JP2016183085A - Manufacturing method of glass substrate - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a high-quality glass substrate having a target composition capable of suppressing damage to a manufacturing apparatus.SOLUTION: A manufacturing method of a glass substrate includes a melting step ST1 for producing molten glass by melting a glass-making feedstock, an agitation step ST3 for agitating the molten glass, and a shaping step ST5 for shaping the agitated molten glass into a glass sheet. Manufacturing a glass substrate is initiated with molten glass having a composition of high devitrification viscosity or low devitrification temperature and then transferred to molten glass having a composition of low devitrification viscosity or high devitrification temperature. The composition of the molten glass is analyzed after the agitation step ST3, and manufacturing conditions in the shaping step ST5 are adjusted based on the analysis result.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどのフラットパネルディスプレイに用いるガラス基板の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing a glass substrate used in a flat panel display such as a liquid crystal display or a plasma display.

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ(以下、「FPD」と呼ぶ。)に用いるガラス基板には、厚さが例えば0.5〜0.7mmと薄いガラス板が用いられている。このFPD用ガラス基板は、例えば第1世代では300×400mmのサイズであるが、第10世代では2850×3050mmのサイズになっている。   As a glass substrate used for a flat panel display (hereinafter referred to as “FPD”) such as a liquid crystal display or a plasma display, a thin glass plate having a thickness of, for example, 0.5 to 0.7 mm is used. For example, the FPD glass substrate has a size of 300 × 400 mm in the first generation, but has a size of 2850 × 3050 mm in the tenth generation.

このような薄板で大きなサイズのFPD用ガラス基板を製造するには、オーバーフローダウンドロー法やフロート法が好適に用いられる。例えば、オーバーフローダウンドロー法を用いるガラス基板の製造方法が特許文献1に開示されている。すなわち、特許文献1では、成形体からオーバーフローされたシートガラスを搬送ローラ(引張りローラ)で挟持し、下方に引き下げる過程で徐冷することで、ガラス基板を製造している。   In order to manufacture a glass substrate for FPD having a large size with such a thin plate, an overflow down draw method or a float method is preferably used. For example, Patent Document 1 discloses a glass substrate manufacturing method using an overflow downdraw method. That is, in patent document 1, the glass substrate is manufactured by pinching the sheet glass overflowed from the molded body with a conveyance roller (pulling roller) and gradually cooling it in the process of pulling it downward.

国際公開第2012/132425号International Publication No. 2012/132425

ところで、このようなFPD用ガラス基板においては、たとえば画素のピッチズレの問題を抑制するために、ディスプレイ製造時のガラス基板の熱収縮を低減することが強く求められている。ガラス基板の熱収縮は、歪点またはガラス転移点で代表される低温粘性特性温度を高くすることで抑制できる。しかし、単にガラスの歪点等を高くすることだけに着目してガラス組成の改良を行うと、ガラスの液相温度が高くなる傾向にあり、耐失透性が悪化しやすいという問題が起こる。高歪点を有するガラス組成は、失透温度も高くなりやすい。この失透の問題は、比較的粘度が高い状態で成形を行う必要があるオーバーフローダウンドロー法を成形方法として用いた場合に顕著となる。   By the way, in such a glass substrate for FPD, in order to suppress the problem of pixel pitch shift, for example, it is strongly demanded to reduce thermal shrinkage of the glass substrate during display manufacturing. The thermal contraction of the glass substrate can be suppressed by increasing the low temperature viscosity characteristic temperature represented by the strain point or the glass transition point. However, if the glass composition is improved by paying attention only to increasing the strain point or the like of the glass, the liquidus temperature of the glass tends to increase, and there arises a problem that the devitrification resistance tends to deteriorate. A glass composition having a high strain point tends to have a high devitrification temperature. This problem of devitrification becomes prominent when the overflow down draw method, which requires molding with a relatively high viscosity, is used as the molding method.

このようなオーバーフローダウンドロー法による成形時におけるガラスの失透を防止するためには、たとえば成形時における溶融ガラスの温度を、液相温度よりも十分に高く保てばよい。   In order to prevent such glass devitrification during molding by the overflow downdraw method, for example, the temperature of the molten glass during molding may be kept sufficiently higher than the liquidus temperature.

以上の観点から、たとえば高温高粘性で、低液相粘度のガラスを製造しようとする場合、最初から高温高粘性のガラス組成から製造を開始すると、製造装置に対する負荷が高くなり、特に、清澄槽等に用いられる白金装置や、成形装置の成形体へのダメージが大きくなる。   From the above point of view, for example, when manufacturing a glass having a high temperature and high viscosity and a low liquid phase viscosity, starting from the beginning with a glass composition having a high temperature and high viscosity, the load on the manufacturing apparatus is increased. The damage to the platinum device used for the above and the molded body of the molding device is increased.

近年のFPDの高精細化に伴い、FPD用ガラス基板に対する品質要求は益々厳しくなってきており、従来にも増してガラス基板製造時の製造条件の厳密なコントロールが必要になってきている。   With the recent increase in definition of FPD, quality requirements for FPD glass substrates have become increasingly severe, and stricter control of manufacturing conditions during the production of glass substrates has become more necessary than ever.

そこで、本発明は、ガラス基板を製造する装置へのダメージや、製造されるガラス基板の失透の発生等を抑制し、目標の組成の高品質ガラス基板を製造することが可能なガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention is a glass substrate capable of producing a high-quality glass substrate having a target composition by suppressing damage to an apparatus for producing a glass substrate, occurrence of devitrification of the produced glass substrate, and the like. An object is to provide a manufacturing method.

本発明者は、従来の課題を解決すべく鋭意検討した結果、以下の構成の発明を想到するに至ったものである。   As a result of intensive studies to solve the conventional problems, the present inventor has come up with an invention having the following configuration.

