JP2016183913A - 自動分析装置 - Google Patents

Abstract

【課題】自動分析装置に新たに大がかりな機構や部品を組み込むことなく、水準器や作業者による精度のばらつきを無くすとともに装置への反応槽の据付時における水平高さ調整作業の効率を上げることができる自動分析装置を提供する。【解決手段】第１検体サンプリング機構１と第２検体サンプリング機構２の金属検知成立状態を検知モニタ６で監視しながら、２本の検体プローブ１ａ、２ａの先端が同時に反応槽５の底面に接触して検知成立となる状態になるよう、アジャスタ２４，２５，２６，２７を調整する。【選択図】 図１

Description

本発明は血液・尿などの生体サンプルの定性・定量分析を行う自動分析装置に関わる。

簡単に反応槽の水平出しを行うことができる自動分析装置及びその水平出し方法の一例として、特許文献１には、被検試料を反応容器に分注するサンプル分注プローブと、第１及び第２の試薬を反応容器に分注する第１及び第２試薬分注プローブと、被検試料及び試薬の混合液を測定温度に保持する熱媒体を収容する反応槽と、各分注プローブに対応して反応槽に設けられた水平出し部と、各分注プローブの熱媒体との接触時にその液面を検出する液面検出器とを備え、各水平出し部の上方から前記液面の検出位置まで下移動した各分注プローブの距離を求め、求めた各距離及び各水平出し部の位置の情報に基づいて、反応槽の水平出しを行うための高さ調整量を算出する技術が記載されている。

特開２００７−２４８４１３号公報

自動分析装置は、臨床検査の分野において広く知られている。自動分析装置には、被検査者から採取したサンプルと試薬を混合し、反応させることで生じる色調の変化を分光光度計によって測定する技術が用いられている。

このような自動分析装置では、サンプルと試薬を混合した溶液を保持する反応槽を自動分析装置に据付する際に、反応槽と装置全体との水平度を高く保つことが重要となる。この水平高さの調整が十分行われていないと、ばらつきによって装置を構成している機構が正常に動作できなくなり、分析結果に影響を与える可能性があるためである。

従来は、据付時に水準器の水平状態を目視しながら反応槽に設けられたアジャスタの高さを手動にて調整し水平出しを行っているタイプがある。また、上述した特許文献１に記載のようにプローブにより液面検出までの移動距離を算出して調整量を求めることも考えられる。

しかし、作業者が水準器を目視しながらアジャスタの高さを手動にて調整する方法では、水準器の設置面を変えながら必要に応じて複数のアジャスタの高さを調整するため作業効率が悪い、という問題がある。さらに、水準器や作業者による精度のばらつきが発生してしまう、という問題もある。

また、特許文献１に記載の方法では、自動分析装置に新たに大がかりな機構や部品を組み込む必要があり、装置コストの上昇にもつながってしまうことから導入に向けたハードルが高い、という問題点がある。

本発明は、自動分析装置に新たに大がかりな機構や部品を組み込むことなく、水準器や作業者による精度のばらつきを無くすとともに反応槽の自動分析装置への据付時における水平高さ調整作業の効率を上げることができる自動分析装置を提供する。

上記課題を解決するために、例えば特許請求の範囲に記載の構成を採用する。
本発明は、上記課題を解決する手段を複数含んでいるが、その一例を挙げるならば、複数の反応容器に検体と試薬を各々分注して反応させ、この反応させた液体を測定する自動分析装置であって、前記複数の反応容器内に入った前記検体と前記試薬を反応させた反応液を一定温度に保つための金属製の反応槽と、前記検体を収容する容器から前記反応容器へ所定量の検体を分注する検体サンプリング機構であって、金属表面および液面を検知することが可能な検体サンプリング機構と、前記試薬を収容する容器から前記反応容器へ所定量の試薬を分注する試薬サンプリング機構であって、金属表面および液面を検知することが可能な試薬サンプリング機構と、前記検体サンプリング機構または前記試薬サンプリング機構のうち少なくともいずれかによって前記反応槽の底面の金属表面が検知されたことを視覚的または聴覚的に通知するモニタ部と、前記反応槽の前記自動分析装置に対する水平高さを調整するためのアジャスタとを備えたことを特徴とする。

