JP2016183434A

JP2016183434A - 表面修飾基材

Info

Publication number: JP2016183434A
Application number: JP2015065153A
Authority: JP
Inventors: 木村　俊作; Shunsaku Kimura; 俊作木村
Original assignee: Kyoto University
Current assignee: Kyoto University
Priority date: 2015-03-26
Filing date: 2015-03-26
Publication date: 2016-10-20

Abstract

【課題】生理活性物質等を基材に固定する際に好適に使用でき、特に基材表面に抗原を担持させることによって、免疫の賦活化等の幅広い用途に好適に使用できる新規な表面修飾基材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材（繊維質材料）、反応ユニット及び集合体形成ポリマーユニット１を有する基材結合ポリマー、並びに表面修飾ユニット及び集合体形成ポリマーユニット２を有する表面形成ポリマーの混合物に紫外線を照射することにより表面修飾基材を製造する方法。前記表面修飾基を含む免疫賦活化材料。基材結合ポリマーが式（１）で表される化合物である表面修飾基材。

【選択図】図３

Description

本発明は、表面修飾基材に関する。

基材はその用途に応じて、種々の特性が要求される。その要求に応えるため、汎用の基材を表面修飾することで、その表面に様々な特性を付与し、その用途に適した基材を開発する方法が多く研究されている。

従来、不織布等の繊維基材を表面修飾する方法として、繊維表面からグラフト鎖を伸張させ、繊維表面を修飾する方法が知られている。該方法は、繊維表面上に固定化された開始剤からの重合反応により表面を修飾する方法（グラフトフロム法）及び予め合成したポリマーと繊維表面上に固定化した官能基とを反応により繋ぐ方法（グラフトツー法）に大別される。これらの方法のうち、特にグラフトフロム法は、ポリマーブラシ構造を繊維表面に形成できる点に特色を有している。

例えば、不織布にハロアセトアミノアルカン化剤を用いたリンカーを介して、繊維表面に抗体を担持する方法が報告されている（特許文献１）。

しかしながら、これらの方法では、表面修飾が繊維表面での重合反応又は修飾用ポリマー（グラフト鎖となるポリマー）と繊維表面との固定化反応に依存しているため、修飾膜の厚み及び構造が不均一になることを回避できない。

特許第４９５３２９５号明細書

本発明は、新規な表面修飾基材及びその製造方法を提供することを目的とする。

本発明者等は、上記目的を達成すべく、鋭意研究を重ねた結果、所定の分子を組織化する手法を用いることで、表面を極めて均質に修飾できることを見出し、本発明を完成するに至った。

即ち、本発明は下記項１〜８に記載の態様を包含する。

項１．
１）基材、
２）反応ユニット及び集合体形成ポリマーユニット１を有する基材結合ポリマー、並びに
３）表面修飾ユニット及び集合体形成ポリマーユニット２を有する表面形成ポリマー
を含む表面修飾基材。

項２．
前記基材が、繊維質材料（好ましくは不織布）である、前記項１に記載の表面修飾基材。

項３．
前記集合体形成ポリマーユニット１及び２が、共にステレオコンプレックスを形成している、
前記項１又は２に記載の表面修飾基材。

項４
前記基材結合ポリマーが、下記一般式（１）：

（式中、Ｒ^１及びＲ^２はアルキレン基を示し、Ｒ^３は基：−Ｎ（アルキル）−ＣＨ_２ＣＯ−を示す。ｐは１〜１０の整数を示し、ｑは５〜５０の整数を示す。Ｓ_Ａ ^１は前記集合体形成ポリマーユニット１であり、Ｂは前記反応ユニットである。）
で表わされる化合物である、前記項３に記載の表面修飾基材。

項５．
前記表面形成ポリマーが、下記一般式（２）：

（式中、Ｒ^４及びＲ^５はアルキレン基を示し、Ｒ^６は基：−Ｎ（アルキル）−ＣＨ_２ＣＯ−を示す。ｓは１〜１０の整数を示し、ｔは５〜５０の整数を示す。Ｓ_Ａ ^２は前記集合体形成ポリマーユニット２であり、Ｍ_ｄは前記表面修飾ユニットである。）
で表わされる化合物である、前記項３又は４に記載の表面修飾基材。

項６．
前記表面修飾ユニットが、ＬｅｗｉｓＹである、前記項１〜５のいずれかに記載の表面修飾基材。

項７．
前記項１〜６のいずれかに記載の表面修飾基材を含む、免疫賦活化材料。

項８．
基材、基材結合ポリマー及び表面形成ポリマーの混合物に、紫外線を照射する工程を含む、前記項１〜６のいずれかに記載の表面修飾基材を製造する方法。

本発明の表面修飾基材は、表面の修飾膜が集合体により形成されている。そのため、表面は集合体の特性に応じて極めて均質であり、修飾膜の厚み及び構造が著しく均一である。従って、本発明の表面修飾基材は、生理活性物質等を基材に固定する際に好適に使用でき、特に基材表面に抗原を担持させることによって、免疫の賦活化等の幅広い用途に好適に使用できる。

参考例６で得られた集合体の写真である。実施例１における操作の概念図である。実施例１で得られた表面修飾不織布の概念図である。試験例２の結果を示すグラフである。試験例２により求められる修飾基の導入量と水中接触角との相関を示すグラフである。試験例３で得られた蛍光写真である。試験例４の結果を示すグラフである。

１．表面修飾基材
本発明の表面修飾基材は組織化した集合体により表面が修飾されている。本発明の表面修飾基材は、１）基材、２）基材結合ポリマー、及び３）表面形成ポリマーを含む。好ましくは、本発明の表面修飾基材は、実質的には、１）基材、２）基材結合ポリマー及び３）表面形成ポリマーから成る。

前記基材結合ポリマー（以下、「Ｓ_Ａ ^１−Ｂ」とも表す）は、集合体形成ポリマーユニット１（Ｓ_Ａ ^１）及び反応ユニット（Ｂ）を有する。基材結合ポリマーは、その反応ユニット（Ｂ）が繊維表面と反応することで繊維表面に結合する（好ましくは化学結合により結合する）ことができる。これにより、基材結合ポリマーは繊維表面と表面形成ポリマーとを繋ぎ止める役割を果たす。

前記表面形成ポリマー（以下、「Ｓ_Ａ ^２−Ｍ_ｄ」とも表す）は集合体形成ポリマーユニット２（Ｓ_Ａ ^２）及び表面修飾ユニット（Ｍ_ｄ）を有する。表面修飾ユニットは集合体形成ポリマーユニット２（Ｓ_Ａ ^２）を有し、基材結合ポリマーの集合体形成ポリマーユニット２（Ｓ_Ａ ^１）と共に組織化することで、基材上に間接的に繋ぎ止めることができる。