(構成1の発明)
ガラス原料を溶解し溶融ガラスとする溶融工程と、溶融ガラスを撹拌する撹拌工程と、撹拌した溶融ガラスをシート状に成形する成形工程とを有するガラス基板の製造方法であって、失透粘度の高い或いは失透温度の低い組成から製造を開始し、経時的に失透粘度の低い或いは失透温度の高い組成に変更することによりガラス基板を製造し、途中の前記撹拌工程を経た後の前記溶融ガラスの組成分析を行い、その結果に基づいて前記成形工程の製造条件を調整することを特徴とするガラス基板の製造方法である。
(Invention of Configuration 1)
A method for producing a glass substrate, comprising: a melting step of melting a glass raw material to form molten glass; a stirring step of stirring the molten glass; and a molding step of forming the stirred molten glass into a sheet shape. Production is started from a composition having a high or low devitrification temperature, a glass substrate is produced by changing to a composition having a low devitrification viscosity or a high devitrification temperature over time, and after the stirring step in the middle A composition analysis of a molten glass is performed, and the manufacturing conditions of the forming step are adjusted based on the result, and the manufacturing method of the glass substrate is characterized by the following.

(構成2の発明)
前記溶融ガラスの組成分析の結果に基づいて組成の変化率を見積もり、前記成形工程の温度条件を調整することを特徴とする構成1の発明に記載のガラス基板の製造方法である。
(Invention of Configuration 2)
The glass substrate manufacturing method according to the invention of Configuration 1, wherein a rate of change of composition is estimated based on a result of composition analysis of the molten glass, and a temperature condition of the forming step is adjusted.

(構成3の発明)
蛍光X線分析法により前記溶融ガラスの組成分析を行うことを特徴とする構成1又は2の発明に記載のガラス基板の製造方法である。
(Invention of Configuration 3)
The method for producing a glass substrate according to the invention of Configuration 1 or 2, wherein composition analysis of the molten glass is performed by fluorescent X-ray analysis.

(構成4の発明)
オーバーフローダウンドロー法を用いて前記成形工程を行うことを特徴とする構成1乃至3のいずれかの発明に記載のガラス基板の製造方法である。
(Invention of Configuration 4)
The method for producing a glass substrate according to any one of Structures 1 to 3, wherein the forming step is performed using an overflow downdraw method.

本発明によれば、上記構成により、ガラス基板を製造する装置へのダメージや、製造されるガラス基板の失透の発生等を抑制でき、目標の組成の高品質ガラス基板を製造することが可能である。   According to the present invention, the above configuration can suppress damage to the apparatus for manufacturing the glass substrate, occurrence of devitrification of the manufactured glass substrate, and the like, and can manufacture a high-quality glass substrate having a target composition. It is.

本実施形態のガラス基板の製造方法のフローの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the flow of the manufacturing method of the glass substrate of this embodiment. 本実施形態における溶解工程乃至切断工程を行う装置の一例を模式的に示す図である。It is a figure which shows typically an example of the apparatus which performs the melt | dissolution process thru | or cutting process in this embodiment. 成形装置の概略の側面図である。It is a schematic side view of a shaping | molding apparatus.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
(ガラス基板の製造方法の全体概要)
オーバーフローダウンドロー法が採用されるガラス基板の製造工程の概要の一例は、例えば図1に示すことができる。
図1は、本実施形態のガラス基板の製造方法のフローの一例を示す図である。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
(Overall overview of glass substrate manufacturing method)
An example of the outline of the manufacturing process of the glass substrate in which the overflow downdraw method is adopted can be shown in FIG. 1, for example.
FIG. 1 is a diagram illustrating an example of a flow of a glass substrate manufacturing method according to the present embodiment.

このガラス基板の製造工程では、溶融工程(ST1)と、清澄工程(ST2)と、撹拌(均質化)工程(ST3)と、供給工程(ST4)と、成形工程(ST5)と、冷却(徐冷)工程(ST6)と、切断工程(ST7)と、を包含し、その成形工程(ST5)および冷却(徐冷)工程(ST6)においてダウンドロー法が採用され、その成形工程では、たとえば、図3に示すように、楔形の成形体210を含む装置により成形される。   In this glass substrate manufacturing process, a melting process (ST1), a clarification process (ST2), a stirring (homogenization) process (ST3), a supply process (ST4), a molding process (ST5), and a cooling (gradual) A cold) step (ST6) and a cutting step (ST7), and the downdraw method is employed in the molding step (ST5) and the cooling (slow cooling) step (ST6). In the molding step, for example, As shown in FIG. 3, it is molded by an apparatus including a wedge-shaped molded body 210.

図2は、上記溶融工程(ST1)乃至切断工程(ST7)を行う装置の一例を模式的に示す図である。当該装置は、図2に示すように、溶解装置100と、成形装置200と、切断装置300とを主に有する。溶解装置100は、溶解槽101と、清澄槽102と、撹拌槽103と、第1配管104と、第2配管105と、第3配管106とを有する。成形装置200について詳細は後述する。   FIG. 2 is a diagram schematically showing an example of an apparatus for performing the melting step (ST1) to the cutting step (ST7). As shown in FIG. 2, the apparatus mainly includes a melting apparatus 100, a molding apparatus 200, and a cutting apparatus 300. The dissolution apparatus 100 includes a dissolution tank 101, a clarification tank 102, a stirring tank 103, a first pipe 104, a second pipe 105, and a third pipe 106. Details of the molding apparatus 200 will be described later.

上記溶融工程(ST1)では、溶解槽101内に供給されたガラス原料を火焔および/又は電極を用いた通電加熱により溶解することで溶融ガラスMGを得る。溶融ガラスMGは、溶解槽101から第1配管104を通って清澄槽102に供給される。   In the melting step (ST1), molten glass MG is obtained by melting the glass raw material supplied in the melting tank 101 by energization heating using a flame and / or an electrode. Molten glass MG is supplied from the melting tank 101 to the clarification tank 102 through the first pipe 104.

