JP2016170287A - 真空装置及び荷電粒子ビーム描画装置 - Google Patents

Abstract

【課題】所望位置で精度良くステージを停止させることができる真空装置及び荷電粒子ビーム描画装置を提供する。【解決手段】実施形態に係る真空装置は、真空容器と、真空容器内に設けられたステージ１１と、ステージ１１を気体により所定方向に移動させるステージ移動機構１２と、定常状態で電源を供給し、非定常状態で電源供給を止める供給制御部３１ｄと、ステージ１１に固定され、所定方向に沿う接触面を有する固定部材３１ａと、定常状態で電源が供給されることにより前述の接触面と接触せず、非定常状態で電源供給が止まることにより前述の接触面と接触するように変形する接触部材を有し、接触部材が接触面に接触することによりステージ１１の移動を制限する制動部３１ｂとを備える。【選択図】図２

Description

本発明は、真空装置及び荷電粒子ビーム描画装置に関する。

近年の大規模集積回路（ＬＳＩ）の高集積化および大容量化に伴って、半導体デバイスに要求される回路線幅は益々微小になってきている。半導体デバイスに所望の回路パターンを形成するためには、リソグラフィ技術が用いられており、このリソグラフィ技術では、マスク（レチクル）と称される原画パターンを用いたパターン転写が行われている。このパターン転写に用いる高精度なマスクを製造するためには、優れた解像度を有する荷電粒子ビーム描画装置が用いられている。

荷電粒子ビーム描画装置は、真空容器内においてマスクやブランクなどの試料が置かれたステージを移動させつつ、ステージ上の試料の所定位置に荷電粒子ビームを偏向して照射し、ステージ上の試料にパターンを描画するものである。この荷電粒子ビーム描画装置は、ステージやステージ移動機構などを備えており、試料が置かれたステージをステージ移動機構により移動させる。このステージ移動機構としては、エアによりステージを移動させるエアベアリングステージ（エアスライドテーブル）が開発されている。

特開平１０−３１８７２８号公報

しかしながら、前述のようにエアを用いるステージ移動機構では、ステージの移動中に異常が発生した場合（例えば、非常停止に応じてサーボがオフとなった場合など）、その異常が発生した位置でステージを停止させることができず、ステージはステージ移動機構のメカエンド（可動範囲の端）まで移動してしまう。この場合、ユーザは異常が発生した位置を視認することができないため、異常が発生した位置をログ情報などから調査する必要が生じ、ログ解析などの調査時間を要することになる。この調査時間を削減するため、異常が発生した位置で精度良くステージを停止させることが求められている。さらに、その異常が発生した位置以外にも、必要に応じて他の位置で精度良くステージを停止させることが求められている。

本発明が解決しようとする課題は、所望位置で精度良くステージを停止させることができる真空装置及び荷電粒子ビーム描画装置を提供することである。

本発明の実施形態に係る真空装置は、真空容器と、真空容器内に設けられたステージと、ステージを気体により所定方向に移動させるステージ移動機構と、定常状態で電源を供給し、非定常状態で電源供給を止める供給制御部と、ステージに固定され、所定方向に沿う接触面を有する固定部材と、定常状態で電源が供給されることにより接触面と接触せず、非定常状態で電源供給が止まることにより接触面と接触するように変形する接触部材を有し、接触部材が接触面に接触することによりステージの移動を制限する制動部とを備える。

また、上記実施形態に係る真空装置において、接触部材は、第１の接触部材と、この第１の接触部材と対向するように配置される第２の接触部材とを有し、接触面は、固定部材の表面である第１の接触面と、固定部材の裏面である第２の接触面とを有し、第１の接触部材および第２の接触部材は、電源供給が止まることにより、固定部材を挟んでそれぞれ第１の接触面および第２の接触面と接触するように変形し、第１の接触部材における第１の接触面に対する接触圧と、第２の接触部材における第２の接触面に対する接触圧は等しいことが望ましい。

