JP2016165697A - エチレンオキシド製造用触媒及びそれを用いたエチレンオキシドの製造方法 - Google Patents
エチレンオキシド製造用触媒及びそれを用いたエチレンオキシドの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016165697A JP2016165697A JP2015047580A JP2015047580A JP2016165697A JP 2016165697 A JP2016165697 A JP 2016165697A JP 2015047580 A JP2015047580 A JP 2015047580A JP 2015047580 A JP2015047580 A JP 2015047580A JP 2016165697 A JP2016165697 A JP 2016165697A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- ethylene oxide
- carrier
- weight
- silver
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 142
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 79
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 62
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 36
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 36
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 27
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 22
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 45
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 17
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 13
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 10
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 9
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 40
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 38
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 25
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 21
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 19
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 19
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 15
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 13
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 13
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 12
- XNGYKPINNDWGGF-UHFFFAOYSA-L silver oxalate Chemical compound [Ag+].[Ag+].[O-]C(=O)C([O-])=O XNGYKPINNDWGGF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 12
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 11
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 10
- -1 oxide Chemical compound 0.000 description 9
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 8
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 7
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 6
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012018 catalyst precursor Substances 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- GEVPUGOOGXGPIO-UHFFFAOYSA-N oxalic acid;dihydrate Chemical compound O.O.OC(=O)C(O)=O GEVPUGOOGXGPIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 5