上記清澄工程(ST2)では、清澄槽102に供給された溶融ガラスMGが昇温されることにより、溶融ガラスMG中に含まれるO2、CO2あるいはSO2等のガス成分を含んだ泡が、SnO2などの清澄剤の還元反応により生じたO2を吸収して成長し、溶融ガラスMGの液面に浮上して清澄槽102上方の空気中、窒素ガス等を含有する雰囲気中に放出されて除去される。次いで、溶融ガラスMGの温度の低下による泡中のガス成分の内圧が低下することと、還元された清澄剤(例えばSnO)が溶融ガラスMGの温度の低下によって酸化反応をすることにより、溶融ガラスMGに残存する泡中のO2等のガス成分を再吸収して、泡を消滅させる。
上記清澄工程で脱泡された溶融ガラスMGは、清澄槽102から第2配管105を通って撹拌槽103に供給される。
In the clarification step (ST2), the molten glass MG supplied to the clarification tank 102 is heated, so that bubbles containing gas components such as O 2 , CO 2 or SO 2 contained in the molten glass MG are produced. , Which grows by absorbing O 2 generated by the reduction reaction of a clarifying agent such as SnO 2 , floats on the liquid surface of the molten glass MG, and is released into the air above the fining tank 102 and into an atmosphere containing nitrogen gas, etc. To be removed. Next, the internal pressure of the gas component in the foam is lowered due to the temperature drop of the molten glass MG, and the reduced fining agent (for example, SnO) undergoes an oxidation reaction due to the temperature drop of the molten glass MG, whereby the molten glass The gas component such as O 2 in the foam remaining in the MG is reabsorbed to eliminate the foam.
Molten glass MG defoamed in the clarification step is supplied from the clarification tank 102 to the stirring tank 103 through the second pipe 105.

上記撹拌(均質化)工程(ST3)では、上記清澄工程で脱泡された溶融ガラスMGが供給されて、撹拌槽103内の溶融ガラスMGを、撹拌手段(例えば図示するスターラ103a)を用いて撹拌することにより、ガラス成分の均質化が行われる。   In the stirring (homogenization) step (ST3), the molten glass MG defoamed in the clarification step is supplied, and the molten glass MG in the stirring vessel 103 is stirred using a stirring means (for example, a stirrer 103a shown in the figure). By stirring, the glass components are homogenized.

上記供給工程(ST4)では、均質化された溶融ガラスMGが、撹拌槽103から第3配管106を通って成形装置200に供給される。その成形装置200の一例は、図3に示されている。図3は成形装置の概略の側面図である。   In the supply step (ST4), the homogenized molten glass MG is supplied from the stirring vessel 103 to the molding apparatus 200 through the third pipe 106. An example of the molding apparatus 200 is shown in FIG. FIG. 3 is a schematic side view of the molding apparatus.

その図3において、成形装置200は、成形炉240と徐冷炉250を含む。その成形装置200では、上記成形工程(ST5)及び冷却(徐冷)工程(ST6)が順次行われる。   In FIG. 3, the molding apparatus 200 includes a molding furnace 240 and a slow cooling furnace 250. In the molding apparatus 200, the molding step (ST5) and the cooling (slow cooling) step (ST6) are sequentially performed.

上記成形工程(ST5)では、溶融ガラスMGをシートガラスSGに成形し、シートガラスSGの流れを作る。本実施形態では、成形体210を用いたオーバーフローダウンドロー法を用いている。この場合、シートガラスSGの流れ方向は、鉛直下方となる。   In the forming step (ST5), the molten glass MG is formed into a sheet glass SG to make a flow of the sheet glass SG. In this embodiment, the overflow down draw method using the molded body 210 is used. In this case, the flow direction of the sheet glass SG is vertically downward.

さらに詳しく説明すると、上記成形体210は、図2及び図3に示すように、第3配管106を通して溶解装置100から流れてくる溶融ガラスMGを、シートガラスSGに成形する。これにより、成形装置200内で、鉛直下方のシートガラスSGの流れが作られる。成形体210は、耐火レンガ等によって構成された細長い構造体であり、図3に示すように断面が楔形状を成している。成形体210の上部には、溶融ガラスMGを導く流路となる供給溝212が設けられている。供給溝212は、成形体210に設けられた供給口において第3配管106と接続され、第3配管106を通して流れてくる溶融ガラスMGは、供給溝212を伝って流れる。供給溝212の深さは、溶融ガラスMGの流れの下流ほど浅くなっており、供給溝212から溶融ガラスMGが鉛直下方に向かって溢れ出るようになっている。   More specifically, as shown in FIGS. 2 and 3, the formed body 210 forms molten glass MG flowing from the melting device 100 through the third pipe 106 into a sheet glass SG. Thereby, the flow of the sheet glass SG in the vertically lower direction is created in the forming apparatus 200. The molded body 210 is a long and narrow structure made of firebrick or the like, and has a wedge-shaped cross section as shown in FIG. A supply groove 212 serving as a flow path for guiding the molten glass MG is provided in the upper part of the molded body 210. The supply groove 212 is connected to the third pipe 106 at a supply port provided in the molded body 210, and the molten glass MG flowing through the third pipe 106 flows along the supply groove 212. The depth of the supply groove 212 is shallower toward the downstream side of the flow of the molten glass MG, so that the molten glass MG overflows vertically downward from the supply groove 212.

また、成形体210の両側壁部及び/又は下方端部には、図示しない白金ガイド部材が設けられる。この白金ガイド部材は、ガラス幅の管理のために設けられるが、ガラスに対しては放熱部材として機能する。そのため、成形体210の両側壁部や下方端部に対して、内部ヒータなどにより熱量を加える構成を備えておくことで、上記白金ガイド部材に結晶物の付着を抑制する。   Also, platinum guide members (not shown) are provided on both side walls and / or the lower end of the molded body 210. The platinum guide member is provided for managing the glass width, but functions as a heat dissipation member for glass. For this reason, by providing a structure in which the amount of heat is applied to the both side walls and the lower end of the molded body 210 by an internal heater or the like, adhesion of the crystalline substance to the platinum guide member is suppressed.