本発明によれば、自動分析装置に新たに大がかりな機構や部品を組み込むことなく、水準器や作業者による精度のばらつきを無くすとともに反応槽の自動分析装置への据付時における水平高さ調整作業の効率を上げることができる。

本発明による実施例１の自動分析装置を示す概略図である。 本発明による実施例１の高さ調整用アジャスタの概略図である。 本発明による実施例１のサンプリング機構の状態を示す検知モニタの一例である。 本発明による実施例１の水平高さ調整時の作業フローを示す図である。 本発明による実施例２の自動分析装置を示す概略図である。 本発明による実施例２のサンプリング機構の状態を示す検知モニタの一例である。 本発明による実施例２の水平高さ調整時の装置断面概略図である。 本発明による実施例３の自動分析装置を示す概略図である。 本発明による実施例３のサンプリング機構の状態を示す検知モニタの一例である。

以下に本発明の自動分析装置の実施例を、図面を用いて説明する。

＜実施例１＞
本発明の自動分析装置の実施例１を、図１乃至図４を用いて説明する。図１は自動分析装置を示す概略図である。

図１において、自動分析装置は、複数の反応容器９，２８に検体と試薬を各々分注して反応させ、この反応させた液体を測定する装置であって、反応槽５、試薬ディスク１８，２１、検体サンプリング機構１，２、試薬サンプリング機構１０，１１，１２，１３、分光光度計２９、搬送ライン４７、アジャスタ２４，２５，２６，２７、検知モニタ６、コントローラ４０を備えている。

反応槽５には反応容器９，２８（第１反応容器９，第２反応容器２８）が円周上に並んでいる。この反応槽５は、反応容器９，２８内に入った検体と試薬を反応させた反応液を一定温度に保つための槽であり、金属で構成されている。反応槽５の近くには検体（以下、サンプルとも記載）を収容するサンプル容器８を載せたサンプルラック７を移動する搬送ライン４７が設置されている。

反応槽５と搬送ライン４７の間には、検体を収容する容器から反応容器９，２８へ所定量の検体を分注するよう、回転および上下動可能に構成された検体サンプリング機構１，２（第１検体サンプリング機構１、第２検体サンプリング機構２）が設置されており、各々検体プローブ１ａ，２ａを備えている。検体サンプリング機構１，２は、検体プローブ１ａ，２ａの先端の静電容量の値をモニタリングし、液面または金属に接触した時の閾値を設けて動作させることでプローブ１ａ，２ａを停止するよう構成されており、反応槽５の底面に相当する金属表面５ａ（図２参照）に接触したことや検体の液面を検知することが可能である。なお、検体サンプリング機構１，２は検体以外の液体を吸引し吐出することができるようになっている。

また、検体サンプリング機構１，２は、反応槽５の底面（金属表面５ａ）が検知された、すなわち底面に接触した後に一定量以上押しつけられるときは異常接触と判定して、後述する検知モニタ６に対してアラーム発生要求信号を出力する。

検体プローブ１ａ，２ａは、反応槽５上の複数位置へ水平移動および上下移動が可能に構成されており、回転軸を中心に円弧を描きながら移動して検体を収容したサンプル容器８から反応容器９，２８への検体分注を行う。なお、検体プローブ１ａ，２ａの停止位置は、その回転軸を中心とした回転軌道上に限定されず、アームの届く範囲の任意の位置に停止可能である。

試薬ディスク１８，２１（第１試薬ディスク１８，第２試薬ディスク２１）の中には複数の試薬ボトル１９，２０，２２，２３が円周上に載置可能である。試薬ディスク１８，２１は保冷されており、吸引口が設けられたカバーによって覆われている。

反応槽５と試薬ディスク１８，２１の間には、試薬を収容する容器から反応容器９，２８へ所定量の試薬を分注するよう、回転および上下動可能に構成された試薬サンプリング機構１０，１１，１２，１３（第１試薬サンプリング機構１０，第２試薬サンプリング機構１１，第３試薬サンプリング機構１２，第４試薬サンプリング機構１３）が設置されており、それぞれ試薬プローブ１０ａ，１１ａ，１２ａ，１３ａを備えている。試薬サンプリング機構１０，１１，１２，１３は、試薬プローブ１０ａ，１１ａ，１２ａ，１３ａの先端の静電容量の値をモニタリングし、液面または金属に接触した時の閾値を設けて動作させることでプローブ１０ａ，１１ａ，１２ａ，１３ａを停止するよう構成されており、反応槽５の底面に相当する金属表面５ａ（図２参照）に接触したことや試薬の液面を検知することが可能である。なお、試薬サンプリング機構１０，１１，１２，１３は試薬以外の液体を吸引し吐出することができるものである。