また、上記実施形態に係る真空装置において、真空容器内に設けられ、ステージと共にステージ移動機構を支持して移動する移動ステージをさらに備え、制動部は、移動ステージ上に設けられていることが望ましい。

本発明の実施形態に係る荷電粒子ビーム描画装置は、上記実施形態に係るいずれか一つの真空装置を備える。

また、上記実施形態に係る荷電粒子ビーム描画装置において、接触部材の透磁率は１．００１以下であることが望ましい。

本発明の一態様によれば、所望位置で精度良くステージを停止させることができる。

実施の一形態に係る荷電粒子ビーム描画装置の概略構成を示す図である。 実施の一形態に係るステージブレーキ装置の概略構成を示す図である。 実施の一形態に係るステージ移動機構及びステージブレーキ機構（制動部）の概略構成を示す斜視図である。 実施の一形態に係るステージブレーキ機構（制動部）の概略構成を拡大して示す斜視図である。

実施の一形態について図面を参照して説明する。なお、実施の一形態では、一例として、本発明に係る真空装置を適用した荷電粒子ビーム描画装置について説明する。

図１に示すように、実施の一形態に係る荷電粒子ビーム描画装置１は、荷電粒子ビームによる描画を行う描画部２と、その描画部２を制御する制御部３とを備えている。この荷電粒子ビーム描画装置１は、荷電粒子ビームとして例えば電子ビームＢを用いた可変成形型の描画装置の一例である。なお、荷電粒子ビームとしては、電子ビームに限るものではなく、イオンビームなど他の荷電粒子ビームを用いることも可能である。

描画部２は、マスクやブランクなど描画対象となる試料Ｗを収容する描画チャンバ（描画室）２ａと、その描画チャンバ２ａにつながる光学鏡筒２ｂとを有している。描画チャンバ２ａは、気密性を有する真空チャンバ（真空容器）として機能する。また、光学鏡筒２ｂは、描画チャンバ２ａの上面に設けられており、光学系により電子ビームＢを成形および偏向し、描画チャンバ２ａ内の試料Ｗに対して照射する。このとき、描画チャンバ２ａおよび光学鏡筒２ｂの内部は減圧されて真空状態になっている。

描画チャンバ２ａ内には、試料Ｗを支持するステージ１１と、そのステージ１１を移動させるステージ移動機構１２とを備えている。このステージ移動機構１２は、浮上用エア（空気の膜）によりステージ１１を浮上させて、その浮上状態のステージ１１を移動用エアにより水平方向に移動させるエアベアリングステージ（エアスライドテーブル）である。なお、ここでは、エア（エアの供給ライン）を浮上用と移動用にわけているが、これに限るものではなく、エアを浮上用と移動用にわけずに用いることも可能である。また、エア以外にも、真空に影響を与えない窒素ガスや不活性ガスなどの気体を用いることも可能である。

光学鏡筒２ｂ内には、電子ビームＢを出射する電子銃などの出射部２１と、電子ビームＢを集光する照明レンズ２２と、ビーム成形用の第１の成形アパーチャ２３と、投影用の投影レンズ２４と、ビーム成形用の成形偏向器２５と、ビーム成形用の第２の成形アパーチャ２６と、試料Ｗ上にビーム焦点を結ぶ対物レンズ２７と、試料Ｗに対するビームショット位置を制御するための副偏向器２８および主偏向器２９とが配置されている。これらの各部２１〜２９が光学系として機能する。

この描画部２では、電子ビームＢが出射部２１から出射され、照明レンズ２２により第１の成形アパーチャ２３に照射される。この第１の成形アパーチャ２３は例えば矩形状の開口を有している。これにより、電子ビームＢが第１の成形アパーチャ２３を通過すると、その電子ビームの断面形状は矩形状に成形され、投影レンズ２４により第２の成形アパーチャ２６に投影される。なお、この投影位置は成形偏向器２５により偏向可能であり、投影位置の変更により電子ビームＢの形状と寸法を制御することができる。その後、第２の成形アパーチャ２６を通過した電子ビームＢは、その焦点が対物レンズ２７によりステージ１１上の試料Ｗに合わされて照射される。このとき、ステージ１１上の試料Ｗに対する電子ビームＢのショット位置は副偏向器２８および主偏向器２９により制御可能である。

