JP2017178693A

JP2017178693A - Glass substrate manufacturing method, and sheet glass manufacturing apparatus

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Publication number: JP2017178693A
Application number: JP2016068944A
Authority: JP
Inventors: 博一樋渡; Hiroichi Hiwatari
Original assignee: Avanstrate Inc; Avanstrate Asia Pte Ltd
Current assignee: Avanstrate Inc; Avanstrate Asia Pte Ltd
Priority date: 2016-03-30
Filing date: 2016-03-30
Publication date: 2017-10-05

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass substrate manufacturing method capable of suppressing the occurrence of a plate thickness deviation in a glass substrate.SOLUTION: A glass substrate manufacturing method comprises: a molding process for preparing a sheet glass from a molten glass at an upper space in a molding furnace by using an overflow downdraw method; a cooling process for cooling the sheet glass in a sheet glass flowing direction in a first space containing the upper space and in a second space partitioned by a partition plate 260; and a cutting step of cutting the cooled sheet glass to prepare a glass substrate. The sheet glass is conveyed from the first space to the second space through a slit formed by the partition 260. At an end part 260a of the partition contacting the slit, there is disposed an adjusting device 290 for homogenizing the temperature of the atmosphere between the partition 260 and the sheet glass so that the flow of the gas to pass through the slit may be suppressed.SELECTED DRAWING: Figure 5

Description

本発明は、ガラス基板の製造方法、およびシートガラス製造装置に関する。 The present invention relates to a glass substrate manufacturing method and a sheet glass manufacturing apparatus.

熔融ガラスをシート状に成形する方法の１つとして、オーバーフローダウンドロー法が知られている。オーバーフローダウンドロー法では、成形体から熔融ガラスを溢れさせて成形体の両側の側面を流下させ、成形体の下端で合流することで得られるシートガラスの流れをつくる。シートガラスは、下方向に搬送されながら所望の温度プロファイルに従って徐冷され、所望のサイズに切断されることでガラス基板となる。成形および徐冷は、一般に、炉壁で囲まれた成型炉内で行われる。成型炉内の空間は、断熱性材料からなる仕切板によって上部空間と下部空間とに仕切られ、両空間の間での熱の移動が抑制されている。シートガラスは、上部空間で成形された後、下部空間に搬送されて徐冷が行われる（特許文献１）。 As one method for forming molten glass into a sheet, an overflow downdraw method is known. In the overflow down draw method, a molten glass is overflowed from the molded body, the side surfaces on both sides of the molded body are caused to flow down, and a flow of sheet glass is obtained by joining at the lower end of the molded body. The sheet glass is gradually cooled according to a desired temperature profile while being conveyed downward, and is cut into a desired size to become a glass substrate. Molding and slow cooling are generally performed in a molding furnace surrounded by a furnace wall. The space in the molding furnace is partitioned into an upper space and a lower space by a partition plate made of a heat insulating material, and heat transfer between both spaces is suppressed. After the sheet glass is formed in the upper space, it is conveyed to the lower space and gradually cooled (Patent Document 1).

特開２００８−８８００５号公報JP 2008-88005 A

ガラス基板は、ガラス基板の面内において板厚が均一であることが求められる。しかし、オーバーフローダウンドロー法を用いて作製したガラス基板に、板厚偏差が発生している場合がある。 The glass substrate is required to have a uniform thickness in the plane of the glass substrate. However, a thickness deviation may occur in a glass substrate manufactured using the overflow downdraw method.

本発明は、ガラス基板に板厚偏差が発生することを抑制できるガラス基板の製造方法およびシートガラス製造装置を提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the manufacturing method and sheet glass manufacturing apparatus of a glass substrate which can suppress that plate | board thickness deviation generate | occur | produces in a glass substrate.

本発明は、下記（１）〜（６）を提供する。
（１）ガラス基板の製造方法であって、
成形炉内の上部空間で、オーバーフローダウンドロー法を用いてシートガラスの流れをつくる成形工程と、
前記シートガラスの流れ方向に、前記上部空間を含む第１の空間と仕切板で仕切られた第２の空間で、前記シートガラスを冷却する冷却工程と、を備え、
前記仕切板によって作られたスリットを通過させるよう前記シートガラスを搬送し、
前記スリットに接する前記仕切板の端部において、前記スリットを通過する気体の流れを抑制するために、前記仕切板と前記シートガラスとの間の雰囲気の温度が均一になるよう温度調整を行うことを特徴とするガラス基板の製造方法。 The present invention provides the following (1) to (6).
(1) A method for producing a glass substrate,
In the upper space in the molding furnace, a molding process that creates a flow of sheet glass using the overflow downdraw method,
A cooling step of cooling the sheet glass in a first space including the upper space and a second space partitioned by a partition plate in the flow direction of the sheet glass;
Conveying the sheet glass to pass through the slit made by the partition plate,
In order to suppress the flow of gas passing through the slit at the end of the partition plate in contact with the slit, temperature adjustment is performed so that the temperature of the atmosphere between the partition plate and the sheet glass is uniform. A method for producing a glass substrate, comprising:

（２）前記仕切板は、前記スリットに接する端部に、前記シートガラスの厚さ方向を向く第１の端部、および、前記シートガラスの厚さ方向と直交する幅方向を向く第２の端部を有し、
前記温度調整は、前記第１の端部または前記第２の端部において行われる、前記（１）に記載のガラス基板の製造方法。 (2) The partition plate has a first end portion facing the thickness direction of the sheet glass at an end portion in contact with the slit, and a second direction facing a width direction orthogonal to the thickness direction of the sheet glass. Has an end,
The said temperature adjustment is a manufacturing method of the glass substrate as described in said (1) performed in the said 1st edge part or the said 2nd edge part.

（３）前記スリットに接する前記仕切板の端部のうち、前記シートガラスの厚さ方向を向く第１の端部において、前記シートガラスの厚さ方向と直交する幅方向に沿った位置ごとに前記温度調整を行う、前記（１）または前記（２）に記載のガラス基板の製造方法。 (3) Of the end portions of the partition plate in contact with the slit, in the first end portion facing the thickness direction of the sheet glass, for each position along the width direction orthogonal to the thickness direction of the sheet glass. The method for producing a glass substrate according to (1) or (2), wherein the temperature adjustment is performed.

（４）前記スリットと接する前記仕切板の端部の表面または内部空間に配置されたヒータを用いて前記温度調整を行う、前記（１）から前記（３）のいずれか１つに記載のガラス基板の製造方法。 (4) The glass according to any one of (1) to (3), wherein the temperature adjustment is performed using a heater disposed on a surface of an end portion of the partition plate in contact with the slit or an internal space. A method for manufacturing a substrate.

（５）前記仕切板は、前記シートガラスの流れ方向に前記上部空間と隣接する下部空間を前記第２の空間として、前記第２の空間を、前記上部空間と一致する第１の空間と仕切る部材である、前記（１）から前記（４）のいずれか１つに記載のガラス基板の製造方法。 (5) The partition plate partitions the second space from the first space that coincides with the upper space, with the lower space adjacent to the upper space in the flow direction of the sheet glass as the second space. The method for producing a glass substrate according to any one of (1) to (4), wherein the glass substrate is a member.