また、試薬サンプリング機構１０，１１，１２，１３は、反応槽５の底面（金属表面５ａ）が検知された、すなわち底面に接触した後に一定量以上押しつけられるときは異常接触と判定して、後述する検知モニタ６に対してアラーム発生要求信号を出力する。

試薬プローブ１０ａ，１１ａ，１２ａ，１３ａは、反応槽５上の複数位置へ水平移動および上下移動が可能に構成されており、回転軸を中心に円弧を描きながら移動して試薬ボトル１９，２０，２２，２３から反応容器９，２８への試薬分注を行う。なお、試薬プローブ１０ａ，１１ａ，１２ａ，１３ａの停止位置は、その回転軸を中心とした回転軌道上に限定されず、アームの届く範囲の任意の位置に停止可能である。

反応槽５の周囲には、更に、分光光度計２９が配置されている。これら自動分析装置に供えられた各機構はコントローラ４０に接続されている。

アジャスタ２４，２５，２６，２７（第１アジャスタ２４、第２アジャスタ２５、第３アジャスタ２６、第４アジャスタ２７）は、反応槽５の底面の４か所に設けられており、自動分析装置に対する反応槽の水平高さを調整するための高さ調整用機構である。アジャスタ２４，２５，２６，２７の概略を図２を参照して以下説明する。

図２において、アジャスタ２４，２５，２６，２７は、反応槽底板３０のねじ穴部３５に対して螺嵌しているアジャスタねじ部３１と、このアジャスタねじ部３１の一端に設けられた調整ナット部３２と、この調整ナット部３２と自動分析装置底面３４との間に設けられたアジャスタ設置面３３とからなる。

このアジャスタ２４，２５，２６，２７における水平高さ調整の手順としては、自動分析装置底面３４に設置したアジャスタ設置面３３を基準としてアジャスタの調整ナット部３２をスパナなどの工具で回転させる。この調整ナット部３２を回転させると、ねじ山が付いたアジャスタねじ部３１が回転し、ねじ穴部３５で嵌合された反応槽底板３０がアジャスタねじ部３１のねじピッチに応じて上下移動することで水平高さ調整が可能となっている。

検知モニタ６は、検体サンプリング機構１，２や、試薬サンプリング機構１０，１１，１２，１３のうちいずれかによって金属表面５ａが検知されたことを視覚的または聴覚的に通知するためのモニタであり、金属表面５ａの検知成立時には、スピーカ３８を備えた検知モニタ６によってどのプローブで表面の検知が成立したかが分かる構成となっている。例えば、動作対象の検体サンプリング機構すべてが検知成立となった場合に、スピーカ３８からの音で知らせることも可能である。図３は、プローブ先端が反応槽の底面へ接触する時にサンプリング機構の状態を示す検知モニタ６の一例を示す図である。

より具体的には、図３に示すように、水平高さ調整時に各サンプリング機構の検知ＯＮランプ３６または検知ＯＦＦランプ３７が点灯することで、オペレータに対して底面検知状態を視覚的に確認することができるようになっている。また、動作中の機構が全て金属検知ＯＮとなった際には、スピーカ３８から音を出すようになっており、オペレータに対して調整完了を知らせることで、金属表面５ａの検知を視覚的または聴覚的に通知する機能も備えている。

更に、検知モニタ６は、図３に示すように、検体サンプリング機構１，２や試薬サンプリング機構１０，１１，１２，１３が、反応槽５の底面に接触した後に一定量以上押しつけられてプローブ先端が反応槽５の底面に過剰に接触した場合に入力されるアラーム発生要求信号に基づいて、接触ＯＮランプ３９を点灯させると共にスピーカ３８からアラーム音を出すことで、オペレータに対して異常接触を視覚的または聴覚的に通知する機能を備えている。