制御部３は、描画データを記憶する描画データ記憶部３ａと、その描画データを処理してショットデータを生成するショットデータ生成部３ｂと、描画部２を制御する描画制御部３ｃとを備えている。なお、制御部３は、電気回路などのハードウエアにより構成されても良く、また、各機能を実行するプログラムなどのソフトウエアにより構成されても良く、あるいは、それらの両方の組合せにより構成されても良い。

描画データ記憶部３ａは、試料Ｗにパターンを描画するための描画データを記憶する記憶部である。この描画データは、設計データ（レイアウトデータ）が荷電粒子ビーム描画装置１用のフォーマットに変換されたデータであり、外部装置から描画データ記憶部３ａに入力されて保存されている。描画データ記憶部３ａとしては、例えば、磁気ディスク装置や半導体ディスク装置（フラッシュメモリ）などを用いることが可能である。

ショットデータ生成部３ｂは、描画データにより規定される描画パターンをストライプ状（短冊状）の複数のストライプ領域（例えば、長手方向がＸ方向であり、短手方向がＹ方向である）に分割し、さらに、各ストライプ領域を行列状の多数のサブ領域に分割する。加えて、ショットデータ生成部３ｂは、各サブ領域内の図形の形状や大きさ、位置などを決定し、ショットデータを生成する。

描画制御部３ｃは、前述の描画パターンを描画する描画制御の一例として、ステージ移動機構１２によりステージ１１をストライプ領域の長手方向（例えばＸ方向）に移動させつつ、電子ビームＢを主偏向器２９により各サブ領域に位置決めし、副偏向器２８によりサブ領域の所定位置にショットして図形を描画する制御を行う。その後、一つのストライプ領域の描画が完了すると、ステージ１１をＹ方向にステップ移動させてから次のストライプ領域の描画を行い、これを繰り返して試料Ｗの描画領域の全体に電子ビームＢによる描画を行う制御を実行する。

このような荷電粒子ビーム描画装置１は、図２に示すように、前述のステージ移動機構１２により移動するステージ１１を停止させるステージブレーキ装置３１を備えている。このステージブレーキ装置３１は、ステージ１１の側面に固定された固定部材３１ａと、その固定部材３１ａを挟んでステージ１１の移動を制限する制動部３１ｂと、その制動部３１ｂに電圧（電力）を供給する電源ユニット３１ｃと、電源ユニット３１ｃから制動部３１ｂへの電源供給（電力供給）を制御する第１の供給制御部３１ｄ及び第２の供給制御部３１ｅとを備えている。

固定部材３１ａは板状に形成されており、ステージ１１の一側面に取り付けられている。また、制動部３１ｂは、定常状態で電源ユニット３１ｃからの電源供給により固定部材３１ａを挟まずにステージ１１の移動を許可し（ブレーキＯＦＦ）、非定常状態で電源の非供給により固定部材３１ａを挟んでステージ１１の移動を制限する（ブレーキＯＮ）。電源ユニット３１ｃは制動部３１ｂに電気的に接続されている。なお、電源の非供給によりブレーキをオンにすることで、電源供給によりブレーキをオンにする場合に比べ、非常停止時や地震時など制動部３１ｄに電源が供給されなくなった場合でも、異常が発生した位置にステージ１１を停止させることが可能となる。

第１の供給制御部３１ｄは、例えばスイッチ３２やリレー３３などを有しており、電源ユニット３１ｃから制動部３１ｂへの電源供給を制御する。この第１の供給制御部３１ｄは、ステージ１１を停止させる停止指示を検出する第１の検出部３４に電気的に接続することができる。第１の検出部３４としては、例えば、非常停止ボタンなどの入力デバイスを用いることが可能であり、また、震度を検知し、検知した震度が所定値以上であるか否かを判断し、震度が所定値以上であると判断した場合に停止指示を検出するように構成することも可能である。

