JP2016161474A - 光学式変位計測システム、測定シミュレーション方法および測定シミュレーションプログラム - Google Patents
光学式変位計測システム、測定シミュレーション方法および測定シミュレーションプログラム Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】測定結果の測定方法が設定される。受光部120により生成された撮像画像データに基づいて、プロファイル形状を示すプロファイルデータが生成される。プロファイルデータに基づいて、設定された測定方法により測定結果が算出される。複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータの時間的変化を表す画像が生成され、表示部3に表示される。画像上で選択されたプロファイルデータに基づいてプロファイル形状が表示部3に表示される。測定方法が変更された場合に、複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータに基づいて、変更後の測定方法により複数のプロファイルデータについての測定結果が算出される。
【選択図】図2
Description
(1)光学式変位計側システムの構成
図1は、本発明の一実施の形態に係る光学式変位計側システムの構成を示すブロック図である。図2は、図1の光学式変位計側システム1の処理装置200の構成を示すブロック図である。図1に示すように、光学式変位計側システム1は、表示部3、撮像ヘッド100、処理装置200およびPC(パーソナルコンピュータ)900を備える。表示部3は、例えば液晶ディスプレイパネルまたは有機EL(エレクトロルミネッセンス)パネルにより構成される。
図3は、撮像ヘッド100およびワークWの外観斜視図である。図4および図5は、ワークWの表面における光の照射位置と受光素子121における光の入射位置との関係を示す図である。図3〜図5においては、水平面内で互いに直交する2方向をX1方向およびY1方向と定義し、それぞれ矢印X1,Y1で示す。また、鉛直方向をZ1方向と定義し、矢印Z1で示す。さらに、図4および図5においては、受光素子121の受光面上で互いに直交する2方向をX2方向およびZ2方向と定義し、それぞれ矢印X2,Z2で示す。ここで、受光面とは、受光素子121の複数の画素により形成される面である。
(1)撮像設定の手順
光学式変位計側システム1は、例えばベルトコンベアにより一定速度で運搬される同一種類の複数のワークWについて、共通部分の寸法(変位)を一定の周期で順次測定するために用いられる。このような用途においては、ワークの正確なプロファイル形状を取得するために、ワークの種類に応じて撮像設定を最適に行なう必要がある。
本例においては、図12の撮像設定ボタン311bが操作されると、図示しないパラメータ簡易入力欄が設定入力欄322に表示される。パラメータ簡易入力欄に所定の操作が行なわれると、パラメータ簡易入力欄に代えてパラメータ詳細入力欄が設定入力欄322に表示される。図13は、パラメータ詳細入力欄の一例を示す図である。図14は、パラメータ詳細入力欄の他の例を示す図である。
上記のように、撮像パラメータは多数存在するとともに、各撮像パラメータの状態は多岐にわたる。そのため、撮像パラメータの状態の組み合わせにより極めて多数の撮像条件が存在する。また、どの撮像パラメータのどの状態を変更すると生成されるプロファイル形状がどのように変化するかを使用者が直感的に把握することは難しい。そのため、使用者には、撮像条件が最適になる撮像パラメータの状態の組み合わせを見つけ出すことは困難である。また、使用者には、設定された撮像条件が最適であるか否かを判断することができない。
図17および図18は、撮像条件最適化処理を示すフローチャートである。以下、図1、図2、図17および図18を参照しながらPC900による撮像条件最適化処理を説明する。PC900は、撮像条件最適化プログラムに基づいて処理装置200を制御することにより撮像条件最適化処理を実行する。
本実施の形態に係る光学式変位計側システム1においては、撮像条件を設定するための複数の撮像パラメータの状態が撮像設定部931により設定される。設定された複数の撮像パラメータのいずれかの状態が変更されることにより、複数の撮像条件にそれぞれ対応する複数の撮像画像データが受光部120により生成される。
(1)測定設定の手順