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M caesium hydroxide Chemical compound [OH-].[Cs+] HUCVOHYBFXVBRW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 4
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 4
- 150000003378 silver Chemical class 0.000 description 4
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 4
- UKHWJBVVWVYFEY-UHFFFAOYSA-M silver;hydroxide Chemical compound [OH-].[Ag+] UKHWJBVVWVYFEY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 2
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 238000001479 atomic absorption spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- ABSOMGPQFXJESQ-UHFFFAOYSA-M cesium;hydroxide;hydrate Chemical compound O.[OH-].[Cs+] ABSOMGPQFXJESQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000003889 chemical engineering Methods 0.000 description 2
- RKGLUDFWIKNKMX-UHFFFAOYSA-L dilithium;sulfate;hydrate Chemical compound [Li+].[Li+].O.[O-]S([O-])(=O)=O RKGLUDFWIKNKMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000004993 emission spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N silver oxide Chemical compound [O-2].[Ag+].[Ag+] NDVLTYZPCACLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VFWRGKJLLYDFBY-UHFFFAOYSA-N silver;hydrate Chemical compound O.[Ag].[Ag] VFWRGKJLLYDFBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 2
- ZXSQEZNORDWBGZ-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydropyrrolo[2,3-b]pyridin-2-one Chemical compound C1=CN=C2NC(=O)CC2=C1 ZXSQEZNORDWBGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSHYGLAZPRJAEZ-UHFFFAOYSA-N 4-(chloromethyl)-2-(2-methylphenyl)-1,3-thiazole Chemical class CC1=CC=CC=C1C1=NC(CCl)=CS1 QSHYGLAZPRJAEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101710134784 Agnoprotein Proteins 0.000 description 1
- 240000007049 Juglans regia Species 0.000 description 1
- 235000009496 Juglans regia Nutrition 0.000 description 1
- 239000004264 Petrolatum Substances 0.000 description 1
- XZQYTGKSBZGQMO-UHFFFAOYSA-I Rhenium(V) chloride Inorganic materials Cl[Re](Cl)(Cl)(Cl)Cl XZQYTGKSBZGQMO-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005273 aeration Methods 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002902 bimodal effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L lithium carbonate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]C([O-])=O XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- DYIZHKNUQPHNJY-UHFFFAOYSA-N oxorhenium Chemical compound [Re]=O DYIZHKNUQPHNJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 235000019271 petrolatum Nutrition 0.000 description 1