この第１の供給制御部３１ｄは、第１の検出部３４が停止指示を検出すると（非定常状態）、停止指示に基づいて制動部３１ｂに対する電源供給を止め、ステージ１１の移動を制限する。通常、スイッチ３２はオン状態であり、制動部３１ｂは固定部材３１ａを挟んでいないが（ブレーキＯＦＦ）、例えば、ユーザにより非常停止ボタンが押されると、停止指示（停止信号）が第１の検出部３４により検出され、スイッチ３２はオフ状態となる。スイッチ３２がオフ状態になると、リレー３３もオフ状態となり、電源ユニット３１ｃから電源が制動部３１ｂに供給されなくなる。これに応じて制動部３１ｂは固定部材３１ａを挟み、その固定部材３１ａにつながるステージ１１の移動を制限する（ブレーキＯＮ）。

第２の供給制御部３１ｅは、例えばステージコントローラであり、ステージ１１の位置情報に基づいて、電源ユニット３１ｃから制動部３１ｂへの電源供給を制御する。この第２の供給制御部３１ｅは座標カウンタ（位置情報部）３５に電気的に接続されており、この座標カウンタ３５は、ステージ１１の位置を検出するレーザ干渉計（位置検出部）３６に電気的に接続されている。座標カウンタ３５は、レーザ干渉計３６から検出信号を受け取り、その検出信号に基づいてステージ１１の位置情報（例えば、リアルタイムのＸＹ座標の位置情報）を第２の供給制御部３１ｅに入力する。

この第２の供給制御部３１ｅは、ステージ１１を停止させる停止指示を検出する第２の検出部３７に電気的に接続されている。第２の検出部３７は、描画制御部３ｃなどから停止指示（例えば、停止位置を示す停止位置情報など）を受け取る。この第２の検出部３７が停止指示を受け取ると、第２の供給制御部３１ｅは停止指示に基づいて制動部３１ｂに対する電源供給を止め、ステージ１１の移動を制限する。通常、ステージ１１の現在位置はステージ１１の位置情報から特定されるため、例えば、停止位置情報が第２の検出部３７により受け取られ、その停止位置情報に基づく停止位置にステージ１１が到達すると、電源ユニット３１ｃから電源が制動部３１ｂに供給されなくなる。これに応じて制動部３１ｂは固定部材３１ａを挟み、その固定部材３１ａにつながるステージ１１の移動を制限する（ブレーキＯＮ）。

次に、前述のステージ移動機構１２及び制動部（ステージブレーキ機構）３１ｂについて詳しく説明する。

図３に示すように、ステージ移動機構１２は、水平面内で互いに直交するＸ軸方向とＹ軸方向（以下、単にＸ方向およびＹ方向という）にステージ１１を移動させる。このステージ移動機構１２は、試料Ｗが載置されるステージ１１をＸ方向に移動させる一対のＸ方向移動機構１２ａおよび１２ｂと、それらのＸ方向移動機構１２ａおよび１２ｂを支持するＹステージ（移動ステージ）１１ａと、そのＹステージ１１ａをＹ方向に移動させる一対のＹ方向移動機構１２ｃおよび１２ｄとを備えている。

一対のＸ方向移動機構１２ａおよび１２ｂは、ステージ（Ｘステージ）１１を浮上用エアにより浮かせ、その浮上状態のステージ１１を移動用エアによりＸ方向に移動させる移動機構である。また、一対のＹ方向移動機構１２ｃおよび１２ｄも、Ｙステージ１１ａを浮上用エアにより浮かせ、その浮上状態のＹステージ１１ａを移動用エアによりＹ方向に移動させる移動機構である。これらの移動機構は、複数のコントロールバルブ（図示せず）などにより、移動用エアの供給圧と排出圧との差圧を制御してステージ１１または１１ａを移動させる。