撮像設定が行なわれた後、同一種類の複数のワークWについて共通部分の寸法(変位)を測定するために測定設定を行なう必要がある。以下、図12の設定編集画面300を参照して測定設定の手順について説明する。なお、撮像設定と同様に、処理装置200に複数の撮像ヘッド100が接続されている場合には、複数の撮像ヘッド100に一括して共通の測定設定を行なうこともできるし、複数の撮像ヘッド100に個別の測定設定を行なうこともできる。
(a)フィルタ処理
上記の測定設定において、プロファイル形状に不要な部分が含まれている場合には、測定結果が不適切になることがある。そこで、プロファイルデータに所望のフィルタ処理を行なうことにより、プロファイル形状に含まれた不要な部分を除去することができる。
マスタプロファイルデータが登録されたときのワークWの位置と実際に測定されるワークWの位置とが完全に一致するとは限らない。マスタプロファイルデータが登録されたときのワークWの位置と実際に測定されるワークWの位置とがずれた状態で撮像が行なわれると、測定結果が不適切になることがある。
以下、マスタプロファイル形状MPに設定されるマスクをプロファイルマスクと呼ぶ。上記の測定方法において、マスタプロファイル形状MPに設定された測定範囲に不要な部分が含まれている場合には、測定結果が不適切になることがある。そこで、マスタプロファイル形状MPに所望のプロファイルマスク処理を行なうことにより、測定範囲に含まれた不要な部分を除去して測定を行なうことができる。
(a)距離画像
上記の測定設定が行なわれた後、同一種類の複数のワークWの測定が順次行なわれる。ここで、ワークWの測定の途中または終了後に測定方法が適切ではなかったことが判明する場合がある。このような場合、従来の光学式変位計側システムにおいては、測定時の状況を再現し、測定設定を再度行なった後、ワークWの再測定および測定結果の再確認を行なう必要がある。しかしながら、測定時の状況を正確に再現できるとは限らない。仮に測定時の状況を正確に再現できたとしても、測定方法を最適にするために、試行錯誤しつつ測定方法の変更およびワークWの測定を繰り返す必要がある。そのため、使用者の負担が増加する。
測定設定において、図20の例のように、ワークWの平坦部分の高さを測定するために、マスタプロファイル形状MPの平坦部分に測定範囲が設定されたことを想定する。しかしながら、測定範囲が大きすぎる場合等のように、設定された測定方法に不具合がある場合には、ワークWによってはプロファイル形状PRの平坦部分に連続する不要なエッジ部分も測定範囲内に含まれることがある。
図33および図34は、測定シミュレーション処理を示すフローチャートである。以下、図1、図2、図33および図34を参照しながらPC900による測定シミュレーション処理を説明する。
本実施の形態に係る光学式変位計側システム1においては、プロファイル形状に関する測定結果の測定方法が測定処理部231に設定される。受光部120により生成された撮像距離画像データに基づいて、プロファイル形状を示すプロファイルデータがプロファイル生成部222により生成される。生成されたプロファイルデータに基づいて、測定結果が測定処理部231により算出される。
(1)上記実施の形態の撮像設定においては、使用者が状態を変更すべき撮像パラメータを選択するとともに変更すべき複数の状態を指定するが、本発明はこれに限定されない。撮像パラメータごとに変更すべき複数の状態が予め設定されている場合には、使用者は、選択した撮像パラメータについて、変更すべき複数の状態を指定しなくてもよい。
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
3 表示部
100 撮像ヘッド
110 投光部
120 受光部
121 受光素子
122 受光レンズ
200 処理装置
210 撮像制御部
211 投光制御部
212 受光制御部
220 データ処理部
221 ピーク検出部
222 プロファイル生成部
230 測定制御部
231 測定処理部
232 距離画像生成部
240 表示処理部
250 入力受付部
251 撮像受付部
252 測定受付部
260,920 記憶部
300 設定編集画面
300A 設定変更画面
310 共通表示欄
311 撮像設定欄
311a トリガ設定ボタン
311b 撮像設定ボタン
311c プロファイルボタン
312 測定設定欄
312a マスタ登録ボタン
312b 位置補正ボタン
312c プロファイルマスクボタン
312d OUT測定設定ボタン
313 出力設定欄
313a 端子/ストレージボタン
314 ファイル保存ボタン
315 サンプリング周波数表示欄
316 処理時間表示欄
317 完了ボタン
317A 実行ボタン
320 個別表示欄
321 画像表示欄
322 設定入力欄
323 画像更新ボタン
324 プロファイル更新ボタン