- 229940066842 petrolatum Drugs 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910003449 rhenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001958 silver carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- LKZMBDSASOBTPN-UHFFFAOYSA-L silver carbonate Substances [Ag].[O-]C([O-])=O LKZMBDSASOBTPN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940100890 silver compound Drugs 0.000 description 1
- 150000003379 silver compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001923 silver oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- UXMRNSHDSCDMLG-UHFFFAOYSA-J tetrachlororhenium Chemical compound Cl[Re](Cl)(Cl)Cl UXMRNSHDSCDMLG-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 235000020234 walnut Nutrition 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
【解決手段】担体、銀及びレニウムを含むエチレンオキシド製造用触媒であって、
該担体が担体中にケイ素をSiO2換算で0.01重量%〜1.0重量%含み、水銀圧入法により測定される細孔分布において、細孔直径0.01μm〜100μmの範囲に、ログ微分細孔容積の極大値が0.2ml/g以上のピークが少なくとも二つ存在し、該ピークの少なくとも一つが4.0μm〜20μmの範囲に存在する担体である、エチレンオキシド製造用触媒。
【選択図】図1
Description
尚、該触媒性能を補填するために、反応温度を上昇させることが試みられてはいるが、温度上昇は熱効率を悪化させ、より触媒寿命を短縮するものである。
すなわち、本発明の要旨は下記[1]〜[5]に存する。
[1]担体、銀及びレニウムを含むエチレンオキシド製造用触媒であって、
該担体が担体中にケイ素をSiO2換算で0.01重量%〜1.0重量%含み、水銀圧入法により測定される細孔分布において、細孔直径0.01μm〜100μmの範囲に、ログ微分細孔容積の極大値が0.2ml/g以上のピークが少なくとも二つ存在し、該ピー
クの少なくとも一つが4.0μm〜20μmの範囲に存在する担体である、エチレンオキシド製造用触媒。
[3]前記担体の吸水率が45重量%以上である、[1]又は[2]に記載のエチレンオキシド製造用触媒。
[4]前記担体が更にナトリウムを含み、ナトリウム含有量が担体中にNa2O換算で10重量ppm〜1500重量ppmである[1]乃至[3]のいずれかに記載のエチレンオキシド製造用触媒。
[5]下記式(1)にて算出されるQ値が0.98〜1.20の範囲内である[1]乃至[4]のいずれかに記載のエチレンオキシド製造用触媒。
本発明は、エチレンからエチレンオキシドを製造するためのエチレンオキシド製造用触媒の発明である。
本発明のエチレンオキシド製造用触媒(以下「触媒」と称する場合がある。)に含まれる担体は、エチレンからエチレンオキシドを製造するための触媒成分を担持するための担体であり、多孔性担体が好ましい。この多孔性担体としては、アルミナ、炭化ケイ素、チタニア、ジルコニア、マグネシア等の多孔性耐火物が挙げられる。この中でも、アルミナを含むことが好ましく、αアルミナを含むことがより好ましい。
該細孔直径の範囲は好ましくは0.05μm〜50μm、より好ましくは0.1μm〜40μm、さらに好ましくは0.1μm〜30μmである。前記範囲とすることにより高選択的にエチレンオキシドを製造する触媒となる可能性がある。
更に、存在するピークとそのピークの最も近傍にあるピークとの間隔は好ましくは0.01μm〜30μm、より好ましくは0.05μm〜30μm、さらに好ましくは0.1μm〜20μmである。前記範囲とすることにより触媒性能の低下が抑制された触媒となる可能性がある。
更に加えて、ピーク間の極小値と該極小値を形成するピークの極大値との差は0.02ml/g以上であることが好ましく、0.05ml/g以上であることがより好ましく、0.1ml/g以上であることが更に好ましい。