ここで、前述の供給圧と排出圧を同圧としてそれらの差圧を無くし、ステージ１１または１１ａを停止させようとしても、その応答性が悪いため、ステージ１１または１１ａを停止させたい位置で停止させることが困難であり、ステージ１１または１１ａの停止位置精度が悪くなる。また、前述の供給圧と排出圧を同圧とするためにバルブや配管などを追加した場合、追加個所などでエアの乱れが生じ、ステージ１１または１１ａの精度（例えば位置精度や水平精度など）に影響が出てしまう。このような悪影響を避けるため、機械的なブレーキとして機能する制動部３１ｂが必要となる。

図３においては、ステージ（Ｘステージ）１１用のブレーキとして第１の制動部３１ｂｘがＹステージ１１ａ上に固定されており、さらに、Ｙステージ１１ａ用のブレーキとして第２の制動部３１ｂｙが架台（不図示）上に固定されている。ステージ１１用の第１の制動部３１ｂｘはＹステージ１１ａ上に設けられているため、そのＹステージ１１ａ上のステージ１１のＹ軸方向の移動に同期することになる。これにより、ステージ１１のＹ軸方向の移動に第１の制動部３１ｂｘを同期させるために他の構成を用いる場合に比べ、構成を簡略化することができる。

なお、ステージ１１の一側面には、前述のように固定部材３１ａが設けられており、さらに、Ｙステージ１１ａの一側面にも固定部材３１ａが設けられている。ステージ１１に設けられた固定部材３１ａのＸ軸方向の長さは、ステージ１１のストローク長（可動範囲）から決定され、ステージ１１が可動範囲内でどの位置に存在しても、第１の制動部３１ｂｘによりステージ１１の固定部材３１ａを挟んでブレーキをかけることが可能になるように設定されている。同様に、Ｙステージ１１ａに設けられた固定部材３１ａのＹ軸方向の長さも、Ｙステージ１１ａのストローク長から決定され、Ｙステージ１１ａが可動範囲内でどの位置に存在しても、第２の制動部３１ｂｙによりＹステージ１１ａの固定部材３１ａを挟んでブレーキをかけることが可能になるように設定されている。

図４に示すように、第１の制動部３１ｂｘは、ステージ１１に固定された固定部材３１ａを間にして対向する第１の接触部材４１及び第２の接触部材４２と、それら第１の接触部材４１及び第２の接触部材４２を支持して案内する複数のガイド部材４３と、それらのガイド部材４３を支持する支持枠４４とを備えている。なお、第２の制動部３１ｂｙも第１の制動部３１ｂｘと同じ構造であるため、その説明を省略する。

第１の接触部材４１は、アーチ状に湾曲した金属部材（本体）４１ａの内周面に膜型の圧電素子４１ｂが貼り付けられ、さらに、アーチ状に湾曲した金属部材４１ａの外周面に接触パッド部材４１ｃが取り付けられて構成されている。第２の接触部材４２も、第１の接触部材４１と同様の構造であり、アーチ状に湾曲した金属部材（本体）４２ａの内周面に膜型の圧電素子４２ｂが貼り付けられ、さらに、アーチ状に湾曲した金属部材４２ａの外周面に接触パッド部材４２ｃが取り付けられて構成されている。

金属部材４１ａや４２ａは湾曲形状の一例としてアーチ状に形成されている。これらの金属部材４１ａや４２ａは弾性を有しており、圧電素子４１ｂや４２ｂにより変形するが、元の形状に戻ることができる。また、圧電素子４１ｂや４２ｂは電源ユニット３１ｃに電気的に接続されており、電圧の印加や非印加により形状が変化する。接触パッド部材４１ｃおよび４２ｃは固定部材３１ａを間にして対向しており、金属部材４１ａおよび４２ａの変形に応じて互いに固定部材３１ａに向かって移動して接触したり、逆に固定部材３１ａから離れたりする。