325 プロファイル選択ボタン
330 パラメータ詳細入力欄
330a 設定最適ボタン
330b やり直しボタン
331,338 受光特性欄
331a 受光感度特性プルダウンメニュー
332 光量設定欄
332a 露光時間プルダウンメニュー
332b 光量設定ボタン
332c 光量制御欄
333 ピーク時処理欄
333a ピーク検出感度プルダウンメニュー
333b 無効データ補間点数入力欄
334 複数ピーク処理欄
334a ピーク選択プルダウンメニュー
334b,334c ピーク幅フィルタチェックボックス
335 撮像モード欄
335a 撮像モードプルダウンメニュー
336 画像マスク欄
336a 画像マスクボタン
336b 画像マスク表示欄
337 測定範囲欄
337a X方向プルダウンメニュー
337b Z方向プルダウンメニュー
338a ビニングプルダウンメニュー
340 マスタプロファイル登録欄
341 登録ボタン
350 測定対象表示欄
350a,370a,380a,424 確定ボタン
351 測定対象入力欄
351a 対象ヘッドプルダウンメニュー
351b 測定対象設定欄
351c 測定対象設定ボタン
352 測定範囲入力欄
352a,371a 左端入力欄
352b,371b 右端入力欄
353 測定結果出力欄
353a〜353c 測定結果表示欄
360 プロファイル詳細設定欄
360a 標準設定へボタン
361 空間フィルタ設定欄
361a スムージングプルダウンメニュー
361b メディアンプルダウンメニュー
370 X補正欄
371 エッジ測定エリア欄
371c エッジレベル入力欄
372 エッジ測定詳細欄
372a エッジ方向プルダウンメニュー
372b 検出方向プルダウンメニュー
372c 検出No.プルダウンメニュー
380 プロファイルマスク設定欄
381 マスクエリア欄
381a マスクエリア一覧表
382 マスクエリア詳細欄
382a エリア表示欄
382b 形状表示欄
383 エリア設定欄
383a 左上X座標入力欄
383b 左上Z座標入力欄
383c 右下X座標入力欄
383d 右下Z座標入力欄
384 位置補正選択欄
384a 位置補正選択プルダウンメニュー
400 撮像条件最適化画面
410 結果表示領域
411 結果表示欄
411a,421 撮像画像表示欄
411b,422,631 プロファイル形状表示欄
411c スコア表示欄
412 カスタム探索ボタン
413 オプティマイズボタン
420 選択画像表示領域
423 連続更新ボタン
500 カスタム探索画面
501 実行パターン数表示欄
502 探索実行ボタン
510〜514 受光感度特性チェックボックス
520〜529,52A 露光時間チェックボックス
530〜535 ピーク検出感度チェックボックス
540〜546 ピーク選択チェックボックス
550 ピーク幅フィルタチェックボックス
560〜565 撮像モードチェックボックス
600 設定シミュレータ画面
601 設定変更ボタン
610 測定エリア表示領域
620 測定結果表示領域
621,711 距離画像表示欄
621a 全体画像表示欄
621b 部分画像表示欄
621c カーソル
622 トレンドグラフ表示欄
622m マーカ
630,720 選択結果表示領域
632 選択結果表示欄
700 シミュレート対象データ選択画面
701 OKボタン
710 距離画像表示領域
900 PC
910 操作部
930 制御部
931 撮像設定部
932 測定設定部
933 処理間算出部
934 信頼度算出部
935 抽出部
936 シミュレーション部
M1 測定範囲表示指標
M2 補正範囲表示指標
M3 マスク範囲表示指標
ME,PE エッジ
ML,PL エッジレベル
MP マスタプロファイル形状
NP ノイズ部
P1 ピーク
PP ピーク位置
PR プロファイル形状
R1 受光領域
SS 画素列
W ワーク
算出部と、複数回のプロファイル形状の検出においてプロファイル生成部により生成された複数のプロファイルデータの時間的変化を表す画像を生成する画像生成部と、画像生成部により生成された画像を表示する第1の表示部と、第1の表示部により表示された画像上で複数のプロファイルデータのいずれかを選択するための選択部と、選択部により選択されたプロファイルデータに基づいてプロファイル形状を表示する第2の表示部と、測定方法設定部により設定された測定方法を変更する測定方法変更部と、測定方法変更部により測定方法が変更された場合に、複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータに基づいて、測定方法変更部による変更後の測定方法により複数のプロファイルデータについての測定結果を算出する情報更新部とを備える。