（６）成形炉内の上部空間で、オーバーフローダウンドロー法を用いてシートガラスの流れをつくる成形部と、
前記シートガラスの流れ方向に、前記上部空間を含む第１の空間と仕切板で仕切られた第２の空間で、前記シートガラスを冷却する冷却部と、を備え、
前記仕切板によって作られたスリットを通る搬送経路に沿って前記シートガラスを搬送し、
前記スリットに接する前記仕切板の端部には、前記スリットを通過する気体の流れを抑制するために、前記仕切板と前記シートガラスとの間の雰囲気の温度が均一になるよう温度調整を行う調整装置が設けられていることを特徴とするシートガラス製造装置。 (6) In the upper space in the molding furnace, a molding part that creates a flow of sheet glass using the overflow downdraw method;
A cooling unit that cools the sheet glass in a first space including the upper space and a second space partitioned by a partition plate in the flow direction of the sheet glass;
Conveying the sheet glass along a conveyance path passing through a slit made by the partition plate,
At the end of the partition plate in contact with the slit, temperature adjustment is performed so that the temperature of the atmosphere between the partition plate and the sheet glass is uniform in order to suppress the flow of gas passing through the slit. An apparatus for producing sheet glass, characterized in that an adjusting device is provided.

本発明によれば、オーバーフローダウンドロー法で作製されたガラス基板に板厚偏差が発生することを抑制できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it can suppress that plate | board thickness deviation generate | occur | produces in the glass substrate produced with the overflow downdraw method.

本実施形態のガラス基板の製造方法の工程の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the process of the manufacturing method of the glass substrate of this embodiment. 図１に示す各工程を行う装置の一例を説明する図である。It is a figure explaining an example of the apparatus which performs each process shown in FIG. 成形装置の内部構成をシートガラスの厚さ方向から見て説明する図である。It is a figure explaining the internal structure of a shaping | molding apparatus seeing from the thickness direction of a sheet glass. 図３のIV−IV矢視断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV in FIG. 3. （ａ）は、従来の仕切板の端部を示す図であり、（ｂ）は、調整装置が設けられた仕切板の端部を示す図である。(A) is a figure which shows the edge part of the conventional partition plate, (b) is a figure which shows the edge part of the partition plate in which the adjustment apparatus was provided. 調整装置の配置態様の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the arrangement | positioning aspect of an adjustment apparatus. 調整装置の配置態様の別の変形例を示す図である。It is a figure which shows another modification of the arrangement | positioning aspect of an adjustment apparatus. 調整装置の配置態様の別の変形例を示す図である。It is a figure which shows another modification of the arrangement | positioning aspect of an adjustment apparatus.

以下、本実施形態のガラス基板の製造方法、およびシートガラス製造装置について説明する。
（ガラス基板の製造方法の全体概要）
図１は、本実施形態のガラス基板の製造方法の工程の一例を示す図である。ガラス基板の製造方法は、熔解工程（ＳＴ１）、清澄工程（ＳＴ２）、均質化工程（ＳＴ３）、供給工程（ＳＴ４）、成形工程（ＳＴ５）、徐冷工程（ＳＴ６）、および、切断工程（ＳＴ７）を主に有する。この他に、研削工程、研磨工程、洗浄工程、検査工程、梱包工程等を有してもよい。製造されたガラス基板は、必要に応じて梱包工程で積層され、納入先の業者に搬送される。 Hereinafter, the manufacturing method of the glass substrate of this embodiment and a sheet glass manufacturing apparatus are demonstrated.
(Overall overview of glass substrate manufacturing method)
Drawing 1 is a figure showing an example of a process of a manufacturing method of a glass substrate of this embodiment. The glass substrate manufacturing method includes a melting step (ST1), a clarification step (ST2), a homogenization step (ST3), a supply step (ST4), a molding step (ST5), a slow cooling step (ST6), and a cutting step ( ST7) is mainly included. In addition, a grinding process, a polishing process, a cleaning process, an inspection process, a packing process, and the like may be included. The manufactured glass substrate is laminated in a packing process as necessary, and is transported to a supplier.

熔解工程（ＳＴ１）では、ガラス原料を加熱することにより熔融ガラスを作る。
清澄工程（ＳＴ２）では、熔融ガラスが昇温されることにより、熔融ガラス中に含まれる酸素、ＣＯ_２あるいはＳＯ_２を含んだ泡が発生する。この泡が熔融ガラス中に含まれる清澄剤（酸化スズ等）の還元反応により生じた酸素を吸収して成長し、熔融ガラスの液面に浮上して放出される。その後、清澄工程では、熔融ガラスの温度を低下させることにより、清澄剤の還元反応により得られた還元物質が酸化反応をする。これにより、熔融ガラスに残存する泡中の酸素等のガス成分が熔融ガラス中に再吸収されて、泡が消滅する。 In the melting step (ST1), molten glass is made by heating the glass raw material.
In the clarification step (ST2), the molten glass is heated to generate bubbles containing oxygen, CO ₂ or SO ₂ contained in the molten glass. This bubble grows by absorbing oxygen generated by the reduction reaction of the clarifying agent (tin oxide or the like) contained in the molten glass, and floats on the liquid surface of the molten glass and is released. Thereafter, in the clarification step, by reducing the temperature of the molten glass, the reducing substance obtained by the reduction reaction of the clarifier undergoes an oxidation reaction. Thereby, gas components, such as oxygen in the bubble which remain | survives in molten glass, are reabsorbed in molten glass, and a bubble lose | disappears.

均質化工程（ＳＴ３）では、スターラを用いて熔融ガラスを撹拌することにより、ガラス成分の均質化を行う。これにより、脈理等の原因であるガラスの組成ムラを低減することができる。均質化工程は、後述する撹拌槽において行われる。
供給工程（ＳＴ４）では、撹拌された熔融ガラスが成形装置に供給される。 In the homogenization step (ST3), the glass component is homogenized by stirring the molten glass using a stirrer. Thereby, the composition unevenness of the glass which is a cause of striae or the like can be reduced. A homogenization process is performed in the stirring tank mentioned later.
In the supplying step (ST4), the stirred molten glass is supplied to the molding apparatus.

成形工程（ＳＴ５）及び徐冷工程（ＳＴ６）は、成形装置で行われる。
成形工程（ＳＴ５）では、熔融ガラスをシートガラスに成形し、シートガラスの流れを作る。成形には、オーバーフローダウンドロー法が用いられる。
徐冷工程（ＳＴ６）では、成形されて流れるシートガラスが所望の厚さになり、内部歪が生じないように、さらに、反りが生じないように冷却される。
切断工程（ＳＴ７）では、徐冷後のシートガラスを所定の長さに切断することで、板状のガラス基板を得る。切断されたガラス基板はさらに、所定のサイズに切断され、目標サイズのガラス基板が作られる。なお、切断工程（ＳＴ７）は、ガラス基板の製造方法において、必須の工程ではなく、この場合、シートガラスは、本実施形態で製造されるガラス基板とされる。そのようなガラス基板として、例えば、ロール状に巻き取られた長尺状のシートガラスが挙げられる。 The molding step (ST5) and the slow cooling step (ST6) are performed by a molding apparatus.
In the forming step (ST5), the molten glass is formed into a sheet glass to make a flow of the sheet glass. An overflow downdraw method is used for molding.
In the slow cooling step (ST6), the sheet glass that has been formed and flowed is cooled to a desired thickness, so that internal distortion does not occur and warpage does not occur.
In the cutting step (ST7), the sheet glass after slow cooling is cut into a predetermined length to obtain a plate-like glass substrate. The cut glass substrate is further cut into a predetermined size to produce a glass substrate having a target size. In addition, a cutting process (ST7) is not an indispensable process in the manufacturing method of a glass substrate, and sheet glass is made into the glass substrate manufactured by this embodiment in this case. As such a glass substrate, elongate sheet glass wound up by roll shape is mentioned, for example.