供給溝212から溢れ出た溶融ガラスMGは、成形体210の両側の側壁を伝わって流下する。側壁を流れた溶融ガラスMGは、成形体210の下方端部213(図3に示す)で合流し、1つのシートガラスSGが成形される。シートガラスSGは、図3に示すシートガラスSGの流下方向である鉛直下方に流れる。なお、成形体210の下方端部213の直下におけるシートガラスSGの温度は、例えば104.3〜106poiseの粘度に相当する温度(例えば1000〜1250℃)である。また、1150℃〜1250℃であってもよい。 The molten glass MG overflowing from the supply groove 212 flows down along the side walls on both sides of the molded body 210. The molten glass MG that has flowed through the side walls merges at the lower end 213 (shown in FIG. 3) of the molded body 210 to form one sheet glass SG. The sheet glass SG flows vertically downward, which is the flow direction of the sheet glass SG shown in FIG. The temperature of the sheet glass SG immediately below the lower end 213 of the molding 210 is a temperature (e.g. 1000 to 1250 ° C.) corresponding to a viscosity of example 10 4.3 ~10 6 poise. Moreover, 1150 degreeC-1250 degreeC may be sufficient.

成形体210の下方端部213の下方近傍には、雰囲気仕切り部材220が設けられている。雰囲気仕切り部材220は、シートガラスSGを厚さ方向の両側から挟むように設けられた一対の板状の断熱部材である。
この断熱部材からなる雰囲気仕切り部材220は、成形体210が収容された上部空間である成形炉240と、下方空間とを仕切るために設けられる。この断熱部材からなる雰囲気仕切り部材220の上部空間と下方空間との間の熱抵抗は、上部空間の雰囲気温度において、0.2m2・K/W以上であることが望ましい。溶融ガラスが上記成形体210の最下端部を通過するときの溶融ガラスの両端部の粘度は、例えば、104.3〜106poiseである。なおシートガラスの端部とは、シートガラスの幅方向の縁から150mm以内の範囲をいう。
An atmosphere partition member 220 is provided near the lower portion of the lower end 213 of the molded body 210. The atmosphere partition member 220 is a pair of plate-like heat insulating members provided so as to sandwich the sheet glass SG from both sides in the thickness direction.
The atmosphere partition member 220 made of this heat insulating member is provided to partition the molding furnace 240 that is the upper space in which the molded body 210 is accommodated from the lower space. The thermal resistance between the upper space and the lower space of the atmosphere partition member 220 made of this heat insulating member is desirably 0.2 m 2 · K / W or more at the atmospheric temperature of the upper space. The viscosity of both end portions of the molten glass when the molten glass passes through the lowermost end portion of the molded body 210 is, for example, 10 4.3 to 10 6 poise. In addition, the edge part of sheet glass means the range within 150 mm from the edge of the width direction of sheet glass.

上記の熱抵抗を大きくするためには、例えば上記雰囲気仕切り部材220の厚さを厚くする必要があるが、必要以上の厚さは、ガラス成形品質に影響を与えるため好ましくない。そのため、上記雰囲気仕切り部材220の熱抵抗は、0.4〜2m2・K/Wであることが好ましい。
断熱部材としては、例えば、アルミナの含有率が高いセラミックファイバボードが使用される。
In order to increase the thermal resistance, it is necessary to increase the thickness of the atmosphere partition member 220, for example, but an excessive thickness is not preferable because it affects the glass forming quality. Therefore, it is preferable that the thermal resistance of the atmosphere partition member 220 is 0.4 to 2 m 2 · K / W.
As the heat insulating member, for example, a ceramic fiber board having a high alumina content is used.

雰囲気仕切り部材220の下方には冷却ローラ(冷却ローラとしての機能を備える搬送ローラ)230が設けられている。冷却ローラ230は、図3に示すように、シートガラスSGを厚さ方向の両側から挟むように、シートガラスSGの厚さ方向の両側に設けられている。なお、冷却ローラ230は、シートガラスSGの幅方向両端部の温度が約109・0poise以上の粘度に相当する温度(例えば900℃以下)に低下するまで、冷却することが好ましい。 A cooling roller (conveying roller having a function as a cooling roller) 230 is provided below the atmosphere partition member 220. As shown in FIG. 3, the cooling roller 230 is provided on both sides in the thickness direction of the sheet glass SG so as to sandwich the sheet glass SG from both sides in the thickness direction. In addition, it is preferable to cool the cooling roller 230 until the temperature of the width direction both ends of the sheet glass SG falls to the temperature (for example, 900 degrees C or less) corresponded to the viscosity of about 10 < 9 > .0 poise or more.

また、上記冷却ローラ230の下方の領域には、シートガラスSGの流れ方向に沿って、さらに別の搬送ローラ250a〜250dを含む複数の搬送ローラと、図示しない温度調整装置が設けられている。個々の搬送ローラはシートガラスSGの厚さ方向の両側のそれぞれに設けられており、シートガラスSGの両端を対となって夫々挟持している。つまり、ローラ搬送手段対を構成している。   In addition, a plurality of conveyance rollers including further conveyance rollers 250a to 250d and a temperature adjusting device (not shown) are provided in a region below the cooling roller 230 along the flow direction of the sheet glass SG. Each conveyance roller is provided on each of both sides in the thickness direction of the sheet glass SG, and holds both ends of the sheet glass SG as a pair. That is, a pair of roller conveying means is configured.

この領域には、上記温度調整装置として、熱源であるヒータユニット(図示せず)がシートガラスSGの厚さ方向の両側のそれぞれに設けられている。このヒータユニットは、シートガラスSGの幅方向の温度プロファイルを適切に制御できるように、シートガラスの幅方向に沿って設けられている。   In this region, heater units (not shown), which are heat sources, are provided on both sides in the thickness direction of the sheet glass SG as the temperature adjusting device. The heater unit is provided along the width direction of the sheet glass so that the temperature profile in the width direction of the sheet glass SG can be appropriately controlled.

以上説明したように、上記冷却(徐冷)工程(ST6)では、上記冷却ローラ230及び搬送ローラ250a〜250dによって挟持搬送される過程において、成形されて流れるシートガラスSGが所望の厚さになり、冷却に起因する反り、内部歪が生じないように冷却(徐冷)される。   As described above, in the cooling (slow cooling) step (ST6), the sheet glass SG that has been formed and flows has a desired thickness in the process of being sandwiched and conveyed by the cooling roller 230 and the conveying rollers 250a to 250d. Then, cooling (slow cooling) is performed so as not to cause warping and internal distortion caused by cooling.