(1)光学式変位計測システムの構成
図1は、本発明の一実施の形態に係る光学式変位計測システムの構成を示すブロック図である。図2は、図1の光学式変位計測システム1の処理装置200の構成を示すブロック図である。図1に示すように、光学式変位計測システム1は、表示部3、撮像ヘッド100、処理装置200およびPC(パーソナルコンピュータ)900を備える。表示部3は、例えば液晶ディスプレイパネルまたは有機EL(エレクトロルミネッセンス)パネルにより構成される。
(1)撮像設定の手順
光学式変位計測システム1は、例えばベルトコンベアにより一定速度で運搬される同一種類の複数のワークWについて、共通部分の寸法(変位)を一定の周期で順次測定するために用いられる。このような用途においては、ワークの正確なプロファイル形状を取得するために、ワークの種類に応じて撮像設定を最適に行なう必要がある。
本実施の形態に係る光学式変位計測システム1においては、撮像条件を設定するための複数の撮像パラメータの状態が撮像設定部931により設定される。設定された複数の撮像パラメータのいずれかの状態が変更されることにより、複数の撮像条件にそれぞれ対応する複数の撮像画像データが受光部120により生成される。
(a)距離画像
上記の測定設定が行なわれた後、同一種類の複数のワークWの測定が順次行なわれる。ここで、ワークWの測定の途中または終了後に測定方法が適切ではなかったことが判明する場合がある。このような場合、従来の光学式変位計測システムにおいては、測定時の状況を再現し、測定設定を再度行なった後、ワークWの再測定および測定結果の再確認を行なう必要がある。しかしながら、測定時の状況を正確に再現できるとは限らない。仮に測定時の状況を正確に再現できたとしても、測定方法を最適にするために、試行錯誤しつつ測定方法の変更およびワークWの測定を繰り返す必要がある。そのため、使用者の負担が増加する。
本実施の形態に係る光学式変位計測システム1においては、プロファイル形状に関する測定結果の測定方法が測定処理部231に設定される。受光部120により生成された撮像距離画像データに基づいて、プロファイル形状を示すプロファイルデータがプロファイル生成部222により生成される。生成されたプロファイルデータに基づいて、測定結果が測定処理部231により算出される。
3 表示部
100 撮像ヘッド
110 投光部
120 受光部
121 受光素子
122 受光レンズ
200 処理装置
210 撮像制御部
211 投光制御部
212 受光制御部
220 データ処理部
221 ピーク検出部
222 プロファイル生成部
230 測定制御部
231 測定処理部
232 距離画像生成部
240 表示処理部
250 入力受付部
251 撮像受付部
252 測定受付部
260,920 記憶部
300 設定編集画面
300A 設定変更画面
310 共通表示欄
311 撮像設定欄
311a トリガ設定ボタン
311b 撮像設定ボタン
311c プロファイルボタン
312 測定設定欄
312a マスタ登録ボタン
312b 位置補正ボタン
312c プロファイルマスクボタン
312d OUT測定設定ボタン
313 出力設定欄
313a 端子/ストレージボタン
314 ファイル保存ボタン
315 サンプリング周波数表示欄
316 処理時間表示欄
317 完了ボタン
317A 実行ボタン
320 個別表示欄
321 画像表示欄
322 設定入力欄
323 画像更新ボタン
324 プロファイル更新ボタン
325 プロファイル選択ボタン
330 パラメータ詳細入力欄
330a 設定最適ボタン
330b やり直しボタン
331,338 受光特性欄
331a 受光感度特性プルダウンメニュー
332 光量設定欄
332a 露光時間プルダウンメニュー
332b 光量設定ボタン
332c 光量制御欄
333 ピーク時処理欄
333a ピーク検出感度プルダウンメニュー
333b 無効データ補間点数入力欄
334 複数ピーク処理欄
334a ピーク選択プルダウンメニュー
334b,334c ピーク幅フィルタチェックボックス
335 撮像モード欄
335a 撮像モードプルダウンメニュー
336 画像マスク欄
336a 画像マスクボタン
336b 画像マスク表示欄
337 測定範囲欄
337a X方向プルダウンメニュー
337b Z方向プルダウンメニュー
338a ビニングプルダウンメニュー
340 マスタプロファイル登録欄
341 登録ボタン
350 測定対象表示欄
350a,370a,380a,424 確定ボタン