コントローラ４０は、自動分析装置内の各構成要素を制御し、様々な演算処理を行う部分である。

上述のような自動分析装置による検体の分析処理は、一般的に以下の順に従い実行される。

まず、搬送ライン４７によって反応槽５近くに搬送されたサンプルラック７の上に載置されたサンプル容器８内に第１検体サンプリング機構１に搭載された検体プローブ１ａを挿入する。その後検体プローブ１ａを下降させてサンプルの液面を液面検知機能によって検知して液面上面付近で停止し、サンプルを所定量吸引する。その後、反応槽５の周上に設置された第１反応容器９に吐出する。同様に、第２検体サンプリング機構２に搭載された検体プローブ２ａをサンプル容器８内に挿入し、サンプルを所定量吸引した後、第２反応容器２８に吐出する。

続いて、第１試薬サンプリング機構１０に搭載された試薬プローブ１０ａを第１試薬ディスク１８に設置された第１試薬ボトル１９中に挿入し、第１試薬の液面で液面検知機能によって停止させ、第１試薬を所定量吸引した後、第１反応容器９に第１試薬を吐出する。同様に、第２試薬サンプリング機構１１に搭載された試薬プローブ１１ａを第２試薬ディスク２１に設置された第２試薬ボトル２０中に挿入し、第２試薬を所定量吸引した後、第２反応容器２８に吐出する。

第１反応容器９と第２反応容器２８において、検体と試薬の混合撹拌を行う。

その後、第３試薬サンプリング機構１２に搭載された試薬プローブ１２ａを第１試薬ディスク１８に設置された第４試薬ボトル２３中に挿入し、第４試薬の液面で停止させ、第４試薬を所定量吸引した後、第１反応容器９に吐出する。同様に第４試薬サンプリング機構１３に搭載された試薬プローブは第２試薬ディスク２１に設置された第３試薬ボトル２２中の第３試薬を所定量吸引した後、第２反応容器２８に吐出する。

一定時間かけて反応促進させた後、光源から発生させた光を混合液の入った反応容器９，２８を透過させ、反応液の色調を分光光度計２９にて吸光度測定し、コントローラ４０において波長ごとの解析結果を演算し、得られた測定結果をモニタ（不図示）などに対して出力、表示させる。

このような分析動作の前準備として、反応槽５の自動分析装置への据付時に行う水平高さ調整がある。この水平高さ調整にあたって、本実施例では、検知モニタ６において視覚的または聴覚的に通知された、検体サンプリング機構１，２による金属表面５ａの検知情報を基にしてアジャスタ２４，２５，２６，２７を調整する。

まず、分析前・調整前準備の一つとして、検体サンプリング機構１，２の動作に関わる基準高さを決定する。

具体的な手段としては、サンプルラック７へ搭載した金属製の調整雇に向けてプローブ１ａ，２ａの先端を下降させて接触させることで基準高さを登録する。さらに検体サンプリング機構１，２と同様に、試薬サンプリング機構１０，１１，１２，１３についても基準高さを決定するため、試薬ディスク１８，２１に設置した金属製の調整雇に向けてプローブ１０ａ，１１ａ，１２ａ，１３ａの先端を下降させて接触させることで基準高さを登録する。本基準高さ登録後に、後述する水平高さ調整や上述したような分析動作を実施する。

次に、水平高さ調整時の手順について図４を参照して説明する。水平高さ調整時の作業フローを図４に示す。

図４において、まず、作業者は、手順１として、自動分析装置へ反応槽５を設置する。

次いで、手順２として、検体プローブ１ａ，２ａを水平高さ確認位置へ移動させる。

次いで、手順３として、検体プローブ１ａ，２ａを一定量下降させて金属の検知を実行した状態で待機させる。より具体的には、図１に示すように、反応槽５の第１水平高さ確認位置３にて第１検体サンプリング機構１の検体プローブ１ａの先端を一定高さで停止させて金属検知待機状態とする。また、反応槽５の第２水平高さ確認位置４にて第２検体サンプリング機構２の検体プローブ２ａの先端を第１検体サンプリング機構１の検体プローブ１ａの先端を一定高さで停止させて金属検知待機状態とする。