図２は、本実施形態における熔解工程（ＳＴ１）〜切断工程（ＳＴ７）を行うガラス基板の製造装置の概略図である。ガラス基板の製造装置は、図２に示すように、主に熔解装置１００と、成形装置２００と、切断装置３００と、を有する。熔解装置１００は、熔解槽１０１と、清澄管１０２と、撹拌槽１０３と、移送管１０４、１０５と、ガラス供給管１０６と、を有する。
図２に示す熔解槽１０１には、図示されないバーナー等の加熱手段が設けられている。熔解槽には清澄剤が添加されたガラス原料が投入され、熔解工程（ＳＴ１）が行われる。熔解槽１０１で熔融した熔融ガラスは、移送管１０４を介して清澄管１０２に供給される。
清澄管１０２では、熔融ガラスＭＧの温度を調整して、清澄剤の酸化還元反応を利用して熔融ガラスの清澄工程（ＳＴ２）が行われる。具体的には、清澄管１０２内の熔融ガラスが昇温されることにより、熔融ガラス中に含まれる酸素、ＣＯ_２あるいはＳＯ_２を含んだ泡が、清澄剤の還元反応により生じた酸素を吸収して成長し、熔融ガラスの液面に浮上して気相空間に放出される。その後、熔融ガラスの温度を低下させることにより、清澄剤の還元反応により得られた還元物質が酸化反応をする。これにより、熔融ガラスに残存する泡中の酸素等のガス成分が熔融ガラス中に再吸収されて、泡が消滅する。清澄後の熔融ガラスは、移送管１０５を介して撹拌槽１０３に供給される。
撹拌槽１０３では、撹拌子１０３ａによって熔融ガラスが撹拌されて均質化工程（ＳＴ３）が行われる。撹拌槽１０３で均質化された熔融ガラスは、ガラス供給管１０６を介して成形装置２００に供給される（供給工程ＳＴ４）。
成形装置２００では、オーバーフローダウンドロー法により、熔融ガラスからシートガラスＳＧが成形され（成形工程ＳＴ５）、徐冷される（徐冷工程ＳＴ６）。
切断装置３００では、シートガラスＳＧから切り出された板状のガラス基板が形成される（切断工程ＳＴ７）。 FIG. 2 is a schematic view of a glass substrate manufacturing apparatus that performs the melting step (ST1) to the cutting step (ST7) in the present embodiment. As shown in FIG. 2, the glass substrate manufacturing apparatus mainly includes a melting apparatus 100, a forming apparatus 200, and a cutting apparatus 300. The melting apparatus 100 includes a melting tank 101, a clarification pipe 102, a stirring tank 103, transfer pipes 104 and 105, and a glass supply pipe 106.
The melting tank 101 shown in FIG. 2 is provided with heating means such as a burner (not shown). A glass raw material to which a clarifying agent is added is charged into the melting tank, and a melting step (ST1) is performed. The molten glass melted in the melting tank 101 is supplied to the clarification tube 102 via the transfer tube 104.
In the clarification tube 102, the temperature of the molten glass MG is adjusted, and the clarification step (ST2) of the molten glass is performed using the oxidation-reduction reaction of the clarifier. Specifically, when the molten glass in the clarification tube 102 is heated, the bubbles containing oxygen, CO ₂ or SO ₂ contained in the molten glass absorb oxygen generated by the reductive reaction of the clarifier. It grows and floats on the liquid surface of the molten glass and is released into the gas phase space. Thereafter, by reducing the temperature of the molten glass, the reducing substance obtained by the reductive reaction of the fining agent undergoes an oxidation reaction. Thereby, gas components, such as oxygen in the bubble which remain | survives in molten glass, are reabsorbed in molten glass, and a bubble lose | disappears. The clarified molten glass is supplied to the stirring tank 103 via the transfer pipe 105.
In the stirring vessel 103, the molten glass is stirred by the stirring bar 103a, and the homogenization step (ST3) is performed. The molten glass homogenized in the stirring tank 103 is supplied to the molding apparatus 200 through the glass supply pipe 106 (supply process ST4).
In the forming apparatus 200, the sheet glass SG is formed from the molten glass by the overflow downdraw method (molding step ST5) and gradually cooled (slow cooling step ST6).
In the cutting device 300, a plate-like glass substrate cut out from the sheet glass SG is formed (cutting step ST7).

次に、成形装置２００の詳細な構成について説明する。 Next, a detailed configuration of the molding apparatus 200 will be described.

（成形装置）
図３は成形装置２００を示す概略図であり、図４は図３のIV−IV矢視断面図である。成形装置２００は、本実施形態のシートガラス製造装置である。 (Molding equipment)
FIG. 3 is a schematic view showing the molding apparatus 200, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV in FIG. The forming apparatus 200 is a sheet glass manufacturing apparatus according to this embodiment.

成形装置２００の炉壁２０３（成形炉）、仕切板２６０、２６１は、酸化被膜が形成されたSiC部材、耐火レンガ、耐火断熱レンガ、ファイバー系断熱材等の耐火物、及びステンレスなどの金属の組み合わせにより形成されている。仕切板２６０、２６１はいずれも、１対の板状部材である。図３、図４に示すように、成形装置２００の内部空間は、仕切板２６０によって、成形室２０１（上部空間）と、成形室２０１の下部の徐冷室２０２（下部空間）とに区分けされている。成形室２０１では成形工程（ＳＴ５）が行われ、徐冷室２０２では徐冷工程（ＳＴ６）が行われる。仕切板２６１は、徐冷室２０２内を、鉛直方向に複数の空間に区分けするよう、複数の位置に配置されている。徐冷室２０２は、最も上段に位置する仕切板２６１によって、第１徐冷室２０２Ａと、第２徐冷室２０２Ｂとに区分けされている。
仕切板２６０、２６１の少なくとも１つには、仕切板２６０とシートガラスＳＧとの間の雰囲気の温度調整を行う調整装置２９０（図５参照）が設けられている。調整装置２９０が設けられた仕切板より上方に位置する空間は第１の空間であり、調整装置２９０が設けられた仕切板より下方に位置する空間は第２の空間である。調整装置２９０の具体的な説明は後で行う。 The furnace wall 203 (molding furnace) and the partition plates 260 and 261 of the molding apparatus 200 are made of a SiC member on which an oxide film is formed, a refractory brick such as a refractory brick, a refractory thermal insulation brick, a fiber-based thermal insulation material, and a metal such as stainless steel. It is formed by a combination. Each of the partition plates 260 and 261 is a pair of plate-like members. As shown in FIGS. 3 and 4, the internal space of the molding apparatus 200 is divided into a molding chamber 201 (upper space) and a slow cooling chamber 202 (lower space) below the molding chamber 201 by a partition plate 260. ing. In the molding chamber 201, a molding step (ST5) is performed, and in the slow cooling chamber 202, a slow cooling step (ST6) is performed. The partition plate 261 is disposed at a plurality of positions so as to divide the slow cooling chamber 202 into a plurality of spaces in the vertical direction. The slow cooling chamber 202 is divided into a first slow cooling chamber 202A and a second slow cooling chamber 202B by a partition plate 261 located at the uppermost stage.
At least one of the partition plates 260 and 261 is provided with an adjusting device 290 (see FIG. 5) that adjusts the temperature of the atmosphere between the partition plate 260 and the sheet glass SG. A space located above the partition plate provided with the adjusting device 290 is a first space, and a space located below the partition plate provided with the adjusting device 290 is a second space. A specific description of the adjusting device 290 will be given later.