351 測定対象入力欄
351a 対象ヘッドプルダウンメニュー
351b 測定対象設定欄
351c 測定対象設定ボタン
352 測定範囲入力欄
352a,371a 左端入力欄
352b,371b 右端入力欄
353 測定結果出力欄
353a〜353c 測定結果表示欄
360 プロファイル詳細設定欄
360a 標準設定へボタン
361 空間フィルタ設定欄
361a スムージングプルダウンメニュー
361b メディアンプルダウンメニュー
370 X補正欄
371 エッジ測定エリア欄
371c エッジレベル入力欄
372 エッジ測定詳細欄
372a エッジ方向プルダウンメニュー
372b 検出方向プルダウンメニュー
372c 検出No.プルダウンメニュー
380 プロファイルマスク設定欄
381 マスクエリア欄
381a マスクエリア一覧表
382 マスクエリア詳細欄
382a エリア表示欄
382b 形状表示欄
383 エリア設定欄
383a 左上X座標入力欄
383b 左上Z座標入力欄
383c 右下X座標入力欄
383d 右下Z座標入力欄
384 位置補正選択欄
384a 位置補正選択プルダウンメニュー
400 撮像条件最適化画面
410 結果表示領域
411 結果表示欄
411a,421 撮像画像表示欄
411b,422,631 プロファイル形状表示欄
411c スコア表示欄
412 カスタム探索ボタン
413 オプティマイズボタン
420 選択画像表示領域
423 連続更新ボタン
500 カスタム探索画面
501 実行パターン数表示欄
502 探索実行ボタン
510〜514 受光感度特性チェックボックス
520〜529,52A 露光時間チェックボックス
530〜535 ピーク検出感度チェックボックス
540〜546 ピーク選択チェックボックス
550 ピーク幅フィルタチェックボックス
560〜565 撮像モードチェックボックス
600 設定シミュレータ画面
601 設定変更ボタン
610 測定エリア表示領域
620 測定結果表示領域
621,711 距離画像表示欄
621a 全体画像表示欄
621b 部分画像表示欄
621c カーソル
622 トレンドグラフ表示欄
622m マーカ
630,720 選択結果表示領域
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701 OKボタン
710 距離画像表示領域
900 PC
910 操作部
930 制御部
931 撮像設定部
932 測定設定部
933 処理間算出部
934 信頼度算出部
935 抽出部
936 シミュレーション部
M1 測定範囲表示指標
M2 補正範囲表示指標
M3 マスク範囲表示指標
ME,PE エッジ
ML,PL エッジレベル
MP マスタプロファイル形状
NP ノイズ部
P1 ピーク
PP ピーク位置
PR プロファイル形状
R1 受光領域
SS 画素列
W ワーク
Claims (14)
- 一方向に沿って光を測定対象物に照射する投光部と、測定対象物からの反射光を受光し、受光量に基づいて測定対象物の画像を示す撮像画像データを生成する受光部とを備え、三角測距方式により測定対象物のプロファイル形状を検出するとともに前記プロファイル形状に関する測定結果を算出する光切断方式の光学式変位計側システムであって、
前記測定結果の測定方法を設定するための測定方法設定部と、
前記受光部により生成された撮像画像データに基づいて、前記プロファイル形状を示すプロファイルデータを生成するプロファイル生成部と、
前記プロファイル生成部により生成されたプロファイルデータに基づいて、前記設定された測定方法により前記測定結果を算出する情報算出部と、
複数回のプロファイル形状の検出において前記プロファイル生成部により生成された複数のプロファイルデータの時間的変化を表す画像を生成する画像生成部と、
前記画像生成部により生成された画像を表示する第1の表示部と、
前記第1の表示部により表示された画像上で前記複数のプロファイルデータのいずれかを選択するための選択部と、
前記選択部により選択されたプロファイルデータに基づいてプロファイル形状を表示する第2の表示部と、
前記測定方法設定部により設定された測定方法を変更する測定方法変更部と、
前記測定方法変更部により測定方法が変更された場合に、前記複数回のプロファイル形状の検出において生成された前記複数のプロファイルデータに基づいて、前記測定方法変更部による変更後の測定方法により前記複数のプロファイルデータについての前記測定結果を算出する情報更新部とを備える、光学式変位計側システム。 - 前記複数回のプロファイル形状の検出において前記情報算出部により算出された複数の測定結果の時間的変化をトレンドグラフとして表示する第3の表示部をさらに備える、請求項1記載の光学式変位計側システム。