次いで、手順４として、反応槽の底面の４か所に設けられた第１アジャスタ２４、第２アジャスタ２５、第３アジャスタ２６、第４アジャスタ２７による水平高さを調整する。

その後、手順５として、検知モニタ６による水平高さを確認する。この手順５において、再調整が必要ならば手順４へ処理を戻す。これに対し、再調整が不要ならば処理を完了する。

この手順４，５に示すように、作業者は、据付時に、第１検体サンプリング機構１と第２検体サンプリング機構２の金属検知成立状態を検知モニタ６で監視しながら、２本の検体プローブ１ａ、２ａの先端が同時に反応槽５の底面に接触して検知成立となることで２点の水平高さを同時に確認することができる。さらに、第１検体サンプリング機構１と第２検体サンプリング機構２の回転軌道上で停止位置を変えて水平高さを確認することで３点以上の測定が可能である。

次に、本実施例の利点を述べる。自動分析装置では、第１検体サンプリング機構１と第２検体サンプリング機構２は、本来の機能としてサンプルラック７に搭載されたサンプル容器８中のサンプルを吸引し、反応槽５に設置する第１反応容器９と第２反応容器２８に吐出するようになっている。また、各検体サンプリング機構１，２は、ハード的破損を防止するために、プローブ１ａ、２ａの先端が対象物に接触後一定量以上押しつけられると異常接触を示す検知センサを備えており、プローブ１ａ、２ａ先端が反応槽５の底面へ接触後、過剰に突っ込み過ぎた場合は異常接触を示すアラームを発生することができるようになっている。

第１検体サンプリング機構１と第２検体サンプリング機構２のサンプルを吸引し吐出するという同じ機能をもった機構の金属検知機能を使って水平高さ調整を行うことで、検知成立時の機械的ばらつきが最小限に抑えられ信頼性が向上する。また、検体サンプリング機構１，２の検体プローブ１ａ、２ａの動作のみで実施できるため、比較的簡易な構成でありながら、据付時におけるより厳密な水平高さ調整が可能であり、水平高さ調整作業の効率も上げることができる。また、水準器が不要であり、水準器や作業者による精度のばらつきを無くすことができる。さらに、本実施例の自動分析装置による調整に必要な主な機構と機能は、既に装置に搭載されているので、新たに大がかりな機構や部品を準備する必要がなく、装置コストの上昇を避けることができる、との利点を有している。

なお、本実施例１では、最良の形態として第１水平高さ確認位置３と第２水平高さ確認位置４を検体プローブ１ａ，２ａの停止位置としたが、第１検体サンプリング機構１と第２検体サンプリング機構２の動作軌道上であれば停止位置を限定するものではない。

さらに、第１検体サンプリング機構１と第２検体サンプリング機構２を２つ以上の関節を持つ機構とすることで、回転軌道上に限らずにさらに多くの水平高さ確認位置を設定することも可能である。

＜実施例２＞
本発明の自動分析装置の実施例２を図５乃至図７を用いて説明する。図１乃至図４と同じ構成には同一の符号を示し、説明は省略する。以下の実施例においても同様とする。図５は自動分析装置を示す概略図である。

実施例２では、実施例１の検体サンプリング機構１，２の代わりに、試薬サンプリング機構１０，１１，１２，１３による金属表面５ａの検知情報を基にして第１アジャスタ２４，第２アジャスタ２５，第３アジャスタ２６，第４アジャスタ２７を調整する。

図５に示すように、本実施例の自動分析装置の各構成は、図１に示す実施例１の自動分析装置の構成と同じである。

図５では、第１試薬サンプリング機構１０は、反応槽５の第３水平高さ確認位置１４にて試薬プローブ１０ａの先端を一定高さで停止させて金属検知待機状態となる。同様に、第２試薬サンプリング機構１１は第４水平高さ確認位置１５にて、第３試薬サンプリング機構１２は第５水平高さ確認位置１６にて、第４試薬サンプリング機構１３は第６水平高さ確認位置１７にて各試薬プローブ１１ａ，１２ａ，１３ａの先端を一定高さで停止させて金属検知待機状態となる。本実施例では、第１〜第４試薬サンプリング機構１０，１１，１２，１３の試薬プローブ１０ａ，１１ａ，１２ａ，１３ａの先端を同じ高さとすることで水平高さ確認前の準備が完了する。