で割った値を求め、これを各区分の平均細孔径に対してプロットしたものである。なお、「差分細孔容積dV」とは、測定ポイント間の細孔容積の増加分をいう。例えば、図1のように、横軸が細孔直径(対数目盛り)を示し、縦軸がログ微分細孔容積を示す。また、積算細孔容積分布とは、横軸に細孔径、縦軸に細孔容積ΣVをプロットしたものである。例えば、図2のように、横軸が細孔直径(対数目盛り)を示し、縦軸が積算細孔容積を示す。なお、細孔分布を得るための水銀圧入法の具体的な手法としては、後述する実施例に記載の手法を採用するものとする。
該範囲は好ましくは4.5μm〜20μm、より好ましくは5.0μm〜20μm、さらに好ましくは5.5μm〜20μmである。前記範囲とすることにより長期間の使用に伴うエチレンオキシド選択率の低下が抑制された触媒となる可能性がある。
前記担体のログ微分細孔容積の極大値が0.2ml/g以上のピークは前記範囲以外に存在していてもよく、好ましくは0.01μm〜4.0μmの範囲であり、より好ましくは0.1μm〜4.0μmの範囲であり、さらに好ましくは0.3μm〜3.5μmの範囲である。
尚、触媒用担体中のケイ素含有量は誘導結合プラズマ発光分光分析法により測定することができる。
能性がある。
尚、担体中のナトリウム含有量は原子吸光分光法により測定することができる。
尚、Q値は前記式(1)により求めることができる。
本発明のエチレンオキシド製造用触媒は担体に担持する触媒成分として銀及びレニウムを含む。
前記エチレンオキシド製造用触媒全体に対する、セシウムの含有量は、10重量ppm〜2000重量ppmが好ましく、100重量ppm〜1500重量ppmがより好ましく、300重量ppm〜1200重量ppmがさらに好ましい。セシウムの含有量が少なすぎると、十分な選択率が得られ難い傾向がある。一方、セシウムの含有量が多すぎると、エチレンの転化率を上げるために反応温度の上昇が必要となり、結果としてエチレンオキシド選択率が低下する可能性がある。
択率が低下する可能性がある。
前記触媒成分を前記担体に担持する際、適当な溶媒に前記触媒成分を溶解させて、触媒成分含有溶液を調製し、使用されることが好ましい。この溶媒としては、取扱いの容易さから通常水が選択されるが、メタノール、エタノール等のアルコール類や水とアルコールの混合溶液も使用可能である。
次に、触媒成分を担体に担持する工程(触媒成分担持工程)について説明する。この触媒成分担持工程は、前記触媒成分含有溶液を担体あるいは担体処理を施した担体に含浸さ
せ(触媒成分含浸工程)、次いで、少なくとも不活性ガスを含む雰囲気下で加熱する(予備加熱工程)、更に酸素含有雰囲気下で加熱する(加熱処理工程)を含む工程である。
予備加熱工程の時間は、5分間〜60分間が好ましく、10分間〜30分間がより好ましい。
素含有雰囲気下で加熱し、銀化合物を金属銀に変化させ、エチレンオキシド製造用触媒とする。加熱処理温度は275℃〜450℃の範囲が好ましく、下限温度はエチレンオキシド選択率を高くすることが可能であるので335℃がより好ましく、また上限温度はエネルギー効率や経済性の観点から385℃がより好ましい。
尚、エチレンオキシド製造用触媒中のナトリウム含有量は原子吸光分光法により測定することができる。
尚、エチレンオキシド製造用触媒中のシリコン含有量は誘導結合プラズマ発光分光分析法により測定することができる。
本発明のエチレンオキシド製造用触媒を用いて、エチレンをエチレンオキシドに転換する反応は、一般に知られた方法で実施できる。反応圧力は、通常、0.1MPa〜3.6MPa(0〜35kg/cm2G)であり、反応温度は、通常、180℃〜350℃、好ましくは200℃〜300℃である。反応原料ガスの組成は、一般に、エチレンが1体積%〜40体積%、分子状酸素が1体積%〜20体積%の混合ガスが用いられ、また、一般に希釈剤、例えばメタンや窒素等の不活性ガスを一定割合、例えば1体積%〜70体積%で存在させることができる。分子状酸素含有ガスとしては、通常、空気あるいは工業用酸素が用いられる。更に、反応改変剤として、例えばハロゲン化炭化水素を0.1ppm〜50ppm程度、反応原料ガスに加えることにより触媒中のホットスポットの形成を防止でき、且つ触媒の性能、殊に触媒選択性を大幅に改善させることができる。
(1)担体の細孔容積、ログ微分細孔容積分布、積算細孔容積分布の算出
マイクロメリテックス社製・オートポアIV 9520型を用いて、担体サンプルを減
圧下(50μmHg以下)で10分間減圧処理をした後、水銀圧入退出曲線を測定し、該水銀圧入退出曲線より担体の細孔容積、ログ微分細孔容積分布、積算細孔容積分布を算出した。
前処理(250℃、15分間窒素ガスフロー)を行った担体サンプルを、マウンテック社製、マックソーブ HM Model-1201を用い、BET1点法(吸着ガス:窒
素)にて担体比表面積を測定した。
担体サンプルに炭酸ナトリウムとホウ酸を加え加熱溶融させたのち、塩酸、純水にてシリカ成分を抽出しICP発光法にて測定した。
担体を粉砕したサンプルに硫酸、リン酸およびふっ化水素酸を加え加熱抽出した後、その抽出液を原子吸光法にて測定した。
担体サンプルの重量(α)を測定し、該担体サンプルに十分な量の水を加え、エバポレーター中で減圧下40℃にて加温、3分保持した後、これを取り出し、担体の重量(β)を測定した。下記式にて吸水率を算出した。
エチレンオキシドの選択率は、消費したエチレンのモル数に対する生成したエチレンオキシドのモル数の割合で示した。
反応温度は、触媒1L、1時間当たりのエチレンオキシド生産量(STY)が目標値となるように調整した。
(8)Q値の算出