- 測定結果についての検索条件を指定するために使用者により操作される操作部をさらに備え、
前記第3の表示部は、前記トレンドグラフにおいて、前記操作部により指定された検索条件を満たす測定結果に対応する部分を識別可能に表示する、請求項2記載の光学式変位計側システム。 - 前記操作部は、前記第3の表示部により表示された前記トレンドグラフの部分を指定するために使用者により操作され、
前記光学式変位計側システムは、
前記操作部により指定された前記トレンドグラフの部分に対応するプロファイル形状を表示する第4の表示部をさらに備える、請求項3記載の光学式変位計側システム。 - 前記検索条件は、前記情報算出部により算出された測定結果の良否を判定するための判定基準を含む、請求項3または4記載の光学式変位計側システム。
- 前記測定方法変更部による変更後の測定方法は、前記プロファイル生成部により生成されたプロファイルデータに対して予め定められた処理を行うことを含み、
前記情報更新部は、前記複数回のプロファイル形状の検出において生成された前記複数のプロファイルデータに前記予め定められた処理を行い、前記測定方法変更部による変更後の測定方法により前記処理が行われた複数のプロファイルデータについて前記測定結果を算出する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の光学式変位計側システム。 - 前記予め定められた処理はフィルタ処理を含む、請求項6記載の光学式変位計側システム。
- 前記測定方法変更部による変更後の測定方法は、前記プロファイル形状の測定部分を指定することを含み、
前記情報更新部は、前記複数のプロファイルデータにおける前記測定部分に対応する部分に基づいて前記測定結果を算出する、請求項1〜7のいずれか一項に記載の光学式変位計側システム。 - 前記測定方法変更部による変更後の測定方法は、前記プロファイル形状の非測定部分を指定することをさらに含み、
前記情報更新部は、前記複数のプロファイルデータにおける前記測定部分に対応する部分のうち前記非測定部分に対応する部分を除く部分に基づいて前記測定結果を算出する、請求項8記載の光学式変位計側システム。 - 前記測定方法変更部による変更後の測定方法は、前記第2の表示部により表示されたプロファイル形状に補正基準位置を設定することをさらに含み、
前記情報更新部は、前記複数回のプロファイル形状の検出において生成された前記複数のプロファイルデータの位置を補正基準位置に対して相対的に補正し、補正後の複数のプロファイルデータに基づいて前記測定結果を算出する、請求項8または9記載の光学式変位計側システム。 - 前記測定方法変更部による変更前および変更後の測定方法は、プロファイル形状に設定された測定部分についての測定内容を指示することをさらに含む、請求項8〜10のいずれか一項に記載の光学式変位計側システム。
- 前記測定内容は、測定部分の位置もしくは角度の測定、または測定された位置もしくは角度を用いた演算結果を含む、請求項11記載の光学式変位計側システム。
- 一方向に沿って光を測定対象物に照射する投光部と、測定対象物からの反射光を受光し、受光量に基づいて測定対象物の画像を示す撮像画像データを生成する受光部とを備え、三角測距方式により測定対象物のプロファイル形状を検出するとともに前記プロファイル形状に関する測定結果を算出する光切断方式の光学式変位計側システムの測定シミュレーション方法であって、
前記測定結果の測定方法を設定するステップと、
前記受光部により生成された撮像画像データに基づいて、前記プロファイル形状を示すプロファイルデータを生成するステップと、
生成されたプロファイルデータに基づいて、前記設定された測定方法により前記測定結果を算出するステップと、
複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータの時間的変化を表す画像を生成するステップと、
前記画像生成部により生成された画像を第1の表示部に表示するステップと、
前記第1の表示部により表示された画像上で前記複数のプロファイルデータのいずれかを選択するステップと、
選択されたプロファイルデータに基づいてプロファイル形状を第2の表示部に表示するステップと、
前記測定方法設定部により設定された測定方法を変更するステップと、