２．基材結合ポリマー（Ｓ _Ａ ^１ −Ｂ）
前記基材結合ポリマーは、集合体形成ポリマーユニット１（Ｓ_Ａ ^１）及び繊維表面との反応ユニット（Ｂ）を有する。

前記集合体形成ポリマーユニット１（Ｓ_Ａ ^１）は、表面形成ポリマー中の集合体形成ポリマーユニット２（Ｓ_Ａ ^２）と共に組織化する。好ましくは、集合体形成ポリマーユニット１及び２はステレオコンプレックスを形成して、組織化する。

集合体形成ポリマーユニット１（Ｓ_Ａ ^１）としては、例えば、集合体形成ポリマーユニット２（Ｓ_Ａ ^２）とステレオコンプレックスを形成する配列を含んだペプチドを用いることができる。集合体形成ポリマーユニット１（Ｓ_Ａ ^１）としては、ステレオコンプレックスを形成することが知られている配列を含むペプチドであれば、特に限定されない。

具体的には、集合体形成ポリマーユニット１（Ｓ_Ａ ^１）は、繰り返し配列としてロイシン（Ｌｅｕ）−α−アミノ−イソブタン酸（Ａｉｂ）を含むペプチドが好ましい。ここでロイシンは一部アラニン（Ａｌａ）と置き換えることができる。Ｌｅｕ−Ａｉｂ配列の繰り返しの数としては、通常、２以上であり、好ましくは３〜８であり、より好ましくは５〜７である。繰り返し配列中のロイシンはＬ−体又はＤ−体のいずれも用いることができる。ただし、集合体形成ポリマーユニット１（Ｓ_Ａ ^１）の繰り返し配列中のロイシンは全てＬ−体であるか、又は全てＤ−体であることがステレオコンプレックスを形成する点で好ましい。

前記反応ユニット（Ｂ）は、繊維上に結合する（好ましくは化学結合をもって結合する）基を含む。繊維上に結合することが可能な基であれば、反応ユニット（Ｂ）は特に限定されない。例えば、ジアジリンを有する置換基は、紫外線（好ましくは波長：３４０〜４００ｎｍの紫外線）を照射することによって、カルベンを生じるため、繊維中の炭化水素基等と化学結合を形成する。紫外線の照射時間は特に限定されず、通常、１〜１０分である。

合成が容易な点で、反応ユニット（Ｂ）は下記構造式：

を含むことが好ましい。

基材結合ポリマーは、前記集合体形成ポリマーユニット１（Ｓ_Ａ ^１）及び反応ユニット（Ｂ）以外の構造を有することができる。好ましくは、例えば、集合体形成ポリマーユニット１（Ｓ_Ａ ^１）と反応ユニット（Ｂ）との間にリンカーユニット１（Ｌ^１）をさらに有する。リンカーユニット１は特に限定されず、水溶性を付与する観点より、親水性のリンカーを含むことが好ましい。具体的には、親水性ペプチド、ポリアルキレングリコール（例えば、ポリエチレングリコール）等を親水性リンカーとして挙げることができる。組織化の観点から、親水性リンカーとしては、親水性ペプチドが好ましく、Ｎ−メチルグリシン（サルコシン）、Ｎ−エチルグリシン等のＮ−アルキルグリシンの繰り返し（好ましくは５〜５０の繰り返し、より好ましくは２０〜３０の繰り返し）からなる親水性ペプチドが特に好ましい。また、リンカーユニット１は、基材結合ポリマーの製造を容易にする観点より、アゾ基とアセチレン基との反応により容易に形成することが可能なトリアゾール環を含むことが好ましい。

本発明の好ましい態様として、前記基材結合ポリマーは下記一般式（１）：

（式中、Ｒ^１及びＲ^２はアルキレン基を示し、Ｒ^３は基：−Ｎ（アルキル）−ＣＨ_２ＣＯ−を示す。ｐは１〜１０の整数を示し、ｑは５〜５０の整数を示す。Ｓ_Ａ ^１は前記集合体形成ポリマーユニット１であり、Ｂは前記反応ユニットＢである。）
で表わされる化合物である。

アルキレン基としては、炭素数１〜６（好ましくは炭素数２〜４）のアルキレン基を挙げることができる。具体的には、メチレン、エチレン、プロピレン、トリメチレン等を挙げることができる。

Ｒ^３で示される−Ｎ（アルキル）−ＣＨ_２ＣＯ−は、炭素数１〜６のアルキル基を窒素原子上に有するグリシル基である。具体的には、Ｎ−メチルグリシル、Ｎ−エチルグリシル等を挙げることができる。

Ｓ_Ａ ^１は、上述の集合体形成ポリマーユニット１であり、既に例示したものを好適に用いることができる。具体的には、Ｓ_Ａ ^１は下記構造式：

（式中、ｎは２以上の整数であり、＊は不斉炭素を示す。Ｍｅはメチル基を示す。）
を含む（より好ましくは当該構造式から成る）ことが好ましい。より好ましくは、式中の不斉炭素は全て同一の光学不斉体である（すなわち、当該構造式中のロイシンは全てＬ−体であるか、又は全てＤ−体である）。ｎは３〜８であることが好ましく、５〜７であることがより好ましい。

Ｂは、上述の反応ユニットであり、既に例示したものを好適に用いることができる。より具体的には、例えば、Ｂは下記構造式：

である。

前記一般式（１）で表わされる化合物は、反応ユニット（Ｂ）を有する下記式（３）の化合物と集合体形成ポリマーユニット１（Ｓ_Ａ ^１）を有する下記式（４）の化合物とを下記反応式に示す反応により製造することができるため、簡便な手法により製造可能である。

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、ｐ、ｑ、Ｓ_Ａ ^１及びＢは前記に同じ。）
当該反応は、適当な溶媒中、酢酸銅（Ｉ）等の銅触媒の存在下に行うことができる。

前記式（３）の化合物及び式（４）の化合物は、公知の化合物であるか、公知の化合物から容易に製造できる化合物である。例えば、ペプチド合成における常法により製造することが可能である。

３．表面形成ポリマー（Ｓ _Ａ ^２ −Ｍ _ｄ）
前記表面形成ポリマーは集合体形成ポリマーユニット２（Ｓ_Ａ ^２）及び表面修飾ユニット（Ｍ_ｄ）を有する。

前記集合体形成ポリマーユニット２（Ｓ_Ａ ^２）は、表面形成ポリマー中の集合体形成ポリマーユニット１（Ｓ_Ａ ^１）と共に組織化する。好ましくは、集合体形成ポリマーユニット１及び２はステレオコンプレックスを形成して、組織化する。

集合体形成ポリマーユニット２（Ｓ_Ａ ^２）としては、集合体形成ポリマーユニット１（Ｓ_Ａ ^１）とステレオコンプレックスを形成する配列を含んだペプチドを用いることができる。集合体形成ポリマーユニット１（Ｓ_Ａ ^１）としては、ステレオコンプレックスを形成することが知られている配列を含むペプチドであれば、特に限定されない。