上記切断工程(ST7)では、切断装置300において、成形装置200から供給されたシートガラスSGが所定の長さに切断されることで、板状のガラス板を得る。
板状に切断されたガラス板はさらに、所定のサイズに切断され、目標サイズのガラス基板が作製される。この後、ガラス基板の端面の研削、研磨、およびガラス基板の洗浄が行われ、さらに、泡や脈理等の欠点の有無が検査された後、検査合格品のガラス基板が最終製品として梱包される。
In the said cutting process (ST7), in the cutting device 300, the sheet glass SG supplied from the shaping | molding apparatus 200 is cut | disconnected by predetermined length, and a plate-shaped glass plate is obtained.
The glass plate cut into a plate shape is further cut into a predetermined size to produce a glass substrate with a target size. After this, the end surface of the glass substrate is ground and polished, and the glass substrate is cleaned. Further, after checking for defects such as bubbles and striae, the glass substrate that has passed the inspection is packed as a final product. The

本実施形態において製造されるガラス基板は、例えば、液晶ディスプレイ用ガラス基板、有機ELディスプレイ用ガラス基板等に好適に用いられる。また、このガラス基板は、その他、携帯端末機器などのディスプレイや筐体用のカバーガラス、タッチパネル板、太陽電池のガラス基板やカバーガラスとしても用いることができる。特に、液晶ディスプレイ用ガラス基板に好適である。その中でも特に熱収縮率の小さいことが要求される、LTPS(低温ポリシリコン)・TFTや、酸化物半導体・TFTなど、パネル製造工程において高温処理を必要とする製品に好適に用いることができる。   The glass substrate produced in the present embodiment is suitably used for, for example, a liquid crystal display glass substrate, an organic EL display glass substrate, and the like. In addition, the glass substrate can also be used as a display for a portable terminal device, a cover glass for a housing, a touch panel plate, a glass substrate for a solar cell, or a cover glass. Particularly, it is suitable for a glass substrate for liquid crystal display. Among them, it can be suitably used for products that require high-temperature treatment in the panel manufacturing process, such as LTPS (low-temperature polysilicon) / TFT and oxide semiconductor / TFT, which are particularly required to have a low thermal shrinkage rate.

また、本実施形態において製造されるガラス基板の幅方向及び縦方向の長さは、例えば500mm〜3500mmであり、1000mm〜3500mmであることが好ましく、2000mm〜3500mmであることがより好ましい。
また、本実施形態において製造されるガラス基板の厚さは、例えば0.01mm〜1.0mmである。好ましくは、0.1mm〜0.7mmである。
Moreover, the length of the width direction and the vertical direction of the glass substrate manufactured in this embodiment is 500 mm-3500 mm, for example, it is preferable that it is 1000 mm-3500 mm, and it is more preferable that it is 2000 mm-3500 mm.
Moreover, the thickness of the glass substrate manufactured in this embodiment is 0.01 mm-1.0 mm, for example. Preferably, it is 0.1 mm-0.7 mm.

(ガラス基板の組成)
上述の用途のガラス基板のガラス組成としては、アルミノシリケートガラス、ボロアルミノシリケートガラスであり、さらに無アルカリガラス、微アルカリガラスであり、例えば以下のものを好ましく挙げることができる。なお、以下に示す組成の含有率表示は、モル%である。
SiO2 55〜75%、Al23 5〜20%、B23 0〜15%、RO 5〜20%(ただし、RはMg、Ca、Sr及びBaのうち、ガラス基板に含まれる全元素)、R'2O 0〜0.4% (ただし、R'はLi、Na及びKのうち、ガラス基板に含まれる全元素)。
本発明で用いる溶融ガラスの歪点は、650℃以上であってもよく、680℃以上であることがより好ましい。
また、例えば、ガラス基板の液相粘度は、104.3poise〜106.7poiseである。
もちろん、本発明においては、ガラス基板のガラス組成を限定するものではない。
(Composition of glass substrate)
As a glass composition of the glass substrate of the above-mentioned use, they are aluminosilicate glass and boroaluminosilicate glass, Furthermore, they are alkali free glass and fine alkali glass, For example, the following can be mentioned preferably. In addition, the content rate display of the composition shown below is mol%.
SiO 2 55~75%, Al 2 O 3 5~20%, B 2 O 3 0~15%, RO 5~20% ( wherein, R is Mg, Ca, among Sr and Ba, contained in the glass substrate All elements), R ′ 2 O 0 to 0.4% (where R ′ is all elements contained in the glass substrate among Li, Na and K).
650 degreeC or more may be sufficient as the strain point of the molten glass used by this invention, and it is more preferable that it is 680 degreeC or more.
Further, for example, the liquid phase viscosity of the glass substrate is 10 4.3 poise to 10 6.7 poise.
Of course, in the present invention, the glass composition of the glass substrate is not limited.

次に、本発明に係るガラス基板の製造方法の構成の特徴について説明する。
本発明に係るガラス基板の製造方法は、上記構成1の発明にあるとおり、ガラス原料を溶解し溶融ガラスとする溶融工程と、溶融ガラスを撹拌する撹拌工程と、撹拌した溶融ガラスをシート状に成形する成形工程とを有するガラス基板の製造方法であって、失透粘度の高い或いは失透温度の低い組成から製造を開始し、経時的に失透粘度の低い或いは失透温度の高い組成に変更することによりガラス基板を製造し、途中の前記撹拌工程を経た後の前記溶融ガラスの組成分析を行い、その結果に基づいて前記成形工程の製造条件を調整することを特徴とするものである。
Next, features of the configuration of the glass substrate manufacturing method according to the present invention will be described.
The manufacturing method of the glass substrate which concerns on this invention is the sheet | seat form of the melting process which melt | dissolves a glass raw material to make molten glass, the stirring process which stirs molten glass, and the stirred molten glass as it exists in the invention of the said structure 1. A method for producing a glass substrate having a molding step of molding, starting from a composition having a high devitrification viscosity or a low devitrification temperature, and a composition having a low devitrification viscosity or a high devitrification temperature over time A glass substrate is manufactured by changing the composition of the molten glass after passing through the stirring step in the middle, and the manufacturing conditions of the molding step are adjusted based on the result. .