測定方法が変更された場合に、前記複数回のプロファイル形状の検出において生成された前記複数のプロファイルデータに基づいて、変更後の測定方法により前記複数のプロファイルデータについての前記測定結果を算出するステップとを含む、測定シミュレーション方法。 - 一方向に沿って光を測定対象物に照射する投光部と、測定対象物からの反射光を受光し、受光量に基づいて測定対象物の画像を示す撮像画像データを生成する受光部とを備え、三角測距方式により測定対象物のプロファイル形状を検出するとともに前記プロファイル形状に関する測定結果を算出する光切断方式の光学式変位計側システムの測定シミュレーションを処理装置に実行させる測定シミュレーションプログラムであって、
前記測定結果の測定方法を設定する処理と、
前記受光部により生成された撮像画像データに基づいて、前記プロファイル形状を示すプロファイルデータを生成する処理と、
生成されたプロファイルデータに基づいて、前記設定された測定方法により前記測定結果を算出する処理と、
複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータの時間的変化を表す画像を生成する処理と、
前記画像生成部により生成された画像を第1の表示部に表示する処理と、
前記第1の表示部により表示された画像上で前記複数のプロファイルデータのいずれかを選択する処理と、
選択されたプロファイルデータに基づいてプロファイル形状を第2の表示部に表示する処理と、
前記測定方法設定部により設定された測定方法を変更する処理と、
測定方法が変更された場合に、前記複数回のプロファイル形状の検出において生成された前記複数のプロファイルデータに基づいて、変更後の測定方法により前記複数のプロファイルデータについての前記測定結果を算出する処理とを、
前記処理装置に実行させる、測定シミュレーションプログラム。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018151209A (ja) * | 2017-03-10 | 2018-09-27 | 株式会社ミツトヨ | 光学式変位計、光学式変位計の調整方法および光学式変位測定方法 |
JP2020027053A (ja) * | 2018-08-13 | 2020-02-20 | 株式会社キーエンス | 光学式変位計 |
JP2020027055A (ja) * | 2018-08-13 | 2020-02-20 | 株式会社キーエンス | 光学式変位計 |
JP2020144102A (ja) * | 2019-03-04 | 2020-09-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板検査装置、基板処理装置、基板検査方法、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
CN111854630A (zh) * | 2019-04-26 | 2020-10-30 | 株式会社基恩士 | 光学位移计 |
JP7554061B2 (ja) | 2020-06-04 | 2024-09-19 | 株式会社ミツトヨ | 三次元測定機、形状測定方法およびデータ処理装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002286422A (ja) * | 2001-03-25 | 2002-10-03 | Omron Corp | 変位センサ |
JP2008096118A (ja) * | 2006-10-05 | 2008-04-24 | Keyence Corp | 光学式変位計、光学式変位測定方法、光学式変位測定プログラム及びコンピュータで読み取り可能な記録媒体並びに記録した機器 |
JP2010107789A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Olympus Corp | 共焦点顕微鏡システム |
JP2015021759A (ja) * | 2013-07-16 | 2015-02-02 | 株式会社キーエンス | 三次元画像処理装置、三次元画像処理装置用ヘッド部及び三次元画像処理方法 |
JP2015031540A (ja) * | 2013-07-31 | 2015-02-16 | 株式会社キーエンス | 画像処理装置、画像処理システム、検査方法およびプログラム |
-
2015
- 2015-03-04 JP JP2015042173A patent/JP6379060B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002286422A (ja) * | 2001-03-25 | 2002-10-03 | Omron Corp | 変位センサ |
