコニウム(Zr)、モリブデン(Mo)のいずれかであり、前記第2の元素は窒素である。
本発明の他の態様によれば、
基板に対して、金属元素および炭素を含む有機系金属原料ガスを供給する工程と、
前記基板に対して、前記金属元素を含むハロゲン系金属原料ガスを供給する工程と、
を時分割して(非同期、間欠的、パルス的に)所定回数行うことにより、前記金属元素および炭素を含む金属含有炭化膜を形成し、前記有機系金属原料ガスを供給する工程における前記有機系金属原料ガスの供給流量および供給時間のうち少なくともいずれかの値を制御(調整、チューニング)することにより、前記金属含有炭化膜の膜ストレスの値を制御(調整、変調、チューニング)する半導体デバイスの製造方法または基板処理方法が提供される。
付記12に記載の方法であって、好ましくは、
前記有機系金属原料ガスは、さらに窒素を含み、前記有機系金属原料ガスを供給する工程と、前記ハロゲン系金属原料ガスを供給する工程と、を時分割して(非同期、間欠的、パルス的に)所定回数行うことにより、前記金属元素、炭素および窒素を含む金属含有炭窒化膜を形成し、前記有機系金属原料ガスを供給する工程における前記有機系金属原料ガスの供給流量および供給時間のうち少なくともいずれかの値を制御(調整、チューニング)することにより、前記金属含有炭窒化膜の膜ストレスの値を制御(調整、変調、チューニング)する。
付記13に記載の方法であって、好ましくは、
前記金属元素、炭素および窒素の濃度比を制御することにより、前記金属含有炭窒化膜の膜ストレスを制御する。
付記12から14に記載の方法のいずれかであって、好ましくは、
前記金属元素はチタン(Ti)、タンタル(Ta)、タングステン(W)、コバルト(Co)、イットリウム(Y)、ルテニウム(Ru)、アルミニウム(Al)、ハフニウム(Hf)、ジルコニウム(Zr)、モリブデン(Mo)のいずれかである。
本発明の他の態様によれば、
基板を収容する処理室と、
前記基板に対して、金属元素である第1の元素を含む有機系金属原料ガス、前記第1の元素を含むハロゲン系金属原料ガス、および第2の元素を含み前記第1の元素と反応する反応ガスを供給するガス供給系と、
前記ガス系を制御して、前記処理室に収容された基板に対して前記有機系金属原料ガスを供給する処理と、前記基板に対して前記ハロゲン系金属原料ガスを供給する処理と、前記基板に対して前記反応ガスを供給する処理と、を時分割して(非同期、間欠的、パルス的に)所定回数行うことにより、前記第1の元素、前記第2の元素を含む金属含有膜を形成し、前記有機系金属原料ガスを供給する処理における前記有機系金属原料ガスの供給流量および供給時間のうち少なくともいずれかの値を制御(調整、チューニング)することにより、前記金属含有膜の膜ストレスの膜を制御(調整、変調、チューニング)するよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置が提供される。
本発明の他の態様によれば、
基板を収容する処理室と、
前記基板に対して、金属元素である第1の元素を含む有機系金属原料ガス、前記第1の元素を含むハロゲン系金属原料ガス、および第2の元素を含み前記第1の元素と反応する反応ガスを供給するガス供給系と、
前記ガス系を制御して、前記処理室に収容された基板に対して前記有機系金属原料ガスを供給する処理と、前記基板に対して前記ハロゲン系金属原料ガスを供給する処理と、を時分割して(非同期、間欠的、パルス的に)行うことにより、前記第1の元素を含む金属層を形成する処理と、前記基板に対して前記反応ガスを供給する処理と、をそれぞれ所定回数ずつ行うことにより、前記第1の元素、前記第2の元素を含む金属含有膜を形成し、前記有機系金属原料ガスを供給する処理における前記有機系金属原料ガスの供給流量および供給時間のうち少なくともいずれかの値を制御(調整、チューニング)することにより、前記金属含有膜の膜ストレスの値を制御(調整、変調、チューニング)するよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置が提供される。
本発明の他の態様によれば、
基板を収容する処理室と、
前記基板に対して、金属元素を含む有機系金属原料ガスおよび前記金属元素を含むハロゲン系金属原料ガスを供給するガス供給系と、
前記ガス系を制御して、前記処理室に収容された基板に対して前記有機系金属原料ガスを供給する処理と、前記基板に対して前記ハロゲン系金属原料ガスを供給する処理と、を時分割して(非同期、間欠的、パルス的に)所定回数行うことにより、前記金属元素および炭素を含む金属含有炭化膜を形成し、前記有機系金属原料ガスを供給する処理における前記有機系金属原料ガスの供給流量および供給時間のうち少なくともいずれかの値を制御(調整、チューニング)することにより、前記金属含有炭化膜の膜ストレスの値を制御(調整、変調、チューニング)するよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置が提供される。
本発明の他の態様によれば、
基板に対して、金属元素である第1の元素を含む有機系金属原料ガスを供給する手順と、
前記基板に対して、前記第1の元素を含むハロゲン系金属原料ガスを供給する手順と、
前記基板に対して、第2の元素を含み、前記第1の元素と反応する反応ガスを供給する手順と、
を時分割して(非同期、間欠的、パルス的に)所定回数行うことにより、前記第1の元素、前記第2の元素を含む金属含有膜を形成し、前記有機系金属原料ガスを供給する手順における前記有機系金属原料ガスの供給流量および供給時間のうち少なくともいずれかの値を制御(調整、チューニング)することにより、前記金属含有膜の膜ストレスの値を制御(調整、変調、チューニング)する手順をコンピュータに実行させるプログラム、および該プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。