なお、金属部材４１ａや４１ｂとしては、描画精度を保つため、純ＴｉやＴｉ合金などの非磁性材料を使用することが望ましく、一例として、透磁率１．００１以下の素材を用いることが好適である。また、圧電素子４１ｂや４２ｂの大きさは、必要とする荷重によって決定される。接触パッド部材４１ｃや４２ｃとしては、摩擦係数が高く、また、パーティクルの発生を抑えるためには、例えば、バイトンゴムやＰＴＦＥ、ポリイミド系、ＰＥＥＫなどのフッ素樹脂を用いることが望ましい。

ガイド部材４３は二つで一組みとなり、一組みのガイド部材４３は第１の接触部材４１の長手方向の両端部をスライド可能に支持し、もう一組みのガイド部材４３は第２の接触部材４２の長手方向の両端部をスライド可能に支持する。各ガイド部材４３としては、描画精度を保つため、セラミックなどの非磁性材料を使用することが望ましく、一例として、透磁率１．００１以下の素材を用いることが好適である。また、ブレーキ時に荷重がガイド部材４３に加わるため、セラミックの中でも靱性が高いジルコニア材料を用いることが望ましい。

支持枠４４は、第１の接触部材４１と第２の接触部材４２が固定部材３１ａを間にして対向するように各ガイド部材４３を四隅に位置付けて支持している。この支持枠４４としては、前述と同様、描画精度を保つため、セラミックなどの非磁性材料を使用することが望ましい。

このような第１の制動部３１ｂｘでは、定常状態、すなわち圧電素子４１ｂおよび４２ｂに電圧が印加されている状態で、金属部材４１ａおよび４２ａは非ブレーキ位置に存在し、接触パッド部材４１ｃおよび４２ｃが固定部材３１ａに接触せず、固定部材３１ａを挟み込まない（ブレーキＯＦＦ）。一方、非定常状態、すなわち圧電素子４２ｂおよび４２ｂに電圧が印加されていない状態で、金属部材４１ａおよび４２ａは前述の電圧印加状態よりも湾曲するブレーキ位置に存在し、接触パッド部材４１ｃおよび４２ｃは固定部材３１ａに接触し、固定部材３１ａを挟み込む（ブレーキＯＮ）。このように電圧が圧電素子４１ｂおよび４２ｂに非印加である場合にブレーキがオン状態となるため、非常停止時や地震時など電流が供給されなくなったときでも、所望位置でステージ１１を停止させることができる。なお、Ｙステージ１１ａも前述と同じように第２の制動部３１ｂｙによって所望位置で停止させることができる。

前述のブレーキＯＮ時において、第１の接触部材４１の接触パッド部材４１ｃは、固定部材３１ａの表面である第１の接触面に接触し、第２の接触部材４２の接触パッド部材４２ｃは、固定部材３１ａの裏面である第２の接触面に接触することになる。これらの第１の接触面および第２の接触面は、ステージ１１の移動方向に沿う平面であり、一例として、ステージ１１の移動方向に平行に沿う平面である。

ここで、前述のように固定部材３１ａを挟み込むことによってステージ１１または１１ａを停止させる構造を用いている。一方で、固定部材３１ａを挟み込まずその固定部材３１ａの片面に部材を押し付ける機構を用いることも可能であるが、この場合には、浮上しているステージ１１または１１ａが一方から押し付けられ、そのステージ１１または１１ａを案内しているガイド面に接触して擦れるため、パーティクルが発生してしまう。これを避けるため、前述のように固定部材３１ａを挟み込むことでステージ１１または１１ａを停止させる構造を用いることが有効である。また、よりパーティクルの発生を抑えるためには、第１の接触部材４１における固定部材３１ａに対する接触圧（例えば接触面圧）と、第２の接触部材４２における固定部材３１ａに対する接触圧（例えば接触面圧）を同じにすることが望ましい。