本実施例においても、実施例１同様に、試薬プローブ１０ａ，１１ａ，１２ａ，１３ａによって、金属検知成立時にはスピーカ３８を備えた検知モニタ６によってどのプローブで検知が成立したかが分かる構成となっている。

次に、本実施例における水平高さ調整時の手順について図６を参照して説明する。水平高さ調整時の作業フローを図６に示す。

図６において、まず、作業者は、手順１として、自動分析装置へ反応槽５を設置する。

次いで、手順２ａとして、試薬プローブ１０ａ，１１ａ，１２ａ，１３ａを水平高さ確認位置へ移動させる。

次いで、手順３ａとして、試薬プローブ１０ａ，１１ａ，１２ａ，１３ａを一定量下降させて金属の検知を実行した状態で待機させる。より具体的には、図５に示す状態とする。

次いで、手順４として、反応槽５の底面の４か所に設けられた第１アジャスタ２４、第２アジャスタ２５、第３アジャスタ２６、第４アジャスタ２７による水平高さを調整する。

その後、手順５として、検知モニタ６による水平高さを確認する。この手順５において、再調整が必要ならば手順４へ処理を戻す。これに対し、再調整が不要ならば処理を完了する。

この手順４，５に示すように、作業者は据付時に第１〜第４試薬サンプリング機構１０，１１，１２，１３の金属検知成立状態を検知モニタ６で監視しながら、反応槽５底面４か所の第１〜第４アジャスタ２４，２５，２６，２７の高さを調整する。第１〜第４試薬サンプリング機構１０，１１，１２，１３の試薬プローブ１０ａ，１１ａ，１２ａ，１３ａが同時に反応槽５の底面に接触して検知成立となることで４点の水平高さを同時に確認することができる。

この手順４〜５における水平高さ調整時の装置断面概略図を図７に示す。

図７の通り、第２試薬サンプリング機構１１の第４水平高さ確認位置１５と第４試薬サンプリング機構１３の第６水平高さ確認位置１７が反応槽５上へ配置される。各サンプリング機構１０，１１，１２，１３のプローブ１０ａ，１１ａ，１２ａ，１３ａ先端が反応槽５の底面へ同時に接触して金属検知することで２点の水平高さを確認することができるようになっている。

本実施例２の利点を述べる。自動分析装置では、第１〜第４試薬サンプリング機構１０，１１，１２，１３は、本来の機能として第１試薬ディスク１８と第２試薬ディスク２１に設置された第１〜第４試薬を吸引し、反応槽５に設置する第１反応容器９と第２反応容器２８に試薬を吐出するようになっている。また、同様に、ハード的破損を防止するために、プローブ１０ａ，１１ａ，１２ａ，１３ａの先端が対象物に接触後一定量以上押しつけられると異常接触を示す検知センサを備えている。

よって、上述した実施例１の自動分析装置とほぼ同様な効果が得られる。また、本実施例では、実施例１に比べて同時に水平高さを確認できる点が多いため、試薬プローブ１０ａ，１１ａ，１２ａ，１３ａを動作させる確認回数が少なくて済む。さらに試薬プローブ１０ａ，１１ａ，１２ａ，１３ａの動作が反応槽５の周上で広範囲になっていることも厳密な水平高さ確認に適している、との利点を有している。

なお、本実施例２では、最良の形態として水平高さ確認位置１４〜１７の４つとしたが第１〜第４試薬サンプリング機構１０，１１，１２，１３は２つの関節を持つ回転機構としたので、水平高さ確認位置を軌道上に限定されるものではない。

＜実施例３＞
本発明の自動分析装置の実施例３を図８および図９を用いて説明する。図８は自動分析装置を示す概略図である。

実施例３では、実施例１で説明した検体サンプリング機構１，２と実施例２で説明した試薬サンプリング機構１０，１１，１２，１３の全てを用いて、検体サンプリング機構１，２および試薬サンプリング機構１０，１１，１２，１３による金属表面５ａの検知情報を基にして第１アジャスタ２４，第２アジャスタ２５，第３アジャスタ２６，第４アジャスタ２７を調整する。