具体的には、集合体形成ポリマーユニット２（Ｓ_Ａ ^２）は、前記集合体形成ポリマーユニット１（Ｓ_Ａ ^１）に例示したものが好適に使用できる。より具体的には集合体形成ポリマーユニット１（Ｓ_Ａ ^１）の光学異性体であることが好ましい。すなわち、前記集合体形成ポリマーユニット１（Ｓ_Ａ ^１）中にＬ−体のロイシンが含まれる場合、集合体形成ポリマーユニット２（Ｓ_Ａ ^２）中のロイシンはＤ−体であることが好ましく、Ｓ_Ａ ^１中のロイシンがＤ−体であれば、Ｓ_Ａ ^２中のロイシンはＬ−体であることが好ましい。

前記表面修飾ユニット（Ｍ_ｄ）は特に限定されず、基材に導入したい特性によって、適宜、選択することができる。具体的には、表面修飾ユニットに抗原を採用することで、得られる表面修飾基材に免疫賦活化の特性を付与することができる。抗原としては、公知の抗原を用いることができ、例えば、ＬｅｗｉｓＹ等の腫瘍関連糖鎖抗原（ＴＡＣＡ）を挙げることができる。

表面形成ポリマーは、前記集合体形成ポリマーユニット２（Ｓ_Ａ ^２）及び表面修飾ユニット（Ｍ_ｄ）以外の構造を有することができる。好ましくは、例えば、集合体形成ポリマーユニット２（Ｓ_Ａ ^２）と表面修飾ユニット（Ｍ_ｄ）との間にリンカーユニット２（Ｌ^２）をさらに有する。リンカーユニット２は特に限定されず、水溶性を付与する観点より、親水性のリンカーを含むことが好ましい。具体的には、親水性ペプチド、ポリエチレングリコール等を親水性リンカーとして挙げることができる。組織化の観点から、親水性リンカーは親水性ペプチドが好ましく、Ｎ−メチルグリシン（サルコシン）、Ｎ−エチルグリシン等のＮ−アルキルグリシンの繰り返し（好ましくは５〜５０の繰り返し、より好ましくは２０〜３０の繰り返し）からなる親水性ペプチドが特に好ましい。また、リンカーユニット１は、基材結合ポリマーの製造を容易にする観点より、アゾ基とアセチレン基との反応により容易に形成することが可能なトリアゾール環を含むことが好ましい。

本発明の好ましい態様として、前記表面形成ポリマーは下記一般式（２）：

（式中、Ｒ^４及びＲ^５はアルキレン基を示し、Ｒ^６は基：−Ｎ（アルキル）−ＣＨ_２ＣＯ−を示す。ｓは１〜１０の整数を示し、ｔは５〜５０の整数を示す。Ｓ_Ａ ^２は前記集合体形成ポリマーユニット２であり、Ｍ_ｄは前記表面修飾ユニットである。）
で表わされる化合物である。

アルキレン基及び−Ｎ（アルキル）−ＣＨ_２ＣＯ−は、前記一般式（１）において例示したとおりである。

一般式（２）におけるＳ_Ａ ^２は、上述の集合体形成ポリマーユニット２であり、既に例示したものを好適に用いることができる。好ましくは、Ｓ_Ａ ^２は下記構造式：

（式中、ｎは２以上の整数であり、＊は不斉炭素を示す。Ｍｅは前記に同じ。）
を含む（より好ましくは当該構造式から成る）ことが好ましい。より好ましくは、式中の不斉炭素は全て同一の光学不斉体であり（すなわち、当該構造式中のロイシンは全てＬ−体であるか、又は全てＤ−体であり）、かつＳ_Ａ ^１における光学不斉とは異なることが好ましい。ｎは３〜８であることが好ましく、５〜７であることがより好ましい。

一般式（２）におけるＭ_ｄは、前記表面修飾ユニットであり、既に例示したものを好適に用いることができる。より具体的には、例えば、Ｍ_ｄは下記構造式：

で表わされるＬｅｗｉｓＹである。

前記一般式（２）で表わされる化合物は、表面修飾ユニット（Ｍ_ｄ）を有する下記式（５）の化合物と集合体形成ポリマーユニット２（Ｓ_Ａ ^２）を有する下記式（６）の化合物とを下記反応式に示す反応により製造することができ、簡便な手法により表面形成ポリマーを製造することができる。

（式中、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、ｓ、ｔ、Ｓ_Ａ ^２及びＭ_ｄは前記に同じ。）
当該反応は、適当な溶媒中、酢酸銅（Ｉ）等の銅触媒の存在下に行うことができる。

前記式（６）の化合物は、公知の化合物であるか、公知の化合物から容易に製造できる化合物である。例えば、ペプチド合成における常法により製造することが可能である。

前記式（５）の化合物は、表面修飾ユニット（Ｍ_ｄ）を適宜製造した後、基：−（Ｒ^４Ｏ）_ｓ−Ｎ_３を公知の手法により導入することで製造することができる。例えば、ＭｄがＬｅｗｉｓＹである場合、実施例に記載の反応により、ＬｅｗｉｓＹを得た後、基：−（Ｒ^４Ｏ）_ｓ−Ｎ_３を導入することで、前記式（５）の化合物を得ることができる。

４．基材
本発明では、基材が繊維質材料であってもその繊維表面を修飾することができるため、本発明の基材としては、公知の繊維質材料を広く用いることができる。具体的には、本発明の基材には、不織布、織物、組物等の繊維質材料を用いることができる。

本発明の基材の材質としては、基材結合ポリマー中の反応ユニット（Ｂ）と化学的に反応する部位を有するものである限り特に限定されない。例えば、上述のジアジリンと紫外線照射により結合を形成することができる点で、脂肪族炭化水素基を含む材質が好ましい。具体的には、ポリプロピレン、ポリエチレンテレルタレート等を挙げることができる。

５．表面修飾基材の製造
本発明の表面修飾基材は、前記基材結合ポリマーと前記表面形成ポリマーとを適当な溶媒中混合することで、組織化させ集合体を得た後、集合体を含む溶液又は分散液と前記基材とを触れ合わせた状態で反応ユニット（Ｂ）と基材とを反応させることにより製造することができる。

集合体を含む溶液又は分散液と前記基材とを触れ合わせる手法としては、例えば、当該溶液又は分散液を前記基材に塗布する、当該溶液又は分散液に前記基材を浸漬又は含浸させる等の手法を用いることができる。

反応ユニット（Ｂ）と基材との反応は、反応ユニットの種類によって、適切な手法を採用することができる。例えば、反応ユニット（Ｂ）がジアジリンを含む場合、基材と集合体の混合物に紫外線を照射すればよい。照射する紫外線の波長は、通常３４０〜４００ｎｍであり、照射時間は、通常１〜１０分である。

前記集合体を含む溶液又は分散液と基材とを触れ合わせ、得られた混合物に紫外線を照射する操作は、複数回繰り返し行うことができる。当該操作を複数回繰り返し行うことにより、基材表面への集合体の導入量を向上させることができる。