以上説明したように、実施の一形態によれば、定常状態における電源の供給により固定部材３１ａを挟まずにステージ１１の移動を許可し、非定常状態における電源の非供給により固定部材３１ａを挟んでステージ１１の移動を制限する制動部３１ｂを設けることによって、ステージ１１を機械的に停止させることができる。これにより、停止指示に応じて応答性が良くステージ１１を停止させることが可能となるので、ステージ１１の移動中にステージ移動機構１２などに異常が発生した場合、その異常が発生した位置など所望位置で精度良くステージ１１を停止させることができる。

（他の実施形態）
前述の実施の一形態においては、製造装置の一例として荷電粒子ビーム描画装置１について説明しているが、これに限るものではなく、真空下で製造を行う各種の製造装置に本発明に係る真空装置を適用することが可能であり、例えば、真空下で工作を行う工作機械などの製造装置にも適用することができる。

以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。

１ 荷電粒子ビーム描画装置
２ 描画部
２ａ 描画チャンバ
３ 制御部
３ａ 描画データ記憶部
３ｂ ショットデータ生成部
３ｃ 描画制御部
１１ ステージ（Ｘスライダ）
１１ａ Ｙスライダ
１２ ステージ移動機構
１２ａ Ｘ方向移動機構
１２ｂ Ｘ方向移動機構
１２ｃ Ｙ方向移動機構
１２ｄ Ｙ方向移動機構
２１ 出射部
２２ 照明レンズ
２３ 第１の成形アパーチャ
２４ 投影レンズ
２５ 成形偏向器
２６ 第２の成形アパーチャ
２７ 対物レンズ
２８ 副偏向器
２９ 主偏向器
３１ ステージブレーキ装置
３１ａ 固定部材
３１ｂ 制動部
３１ｂｘ 第１の制動部
３１ｂｙ 第２の制動部
３１ｃ 電源ユニット
３１ｄ 第１の供給制御部
３１ｅ 第２の供給制御部
３２ スイッチ
３３ リレー
３４ 第１の検出部
３５ 座標カウンタ
３６ レーザ干渉計
３７ 第２の検出部
４１ 第１の接触部材
４１ａ 金属部材
４１ｂ 圧電素子
４１ｃ 接触パッド部材
４２ 第２の接触部材
４２ａ 金属部材
４２ｂ 圧電素子
４２ｃ 接触パッド部材
４３ ガイド部材
４４ 支持枠
Ｂ 電子ビーム
Ｗ 試料

Claims (5)

1. 真空容器と、
   前記真空容器内に設けられたステージと、
   前記ステージを気体により所定方向に移動させるステージ移動機構と、
   定常状態で電源を供給し、非定常状態で前記電源供給を止める供給制御部と、
   前記ステージに固定され、前記所定方向に沿う接触面を有する固定部材と、
   前記定常状態で前記電源が供給されることにより前記接触面と接触せず、前記非定常状態で前記電源供給が止まることにより前記接触面と接触するように変形する接触部材を有し、前記接触部材が前記接触面に接触することにより前記ステージの移動を制限する制動部と、
   を備えることを特徴とする真空装置。
2. 前記接触部材は、第１の接触部材と、この第１の接触部材と対向するように配置される第２の接触部材とを有し、
   前記接触面は、前記固定部材の表面である第１の接触面と、前記固定部材の裏面である第２の接触面とを有し、
   前記第１の接触部材および前記第２の接触部材は、前記電源供給が止まることにより、前記固定部材を挟んでそれぞれ前記第１の接触面および前記第２の接触面と接触するように変形し、
   前記第１の接触部材における前記第１の接触面に対する接触圧と、前記第２の接触部材における前記第２の接触面に対する接触圧は等しいことを特徴とする請求項１に記載の真空装置。
3. 前記真空容器内に設けられ、前記ステージと共に前記ステージ移動機構を支持して移動する移動ステージをさらに備え、
   前記制動部は、前記移動ステージ上に設けられていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の真空装置。
4. 請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の真空装置を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。
5. 前記接触部材の透磁率は１．００１以下であることを特徴とする請求項４に記載の荷電粒子ビーム描画装置。

Images