図８に示すように、本実施例の自動分析装置の各構成は、図１に示す実施例１の自動分析装置や図５に示す実施例２の自動分析装置の構成と同じである。

図８では、実施例１や実施例２で述べた通り、第１検体サンプリング機構１は反応槽５の第１水平高さ確認位置３にて、第２検体サンプリング機構２は第２水平高さ確認位置４にて検体プローブ１ａ，２ａ先端を一定高さで停止させて金属検知待機状態となる。同様に、第１試薬サンプリング機構１０は第３水平高さ確認位置１４にて、第２試薬サンプリング機構１１は第４水平高さ確認位置１５にて、第３試薬サンプリング機構１２は第５水平高さ確認位置１６にて、第４試薬サンプリング機構１３は第６水平高さ確認位置１７にて試薬プローブ１０ａ，１１ａ，１２ａ，１３ａ先端を一定高さで停止させて金属検知待機状態となる。本実施例では、第１〜第２検体プローブ１ａ，２ａの先端と第１〜第４試薬プローブ１０ａ，１１ａ，１２ａ，１３ａの先端の全てを同じ高さとすることで水平高さ確認前の準備が完了する。

次に、本実施例における水平高さ調整時の手順について図９を参照して説明する。水平高さ調整時の作業フローを図９に示す。

図９において、まず、作業者は、手順１として、自動分析装置へ反応槽５を設置する。

次いで、手順２ｂとして、検体プローブ１ａ，２ａおよび試薬プローブ１０ａ，１１ａ，１２ａ，１３ａを水平高さ確認位置へ移動させる。

次いで、手順３ｂとして、検体プローブ１ａ，２ａおよび試薬プローブ１０ａ，１１ａ，１２ａ，１３ａを一定量下降させて金属の検知を実行した状態で待機させる。より具体的には、図８に示す状態とする。

次いで、手順４として、反応槽５の底面の４か所に設けられた第１アジャスタ２４、第２アジャスタ２５、第３アジャスタ２６、第４アジャスタ２７による水平高さを調整する。

その後、手順５として、検知モニタ６による水平高さを確認する。この手順５において、再調整が必要ならば手順４へ処理を戻す。これに対し、再調整が不要ならば処理を完了する。

この手順４，５に示すように、作業者は据付時に第１〜第２検体サンプリング機構１，２と第１〜第４試薬サンプリング機構１０，１１，１２，１３の金属検知成立状態を検知モニタ６で監視しながら、反応槽５底面４か所の第１〜第４アジャスタ２４，２５，２６，２７の高さを調整する。検体プローブ１ａ，２ａおよび試薬プローブ１０ａ，１１ａ，１２ａ，１３ａの６つのプローブが同時に反応槽５の底面に接触して検知成立となることで６点の水平高さを同時に確認することができる。

次に、本実施例の利点を述べる。本実施例では、同じ機能を持つ２つの検体サンプリング機構１，２と４つの試薬サンプリング機構１０，１１，１２，１３を同時に使用するため、各機構毎における検知成立時の機械的ばらつきが最小限に抑えられて信頼性が向上する。特に実施例１、実施例２に比べて反応槽５の周上で水平高さ確認の位置が最も広範囲に配置できる理想的な形態となる。よって、実施例１，２に比べてさらに厳密な水平高さ調整が可能となる。

なお、本実施例３では、最良の形態として、水平高さ確認位置３，４，１４〜１７の６点としたが、検体サンプリング機構１，２と試薬サンプリング機構１０，１１，１２，１３の動作軌道上であれば限定されるものではない。

また、検体サンプリング機構１，２と試薬サンプリング機構１０，１１，１２，１３の必要な機構のみでプローブを配置し動作すれば、使用する機構を限定する必要はない。

＜その他＞
なお、本発明は、上記の実施例に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。上記の実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施例の構成の一部を他の実施例の構成に置き換えることも可能であり、また、ある実施例の構成に他の実施例の構成を加えることも可能である。また、各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることも可能である。

