JP2016161474A - 光学式変位計測システム、測定シミュレーション方法および測定シミュレーションプログラム - Google Patents

光学式変位計測システム、測定シミュレーション方法および測定シミュレーションプログラム Download PDF

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Abstract

【課題】測定方法を事後的に変更することが可能な光学式変位計測システム、測定シミュレーション方法および測定シミュレーションプログラムを提供する。
【解決手段】測定結果の測定方法が設定される。受光部120により生成された撮像画像データに基づいて、プロファイル形状を示すプロファイルデータが生成される。プロファイルデータに基づいて、設定された測定方法により測定結果が算出される。複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータの時間的変化を表す画像が生成され、表示部3に表示される。画像上で選択されたプロファイルデータに基づいてプロファイル形状が表示部3に表示される。測定方法が変更された場合に、複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータに基づいて、変更後の測定方法により複数のプロファイルデータについての測定結果が算出される。
【選択図】図2

Description

本発明は、光学式変位計側システム、測定シミュレーション方法および測定シミュレーションプログラムに関する。
測定対象物(以下、ワークと呼ぶ。)の形状を測定するために、三角測距方式の光学式変位計側システムが用いられることがある。このような光学式変位計側システムにおいては、最初にワークが撮像される。撮像により生成されたワークの画像データに基づいて、ワークのプロファイル形状(輪郭形状)が測定される(例えば特許文献1参照)。
特許文献1に記載された光切断方式の光学式変位計側システムにおいては、線状の断面を有する帯状の光がワークの表面に照射され、その反射光が2次元の受光素子で受光されることにより撮像が行なわれる。受光素子により得られる画素ごとの受光量に基づいて、画像データが生成される。画像データにおける受光量分布のピーク位置に基づいて、ワークのプロファイル形状を示すプロファイルデータが算出される。算出されたプロファイルデータを用いてワークの形状が測定される。
特開2013−170838号公報
プロファイルデータが算出された後、ワークの測定方法が設定される。測定方法は、プロファイルデータへのフィルタ処理、ワークの測定部分および測定内容等を決定することにより設定される。ここで、ワークの測定の終了後のように事後的に測定方法が適切ではなかったことが判明する場合がある。このような場合、測定時の状況を再現し、測定方法を再度設定した後、ワークの再測定および測定結果の再確認を行なう必要がある。
しかしながら、測定時の状況を正確に再現できるとは限らない。仮に測定時の状況を正確に再現できたとしても、測定方法を最適にするために、試行錯誤しつつ測定方法の変更およびワークの測定を繰り返す必要がある。そのため、使用者の負担が増加する。
本発明の目的は、測定方法を事後的に変更することが可能な光学式変位計側システム、測定シミュレーション方法および測定シミュレーションプログラムを提供することである。
(1)第1の発明に係る光学式変位計側システムは、一方向に沿って光を測定対象物に照射する投光部と、測定対象物からの反射光を受光し、受光量に基づいて測定対象物の画像を示す撮像画像データを生成する受光部とを備え、三角測距方式により測定対象物のプロファイル形状を検出するとともにプロファイル形状に関する測定結果を算出する光切断方式の光学式変位計側システムであって、測定結果の測定方法を設定するための測定方法設定部と、受光部により生成された撮像画像データに基づいて、プロファイル形状を示すプロファイルデータを生成するプロファイル生成部と、プロファイル生成部により生成されたプロファイルデータに基づいて、設定された測定方法により測定結果を算出する情報算出部と、複数回のプロファイル形状の検出においてプロファイル生成部により生成された複数のプロファイルデータの時間的変化を表す画像を生成する画像生成部と、画像生成部により生成された画像を表示する第1の表示部と、第1の表示部により表示された画像上で複数のプロファイルデータのいずれかを選択するための選択部と、選択部により選択されたプロファイルデータに基づいてプロファイル形状を表示する第2の表示部と、測定方法設定部により設定された測定方法を変更する測定方法変更部と、測定方法変更部により測定方法が変更された場合に、複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータに基づいて、測定方法変更部による変更後の測定方法により複数のプロファイルデータについての測定結果を算出する情報更新部とを備える。