図４に示すように、成形室２０１および徐冷室２０２は、炉壁２０３によって外部空間と区画されている。
成形室２０１には、成形体２１０が設けられている。成形室２０１には、雰囲気及び成形体２１０、成形体２１０を流下する熔融ガラスＭＧを加熱するためのヒータ２１６が設けられている。
成形体２１０には、図２に示すガラス供給管１０６を通して熔解装置１００から熔融ガラスが供給される。なお、ガラス供給管１０６は白金族金属等からなり、通電により加熱され、ガラス供給管１０６から成形体２１０に供給される熔融ガラスの温度・粘度を調整することができる。 As shown in FIG. 4, the molding chamber 201 and the slow cooling chamber 202 are separated from the external space by a furnace wall 203.
A molding body 210 is provided in the molding chamber 201. The molding chamber 201 is provided with a heater 216 for heating the atmosphere, the molded body 210, and the molten glass MG flowing down the molded body 210.
Molten glass is supplied from the melting apparatus 100 to the compact 210 through the glass supply pipe 106 shown in FIG. The glass supply pipe 106 is made of a platinum group metal or the like, and is heated by energization to adjust the temperature and viscosity of the molten glass supplied from the glass supply pipe 106 to the molded body 210.

成形体２１０は、耐火レンガ等によって構成された細長い構造体であり、図４に示すように、上端から下端に向かって幅が狭くなる鉛直断面楔形状を成している。成形体２１０の上部には、熔融ガラスＭＧを導く流路となる溝２１２が設けられている。溝２１２は、ガラス供給管１０６と接続され、ガラス供給管１０６を通して流れてくる熔融ガラスＭＧは、溝２１２を伝って流れる。溝２１２の深さは、熔融ガラスＭＧの流れの下流ほど浅くなっている。溝２１２を流れる熔融ガラスＭＧは溝２１２から溢れ出し、成形体２１０の両側の側壁を伝わって流下し、成形体２１０の下方端部２１３で合流し、融合して鉛直下方に流下する。これにより、成形装置２００内で成形体２１０から鉛直下方に向かうシートガラスＳＧが作られる。シートガラスＳＧは、成形装置２００内の搬送経路に沿って鉛直下方に搬送される。搬送経路上には後述するスリットが位置しており、シートガラスＳＧは、スリットを通過するよう搬送される。
なお、成形体２１０の下方端部２１３の直下におけるシートガラスＳＧの温度は、１０^５．７〜１０^７．５ｐｏｉｓｅの粘度に相当する温度であり、例えば１０００〜１１３０℃である。
成形体２１０の長さ方向の両端部には、ガイド部材２１４、２１５が設けられている。ガイド部材２１４、２１５は、溝２１２から溢れ出す熔融ガラスが成形体２１０の両端の方向（図３の左右方向）に溢れ出すのを抑制する。ガイド部材２１４、２１５は、例えば白金族金属等からなる。 The formed body 210 is a long and narrow structure formed of firebrick or the like, and as shown in FIG. 4, has a vertical cross-sectional wedge shape whose width decreases from the upper end toward the lower end. A groove 212 serving as a flow path for guiding the molten glass MG is provided in the upper part of the molded body 210. The groove 212 is connected to the glass supply pipe 106, and the molten glass MG flowing through the glass supply pipe 106 flows along the groove 212. The depth of the groove 212 is shallower toward the downstream side of the flow of the molten glass MG. The molten glass MG flowing in the groove 212 overflows from the groove 212, flows down along the side walls on both sides of the molded body 210, merges at the lower end portion 213 of the molded body 210, fuses, and flows down vertically. Thereby, the sheet glass SG which goes to the vertically downward direction from the molded object 210 within the shaping | molding apparatus 200 is made. The sheet glass SG is conveyed vertically downward along the conveyance path in the forming apparatus 200. A slit, which will be described later, is located on the conveyance path, and the sheet glass SG is conveyed so as to pass through the slit.
In addition, the temperature of the sheet glass SG just under the lower end part 213 of the molded body 210 is a temperature corresponding to a viscosity of 10 ^5.7 to 10 ^7.5 poise, for example, 1000 to 1130 ° C.
Guide members 214 and 215 are provided at both ends in the length direction of the molded body 210. The guide members 214 and 215 prevent the molten glass overflowing from the groove 212 from overflowing in the direction of both ends of the molded body 210 (left and right direction in FIG. 3). The guide members 214 and 215 are made of, for example, a platinum group metal.

成形室２０１内には、成形室２０１内を加熱するヒータ２１６が設けられている。成形室２０１内の温度は、ヒータ２１６により、成形体２１０から流下される熔融ガラスが充分に低粘度に保たれる所定の温度範囲内に調整されている。 A heater 216 for heating the inside of the molding chamber 201 is provided in the molding chamber 201. The temperature in the molding chamber 201 is adjusted by a heater 216 within a predetermined temperature range in which the molten glass flowing down from the molded body 210 is kept sufficiently low in viscosity.

仕切板２６０は、成形体２１０の下方端部２１３の下方近傍に設けられている。１対の仕切板２６０は、シートガラスＳＧの厚さ方向の両側（図４の左側および右側）に設けられており、シートガラスＳＧの厚さ方向に、シートガラスＳＧが通過する間隔を空けて配置され、スリットを形成している。スリットの間隔は、シートガラスＳＧの厚さよりも充分に大きく、例えば２００ｍｍである。仕切板２６０は、成形装置２００の内部空間を仕切ることにより、仕切板２６０の上方の成形室２０１と下方の第１徐冷室２０２Ａとの間の熱の移動を遮断する。 The partition plate 260 is provided near the lower end portion 213 of the molded body 210. The pair of partition plates 260 are provided on both sides in the thickness direction of the sheet glass SG (the left side and the right side in FIG. 4), with an interval through which the sheet glass SG passes in the thickness direction of the sheet glass SG. Arranged to form a slit. The interval between the slits is sufficiently larger than the thickness of the sheet glass SG, for example, 200 mm. The partition plate 260 partitions the internal space of the molding apparatus 200, thereby blocking heat transfer between the molding chamber 201 above the partition plate 260 and the first slow cooling chamber 202A below.

徐冷室２０２Ａには、１対の冷却ローラ２３０と、冷却装置２４０が設けられている。
冷却ローラ２３０および冷却装置２４０は、仕切板２６０の下方に設けられている。
１対の冷却ローラ２３０は、図３、図４に示すように、シートガラスＳＧを厚さ方向の両側から挟持して下方に引っ張るように、シートガラスＳＧの厚さ方向の両側に設けられている。冷却ローラ２３０は、シートガラスＳＧの幅方向両端部を、約１０^１４．５ｐｏｉｓｅ以上の粘度に相当する温度以下の温度に低下するように、冷却する。冷却ローラ２３０は中空であり、内部に冷却媒体（例えば空気等）が供給されることにより急冷されている。
冷却ローラ２３０はシートガラスＳＧの幅方向（図３の左右方向）に移動可能に設けられている。冷却ローラ２３０によるシートガラスＳＧの冷却位置を調整することで、シートガラスＳＧの幅を調整することができる。シートガラスＳＧの幅を調整することにより、成形体２１０から流下される熔融ガラスの幅（図３の左右方向の長さ）を調整することができる。 The slow cooling chamber 202A is provided with a pair of cooling rollers 230 and a cooling device 240.
The cooling roller 230 and the cooling device 240 are provided below the partition plate 260.
As shown in FIGS. 3 and 4, the pair of cooling rollers 230 are provided on both sides in the thickness direction of the sheet glass SG so that the sheet glass SG is sandwiched from both sides in the thickness direction and pulled downward. Yes. The cooling roller 230 cools both ends in the width direction of the sheet glass SG so as to decrease to a temperature equal to or lower than a temperature corresponding to a viscosity of about 10 ^14.5 poise or more. The cooling roller 230 is hollow and is rapidly cooled by supplying a cooling medium (for example, air) to the inside.
The cooling roller 230 is provided so as to be movable in the width direction of the sheet glass SG (the left-right direction in FIG. 3). By adjusting the cooling position of the sheet glass SG by the cooling roller 230, the width of the sheet glass SG can be adjusted. By adjusting the width of the sheet glass SG, the width of the molten glass flowing down from the molded body 210 (the length in the left-right direction in FIG. 3) can be adjusted.