１…第１検体サンプリング機構、
１ａ…検体プローブ、
２…第２検体サンプリング機構、
２ａ…検体プローブ、
３…第１水平高さ確認位置、
４…第２水平高さ確認位置、
５…反応槽、
５ａ…金属表面、
６…検知モニタ（モニタ部）、
７…サンプルラック、
８…サンプル容器、
９…第１反応容器、
１０…第１試薬サンプリング機構、
１０ａ…試薬プローブ、
１１…第２試薬サンプリング機構、
１１ａ…試薬プローブ、
１２…第３試薬サンプリング機構、
１２ａ…試薬プローブ、
１３…第４試薬サンプリング機構、
１３ａ…試薬プローブ、
１４…第３水平高さ確認位置、
１５…第４水平高さ確認位置、
１６…第５水平高さ確認位置、
１７…第６水平高さ確認位置、
１８…第１試薬ディスク、
１９…第１試薬ボトル、
２０…第２試薬ボトル、
２１…第２試薬ディスク、
２２…第３試薬ボトル、
２３…第４試薬ボトル、
２４…第１アジャスタ、
２５…第２アジャスタ、
２６…第３アジャスタ、
２７…第４アジャスタ、
２８…第２反応容器、
２９…分光光度計、
３０…底板、
３１…アジャスタねじ部、
３２…調整ナット部、
３３…アジャスタ設置面、
３４…自動分析装置底面、
３５…ねじ穴部、
３６…検知ＯＮランプ、
３７…検知ＯＦＦランプ、
３８…スピーカ、
３９…接触ＯＮランプ、
４０…コントローラ、
４７…搬送ライン。

Claims (9)

1. 複数の反応容器に検体と試薬を各々分注して反応させ、この反応させた液体を測定する自動分析装置であって、
   前記複数の反応容器内に入った前記検体と前記試薬を反応させた反応液を一定温度に保つための金属製の反応槽と、
   前記検体を収容する容器から前記反応容器へ所定量の検体を分注する検体サンプリング機構であって、金属表面および液面を検知することが可能な検体サンプリング機構と、
   前記試薬を収容する容器から前記反応容器へ所定量の試薬を分注する試薬サンプリング機構であって、金属表面および液面を検知することが可能な試薬サンプリング機構と、
   前記検体サンプリング機構または前記試薬サンプリング機構のうち少なくともいずれかによって前記反応槽の底面の金属表面が検知されたことを視覚的または聴覚的に通知するモニタ部と、
   前記反応槽の前記自動分析装置に対する水平高さを調整するためのアジャスタとを備えた
   ことを特徴とする自動分析装置。
2. 請求項１に記載の自動分析装置において、
   前記検体サンプリング機構に搭載された検体プローブおよび前記試薬サンプリング機構に搭載された試薬プローブは、前記反応槽上の複数位置へ水平移動および上下移動が可能である
   ことを特徴とする自動分析装置。
3. 請求項２に記載の自動分析装置において、
   前記検体プローブおよび前記試薬プローブは、その停止位置が回転軌道上に限定されない
   ことを特徴とする自動分析装置。
4. 請求項１に記載の自動分析装置において、
   前記検体サンプリング機構および前記試薬サンプリング機構は、同時に前記金属表面の検知動作が可能である
   ことを特徴とする自動分析装置。
5. 請求項１に記載の自動分析装置において、
   前記前記検体サンプリング機構および前記試薬サンプリング機構は、前記金属表面の検知成立を確認するプローブ先端が前記反応槽の底面に対して接触後一定量以上押しつけられるときは異常接触と判定して、前記モニタ部に対してアラーム発生要求信号を出力する
   ことを特徴とする自動分析装置。
6. 請求項５に記載の自動分析装置において、
   前記モニタ部は、更に、前記異常接触を視覚的または聴覚的に通知する
   ことを特徴とする自動分析装置。
7. 請求項１に記載の自動分析装置において、
   前記検体サンプリング機構を２以上備え、
   この２以上の検体サンプリング機構による前記金属表面の検知情報を基にして前記アジャスタを調整する
   ことを特徴とする自動分析装置。
8. 請求項１に記載の自動分析装置において、
   前記試薬サンプリング機構を２以上備え、
   この２以上の試薬サンプリング機構による前記金属表面の検知情報を基にして前記アジャスタを調整する
   ことを特徴とする自動分析装置。
9. 請求項１に記載の自動分析装置において、
   前記検体サンプリング機構による前記金属表面の検知情報および前記試薬サンプリング機構による前記金属表面の検知情報を基にして前記アジャスタを調整する
   ことを特徴とする自動分析装置。

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