前記測定した担体の吸水率(重量%)、前記担体の細孔容積(μl/g)より前記式(1)によりQ値を算出した。
(触媒の調製)
(担体処理工程)
表1に示す担体A 100gを、300mlの沸騰している脱イオン水中に20分間浸
漬し、該脱イオン水から担体を取り出し、脱イオン水で洗浄とした。この操作を5回繰り返した。次いで、5回浸漬−洗浄操作を繰り返した担体を150℃の過熱水蒸気にて20分間、2m/秒の流速で加熱乾燥し、洗浄担体A 100gを得た。
硝酸銀(AgNO3)2590 gを脱イオン水9240mlに溶解して硝酸銀水溶液
とし、50℃に温度を調節した。この硝酸銀水溶液に、50℃に保った水酸化ナトリウム水溶液(水酸化ナトリウム633g、脱イオン水3570ml)を滴下し、水酸化銀の沈殿物を得た。上澄み液を脱イオン水で置換し、上澄み液のpHが10以下かつ導電率が45μΩ/cm以下となるまで、水酸化銀の沈殿物を洗浄した。水酸化銀の沈殿物に、脱イ
オン水2290ml、シュウ酸2水和物961gを加えると、pHは9.8となり、水酸化銀の沈殿物がシュウ酸銀沈殿物となった。尚、シュウ酸2水和物の添加中、温度は50℃以下になるように調節した。シュウ酸銀沈殿物をろ別後、脱イオン水で洗浄し、シュウ酸銀スラリー(含水率 23.0重量%)を得た。該シュウ酸銀スラリー262gをエチ
レンジアミン72.8g、1,3−ジアミノプロパン20.0g、及び水92.9gより成る水溶液に徐々に添加して溶解させ、銀錯体溶液を調製した。この銀錯体溶液の比重は、1.57g/mlであった。
上記操作により得られた銀錯体溶液16.7gに、脱イオン水3.8mlを添加し、1回目含浸の触媒成分含有溶液を得た。
前記触媒成分含有溶液を、前記洗浄担体A30gに含浸し、エバポレーター中で減圧下40℃に加温した。こうして得た1回目の触媒成分含浸担体を、200℃の過熱水蒸気中15分間、2m/secの流速で焼成した。次いで空気雰囲気下にて加熱炉中で300℃、2時間加熱し、触媒中間体を得た。
比重1.57g/mlの銀錯体溶液14.6gに、水酸化セシウム一水和物(CsOH・H2O)濃度13.0重量%の水溶液0.3ml、過レニウム酸アンモニウム(NH4ReO4)濃度4.9重量%の水溶液0.6ml、硫酸リチウム一水和物(Li2SO4・H2O)濃度3.4重量%の水溶液0.3ml、メタタングステン酸アンモニウム(H26N6O40W12・xH2O)濃度2.0重量%の水溶液0.3ml、炭酸リチウム(Li2CO3)0.02g、及び脱イオン水3.1mlを添加し、2回目含浸の触媒成分含有溶液を得た。
2回目含浸の触媒成分含有溶液を、前記触媒中間体35.6gに含浸し、エバポレーター中で減圧下40℃に加温した。こうして得た2回目の触媒成分含浸担体を、200℃の過熱水蒸気中15分間、2m/secの流速で焼成し、触媒前駆体を得た。
得られた触媒前駆体を、次いで空気雰囲気下にて加熱炉中で370℃、2時間加熱し、次いで、室温まで冷却し触媒を得た。エチレンオキシド製造用触媒の担体の物性を表1に示す。
得られた触媒を6〜10メッシュに砕き、その3mlを内径7.5mmのSUS製反応管に充填し、反応ガス(エチレン30体積%、酸素8.5体積%、二酸化炭素3.0体積
%、残り窒素)をGHSV4300hr−1、圧力0.7MPaゲージで流した。また反応改変剤として、塩化ビニルを反応ガス中に添加した。反応改変剤の濃度はエチレンオキシド選択率が最大となるように調整した。反応温度は、触媒1L、1時間当たりのエチレンオキシド生産量(STY)が、0.2kg−EO/L−cat・hとなるように調整した。この反応結果を表2に示す。
(触媒の調製)
(担体処理工程)
表1に示す担体B 13000gを、39000mlの沸騰している脱イオン水中に2
0分間浸漬し、脱イオン水から担体を取り出し、担体洗浄とした。この操作を繰り返し、合計5回の担体洗浄を実施した。次いで、この担体を150℃の過熱水蒸気にて20分間、2m/secの流速で加熱乾燥し、洗浄担体B 13000gを得た。
酸化銀(Ag2O)2310 gを脱イオン水13000mlに溶解し、50℃に温度
を調節した。これに、シュウ酸2水和物1256gを加え、pHは9.7になった。シュウ酸2水和物の添加中、温度は50℃以下になるように調節した。こうしてシュウ酸銀沈殿物を得た。沈殿物をろ別後、脱イオン水で洗浄し、シュウ酸銀スラリー(含水率 21
.3重量%)を得た。こうして得たシュウ酸銀スラリー3846gをエチレンジアミン1095g、1,3−ジアミノプロパン300g、及び水1396gより成る水溶液に徐々に添加して溶解させ、銀錯体溶液を調製した。この銀錯体溶液の比重は、1.61g/mlであった。
上記操作で得られた銀錯体溶液6570gに、脱イオン水426mlを添加し、1回目含浸の触媒成分含有溶液を得た。
得られた触媒成分含有溶液を、上記洗浄担体A12000gに含浸し、エバポレーター中で減圧下40℃に加温した。こうして得た1回目の触媒成分含浸担体を、200℃の過熱水蒸気中15分間、2m/secの流速で焼成し、触媒中間体を得た。
酸化銀(Ag2O)2029 gを脱イオン水11500mlに溶解し、50℃に温度
を調節した。これに、シュウ酸2水和物1103gを加え、pHは9.5になった。シュウ酸2水和物の添加中、温度は50℃以下になるように調節した。こうしてシュウ酸銀沈殿物を得た。沈殿物をろ別後、脱イオン水で洗浄し、シュウ酸銀スラリー(含水率 18
.1重量%)を得た。こうして得たシュウ酸銀スラリー3246gをエチレンジアミン961g、1,3−ジアミノプロパン264g、及び水1226gより成る水溶液に徐々に添加して溶解させ、銀錯体溶液を調製した。この銀錯体溶液の比重は、1.63g/mlであった。