６．免疫の賦活化
本発明の表面修飾基材は、上述のように集合体を基材の（繊維）表面に結合させる手法により得られる。この手法では、表面修飾基材の表面修飾された部位において、基材結合ポリマーと表面形成ポリマーとの集合体の構造が反映されるため、表面修飾ユニット（Ｍ_ｄ）の導入間隔が極めて均等であり、かつその表面密度も著しく高い。また、基材の（繊維）表面からの厚みも極めて均一である。表面修飾ユニットの導入量は、溶液又は分散液中の集合体の濃度を調整することで調節することができる。さらに、本発明の手法に依れば、表面修飾ユニットを効率的に行うことが可能であるため、修飾に用いる化合物の使用量を低減することが可能である。

従って、高い修飾基の表面密度を要求される場合、修飾基の導入量の調整が必要である場合等では、本発明の表面修飾基材は格段に優れた基材である。

例えば、本発明の表面修飾基材は、基材表面に抗原を導入し、当該抗原修飾基材とＢ細胞とを接触させることで、免疫を賦活化する用途に用いることができる。

具体的には、
生体内に本発明の表面修飾基材を腹腔、脾臓等に縫合する方法、
Ｂ細胞を含む体液を体内より取り出し、本発明の表面修飾基材に当該体液を通過させ、体内に戻す方法（体外循環法又は体外での免疫賦活化法）等
を挙げることができる。

ＬｅｗｉｓＹは腫瘍関連糖鎖抗原（ＴＡＣＡ）として知られており、ＴＡＣＡに対して免疫応答を引き起こすことができれば、癌細胞を排除することができると考えられている。そのため、表面修飾ユニットにＬｅｗｉｓＹを用いることで、癌に対する免疫を賦活化する免疫賦活化材料として有用である。

以下に実施例を示して、本発明を具体的に説明する。ただし、本発明は実施例に限定されるものではない。

参考例１
ＬｅｗｉｓＹの製造

（式中、ＤＢＵは１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、Ｅｔはエチル基、Ｐｈはフェニル基、ＤＭＦはジメチルホルムアミド、ＤＭＡＰはジメチルアミノピリジン、Ｆｕｃはフコース、ＮＩＳはＮ−ヨードスクシンイミド、Ｔｆはトリフルオロスルホニル基を示す。）
ＬｅｗｉｓＹ１０の合成は、ＣｈｅｍｉｓｔｒｙＬｅｔｔｅｒｓ、２０１３、４２（１０）、１１６８−１１６９を参考に行った。

４−メトキシフェニル−２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラノシル−（１→２）−３−Ｏ−ベンゾイル−４，６−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル−（１→４）−３−Ｏ−（２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラノシル）−６−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル−２−デオキシ−２−フタルイミド−β−Ｄ−グルコピラノシド１１の製造

（式中、Ｂｎ、Ｍｐ、Ｐｈｔｈ、ＴＢＤＰＳ、Ａｃ、Ｂｚ、ＤＢＵ及びＥｔは前記に同じ。ＴＨＦはテトラヒドロフラン、ＰＥＧはポリエチレングリコール、ＣＡＮは硝酸アンモニウムセリウム（ＩＶ）を示す。）
ＬｅｗｉｓＹ１０（１０００ｍｇ、０．５３ｍｍｏｌ）を溶かしたテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）及びメタノール（１０ｍＬ）の混合溶液に、Ｐｄ（ＯＨ）_２／Ｃ（０．２５ｇ、１．７８ｍｍｏｌ）を加え、混合溶液を水素雰囲気下、室温で１１時間撹拌した。その後、混合溶液をセライトベッドを通して、減圧下混合溶液を濃縮した。残留物をピリジン（１０ｍＬ）に溶解し、得られた溶液に無水酢酸（１．０ｍＬ、１０．６ｍｍｏｌ）及びジメチルアミノピリジン（６４ｍｇ、０．５３ｍｍｏｌ）を加えた。乾燥雰囲気下、室温で２４時間撹拌した後、過剰量の試薬をクエンチするためにメタノールを加えた。クエンチ後、反応混合物を減圧下で濃縮し、さらに減圧下トルエンと共沸させた。残留物をＣＨＣｌ_３に溶解させ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムにより乾燥させ、セライトベッドを通した。得られた有機層を減圧下濃縮し、粗生成物を得た。組成生物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液ヘキサン：酢酸エチル＝１：２（容量比）、０．５％トリエチルアミン含有））により精製し、化合物１１（５６２ｍｇ、０．３６ｍｍｏｌ、６８％）を得た。

化合物１１の理化学的性質は下記のとおりである。
[α]_D -85.8° (c = 1.0, CHCl₃)
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ (ppm) : 7.88 (4H, d, -OBz, J = 7.2 Hz), 7 .79 (2H, br, phth), 7.77-7.75 (4H, m, -OSiPh₂CMe₃) 7.68 (2H, d, phth, J = 6.8 Hz), 7.60 (1H, t, -OBz, J = 7.6 Hz), 7.46-7.19 (6H, m, -OSiPh₂CMe₃), 6.82-6.74 (2H×2, d×2, -C₆H₄OMe, J_o,m = 9.2 Hz), 5.51-5.50 (1H, m, H-4’), 5.45 (1H, d, H-1, J_1,2= 8.4 Hz), 5.40 (1H, m, H-4”), 5.25-5.09 (7H, m, H-1”’, H-4’’’, H-3’’, H-3’, H-1’, H-2’’’, H-5’’), 4.96 (1H, d, H-1’’, J_{1’’,2’’}= 3.6 Hz) 4.94-4.84 (3H, m, H-3’’’, H-2’’, H-3), 4.59 (1H, t, H-2, J2,3 =8.4Hz, J_1,2= 8.4 Hz), 5.52-4 .42(3H, m, H-4, H-6a’, H-5”’), 4.41(1H, dd, H-6’b, J_6’a,6’b= 8.4 Hz, J_6’b,5’ = 3.2 Hz), 4.19 (2H, m, H-6a,b), 3.92 (1H, t, H-2’, J_2’,3’ =9.2Hz, J_1’,2’ = 9.2 Hz), 3.83 (1H, m, H-5’, J = 7.2 Hz), 3.45 (1H, d, H-5, J = 9.6 Hz), 2.15-1.87 (3H×8, s×8, -OCOCH₃×8), 1.26 (6H, m, H-6”,H-6’’’), 1.16 (9H, s, -OSiPh₂CMe₃)
LRMS (FAB, positive ion mode, NBA) m/z = 1571[M+Na]+, calcd for C₇₈H₈₉NO₃₀SiNa。

２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラノシル−（１→２）−３−Ｏ−ベンゾイル−４，６−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル−（１→４）−３−Ｏ−（２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラノシル）−６−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル−２−デオキシ−２−フタルイミド−β−Ｄ−グルコピラノイミデート１２の製造
化合物１１（５６２ｍｇ、０．３６ｍｍｏｌ）をアセトニトリル（８ｍＬ）及び水（２ｍＬ）の混合溶媒に溶解した後、得られた溶液に硝酸アンモニウムセリウム（ＩＶ）（ＣＡＮ）（５９２ｍｇ，１．０８ｍｍｏｌ）を加えた。混合溶液を室温で２時間混合した後、反応混合物をＣＨＣｌ_３により抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水を用いて洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムにより乾燥させ、セライトベッドを通した。得られた有機層を減圧下濃縮し、粗生成物を得た。組成生物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液ＣＨＣｌ_３：メタノール＝３０：１（容量比）、０．５％トリエチルアミン含有）により精製し、中間体（４４０ｍｇ）を得た。