従来、例えばオーバーフローダウンドロー法を用いて目的とする組成のガラス基板を製造する場合、その目的の組成に応じたガラス原料を調製し、製造装置に投入してシート状のガラスを製造する。そして、途中のいずれかの段階でガラスの組成分析を行い、その結果に基づいて、投入するガラス原料の組成の調整等を行い、目的の組成に近づけていく方法が通常実施されている。   Conventionally, when a glass substrate having a target composition is manufactured using, for example, an overflow down draw method, a glass raw material corresponding to the target composition is prepared and put into a manufacturing apparatus to manufacture a sheet-like glass. Then, a method of analyzing the composition of the glass at any stage in the middle and adjusting the composition of the glass raw material to be introduced based on the result to bring it close to the target composition is usually carried out.

ところが、前述したように、たとえば高温高粘性のガラス基板を製造しようとする場合、従来方法に則り、最初から目的とする高温高粘性のガラス組成に応じたガラス原料を調製し、製造装置に投入して製造を開始すると、製造装置に対する負荷が高くなり、特に、清澄槽等に用いられる白金装置や、成形装置の成形体へのダメージが大きくなる。また、失透の発生を抑制できないことがある。したがって、長期的に安定した品質のガラス基板を製造し続けることは困難になる。   However, as described above, for example, when manufacturing a high-temperature and high-viscosity glass substrate, a glass raw material corresponding to the target high-temperature and high-viscosity glass composition is prepared from the beginning according to the conventional method, and is introduced into a manufacturing apparatus. Then, when the production is started, the load on the production apparatus becomes high, and in particular, the damage to the platinum apparatus used in the clarification tank or the like and the molded body of the molding apparatus becomes large. Moreover, the occurrence of devitrification may not be suppressed. Therefore, it becomes difficult to continue producing glass substrates with stable quality over the long term.

本発明者らは、このような従来技術の課題を解決するべく鋭意検討した結果、次のような製造方法が最適であることを見出した。
すなわち、最初は、目標とする高温高粘性のガラス組成とは異なるが、特にガラスの失透の発生等を考慮して、溶解、成形しやすい失透粘度の高い(失透温度の低い)組成から製造を開始する。そこから投入する原料を徐々に変えていくことで経時的に失透粘度の低い(失透温度の高い)組成に変更していき、目標とする上記組成のガラス基板を製造する。これによって、失透の発生を抑制できるうえに、製造装置に対する負荷、ダメージも抑制できるので、長期的に安定した高品質のガラス基板を製造することが可能になる。
As a result of intensive studies to solve such problems of the prior art, the present inventors have found that the following manufacturing method is optimal.
That is, at first, it is different from the target glass composition of high temperature and high viscosity, but it has a high devitrification viscosity (low devitrification temperature) that is easy to melt and mold, especially considering the devitrification of glass. Production starts from By gradually changing the raw material charged from there, the composition is changed over time to a composition having a low devitrification viscosity (high devitrification temperature), and a glass substrate having the above-mentioned composition is produced. Thus, the occurrence of devitrification can be suppressed, and the load and damage to the manufacturing apparatus can be suppressed. Therefore, it is possible to manufacture a high-quality glass substrate that is stable over the long term.

たとえば成形体210の両側壁部や下方端部に設けられる白金ガイド部材にガラス結晶物が付着すると、ガラスリボンの割れ、切断の原因となる。また、製造されるガラスの厚みや平坦性にも影響を与える。白金ガイド部材に付着したガラス結晶物の除去のためには、成形体210を流れる溶融ガラスを高温にして、ガラス結晶物の除去を行う必要があるが、成形工程において、溶融ガラスを高温にすると、成形体210のクリープ変形や、白金部材の揮発、その他、白金部材の変形、損耗が生じる。
そのためガラス結晶物が生じないように、組成に応じた温度管理をする必要がある。
For example, if glass crystal substances adhere to platinum guide members provided on both side walls and the lower end of the molded body 210, the glass ribbon is cracked and cut. It also affects the thickness and flatness of the glass being produced. In order to remove the glass crystals adhering to the platinum guide member, it is necessary to remove the glass crystals by raising the temperature of the molten glass flowing through the molded body 210. Further, creep deformation of the molded body 210, volatilization of the platinum member, and other deformation and wear of the platinum member occur.
Therefore, it is necessary to manage the temperature according to the composition so that glass crystals are not generated.

本発明では、上記雰囲気仕切り部材220の熱抵抗は、例えば0.4〜2m2・K/Wとすることにより、成形炉の上部空間から下方空間への熱の移動を抑制し、ガラス液相粘度の高いガラスの成形に対応させている。 In the present invention, the heat resistance of the atmosphere partition member 220 is, for example, 0.4 to 2 m 2 · K / W, thereby suppressing the movement of heat from the upper space of the molding furnace to the lower space, and the glass liquid phase. It corresponds to the molding of glass with high viscosity.

また、ガラスの失透を懸念し、溶融ガラスの粘度をシートガラス成形条件範囲を超えて下げてしまうと、成形体210の構造に適したガラス粘度から外れ、シートガラス厚みや幅の管理が難しくなる。そうするとシートガラスの厚みの偏りや変動が生じたりして、雰囲気仕切り部材220に溶融ガラスが接触してしまい、仕切り部材に損耗が生じ、その結果、ガラス基板の表面品質に影響を与える。   In addition, if there is concern about the devitrification of the glass and the viscosity of the molten glass is lowered beyond the range of sheet glass forming conditions, the glass viscosity deviates from that suitable for the structure of the molded body 210, making it difficult to manage the sheet glass thickness and width. Become. If it does so, the thickness deviation and fluctuation | variation of sheet glass will arise, a molten glass will contact the atmosphere partition member 220, a wear will arise in a partition member, As a result, the surface quality of a glass substrate is affected.