JP2008096118A (ja) * | 2006-10-05 | 2008-04-24 | Keyence Corp | 光学式変位計、光学式変位測定方法、光学式変位測定プログラム及びコンピュータで読み取り可能な記録媒体並びに記録した機器 |
JP2010107789A (ja) * | 2008-10-31 | 2010-05-13 | Olympus Corp | 共焦点顕微鏡システム |
JP2015021759A (ja) * | 2013-07-16 | 2015-02-02 | 株式会社キーエンス | 三次元画像処理装置、三次元画像処理装置用ヘッド部及び三次元画像処理方法 |
JP2015031540A (ja) * | 2013-07-31 | 2015-02-16 | 株式会社キーエンス | 画像処理装置、画像処理システム、検査方法およびプログラム |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7057067B2 (ja) | 2017-03-10 | 2022-04-19 | 株式会社ミツトヨ | 光学式変位計、光学式変位計の調整方法および光学式変位測定方法 |
JP2018151209A (ja) * | 2017-03-10 | 2018-09-27 | 株式会社ミツトヨ | 光学式変位計、光学式変位計の調整方法および光学式変位測定方法 |
JP7117189B2 (ja) | 2018-08-13 | 2022-08-12 | 株式会社キーエンス | 光学式変位計 |
CN110823125A (zh) * | 2018-08-13 | 2020-02-21 | 株式会社基恩士 | 光学位移计 |
JP2020027055A (ja) * | 2018-08-13 | 2020-02-20 | 株式会社キーエンス | 光学式変位計 |
JP7064404B2 (ja) | 2018-08-13 | 2022-05-10 | 株式会社キーエンス | 光学式変位計 |
JP2020027053A (ja) * | 2018-08-13 | 2020-02-20 | 株式会社キーエンス | 光学式変位計 |
JP2020144102A (ja) * | 2019-03-04 | 2020-09-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板検査装置、基板処理装置、基板検査方法、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
JP7379104B2 (ja) | 2019-03-04 | 2023-11-14 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板検査装置、基板処理装置、基板検査方法、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
US11823922B2 (en) | 2019-03-04 | 2023-11-21 | Tokyo Electron Limited | Substrate inspection apparatus, substrate processing apparatus, substrate inspection method, and computer-readable recording medium |
TWI845613B (zh) * | 2019-03-04 | 2024-06-21 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 基板檢查裝置、基板處理裝置、基板檢查方法、及電腦可讀取記錄媒體 |
CN111854630A (zh) * | 2019-04-26 | 2020-10-30 | 株式会社基恩士 | 光学位移计 |
JP2020180916A (ja) * | 2019-04-26 | 2020-11-05 | 株式会社キーエンス | 光学式変位計 |
JP7319083B2 (ja) | 2019-04-26 | 2023-08-01 | 株式会社キーエンス | 光学式変位計 |
JP7554061B2 (ja) | 2020-06-04 | 2024-09-19 | 株式会社ミツトヨ | 三次元測定機、形状測定方法およびデータ処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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