得られた中間体（４４０ｍｇ）を乾燥ＣＨ_２Ｃｌ_２（１０ｍＬ）に溶かした溶液に、ＣＣｌ_３ＣＮ（２９０μＬ、２．９０ｍｍｏｌ）を加え、アルゴン雰囲気下０℃で１５分間撹拌した。その後、この混合溶液に１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（１２．９μＬ、８７μｍｏｌ）を加え、４時間撹拌した。反応溶液を減圧下濃縮し、粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液ＣＨＣｌ_３：酢酸エチル＝３：１、０．５％トリエチルアミン含有）により精製し、化合物１２（３１４ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ、化合物１１基準の収率５３％）を得た。

化合物１２の^１Ｈ−ＮＭＲは以下のとおりである。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ (ppm) : 8.58 (1H, s, CNH), 7.88 (4H, d, -OBz, J = 7.2 Hz), 7.84-7.81 (2H, m, phth), 7.77-7.74 (4H, m, -OSiPh₂CMe₃) 7.67 (2H, d, phth, J = 6.8 Hz), 7.60 (1H, t, -OBz, J = 7.6 Hz), 7.48-7.26 (6H, m, -OSiPh₂CMe₃), 5.45 (1H, d, H-1, J_1,2 = 8.8 Hz), 5.50 (1H, d, H-4’, J= 3.6 Hz), 5.39 (1H, m, H-4”), 5.25-5.10 (7H, m, H-1”’, H-4’’’, H-3’’, H-3’, H-1’, H-3’’’, H-5’’), 4.99-4.84 (4H, m, H-2’’’, H-1’’, H-3, H-2’’), 4.63 (1H, t, H-2, J=9.2 Hz), 5.52-4.37 (3H, m, H-4, H-6’a, H-5”’), 4.31-4.18 (3H, m, H-6’b, H-6a,b), 3.92 (1H, t, H-2’, J_2’,3’ =8.0 Hz, J_1’,2’= 8.0 Hz), 3.77 (1H, t, H-5’, J = 6.8 Hz), 3.59 (1H, d, H-5, J = 10 Hz), 2.12-1.71 (3H×8, s×8, -OCOCH₃×8), 1.27-1.24 (6H, m, H-6”,H-6’’’), 1.16 (9H, s, -OSiPh₂CMe₃)。

ＰＥＧ _３ −アジド２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラノシル−（１→２）−３−Ｏ−ベンゾイル−４，６−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル−（１→４）−３−Ｏ−（２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラノシル）−６−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル−２−デオキシ−２−フタルイミド−β−Ｄ−グルコピラノシド１３の製造
化合物１２（３１４ｍｇ、０．２０ｍｍｏｌ）及びＡｚｉｄｏ−ｄＰＥＧ（登録商標）４−アルコール（６５ｍｇ、０．３０ｍｏｌ）を乾燥ＣＨ_２Ｃｌ_２（５ｍＬ）に溶かした溶液に活性化モレキュラーシーブを加えた。混合物をアルゴン条件下、−５０℃にて数分間撹拌した。トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホナート（１０．６μＬ、５９μｍｏｌ）を混合物に加えた。−５０℃で３０分間混合物を撹拌した後、過剰量の試薬をクエンチするためにトリエチルアミンを加え、次いで、反応混合物を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水を用いて洗浄した。洗浄後の有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥させ、セライトベッドを通した。得られた有機層を減圧下で濃縮し、粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：２、０．５％トリエチルアミン含有）により精製し、化合物１３（２６２ｍｇ、１５９μｍｏｌ、８０％）を得た。

ＰＥＧ_３−アジド−２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラノシル−（１→２）−３，４，６−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル−（１→４）−３−Ｏ−（２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラノシル）−２−アセトアミド−６−Ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリル−β−Ｄ−グルコピラノシド１４の製造
化合物１３（２６２ｍｇ、１５９μｍｏｌ）のメタノール（５ｍＬ）溶液にＮａＯＣＨ_３／メタノール（２５％）（３２μＬ、１５９μｍｏｌ）を加えた。反応混合物を室温で２時間撹拌した後、中和するために反応混合物にＤＯＷＥＸ５０Ｗを加え、ろ過した後、減圧下濃縮することで白色固体（２０３ｍｇ）を得た。

得られた白色固体（１６４ｍｇ、１３６μｍｏｌ）のエタノール（４ｍＬ）溶液をヒドラジン一水和物（３３μＬ、６８１μｍｏｌ）を加えた。９０℃で１３時間反応混合物を撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。残留物をピリジン（５ｍＬ）に溶解させ、過剰量の試薬をクエンチするためにメタノールを加えた。その後、減圧下、トルエンと共沸した。残留物をＣＨＣｌ_３に溶解させ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、セライトを通した。得られた有機層を減圧下濃縮し、粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液メタノール：酢酸エチル＝１：３０、１％トリエチルアミン含有）により精製し、化合物１４（１５１ｍｇ、１０１μｍｏｌ、７４％）を得た。

化合物１４の理化学的性質は以下の通りである。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ (ppm) : 7.38-7.72 (4H, m, -OSiPh₂CMe₃) 7.42-7.34 (6H, m, -OSiPh₂CMe₃), 6.15 (1H, d, NHAc, J = 8.8 Hz), 5.34-5.38 (2H, m, H-1’’, H-4’’), 5.24 (1H, dd, H-3’’, J_{2’’,3’’} =8.0 Hz, J_{3’’,4’’} = 3.2 Hz), 5.17 (1H, s, H-4’’’) 5.06-4.91 (6H, m, H-2’’’, H-2’’, H-5’’, H-1, H-3’’’), 4.61 (1H, d, H-1’, J_1’,2’ =7.8 Hz ), 4.47-4.43 (1H, m, H-6’a), 4.30-4.25 (3H, m, H-4, H-6’b, H-5’’’), 4.11-4.09 (2H, t, H-6a, H-6b), 3.91-3.88 (2H, m, H-2, H-2’), 3.73-3.62 (16H, m, H-5’, H-3, PEG), 3.41 (2H, m, -CH₂N₃), 3.14 (1H, d, H-5, J = 9.6 Hz), 2.12-1.71 (3H×10, s×10, -OCOCH₃ ×10), 1.15 (3H, m, H-6”), 1.09-1.06 (12H, s, H-6’’’, -OSiPh₂CMe₃)。
HRMS (ESI, positive ion mode) m/z = 1510.6196[M+NH₄]⁺, calcd for C₆₈H₉₆N₄O₃₁Si₁+NH₄, 1510.6166。