冷却装置２４０は、シートガラスＳＧの幅方向の中央部を、軟化点より高い温度から、徐冷点近傍まで冷却する。ここで、シートガラスＳＧの中央部とは、シートガラス成形後に切断される対象を除く領域であり、シートガラスＳＧの板厚が均一となるように製造される領域である。冷却装置２４０は、例えば上下方向に３段のユニットからなり、上段ユニットでシートガラスＳＧを軟化点近傍まで急冷し、中段ユニットおよび下段ユニットでシートガラスを緩やかに冷却することで、シートガラスＳＧを徐冷点近傍まで冷却する。冷却装置２４０は、シートガラスＳＧの幅方向の中央部を、約１０^９．０ｐｏｉｓｅ以上の粘度に相当する温度以下の温度に低下するように、冷却する。 The cooling device 240 cools the central portion in the width direction of the sheet glass SG from a temperature higher than the softening point to the vicinity of the annealing point. Here, the center part of the sheet glass SG is an area | region except the object cut | disconnected after sheet glass shaping | molding, and is an area | region manufactured so that the plate | board thickness of the sheet glass SG may become uniform. The cooling device 240 is composed of, for example, three units in the vertical direction. The upper unit rapidly cools the sheet glass SG to the vicinity of the softening point, and the sheet glass SG is gently cooled by the middle unit and the lower unit. Cool to near annealing point. The cooling device 240 cools the central portion in the width direction of the sheet glass SG so as to be lowered to a temperature equal to or lower than a temperature corresponding to a viscosity of about 10 ^9.0 poise or more.

第２徐冷室２０２Ｂは、最も上段に設けられた仕切板２６１により第１徐冷室２０２Ａと仕切られている。第２徐冷室２０２Ｂの内部空間は、鉛直方向に間隔を空けて設けられた仕切板２６１によって複数の区画Ｃａ〜Ｃｆに区分けされている。なお、本実施形態においては、第２徐冷室２０２Ｂ内が６つの区画Ｃａ〜Ｃｆに区分けされている例について説明するが、区画の数は任意である。仕切板２６１はいずれも、シートガラスＳＧの厚さ方向の両側（図４の左側および右側）に設けられており、シートガラスＳＧの厚さ方向に、シートガラスＳＧが通過する間隔を空けて配置され、スリットを形成している。 The second slow cooling chamber 202B is partitioned from the first slow cooling chamber 202A by a partition plate 261 provided at the uppermost stage. The internal space of the second slow cooling chamber 202B is divided into a plurality of sections Ca to Cf by a partition plate 261 provided at intervals in the vertical direction. In addition, in this embodiment, although the example in which the inside of the 2nd slow cooling chamber 202B is divided into six divisions Ca-Cf is demonstrated, the number of divisions is arbitrary. All the partition plates 261 are provided on both sides in the thickness direction of the sheet glass SG (the left side and the right side in FIG. 4), and are arranged in the thickness direction of the sheet glass SG with an interval through which the sheet glass SG passes. And forming a slit.

第２徐冷室２０２Ｂの区画Ｃａ〜Ｃｆには、それぞれ搬送部材２５０と、温度調整装置２５１と、が設けられている。
第１徐冷室２０２Ａ及び第２徐冷室２０２Ｂでは、上記冷却ローラ２３０、冷却装置２４０および温度調整装置２５１により、シートガラスＳＧが、予め設計された温度プロファイルに対応した温度分布を持つように、冷却する。徐冷室２０２で冷却されたシートガラスＳＧは、徐冷室２０２の下部に設けられた切断装置３００によって切断される。 A conveyance member 250 and a temperature adjustment device 251 are provided in the sections Ca to Cf of the second slow cooling chamber 202B, respectively.
In the first slow cooling chamber 202A and the second slow cooling chamber 202B, the cooling roller 230, the cooling device 240, and the temperature adjusting device 251 allow the sheet glass SG to have a temperature distribution corresponding to a predesigned temperature profile. ,Cooling. The sheet glass SG cooled in the slow cooling chamber 202 is cut by a cutting device 300 provided in the lower part of the slow cooling chamber 202.

粘性領域では、例えば、シートガラスＳＧの幅方向の端部の温度が中央領域の温度より低く、且つ、中央領域の温度が均一になるような温度プロファイル（第１プロファイル）に設計される。これにより、幅方向の収縮を抑えつつ、シートガラスＳＧの板厚を均一にすることができる。
粘弾性領域では、例えば、シートガラスＳＧの温度が中央部から端部に向かって幅方向に漸減するような温度プロファイル（第２プロファイル）に設計される。
ガラス歪点の近傍の温度領域では、シートガラスＳＧの幅方向の端部の温度と中央部の温度とが略均一になるような温度プロファイルに設計される。
上記の設計された温度プロファイルに従うようにシートガラスＳＧの温度を管理することにより、シートガラスＳＧの反り及び歪（残留応力）を低減することができる。なお、シートガラスＳＧの中央領域は、板厚を均一にする対象の部分を含む領域であり、シートガラスＳＧの端部は、製造後に切断される対象の部分を含む領域である。 In the viscous region, for example, the temperature profile (first profile) is designed such that the temperature of the end in the width direction of the sheet glass SG is lower than the temperature of the central region and the temperature of the central region is uniform. Thereby, the plate | board thickness of the sheet glass SG can be made uniform, suppressing the shrinkage | contraction of the width direction.
In the viscoelastic region, for example, a temperature profile (second profile) is designed such that the temperature of the sheet glass SG gradually decreases in the width direction from the center toward the end.
In the temperature region in the vicinity of the glass strain point, the temperature profile is designed such that the temperature at the end in the width direction of the sheet glass SG and the temperature at the center are substantially uniform.
By managing the temperature of the sheet glass SG so as to follow the above-described designed temperature profile, the warp and distortion (residual stress) of the sheet glass SG can be reduced. In addition, the center area | region of the sheet glass SG is an area | region including the target part which makes plate | board thickness uniform, and the edge part of the sheet glass SG is an area | region including the target part cut | disconnected after manufacture.

図５〜図８を参照しながら、調整装置２９０について説明する。
以下、調整装置２９０が仕切板２６０に設けられている場合を例に説明するが、調整装置２９０は、仕切板２６０、２６１のうち少なくともいずれか１つに設けることができる。 The adjusting device 290 will be described with reference to FIGS.
Hereinafter, although the case where the adjusting device 290 is provided on the partition plate 260 will be described as an example, the adjusting device 290 may be provided on at least one of the partition plates 260 and 261.