本発明においては、上記のようにしてガラス基板の製造を行うが、途中の撹拌工程を経た後の溶融ガラスの組成分析を行い、その結果に基づいて成形工程の製造条件を調整することが肝要である。投入する原料の経時的な変更だけでなく、成形途中段階のガラス組成を成形工程の製造条件にフィードバックすることにより、製造装置へのダメージをより効果的に抑制することができ、また異質素地の形成を抑制することができる。   In the present invention, the glass substrate is produced as described above. However, it is important to perform composition analysis of the molten glass after an intermediate stirring step and adjust the production conditions of the forming step based on the result. It is. Not only changes in raw materials to be introduced over time, but also by feeding back the glass composition in the middle of molding to the manufacturing conditions of the molding process, damage to the manufacturing equipment can be more effectively suppressed, and Formation can be suppressed.

本発明のより具体的な実施態様としては、撹拌工程を経た後の溶融ガラスを採取して組成分析を行い、この溶融ガラスの組成分析の結果に基づいて組成の変化率を見積もり、見積もった組成の変化率に応じて成形工程の製造条件、例えば成形体の温度条件を調整することが好ましい。特に、高温高粘性のガラス組成に変更する場合、組成の変動に応じて、失透のしやすさ、失透温度が異なってくるので、成形途中段階のガラス組成を成形工程の温度条件にフィードバックすることが、製造装置へのダメージや失透の発生、異質素地の形成等を抑制する上で好適である。   As a more specific embodiment of the present invention, the molten glass after the stirring step is collected and subjected to composition analysis, and the rate of change of the composition is estimated based on the result of the composition analysis of the molten glass, and the estimated composition It is preferable to adjust the manufacturing conditions of the molding process, for example, the temperature conditions of the molded body, in accordance with the rate of change of. In particular, when changing to a glass composition with high temperature and high viscosity, the glass composition in the middle of molding is fed back to the temperature conditions of the molding process because the ease of devitrification and the devitrification temperature differ depending on the fluctuation of the composition. It is preferable to suppress the damage to the manufacturing apparatus, the occurrence of devitrification, the formation of a heterogeneous substrate, and the like.

なお、本発明において、撹拌工程を経た後の溶融ガラスの組成分析を行うことにしている理由は、撹拌工程を経る前の溶融ガラスは均質化されていないため、正確な組成分析を行えないからである。   In the present invention, the reason why the composition analysis of the molten glass after the stirring process is performed is that the molten glass before the stirring process is not homogenized, and therefore an accurate composition analysis cannot be performed. It is.

また、撹拌工程を経た後の溶融ガラスであれば、複数箇所でサンプルを取得してもよい。ばらつきの無いより正確な組成分析結果を得ることが可能である。また、成形体でシート状に成形された直後のガラスを分析してもよい。   Moreover, you may acquire a sample in multiple places, if it is a molten glass after passing through the stirring process. It is possible to obtain a more accurate composition analysis result without variation. Moreover, you may analyze the glass immediately after shape | molded in the sheet form with the molded object.

また、図1の製造フローでは、清澄工程の後に撹拌工程を実施しているが、清澄工程の前にも撹拌工程を実施する場合には、清澄工程でサンプルを取得してもよい。   Moreover, in the manufacturing flow of FIG. 1, although the stirring process is implemented after a clarification process, when implementing an agitation process also before a clarification process, you may acquire a sample by a clarification process.

また、本発明において上記の溶融ガラスの組成分析は、例えば蛍光X線分析法(XRF)により行うことができる。もちろんこの分析法に限定される必要はなく、例えば誘導結合プラズマ(ICP)分析法等を適用することも可能である。   In the present invention, the composition analysis of the molten glass can be performed by, for example, X-ray fluorescence analysis (XRF). Of course, it is not necessary to be limited to this analysis method, and for example, an inductively coupled plasma (ICP) analysis method or the like can be applied.

また、本発明は、上記実施の形態で説明したようなオーバーフローダウンドロー法によるガラス基板の製造に好適である。
前にも説明したように、比較的粘度が高い状態で成形を行う必要があるオーバーフローダウンドロー法を成形方法として用いた場合、失透の問題が発生しやすい。そして、このようなオーバーフローダウンドロー法による成形方法を用いて、たとえば高温高粘性のガラスを製造しようとする場合、最初から高温高粘性のガラス組成から製造を開始すると、製造装置に対する負荷が高くなり、製造装置へのダメージが大きくなるという問題が生じる。
Further, the present invention is suitable for manufacturing a glass substrate by the overflow downdraw method as described in the above embodiment.
As described above, when the overflow down draw method, which requires molding with a relatively high viscosity, is used as the molding method, the problem of devitrification tends to occur. And when trying to manufacture high-temperature and high-viscosity glass, for example, using such an overflow down-draw molding method, starting from the beginning with a high-temperature and high-viscosity glass composition, the load on the manufacturing equipment increases. This causes a problem that damage to the manufacturing apparatus increases.

したがって、このようなオーバーダウンドロー法によるガラス基板の製造には、ガラス基板を製造する装置へのダメージや、製造されるガラス基板の失透の発生等を抑制し、目標の組成の高品質ガラス基板を製造することが可能な本発明のガラス基板の製造方法の効果が顕著となる。   Therefore, in the production of a glass substrate by such an over-down draw method, it is possible to suppress damage to the apparatus for producing the glass substrate, occurrence of devitrification of the produced glass substrate, etc. The effect of the method for producing a glass substrate of the present invention capable of producing a substrate becomes remarkable.

以上説明したように、本発明のガラス基板の製造方法においては、失透粘度の高い或いは失透温度の低い組成から製造を開始し、経時的に失透粘度の低い或いは失透温度の高い組成に変更することによりガラス基板を製造し、途中の撹拌工程を経た後の溶融ガラスの組成分析を行い、その結果に基づいて成形工程の製造条件を調整するようにしているので、ガラス基板を製造する装置へのダメージや、製造されるガラス基板の失透の発生等を抑制でき、たとえば高温高粘性組成の高品質ガラス基板を長期的に安定して製造することが可能である。   As described above, in the method for producing a glass substrate of the present invention, the production starts from a composition having a high devitrification viscosity or a low devitrification temperature, and a composition having a low devitrification viscosity or a high devitrification temperature over time. The glass substrate is manufactured by changing to, the composition analysis of the molten glass is performed after the intermediate stirring step, and the manufacturing conditions of the forming step are adjusted based on the result, so the glass substrate is manufactured. It is possible to suppress damage to the apparatus to be performed and occurrence of devitrification of the glass substrate to be manufactured. For example, it is possible to stably manufacture a high-quality glass substrate having a high temperature and high viscosity composition for a long period of time.