ＰＥＧ_３−アジド２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラノシル−（１→２）−３，４，６−Ｏ−アセチル−β−Ｄ−ガラクトピラノシル−（１→４）−３−Ｏ−（２，３，４−トリ−Ｏ−アセチル−α−Ｌ−フコピラノシル）−２−アセトアミド−β−Ｄ−グルコピラノシド１５の製造
化合物１４（１５０．９ｍｇ、１０１μｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３ｍＬ）に溶解させ、酢酸（１１μＬ、２０２μｍｏｌ）及びテトラブチルアンモニウムフルオライド（４０４μＬ、４０４μｍｏｌ）を加えた。反応混合物をアルゴン雰囲気下室温で５日間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下濃縮し、ＣＨＣｌ_３により抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水により洗浄し、無水硫酸マグネシウムにより乾燥させ、セライトベッドを通した。有機層を減圧条件下濃縮させ、粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液メタノール：酢酸エチル＝１：３０、１％トリエチルアミン含有）により精製し、化合物１５（８１．５ｍｇ、６４．９μｍｏｌ、６４％）を得た。

化合物１５の^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルは下記の通りである。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃) δ (ppm) :6.15 (1H, d, NHAc), 5.38-5.33 (4H, m, H-4’’,H-1’’, H-1’’’, H-4’), 5.28 (1H, m, H-4’’’), 5.21-5.16 (2H, m, H-3’’, H-3’’’), 5.07-4.99 (4H, m, H-3’, H-5’’, H-2’’, , H-2’’’), 4.73 (1H, d, H-1’, J = 8.4 Hz), 4.72 (1H, d, H-1, J = 8.0 Hz), 4.49-4.43 (2H, m, H-6’a, H-5”’), 4.29 (1H, m, H-6’b), 4.06-3.99 (2H, t, H-6a, H-4), 3.90-3.80 (5H, m, H-5’,H-3, H-6b, H-2, H-2’), 3.74-3.61 (14H, m, PEG), 3.42 (2H, t, -CH₂N₃, J = 4.8Hz), 3.22 (1H, d, H-5), 2.31 (1H, s, -OH), 2.15-1.95 (3H×10, s×10, -OCOCH₃ ×10), 1.18-1.15 (6H, m, H-6”,H-6’’’)。
HRMS (ESI, positive ion mode) m/z = 1272.4993[M+Na]⁺, calcd for C₁₂₉H₁₅₇NO₃₂Si₂Na, 1272.4988.

ＰＥＧ_３−アジドα−Ｌ−フコピラノシル−（１→２）−β−Ｄ−ガラクトピラノシル−（１→４）−３−Ｏ−（α−Ｌ−フコピラノシル）−２−アセトアミド−β−Ｄ−グルコピラノシド１６の製造
化合物１５（１２ｍｇ、９．５６μｍｏｌ）の乾燥メタノール（１ｍＬ）溶液にＮａＯＣＨ_３／メタノール（２５％）（１μＬ、５μｍｏｌ）を加えた。混合物を室温で２時間攪拌した後、中和のため反応混合物にＤＯＷＥＸ５０Ｗを加え、濾過し、減圧下濾液を濃縮し、白色固体の粗生成物を得た。粗生成物をSephadex LH 20カラムを用いたカラムクロマトグラフィー（溶出液メタノール）により精製することで化合物１６（８ｍｇ、９．１２ｍｍｏｌ、９５％）を得た。

化合物１６の理化学的性質は以下の通りである。
¹H NMR (400 MHz, CD₃OD) δ (ppm) : 5.16-5.15(1H, m, H-1’’), 5.02 (1H, d, H-1’’, J = 3.6 Hz), 4.83 (1H, m, H-5’’), 4.51-4.49 (2H, m, H-1, H-1’), 4.18 (1H, q, H-5’’’, J = 6.8 Hz), 3.94-3.60 (30H, m, PEG, H-2, H-2’’, H-2”’, H-3, H-3’, H-3”, H-3”’, H-4, H-4’, H-4”, H-4”’, H-5’, H-6a, H-6b, H-6’a, H-6’b’), 3.45 (1H, m, H-5), 3.82 (2H, t, -CH₂N₃, J = 4.8Hz), 3.32 (1H, m, H-2’),1.96 (3H, s, -NHAc), 1.28-1.22 (6H, m, H-6”,H-6’’’)。
LRMS (FAB, positive ion mode, DTT: 1-Thiogylcerol=1:1) m/z = 899 [M+Na]⁺, calcd for C₃₀H₅₂N₄O₁₂Na。

参考例２
集合体形成Ｌ−ポリマーの製造

（式中、Ｂｏｃはｔ−ブチルオキシカルボニル基、ＴＦＡはトリフルオロ酢酸を示す。ＣＯＭＵ及びＤＩＥＡは前記に同じ。）
上記反応式の方法により、集合体形成Ｌ−ポリマーを得た。

アルゴン雰囲気下、サルコシン−Ｎ−カルボン酸無水物（sar-NCA、１２２ｍｇ、１．２３ｍｍｏｌ）の蒸留ジメチルホルムアミド（２ｍＬ）溶液に、ペプチド２３（３０ｍｇ、２４．６μｍｏｌ）の蒸留ジメチルホルムアミド（２ｍＬ）溶液を加え、混合溶液を室温で１６時間攪拌した。４−ペンチン酸（１６．９ｍｇ、１７２．２μｍｏｌ）、（１−シアノ−２−エトキシ−２−オキソエチリデンアミノオキシ）ジメチルアミノ−モルホリノ−カルベニウムヘキサフルオロリン酸塩（１１０．６ｍｇ、２５８．３μｍｏｌ）、Ｏｙｍａｐｕｒｅ（３６．７ｍｇ、２５８．３μｍｏｌ）及びジイソプロピルエチルアミン（６０μＬ、３４４．４μｍｏｌ）を混合溶液に加え、アルゴン雰囲気下、０℃で３０分攪拌した。その後、アルゴン雰囲気下、混合溶液を室温で２０時間攪拌した。反応混合物から溶媒を留去し、粗生成物を得た。粗生成物をメタノールに溶解し、Sephadex LH 20カラムを用いたカラムクロマトグラフィーにより精製することで集合体形成Ｌ−ポリマー（５０ｍｇ、１６％）を得た。

集合体形成Ｌ−ポリマーの^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルは以下の通りである。
¹H NMR (400 MHz, CDCl₃): δ (ppm) 7.82-7.52 (m, 12H, LeuNH, AibNH), 4.22-3.99 (m, 103H, LeuCH, SarCH₂), 3.64 (s, 3H, OMe), 3.02-2.91 (m, 155H, SarCH₃), 2.63-2.46 (m, 4H, CH₂CH₂), 1.97 (s, 1H, CCH), 1.65-1.48 (m, 59H, LeuCH, LeuCH₂,AibCH₃), 0.89-0.86 (m, 36H, LeuCH₃)。