図５（ａ）は、従来の仕切板の端部を示す図である。また、図５（ｂ）は、調整装置２９０が設けられた仕切板２６０の端部２６０ａを示す図である。図５（ａ）および図５（ｂ）には、１対の仕切板２６０によって形成されるスリットのうち、シートガラスＳＧと一方の側の仕切板２６０との間の隙間Ｓが示されている。
調整装置２９０は、スリットを通過する気体の流れを抑制するために、仕切板２６０とシートガラスＳＧとの間の雰囲気の温度が均一になるよう温度調整を行う装置である。上述のように、成形室２０１および徐冷室２０２Ａではそれぞれ温度調整が行われるとともに、仕切板２６０により成形室２０１と徐冷室２０２Ａの間で熱の移動が遮断されているため、成形室２０１と徐冷室２０２Ａとの間には温度差が生じている。ここで、従来の成形装置では、徐冷室２０２Ａでは、シートガラスＳＧによって暖められた空気がシートガラスＳＧの表面に沿って上昇するため、図５（ａ）に示されるように、スリットを通過する上昇気流Ａが流れている。上昇気流Ａは、成形室２０１内を循環するように流れ、そのうちの一部は、炉壁２０３を通過して成形室２０１の外側に排出されるが、殆どの部分は、隙間Ｓを通過して徐冷室２０２Ａ内に流れ、スリットを通過する下降気流Ｂが流れている。下降気流Ｂは、図示されるように、シートガラスＳＧから、上昇気流Ａが流れる位置よりもシートガラスＳＧの厚さ方向に離れた位置で流れていると考えられる。このように、上昇気流Ａおよび下降気流Ｂがスリットを通過することに起因して、シートガラスＳＧの表面に厚さのムラが発生し、ガラス基板において板厚偏差が生じることがわかった。板厚偏差は、ガラス基板の面内における板厚の変動をいう。そして、スリットを通過する上昇気流Ａおよび下降気流Ｂの流れは、スリット内の雰囲気の温度が均一になるよう温度調整されることで抑制されることがわかった。このため、本実施形態では、仕切板２６０の端部２６０ａに調整装置２９０が設けられている。調整装置２９０は、図示される例において、スリット内の雰囲気を加熱するヒータである。以下、ヒータを例にして、調整装置２９０を説明する。本実施形態では、ヒータ２９０を用いてスリット内の雰囲気の温度が均一になるように加熱することで、成形室２０１と徐冷室２０２Ａとの間に温度差が存在していても、スリットを通過する上昇気流Ａおよび下降気流Ｂの流れが抑制される。スリット内の雰囲気の温度が均一であるとは、隙間Ｓ内の雰囲気温度がシートガラスＳＧの板厚方向にわたって均一であることをいい、例えば、隙間Ｓ内の雰囲気の最高温度と最低温度との温度差が１００度以下であることをいう。上記した気流抑制効果は、均一な温度になるよう加熱されたスリット内の雰囲気が、成形室２０１と徐冷室２０２Ａとの間での気体の移動を遮断するヒートシールとして機能することによって得られると考えられる。 Fig.5 (a) is a figure which shows the edge part of the conventional partition plate. FIG. 5B is a diagram showing an end portion 260a of the partition plate 260 provided with the adjusting device 290. FIG. 5A and FIG. 5B show a gap S between the sheet glass SG and the partition plate 260 on one side among the slits formed by the pair of partition plates 260. .
The adjusting device 290 is a device that adjusts the temperature so that the temperature of the atmosphere between the partition plate 260 and the sheet glass SG is uniform in order to suppress the flow of gas passing through the slit. As described above, the temperature is adjusted in each of the molding chamber 201 and the slow cooling chamber 202A, and the movement of heat between the molding chamber 201 and the slow cooling chamber 202A is blocked by the partition plate 260. And a temperature difference between the slow cooling chamber 202A. Here, in the conventional molding apparatus, in the slow cooling chamber 202A, since the air heated by the sheet glass SG rises along the surface of the sheet glass SG, as shown in FIG. The rising airflow A is flowing. The ascending airflow A flows so as to circulate in the molding chamber 201, and part of it passes through the furnace wall 203 and is discharged to the outside of the molding chamber 201, but most of the portion passes through the gap S. The descending airflow B flows in the slow cooling chamber 202A and passes through the slit. As shown in the drawing, the downdraft B is considered to flow from the sheet glass SG at a position away from the position where the updraft A flows in the thickness direction of the sheet glass SG. As described above, it has been found that due to the upward airflow A and the downward airflow B passing through the slits, thickness unevenness occurs on the surface of the sheet glass SG, and a plate thickness deviation occurs in the glass substrate. The plate thickness deviation refers to the variation of the plate thickness in the plane of the glass substrate. And it turned out that the flow of the updraft A and the downdraft B which passes a slit is suppressed by adjusting temperature so that the temperature of the atmosphere in a slit may become uniform. For this reason, in this embodiment, the adjusting device 290 is provided at the end portion 260 a of the partition plate 260. The adjusting device 290 is a heater that heats the atmosphere in the slit in the illustrated example. Hereinafter, the adjustment device 290 will be described using a heater as an example. In the present embodiment, the heater 290 is used to heat the atmosphere in the slit so that the temperature in the slit becomes uniform, so that even if there is a temperature difference between the molding chamber 201 and the slow cooling chamber 202A, the slit is The flow of the ascending airflow A and the descending airflow B passing therethrough is suppressed. That the temperature of the atmosphere in the slit is uniform means that the atmosphere temperature in the gap S is uniform over the thickness direction of the sheet glass SG. For example, the maximum temperature and the minimum temperature of the atmosphere in the gap S The temperature difference is 100 degrees or less. The airflow suppression effect described above is obtained by the atmosphere in the slit heated to a uniform temperature functioning as a heat seal that blocks gas movement between the molding chamber 201 and the slow cooling chamber 202A. it is conceivable that.

ヒータ２９０には、例えば、通電されることで発熱する発熱体をセラミック材料中に有するセラミックヒータを用いることができる。セラミック材料は、例えば、ジルコニア、アルミナ等である。ヒータの形状は、図５（ｂ）に示される例では、仕切板２６０の端部２６０ａの端面において、シートガラスＳＧが延在する方向と平行な方向に延在する板状であるが、特に制限されない。例えば、一方向に延びる棒状あるいは管状の形状であってもよい。棒状あるいは管状のヒータは、仕切板２６０の端部２６０ａにおいて、例えば、シートガラスＳＧの幅方向に沿って延びるよう配置される。これらのヒータは、例えば接着剤等を用いて、２６０の端部２６０ａの表面に固定される。１枚の仕切板２６０に設けられるヒータ２９０の数は、制限されず、１個であってもよく、２個以上であってもよい。 As the heater 290, for example, a ceramic heater having a heating element that generates heat when energized can be used. Examples of the ceramic material include zirconia and alumina. In the example shown in FIG. 5B, the shape of the heater is a plate shape that extends in a direction parallel to the direction in which the sheet glass SG extends on the end surface of the end portion 260a of the partition plate 260. Not limited. For example, it may be a rod-like or tubular shape extending in one direction. The rod-shaped or tubular heater is arranged at the end portion 260a of the partition plate 260 so as to extend along the width direction of the sheet glass SG, for example. These heaters are fixed to the surface of the end portion 260a of the 260 using, for example, an adhesive. The number of heaters 290 provided on one partition plate 260 is not limited and may be one or may be two or more.

ヒータ２９０は、図５（ｂ）に示されるように、スリットと接する仕切板２６０の端部２６０ａの表面に設けられていてもよく、図６に示されるように、端部２６０ａの内部空間２６０ｂに配置されていてもよい。図６は、調整装置２９０の配置態様の変形例を示す図であり、仕切板２６０の断面を示している。内部空間２６０ｂは、図６に示す例では、仕切板２６０の端部２６０ａにおいてシートガラスＳＧ側に開放されているが、仕切板２６０の内部で閉塞する空間であってもよい。内部空間２６０ｂは、例えば切削加工等によって仕切板２６０内に形成される。 As shown in FIG. 5B, the heater 290 may be provided on the surface of the end portion 260a of the partition plate 260 in contact with the slit. As shown in FIG. 6, the inner space 260b of the end portion 260a. May be arranged. FIG. 6 is a view showing a modification of the arrangement mode of the adjusting device 290, and shows a cross section of the partition plate 260. In the example shown in FIG. 6, the internal space 260 b is open to the sheet glass SG side at the end portion 260 a of the partition plate 260, but may be a space that is closed inside the partition plate 260. The internal space 260b is formed in the partition plate 260 by cutting or the like, for example.