上記操作で得られた銀錯体溶液5648gに、水酸化セシウム一水和物(CsOH・H2O)濃度13.0重量%の水溶液120ml、過レニウム酸アンモニウム(NH4ReO4)濃度4.9重量%の水溶液240ml、硫酸リチウム一水和物(Li2SO4・H
2O)濃度3.4重量%の水溶液120ml、メタタングステン酸アンモニウム(H26N6O40W12・xH2O)濃度2.0重量%の水溶液120ml、水酸化リチウム(LiOH)濃度6.4重量%の水溶液120ml、及び脱イオン水100mlを添加し、2回目含浸の触媒成分含有溶液を得た。
こうして得た2回目含浸の触媒成分含有溶液のうち5434gに脱イオン水180mlを添加した後、上記触媒中間体11692gに含浸し、エバポレーター中で減圧下40℃に加温した。こうして得た2回目の触媒成分含浸担体を、200℃の過熱水蒸気中15分間、2m/secの流速で焼成し、触媒前駆体を得た。
得られた触媒前駆体を、次いで空気雰囲気下にて加熱炉中で370℃、2時間加熱し、次いで、室温まで冷却し触媒を得た。エチレンオキシド製造用触媒の担体の物性を表1に示す。
比較例1で得られた触媒を用いた以外は、実施例1と同様にしてエチレンオキシドを製造した。反応結果を表2に示す。
Claims (6)
- 担体、銀及びレニウムを含むエチレンオキシド製造用触媒であって、
該担体が担体中にケイ素をSiO2換算で0.01重量%〜1.0重量%含み、水銀圧入法により測定される細孔分布において、細孔直径0.01μm〜100μmの範囲に、ログ微分細孔容積の極大値が0.2ml/g以上のピークが少なくとも二つ存在し、該ピークの少なくとも一つが4.0μm〜20μmの範囲に存在する担体である、エチレンオキシド製造用触媒。 - 前記担体の比表面積が0.9m2/g〜1.8m2/gである、請求項1に記載のエチレンオキシド製造用触媒。
- 前記担体の吸水率が45重量%以上である、請求項1又は2に記載のエチレンオキシド製造用触媒。
- 前記担体が更にナトリウムを含み、ナトリウム含有量が担体中にNa2O換算で10重量ppm〜1500重量ppmである請求項1乃至3のいずれか1項に記載のエチレンオキシド製造用触媒。
- 前記請求項1乃至5のいずれか1項に記載のエチレンオキシド製造用触媒の存在下、エチレンを酸化しエチレンオキシドとする、エチレンオキシドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015047580A JP2016165697A (ja) | 2015-03-10 | 2015-03-10 | エチレンオキシド製造用触媒及びそれを用いたエチレンオキシドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015047580A JP2016165697A (ja) | 2015-03-10 | 2015-03-10 | エチレンオキシド製造用触媒及びそれを用いたエチレンオキシドの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016165697A true JP2016165697A (ja) | 2016-09-15 |
JP2016165697A5 JP2016165697A5 (ja) | 2018-02-08 |
Family
ID=56898300
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015047580A Pending JP2016165697A (ja) | 2015-03-10 | 2015-03-10 | エチレンオキシド製造用触媒及びそれを用いたエチレンオキシドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2016165697A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020514029A (ja) * | 2017-01-05 | 2020-05-21 | サイエンティフィック・デザイン・カンパニー・インコーポレーテッドScientific Design Company Incorporated | 担体、触媒及びそれらの製造方法並びにエチレンオキサイドの製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008086877A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Nippon Shokubai Co Ltd | エチレンオキシド製造用触媒およびエチレンオキシドの製造方法 |
JP2012516234A (ja) * | 2009-01-27 | 2012-07-19 | サイエンティフィック・デザイン・カンパニー・インコーポレーテッド | 二峰性細孔径分布を有する触媒及びその使用 |
JP2014512949A (ja) * | 2011-04-14 | 2014-05-29 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | エチレンをエチレンオキシドに酸化するための触媒の製造方法 |
-
2015