参考例３
集合体形成Ｄ−ポリマーの製造
原料ペプチドとして、下記ペプチド：

（式中、Ｂｏｃは前記に同じ。）
を用いた以外は、前記参考例２と同様にして集合体形成Ｄ−ポリマー

を得た。

参考例４
ＬｅｗｉｓＹ担持表面形成ポリマーの製造

塩化ビニリデン（ＣＨ_２ＣＣｌ_２）及びメタノールをアルゴンガスにより４５分間バブリングを行った。前記参考例２で得られた集合体形成Ｌ−ポリマー（２０ｍｇ、４．１μｍｏｌ）を塩化ビニリデン及びメタノール混合溶媒（１：１（容積比）、１ｍＬ）に溶解した。得られた溶液に、前記参考例１で得られたＬｅｗｉｓＹ（４．３ｍｇ、４．９μｍｏｌ）及び酢酸銅（Ｉ）（６０６μｇ、４．９μｍｏｌ）を加えた。得られた混合溶液をアルゴン雰囲気下６時間撹拌した。得られた反応混合物から溶媒を留去し、減圧下乾燥した。乾燥後、得られた残留物をメタノールに溶解し、Sephadex LH 20カラムを用いたカラムクロマトグラフィーにより精製することでＬｅｗｉｓＹ担持表面形成ポリマー（２４ｍｇ）を得た。

得られたＬｅｗｉｓＹ担持表面形成ポリマーの^１Ｈ−ＮＭＲは以下の通りである。
¹H NMR (400 MHz, MeOH-d4): δ (ppm) 7.82-7.52 (m, 13H, LeuNH, AibNH,C=CH ), 5.16-5.15 (1H, m, H-1’’), 5.02 (1H, d, H-1’’, J = 3.6 Hz), 4.83 (1H, m, H-5’’), 4.51-4.49 (2H, m, H-1, H-1’), 4.18 (1H, q, H-5’’’, J = 6.8 Hz), 4.22-3.99 (m, 120H, LeuCH, SarCH_2,), 3.94-3.60 (33H, m, PEG, H-2, H-2’’, H-2”’, H-3, H-3’, H-3”, H-3”’, H-4, H-4’, H-4”, H-4”’,H-5’, H-6a, H-6b, H-6’a, H-6’b’, OMe), 3.45 (2H, t, -CH₂N₃, J = 4.8Hz), 3.45 (1H, m, H-5), 3.32 (1H, m, H-2’),3.02-2.91 (m, 180H, SarCH₃), 2.63-2.46 (m, 4H, CH₂CH₂), ,1.96 (3H, s, -NHAc), 1.65-1.48 (m, 59H, LeuCH, LeuCH₂,AibCH₃), 0.89-0.86 (m, 36H, LeuCH₃)。

参考例５
基材結合ポリマーの製造

（式中、Ｂｕはブチル基、Ｅｔはエチル基、Ｔｓはトルエンスルホニル基、ＰＥＧはエチレングリコール基、ＣＯＭＵは（１−シアノ−２−エトキシ−２−オキソエチリデンアミノオキシ）ジメチルアミノ−モルホリノ−カルベニウムヘキサフルオロリン酸塩、ＤＩＥＡはジイソプロピルエチルアミン、Ａｃはアセチル基を示す。）

上記反応式に従って、基材結合ポリマーを合成した。

トリフルオロアセチルトルエンの製造
３．４２ｇ（２０ｍｍｏｌ）のｐ−ブロモトルエンを１００ｍＬの脱水ジエチルエーテルに溶かし、１．１当量のｎ−ブチルリチウム（１５％ヘキサン溶液）を−４０℃で添加した。０℃で３時間攪拌し、−６０℃で３．６２ｇ（２０ｍｍｏｌ）のＮ−トリフルオロアセチルピペリジンを加え、−６０℃で３時間攪拌した。塩化アンモニウム水溶液を加え、有機層を５回塩化アンモニウム水溶液で洗浄した。その後、水で３回洗浄した。有機層を濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：クロロホルム＝４：１）で精製し、トリフルオロアセチルトルエン２．４１ｇ（１２．８ｍｍｏｌ，６４％収率）を得た。

２，２，２−トリフルオロ−１−（４−メチルフェニル）−１−エタノンオキシムの製造
ヒドロキシルアミン塩酸塩２．７７ｇ（３９．９ｍｍｏｌ）及び水酸化ナトリウム１．６０ｇ（３９．９ｍｍｏｌ）を無水エタノール１５０ｍＬに懸濁し、これをトリフルオロセチルトルエン２．５ｇ（１３．２９ｍｍｏｌ）の無水エタノール（２０ｍＬ）溶液に加え、２４時間還流させた。その後、反応混合物を濃縮し、残留物にジエチルエーテル及び水を加え、有機層を０．０１Ｍ塩酸と水で３回洗浄した。有機層を濃縮し、２，２，２−トリフルオロ−１−（４−メチルフェニル）−１−エタノンオキシム３．０１ｇ（１４．８ｍｍｏｌ、ｑｕａｎｔ）を得た。

２，２，２−トリフルオロ−１−（４−メチルフェニル）−１−エタノンＯ−（ｐ−トリルスルホニル）オキシムの製造
２，２，２−トリフルオロ−１−（４−メチルフェニル）−１−エタノンオキシム１．８ｇ（８，８６ｍｍｏｌ）を無水ピリジン３０ｍＬに溶かし、ｐ−トルエンスルホニルクロライド２．５３ｇ（１３．２９ｍｍｏｌ）を加えて３時間還流した。その後、反応混合物を濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：クロロホルム＝２：１）により精製し、２，２，２−トリフルオロ−１−（４−メチルフェニル）−１−エタノンＯ−（ｐ−トリルスルホニル）オキシム１．３５ｇ（３．７７ｍｍｏｌ，４３％収率）を得た。

３−（４−メチルフェニル）−３−（トリフルオロメチル）ジアジリジンの製造
２，２，２−トリフルオロ−１−（４−メチルフェニル）−１−エタノンＯ−（ｐ−トリルスルホニル）オキシム２５５ｍｇ（７１３μｍｏｌ）の乾燥ジエチルエーテル溶液に、−７８℃で液体アンモニウム約３ｍＬを加え、室温で６時間攪拌した。反応混合物を濃縮し、ジエチルエーテルと水を加えて洗浄した。有機層を濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム１００％）により精製し、３−（４−メチルフェニル）−３−（トリフルオロメチル）ジアジリジン９３ｍｇ（４６０μｍｏｌ、６３％）を得た。