本発明の他の態様によれば、
基板に対して、金属元素である第1の元素を含む有機系金属原料ガスを供給する手順と、
前記基板に対して、前記第1の元素を含むハロゲン系金属原料ガスを供給する手順と、
を時分割して(非同期、間欠的、パルス的に)行うことにより、前記第1の元素を含む金属層を形成する手順と、
前記基板に対して、第2の元素を含み、前記第1の元素と反応する反応ガスを供給する手順と、
をそれぞれ所定回数ずつ行うことにより、前記第1の元素、前記第2の元素を含む金属含有膜を形成し、前記有機系金属原料ガスを供給する手順における前記有機系金属原料ガスの供給流量および供給時間のうち少なくともいずれかの値を制御(調整、チューニング)することにより、前記金属含有膜の膜ストレスの値を制御(調整、変調、チューニング)する手順をコンピュータに実行させるプログラム、および該プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。
本発明の他の態様によれば、
基板に対して、金属元素および炭素を含む有機系金属原料ガスを供給する手順と、
前記基板に対して、前記金属元素を含むハロゲン系金属原料ガスを供給する手順と、
を時分割して(非同期、間欠的、パルス的に)所定回数行うことにより、前記金属元素および炭素を含む金属含有炭化膜を形成し、前記有機系金属原料ガスを供給する工程における前記有機系金属原料ガスの供給流量および供給時間のうち少なくともいずれかの値を制御(調整、チューニング)することにより、前記金属含有炭化膜の膜ストレスの値を制御(調整、変調、チューニング)する手順をコンピュータに実行させるプログラム、および該プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。
200・・・ウエハ
201・・・処理室
202・・・処理炉
Claims (5)
- 基板に対して、金属元素である第1の元素を含む有機系金属原料ガスを供給する工程と、
前記基板に対して、前記第1の元素を含むハロゲン系金属原料ガスを供給する工程と、
前記基板に対して、第2の元素を含み、前記第1の元素と反応する反応ガスを供給する工程と、
を時分割して所定回数行うことにより、前記第1の元素、前記第2の元素を含む金属含有膜を形成し、前記有機系金属原料ガスを供給する工程における前記有機系金属原料ガスの供給流量および供給時間のうち少なくともいずれかの値を制御することにより、前記金属含有膜の膜ストレスの値を制御する半導体デバイスの製造方法。 - 基板に対して、金属元素である第1の元素を含む有機系金属原料ガスを供給する工程と、
前記基板に対して、前記第1の元素を含むハロゲン系金属原料ガスを供給する工程と、
を時分割して行うことにより、前記第1の元素を含む金属層を形成する工程と、
前記基板に対して、第2の元素を含み、前記第1の元素と反応する反応ガスを供給する工程と、
をそれぞれ所定回数ずつ行うことにより、前記第1の元素、前記第2の元素を含む金属含有膜を形成し、前記有機系金属原料ガスを供給する工程における前記有機系金属原料ガスの供給流量および供給時間のうち少なくともいずれかの値を制御することにより、前記金属含有膜の膜ストレスの値を制御する半導体デバイスの製造方法。 - 基板に対して、金属元素および炭素を含む有機系金属原料ガスを供給する工程と、
前記基板に対して、前記金属元素を含むハロゲン系金属原料ガスを供給する工程と、
を時分割して所定回数行うことにより、前記金属元素および炭素を含む金属含有炭化膜を形成し、前記有機系金属原料ガスを供給する工程における前記有機系金属原料ガスの供給流量および供給時間のうち少なくともいずれかの値を制御することにより、前記金属含有炭化膜の膜ストレスの値を制御する半導体デバイスの製造方法。 - 基板を収容する処理室と、
前記基板に対して、金属元素である第1の元素を含む有機系金属原料ガス、前記第1の元素を含むハロゲン系金属原料ガス、および第2の元素を含み前記第1の元素と反応する反応ガスを供給するガス供給系と、
前記ガス系を制御して、前記処理室に収容された基板に対して前記有機系金属原料ガスを供給する処理と、前記基板に対して前記ハロゲン系金属原料ガスを供給する処理と、前記基板に対して前記反応ガスを供給する処理と、を時分割して所定回数行うことにより、前記第1の元素、前記第2の元素を含む金属含有膜を形成し、前記有機系金属原料ガスを供給する処理における前記有機系金属原料ガスの供給流量および供給時間のうち少なくともいずれかの値を制御することにより、前記金属含有膜の膜ストレスの膜を制御するよう構成される制御部と、
を有する基板処理装置 - 基板に対して、金属元素である第1の元素を含む有機系金属原料ガスを供給する手順と、
前記基板に対して、前記第1の元素を含むハロゲン系金属原料ガスを供給する手順と、
前記基板に対して、第2の元素を含み、前記第1の元素と反応する反応ガスを供給する手順と、
を時分割して所定回数行うことにより、前記第1の元素、前記第2の元素を含む金属含有膜を形成し、前記有機系金属原料ガスを供給する手順における前記有機系金属原料ガスの供給流量および供給時間のうち少なくともいずれかの値を制御することにより、前記金属含有膜の膜ストレスの値を制御する手順をコンピュータに実行させるプログラム。
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