- 2015-03-10 JP JP2015047580A patent/JP2016165697A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008086877A (ja) * | 2006-09-29 | 2008-04-17 | Nippon Shokubai Co Ltd | エチレンオキシド製造用触媒およびエチレンオキシドの製造方法 |
JP2012516234A (ja) * | 2009-01-27 | 2012-07-19 | サイエンティフィック・デザイン・カンパニー・インコーポレーテッド | 二峰性細孔径分布を有する触媒及びその使用 |
JP2014512949A (ja) * | 2011-04-14 | 2014-05-29 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | エチレンをエチレンオキシドに酸化するための触媒の製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020514029A (ja) * | 2017-01-05 | 2020-05-21 | サイエンティフィック・デザイン・カンパニー・インコーポレーテッドScientific Design Company Incorporated | 担体、触媒及びそれらの製造方法並びにエチレンオキサイドの製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4267015B2 (ja) | エチレンオキシド製造用触媒およびエチレンオキシドの製造方法 | |
CN107847914B (zh) | 环氧化工艺 | |
KR101711108B1 (ko) | 쌍봉 분포의 기공 크기 분포를 가지는 촉매 및 그의 용도 | |
JP5069223B2 (ja) | アルミナ担体表面のナノメートルサイズの再構築およびアルケンオキサイド製造用触媒 | |
JP2013534465A (ja) | 酸化エチレン触媒用のキャリア | |
US10669247B2 (en) | Carrier treatment to improve catalytic performance of an ethylene oxide catalyst | |
KR102232620B1 (ko) | 감소된 소듐 함량을 가지는, 에틸렌 옥사이드 제조를 위한 은-기반 촉매 | |
JP2016165697A (ja) | エチレンオキシド製造用触媒及びそれを用いたエチレンオキシドの製造方法 | |
JP2016165696A (ja) | エチレンオキシド製造用触媒及びそれを用いたエチレンオキシドの製造方法 | |
JP5211924B2 (ja) | エチレンオキシド製造用触媒及びエチレンオキシドの製造方法 | |
JP2015199060A (ja) | エチレンからエチレンオキサイドを製造するための触媒用担体、及び触媒の製造方法 | |
JP5143610B2 (ja) | エチレンオキシド製造用触媒の製造方法 | |
TWI697358B (zh) | 具有改進的銀顆粒大小和分佈密度的銀催化劑 | |
JP2017144421A (ja) | アセトアルデヒド合成用触媒、アセトアルデヒドの製造装置及びアセトアルデヒドの製造方法 | |
JP2015199059A (ja) | エチレンからエチレンオキサイドを製造するための触媒用担体、及び触媒の製造方法 | |
JP5165441B2 (ja) | エチレンオキシド製造用触媒および該触媒を用いたエチレンオキシドの製造方法 | |
JP2014188462A (ja) | 酸化エチレン製造用触媒の製造方法及び酸化エチレンの製造方法 | |
JP2013202592A (ja) | エチレンオキシド製造用触媒及びエチレンオキシドの製造方法 | |
JP2021062340A (ja) | エチレンオキシド製造用触媒 | |
JP2015047583A (ja) | エチレンオキシド製造用触媒及びエチレンオキシドの製造方法 | |
JP5258485B2 (ja) | エチレンオキシド製造用触媒およびその触媒を用いたエチレンオキシドの製造方法 | |
JP5328452B2 (ja) | 酸化エチレン製造用触媒の担体、酸化エチレン製造用触媒および酸化エチレンの製造方法 | |
JP2014128800A (ja) | エチレンオキシド製造用触媒およびエチレンオキシドの製造方法 | |
JP2011206669A (ja) | エチレンオキシド製造用触媒および酸化エチレン製造方法 | |
JP2012075985A (ja) | 触媒前駆体、酸化エチレン製造用触媒および酸化エチレンの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20170424 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171219 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171220 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20181128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190108 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190205 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20190326 |