４−［３−（トリフルオロメチル）−３Ｈ−ジアジリン−３−イル］安息香酸の製造
３−（４−メチルフェニル）−３−（トリフルオロメチル）ジアジリジン９３ｍｇ（４６０ μｍｏｌ）をピリジン（２．５ｍＬ）及び水（２．５ｍＬ）の混合溶液に溶かし、これに過マンガン酸カリウム２９１ｍｇ（１．８４ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で一晩攪拌した。その後、１Ｎ硫酸を加え、反応混合物をｐＨ２に調製した後、１％Ｎａ_２ＳＯ_３水溶液を加えた。さらにジエチルエーテルを加え、有機層を水及び０．０１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層に１Ｎ硫酸を加えてｐＨ２に調製し、ジエチルエーテルで抽出を行った。得られた有機層を濃縮して、４−［３−（トリフルオロメチル）−３Ｈ−ジアジリン−３−イル］安息香酸１６８ｍｇを得た。

Ｎ−（ＰＥＧアジド）−４−［３−（トリフルオロメチル）−３Ｈ−ジアジリン−３−イル］ベンズアミドの製造
４−［３−（トリフルオロメチル）−３Ｈ−ジアジリン−３−イル］安息香酸５０ｍｇ（２１７μｍｏｌ）のジメチルホルムアミド溶液にＰＥＧアジドアミン５７ｍｇ（２６０μｍｏｌ）、ＣＯＭＵ１３９ｍｇ（３２６μｍｏｌ）、Ｏｘｙｍａｐｕｒｅ４６ｍｇ（３２６μｍｏｌ）及びジイソプロピルエチルアミン７５μＬ（４３４μｍｏｌ）を加え、室温にて４時間攪拌した。反応混合物を濃縮し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝１０：１）により精製し、Ｎ−（ＰＥＧアジド）−４−［３−（トリフルオロメチル）−３Ｈ−ジアジリン−３−イル］ベンズアミド５７ｍｇ（１３２μｍｏｌ、６１％収率）を得た。

基材結合ポリマーの製造
Ｎ−（ＰＥＧアジド）−４−［３−（トリフルオロメチル）−３Ｈ−ジアジリン−３−イル］ベンズアミド８ｍｇ（１９μｍｏｌ）のジクロロメタン及びメタノールの混合溶液（容量比１：１）に、集合体形成Ｄ−ポリマー２０ｍｇ（６μｍｏｌ）を加え、さらに酢酸銅（Ｉ）２ｍｇ（６μｍｏｌ）を加えた。室温で攪拌し、反応が完了した後、反応混合物を濃縮した。残留物をSephadex LH 20カラムを用いたカラムクロマトグラフィーにより精製することで基材結合ポリマー２４ｍｇ（５．６μｍｏｌ、９３％収率）を得た。

参考例６
集合体分散液の製造
参考例４で得られたＬｅｗｉｓＹ担持表面形成ポリマー及び参考例５で得られた基材結合ポリマーを１：１（モル比）の割合で水に加えたところ、水中で組織化し集合体を形成した。動的光散乱により、集合体を確認したところ、１μｍサイズのシート状の集合体であった（図１）。

実施例１
参考例６と同様の手法により、集合体分散液をそれぞれ０．１２５ｍｇ／ｍＬ、０．２５ｍｇ／ｍＬ又は０．５ｍｇ／ｍＬの濃度で得た。ガラス基板上に不織布（旭化成株式会社製、ポリプロピレン、1 cm x 2 cm角）を置き、その上に各集合体分散液を乗せ、さらに上からガラス基板を被せることで、集合体分散液を不織布に浸した。集合体分散液を浸した状態で、不織布に紫外線（Xeランプ）を５分間照射した。斯かる操作の模式図を図２に示す。この操作を１、２又は３回繰り返し、表面修飾不織布を製造した。

なお、図３に表面修飾不織布の概念図を示す。

試験例１
滑水角度の測定
実施例１で得られた表面修飾不織布と未処理の不織布のそれぞれに水滴を乗せ、水滴が滑り落ちる角度を測定した。未処理の不織布では約４５度の傾斜時に水滴が滑り落ちたが、実施例１で得られた表面修飾不織布では、約１８０度まで傾けても（反転させても）水滴は不織布表面上に保持され、滑り落ちなかった。

試験例２
水中接触角の測定
実施例１で得られた表面修飾不織布の水中に沈め、気泡を水中の表面修飾不織布に接触させることで、水中接触角を測定した。集合体分散液の濃度及び導入回数から集合体の導入量を算出した。水中接触角の測定結果を図４に示し、導入量と水中接触角との関係を示すグラフを図５に示す。

試験例３
蛍光標識としてフルオレセインイソシアネートを担持させたＩｇＭ−ＦＩＴＣ及びＬｅｗｉｓＹ抗体を含む水溶液を準備した。

実施例１で得られた表面修飾不織布と未処理の不織布のそれぞれにＩｇＭ−ＦＩＴＣ水溶液を浸し、蛍光（励起波長４７０−４９０ｎｍ）の有無を確認した。結果を図６に示す。

実施例１で得られた表面修飾不織布では、不織布の繊維に添って蛍光が観測され、繊維表面にＬｅｗｉｓＹが担持されていることが分かる。

試験例４
実施例１で得られた表面修飾不織布を１時間オートクレーブで滅菌した。マウス（ＢＡＬＢ／ｃＣｒＳｌｃ；雄；９週齢（包埋時））の皮下（１０ｍｍ×１０ｍｍ）、腹内（１０ｍｍ×１０ｍｍ）又は脾臓（５ｍｍ×５ｍｍ）にボンドで滅菌後の表面修飾不織布（２又は４枚）を付着した。ホッチキスを用いて、マウスの腹部を接合し、一週間後に採血を行い、血中の抗体をＥＬＩＳＡ（抗体はＨＲＰＧｇｏａｔａｎｔｉ−ｍｏｕｓｅＩｇＭ抗体（ＳｏｕｔｈｅｒｎＢｉｏｔｅｃｈ、ＵＳ）を用い、プレートリーダーにはＳＰＥＣＴＲＡＭＡＸ２５０（ＭｏｌｅｃｕｌａｒＤｅｖｉｃｅｓ，ＵＳ）を使用した）により測定した。測定結果を図７に示す。

本発明の表面修飾基材は、組織化を用いているため、極めて均質な表面を有しており、種々の用途において、基材により効率的に新たな特性を付与することが期待される。また、本発明の表面修飾基材では、生理活性物質等を基材に固定する際に有用であり、免疫の賦活化等の用途が期待される。

Claims

１）基材、
２）反応ユニット及び集合体形成ポリマーユニット１を有する基材結合ポリマー、並びに
３）表面修飾ユニット及び集合体形成ポリマーユニット２を有する表面形成ポリマー
を含む表面修飾基材。
前記基材が、繊維質材料である、請求項１に記載の表面修飾基材。
前記集合体形成ポリマーユニット１及び２が、共にステレオコンプレックスを形成している、
請求項１又は２に記載の表面修飾基材。
前記表面修飾ユニットが、ＬｅｗｉｓＹである、請求項１〜５のいずれかに記載の表面修飾基材。
請求項１〜４に記載の表面修飾基材を含む、免疫賦活化材料。
基材、基材結合ポリマー及び表面形成ポリマーを混合し、紫外線を照射する工程を含む、請求項１〜４に記載の表面修飾基材の製造方法。