スリット内の雰囲気は、ヒータを用いて温度が均一になるよう加熱される。具体的には、仕切板２６０の端部２６０ａとシートガラスＳＧとの温度差が小さくなるよう、スリット内の雰囲気は加熱されることが好ましい。仕切板２６０の端部２６０ａとシートガラスＳＧとの温度差は、０度になることが最も好ましいが、例えば、仕切板２６０の端部２６０ａとシートガラスＳＧとの温度差は、１００度以内、より好ましくは５０度以内、さらに好ましくは３０度以内となるよう調整される。 The atmosphere in the slit is heated using a heater so that the temperature becomes uniform. Specifically, the atmosphere in the slit is preferably heated so that the temperature difference between the end portion 260a of the partition plate 260 and the sheet glass SG becomes small. The temperature difference between the end portion 260a of the partition plate 260 and the sheet glass SG is most preferably 0 degree. For example, the temperature difference between the end portion 260a of the partition plate 260 and the sheet glass SG is within 100 degrees. More preferably, it is adjusted to be within 50 degrees, and more preferably within 30 degrees.

また、１枚の仕切板２６０に複数のヒータ２９０を設ける場合、例えば、図７に示されるように、仕切板２６０の端部２６０ａのうち、シートガラスＳＧとシートガラスＳＧの厚さ方向に対向する部分（第１の端部）に、シートガラスＳＧの幅方向に沿って複数のヒータ２９０を配置することができる。図７は、ヒータ２９０の配置態様の別の変形例を示す図であって、シートガラスＳＧの流れ方向から見た図である。図７において、スリットの間隔は誇張して示されている。ヒータ２９０は、図示されるように幅方向に互いに接して配置されてもよく、互いに間隔をあけて配置されてもよい。このような配置態様のヒータ２９０を用いた温度調整は、シートガラスＳＧの幅方向に沿った位置ごとに行うことが好ましい。スリットを通過する気流のうち、上昇気流は、シートガラスＳＧの幅方向の温度分布と対応するように、シートガラスＳＧの幅方向に沿った流速の分布を有しており、例えば、シートガラスＳＧの幅方向領域のうち最も温度が高い領域において、上昇気流の流速は最も大きい。このため、複数のヒータを用いて、シートガラスＳＧの幅方向に沿った位置ごとに温度調整を行う。例えば、上昇気流の温度分布に応じて、上昇気流の流速の大きい位置と対応する位置にあるヒータの発熱量を大きくし、上昇気流の流速の小さい位置と対応する位置にあるヒータの発熱量を小さくする温度調整を行う。シートガラスＳＧの厚さのムラは、スリットを通過する気流のシートガラスＳＧの幅方向に沿った流速分布に起因して生じ、この結果、シートガラスＳＧの幅方向と対応するガラス基板の方向に板厚が変動しやすいことがわかった。このため、シートガラスＳＧの幅方向に沿った位置ごとに温度調整を行って、スリット内の雰囲気温度をシートガラスＳＧの幅方向にわたって均一にする。これにより、スリットを通過する気流をシートガラスＳＧの幅方向にわたって抑制でき、ガラス基板の幅方向における板厚偏差の発生を抑制することができる。なお、下降気流の流速分布に関しては、上昇気流ほどに、シートガラスＳＧの幅方向の温度分布との相関性はないと考えられるが、上昇気流の流速分布と合わせて下降気流の流速分布を考慮して、温度調整を行うことがより好ましい。 Moreover, when providing the several heater 290 in the one partition plate 260, as FIG. 7 shows, it opposes in the thickness direction of the sheet glass SG and the sheet glass SG among the edge parts 260a of the partition plate 260, for example. A plurality of heaters 290 can be arranged along the width direction of the sheet glass SG at the portion to be performed (first end portion). FIG. 7 is a view showing another modified example of the arrangement mode of the heater 290, as viewed from the flow direction of the sheet glass SG. In FIG. 7, the interval between the slits is exaggerated. The heaters 290 may be disposed in contact with each other in the width direction as illustrated, or may be disposed at intervals. The temperature adjustment using the heater 290 having such an arrangement mode is preferably performed for each position along the width direction of the sheet glass SG. Among the airflows passing through the slits, the ascending airflow has a flow velocity distribution along the width direction of the sheet glass SG so as to correspond to the temperature distribution in the width direction of the sheet glass SG. In the region having the highest temperature among the regions in the width direction, the flow rate of the updraft is the largest. For this reason, temperature adjustment is performed for each position along the width direction of the sheet glass SG using a plurality of heaters. For example, in accordance with the temperature distribution of the updraft, the heating value of the heater at the position corresponding to the position where the flow speed of the updraft is large is increased, and the heating value of the heater at the position corresponding to the position where the flow speed of the updraft is small is set. Adjust the temperature to make it smaller. The unevenness of the thickness of the sheet glass SG is caused by the flow velocity distribution along the width direction of the sheet glass SG of the airflow passing through the slit, and as a result, in the direction of the glass substrate corresponding to the width direction of the sheet glass SG. It was found that the plate thickness was likely to fluctuate. For this reason, temperature adjustment is performed for every position along the width direction of the sheet glass SG, and the atmospheric temperature in a slit is made uniform over the width direction of the sheet glass SG. Thereby, the airflow which passes a slit can be suppressed over the width direction of the sheet glass SG, and generation | occurrence | production of the plate | board thickness deviation in the width direction of a glass substrate can be suppressed. In addition, regarding the flow velocity distribution of the downdraft, it is considered that there is no correlation with the temperature distribution in the width direction of the sheet glass SG as the updraft, but the flow velocity distribution of the downdraft is considered together with the flow velocity distribution of the updraft. It is more preferable to adjust the temperature.

なお、仕切板２６０は、１対の板状部材に代えて、図８に示されるように、シートガラスＳＧの幅方向に閉塞したスリットが形成された１枚の部材で構成されてもよい。図８は、ヒータ２９０の配置態様の別の変形例を示す図であって、シートガラスＳＧの流れ方向から見た図である。図８において、スリットの間隔は誇張して示されている。この場合に、ヒータ２９０は、仕切板２６０の端部２６０ａのうち、シートガラスＳＧの厚さ方向と直交する方向を向く端部（第２の端部）に設けられてもよい。この場合に、さらに、仕切板２６０の端部２６０ａにおいて、シートガラスＳＧの厚さ方向を向く部分（第１の端部）に設けられてもよい。 In addition, instead of a pair of plate-like members, the partition plate 260 may be configured by a single member in which a slit closed in the width direction of the sheet glass SG is formed as shown in FIG. FIG. 8 is a view showing another modified example of the arrangement mode of the heater 290, as viewed from the flow direction of the sheet glass SG. In FIG. 8, the interval between the slits is exaggerated. In this case, the heater 290 may be provided at an end portion (second end portion) of the end portion 260a of the partition plate 260 that faces in a direction orthogonal to the thickness direction of the sheet glass SG. In this case, the end portion 260a of the partition plate 260 may be provided at a portion (first end portion) facing the thickness direction of the sheet glass SG.

調整装置２９０は、ヒータに限定されず、冷却装置であってもよい。例えば、図７に示される例において、ヒータの代わりに冷却装置を設けるとともに、上昇気流の温度分布に応じて、上昇気流の流速の小さい位置と対応する位置にある冷却装置の冷却量を大きくし、上昇気流の流速の大きい位置と対応する位置にある冷却装置の冷却量を小さくするあるいは冷却を行わない温度調整を行う。このような温度調整を行った場合も、スリット内の雰囲気温度をシートガラスＳＧの幅方向にわたって均一にすることができる。 The adjusting device 290 is not limited to a heater and may be a cooling device. For example, in the example shown in FIG. 7, a cooling device is provided in place of the heater, and the cooling amount of the cooling device at a position corresponding to a position where the flow velocity of the ascending air current is small is increased according to the temperature distribution of the ascending air current. Then, the amount of cooling of the cooling device at the position corresponding to the position where the flow rate of the ascending air current is large is reduced or the temperature is adjusted so that the cooling is not performed. Even when such temperature adjustment is performed, the atmospheric temperature in the slit can be made uniform over the width direction of the sheet glass SG.