以下、本発明を実施例によってさらに具体的に説明する。
上述した図2及び図3に示される実施形態の製造装置を用いて、ガラス基板を製造した。
ここで、目標とするガラス基板の組成は以下の組成とした。
SiO2 70.5モル%、Al23 10.9モル%、B23 7.4モル%、RO(MgO,CaO,SrO及びBaOの合量) 10.9モル%。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
The glass substrate was manufactured using the manufacturing apparatus of embodiment shown by FIG.2 and FIG.3 mentioned above.
Here, the composition of the target glass substrate was the following composition.
SiO 2 70.5 mol%, Al 2 O 3 10.9 mol%, B 2 O 3 7.4 mol%, RO (MgO, CaO, SrO and BaO in total amount) 10.9 mol%.

上記の組成は、失透粘度の低い(失透温度の高い)組成であるが、まず最初は、特にガラスの失透を考慮して、溶解、成形しやすい失透粘度の高い(失透温度の低い)組成から製造を開始し、そこから投入する原料を変えていくことで経時的に目標とする上記のガラス組成に変更することによりガラス基板を製造した。なお、本実施例では、途中の撹拌工程を経た後の溶融ガラスの組成分析を蛍光X線分析法により行った。そして、その溶融ガラスの組成分析の結果に基づいて組成の変化率を見積もり、成形工程における温度条件を調整しながら、ガラス基板を製造した。
このとき製造したガラス基板の歪点は700℃であった。
The above composition is a composition having a low devitrification viscosity (high devitrification temperature), but first of all, especially considering the devitrification of glass, it has a high devitrification viscosity that is easy to melt and mold (devitrification temperature). The glass substrate was manufactured by changing the raw material to be charged from there to the above-mentioned glass composition over time. In this example, composition analysis of the molten glass after an intermediate stirring step was performed by fluorescent X-ray analysis. And the glass substrate was manufactured, estimating the rate of change of a composition based on the result of the composition analysis of the molten glass, and adjusting the temperature conditions in a formation process.
The strain point of the glass substrate produced at this time was 700 ° C.

以上と同様にして1000枚のガラス基板を製造した。製造したガラス基板のそれぞれについて蛍光X線分析法により組成分析を行った結果、いずれのガラス基板についても、目標とする組成が得られており、また失透の発生も無かった。さらに、ガラス基板製造後、製造装置へのダメージも特に発生しなかった。
これより、本発明によるガラス基板の製造方法の効果は明確である。
In the same manner as above, 1000 glass substrates were manufactured. As a result of performing composition analysis by fluorescent X-ray analysis for each of the manufactured glass substrates, the target composition was obtained for any of the glass substrates, and there was no occurrence of devitrification. Furthermore, after the glass substrate was manufactured, no damage to the manufacturing apparatus occurred.
From this, the effect of the manufacturing method of the glass substrate by this invention is clear.

以上、本発明の実施の形態および具体的な一実施例について説明したが、本発明は上記実施形態および実施例には限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。   The embodiment and specific example of the present invention have been described above. However, the present invention is not limited to the above embodiment and example, and various improvements and modifications can be made without departing from the gist of the present invention. Of course, you may do it.

100 溶解装置
101 溶解槽
102 清澄槽
103 撹拌槽
104 第1配管
105 第2配管
106 第3配管
200 成形装置
210 成形体
212 供給溝
213 下方端部
220 雰囲気仕切り部材
230 冷却ローラ
240 成形炉
250 徐冷炉
250a〜250d 搬送ローラ
300 切断装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Melting | dissolving apparatus 101 Dissolution tank 102 Clarification tank 103 Agitation tank 104 1st piping 105 2nd piping 106 3rd piping 200 Molding apparatus 210 Molding body 212 Supply groove 213 Lower end part 220 Atmosphere partition member 230 Cooling roller 240 Molding furnace 250 Slow cooling furnace 250a ~ 250d Conveying roller 300 Cutting device

Claims (4)

ガラス原料を溶解し溶融ガラスとする溶融工程と、溶融ガラスを撹拌する撹拌工程と、撹拌した溶融ガラスをシート状に成形する成形工程とを有するガラス基板の製造方法であって、
失透粘度の高い或いは失透温度の低い組成から製造を開始し、経時的に失透粘度の低い或いは失透温度の高い組成に変更することによりガラス基板を製造し、
途中の前記撹拌工程を経た後の前記溶融ガラスの組成分析を行い、その結果に基づいて前記成形工程の製造条件を調整することを特徴とするガラス基板の製造方法。
A method for producing a glass substrate, comprising: a melting step for melting glass raw material to form molten glass; a stirring step for stirring molten glass; and a molding step for forming the stirred molten glass into a sheet shape,
Start manufacturing from a composition with high devitrification viscosity or low devitrification temperature, and manufacture a glass substrate by changing to a composition with low devitrification viscosity or high devitrification temperature over time,
A method for producing a glass substrate, comprising performing composition analysis of the molten glass after passing through the stirring step in the middle, and adjusting the production conditions of the forming step based on the result.
前記溶融ガラスの組成分析の結果に基づいて組成の変化率を見積もり、前記成形工程の温度条件を調整することを特徴とする請求項1に記載のガラス基板の製造方法。   The method for producing a glass substrate according to claim 1, wherein a rate of change of the composition is estimated based on a result of composition analysis of the molten glass, and a temperature condition of the forming step is adjusted. 蛍光X線分析法により前記溶融ガラスの組成分析を行うことを特徴とする請求項1又は2に記載のガラス基板の製造方法。   The method for producing a glass substrate according to claim 1 or 2, wherein composition analysis of the molten glass is performed by fluorescent X-ray analysis. オーバーフローダウンドロー法を用いて前記成形工程を行うことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載のガラス基板の製造方法。   The method for producing a glass substrate according to claim 1, wherein the forming step is performed using an overflow downdraw method.
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