本実施形態によれば、スリットに接する仕切板の端部に設けた調整装置を用いて、仕切板とシートガラスとの間の雰囲気の温度が均一になるよう温度調整を行うことで、スリットを通過する気体の流れが抑制され、オーバーフローダウンドロー法で作製されたガラス基板に板厚偏差が発生することを抑制できる。 According to the present embodiment, by using the adjustment device provided at the end of the partition plate in contact with the slit, by adjusting the temperature so that the temperature of the atmosphere between the partition plate and the sheet glass is uniform, the slit is The flow of the passing gas is suppressed, and it is possible to suppress the occurrence of a plate thickness deviation in the glass substrate manufactured by the overflow downdraw method.

以上、本発明のガラス基板の製造方法およびシートガラス製造装置について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのはもちろんである。 The glass substrate manufacturing method and sheet glass manufacturing apparatus of the present invention have been described in detail above. However, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various improvements and modifications can be made without departing from the gist of the present invention. Of course.

本実施形態で製造されるガラス基板には、歪点や徐冷点が高く良好な寸法安定性を有する無アルカリのボロアルミノシリケートガラスあるいはアルカリ微量含有ガラスが用いられる。 For the glass substrate produced in the present embodiment, an alkali-free boroaluminosilicate glass or a glass containing a trace amount of alkali having a high strain point and slow cooling point and good dimensional stability is used.

本実施形態が適用されるガラス基板は、例えば以下の組成を含む無アルカリガラスからなる。
ＳｉＯ_２：５６−６５質量％
Ａｌ_２Ｏ_３：１５−１９質量％
Ｂ_２Ｏ_３：８−１３質量％
ＭｇＯ：１−３質量％
ＣａＯ：４−７質量％
ＳｒＯ：１−４質量％
ＢａＯ：０−２質量％
Ｎａ_２Ｏ：０−１質量％
Ｋ_２Ｏ：０−１質量％
Ａｓ_２Ｏ_３：０−１質量％
Ｓｂ_２Ｏ_３：０−１質量％
ＳｎＯ_２：０−１質量％
Ｆｅ_２Ｏ_３：０−１質量％
ＺｒＯ_２：０−１質量％ The glass substrate to which this embodiment is applied is made of an alkali-free glass having the following composition, for example.
SiO _2: 56-65% by weight
Al ₂ O ₃ : 15-19% by mass
B ₂ O _3: 8-13 wt%
MgO: 1-3% by mass
CaO: 4-7% by mass
SrO: 1-4% by mass
BaO: 0-2 mass%
Na ₂ O: 0-1% by mass
K ₂ O: 0-1 wt%
As ₂ O ₃ : 0-1% by mass
Sb ₂ O _3: 0-1 wt%
SnO ₂ : 0-1% by mass
Fe ₂ O ₃ : 0-1% by mass
ZrO ₂ : 0-1% by mass

本実施形態で製造されるガラス基板は、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板を含むディスプレイ用ガラス基板に好適である。ＩＧＺＯ（インジウム、ガリウム、亜鉛、酸素）等の酸化物半導体を使用した酸化物半導体ディスプレイ用ガラス基板及びＬＴＰＳ（低温度ポリシリコン）半導体を使用したＬＴＰＳディスプレイ用ガラス基板に好適である。また、本実施形態で製造されるガラス基板は、アルカリ金属酸化物の含有量が極めて少ないことが求められる液晶ディスプレイ用ガラス基板に好適である。また、有機ＥＬディスプレイ用ガラス基板にも好適である。言い換えると、本実施形態のガラス基板の製造方法およびシートガラス製造装置は、ディスプレイ用ガラス基板の製造に好適であり、特に、液晶ディスプレイ用ガラス基板の製造に好適である。
また、本実施形態で製造されるガラス基板は、カバーガラス、磁気ディスク用ガラス、太陽電池用ガラス基板などにも適用することが可能である。 The glass substrate manufactured by this embodiment is suitable for the glass substrate for a display containing the glass substrate for flat panel displays. It is suitable for an oxide semiconductor display glass substrate using an oxide semiconductor such as IGZO (indium, gallium, zinc, oxygen) and an LTPS display glass substrate using an LTPS (low temperature polysilicon) semiconductor. Moreover, the glass substrate manufactured by this embodiment is suitable for the glass substrate for liquid crystal displays by which it is calculated | required that content of an alkali metal oxide is very small. Moreover, it is suitable also for the glass substrate for organic EL displays. In other words, the glass substrate manufacturing method and sheet glass manufacturing apparatus of the present embodiment are suitable for manufacturing a glass substrate for display, and particularly suitable for manufacturing a glass substrate for liquid crystal display.
Moreover, the glass substrate manufactured by this embodiment is applicable also to a cover glass, the glass for magnetic discs, the glass substrate for solar cells, etc.

２００成形装置（シートガラス製造装置）
２０１成型室（上部空間）
２０２徐冷室（下部区間）
２０３、２０４炉壁
２６０，２６１仕切板
２９０調整装置 200 Forming device (sheet glass manufacturing device)
201 Molding room (upper space)
202 Slow cooling room (lower section)
203, 204 Furnace walls 260, 261 Partition plate 290 Adjustment device

Claims

A method of manufacturing a glass substrate,
In the upper space in the molding furnace, a molding process that creates a flow of sheet glass using the overflow downdraw method,
A cooling step of cooling the sheet glass in a first space including the upper space and a second space partitioned by a partition plate in the flow direction of the sheet glass;
Conveying the sheet glass to pass through the slit made by the partition plate,
In order to suppress the flow of gas passing through the slit at the end of the partition plate in contact with the slit, temperature adjustment is performed so that the temperature of the atmosphere between the partition plate and the sheet glass is uniform. A method for producing a glass substrate, comprising:

The partition plate has a first end facing the thickness direction of the sheet glass and an end facing the width direction orthogonal to the thickness direction of the sheet glass at an end contacting the slit. Have
The said temperature adjustment is a manufacturing method of the glass substrate of Claim 1 performed in the said 1st edge part or the said 2nd edge part.

The temperature adjustment for each position along the width direction orthogonal to the thickness direction of the sheet glass at the first end portion facing the thickness direction of the sheet glass among the end portions of the partition plate in contact with the slit. The manufacturing method of the glass substrate of Claim 1 or 2 performed.

The manufacturing method of the glass substrate of any one of Claim 1 to 3 which performs the said temperature adjustment using the heater arrange | positioned in the surface of the edge part of the said partition plate which contacts the said slit, or internal space.

The partition plate is a member that partitions the second space from the first space that coincides with the upper space, with the lower space adjacent to the upper space in the flow direction of the sheet glass as the second space. The manufacturing method of the glass substrate of any one of Claim 1 to 4.

In the upper space in the molding furnace, a molding part that creates a flow of sheet glass using the overflow downdraw method,
A cooling unit that cools the sheet glass in a first space including the upper space and a second space partitioned by a partition plate in the flow direction of the sheet glass;
Conveying the sheet glass along a conveyance path passing through a slit made by the partition plate,
At the end of the partition plate in contact with the slit, temperature adjustment is performed so that the temperature of the atmosphere between the partition plate and the sheet glass is uniform in order to suppress the flow of gas passing through the slit. An apparatus for producing sheet glass, characterized in that an adjusting device is provided.