この光学式変位計側システムにおいては、測定結果の測定方法が設定される。受光部により生成された撮像画像データに基づいて、プロファイル形状を示すプロファイルデータが生成される。生成されたプロファイルデータに基づいて、設定された測定方法により測定結果が算出される。複数回のプロファイル形状の検出において複数のプロファイルデータが生成され、生成された複数のプロファイルデータの時間的変化を表す画像が生成される。生成された画像が第1の表示部に表示される。使用者は、第1の表示部に表示された画像を観測することにより、設定された測定方法が適切であるかどうかを視覚的に確認することができる。
設定された測定方法が適切でない場合には、第1の表示部により表示された画像上で複数のプロファイルデータのいずれかを選択することができる。選択されたプロファイルデータに基づいてプロファイル形状が第2の表示部に表示される。ここで、使用者は、設定された測定方法を変更することができる。測定方法が変更された場合に、複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータに基づいて、変更後の測定方法により複数のプロファイルデータについての測定結果が算出される。これにより、測定方法を事後的に変更するとともに変更された測定方法による複数の測定結果を取得することができる。
(2)光学式変位計側システムは、複数回のプロファイル形状の検出において情報算出部により算出された複数の測定結果の時間的変化をトレンドグラフとして表示する第3の表示部をさらに備えてもよい。
この場合、使用者は、第3の表示部に表示されたトレンドグラフを観測することにより、測定方法が適切であるか否かを容易に認識することができる。
(3)光学式変位計側システムは、測定結果についての検索条件を指定するために使用者により操作される操作部をさらに備え、第3の表示部は、トレンドグラフにおいて、操作部により指定された検索条件を満たす測定結果に対応する部分を識別可能に表示してもよい。
この場合、使用者は、測定結果についての検索条件を指定することにより、測定方法を変更すべき測定結果をトレンドグラフ上で容易に識別することができる。
(4)操作部は、第3の表示部により表示されたトレンドグラフの部分を指定するために使用者により操作され、光学式変位計側システムは、操作部により指定されたトレンドグラフの部分に対応するプロファイル形状を表示する第4の表示部をさらに備えてもよい。
この場合、使用者は、第4の表示部に表示されたプロファイル形状を観測することにより、指定したプロファイル形状に対応する測定結果の測定方法を変更すべきか否かを視覚的に確認することができる。
(5)検索条件は、情報算出部により算出された測定結果の良否を判定するための判定基準を含んでもよい。この場合、測定方法を変更すべき測定結果を容易に検索することができる。
(6)測定方法変更部による変更後の測定方法は、プロファイル生成部により生成されたプロファイルデータに対して予め定められた処理を行うことを含み、情報更新部は、複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータに予め定められた処理を行い、測定方法変更部による変更後の測定方法により処理が行われた複数のプロファイルデータについて測定結果を算出してもよい。
この場合、予め定められた処理が事後的に行われた複数のプロファイルデータについて測定結果が算出される。これにより、より正確な測定結果を取得することができる。
(7)予め定められた処理はフィルタ処理を含んでもよい。この場合、フィルタ処理が事後的に行われた複数のプロファイルデータに基づいて、より正確な測定結果を取得することができる。
(8)測定方法変更部による変更後の測定方法は、プロファイル形状の測定部分を指定することを含み、情報更新部は、複数のプロファイルデータにおける測定部分に対応する部分に基づいて測定結果を算出してもよい。
この場合、プロファイル形状において事後的に指定された測定部分に対応する測定結果を取得することができる。
(9)測定方法変更部による変更後の測定方法は、プロファイル形状の非測定部分を指定することをさらに含み、情報更新部は、複数のプロファイルデータにおける測定部分に対応する部分のうち非測定部分に対応する部分を除く部分に基づいて測定結果を算出してもよい。
この場合、複数のプロファイルデータにおける測定部分に対応する部分のうち事後的に指定された非測定部分に対応する部分を除く部分を除いて測定結果が算出される。これにより、より正確な測定結果を取得することができる。
(10)測定方法変更部による変更後の測定方法は、第2の表示部により表示されたプロファイル形状に補正基準位置を設定することをさらに含み、情報更新部は、複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータの位置を補正基準位置に対して相対的に補正し、補正後の複数のプロファイルデータに基づいて測定結果を算出してもよい。
この場合、予め設定された基準プロファイル形状に第2の補正基準部分を事後的に設定することができる。これにより、複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータの位置が第2の補正基準位置に基づいて補正することができる。また、補正後の複数のプロファイルデータに基づいて測定結果が算出される。その結果、正確な測定結果を取得することができる。
(11)測定方法変更部による変更前および変更後の測定方法は、プロファイル形状に設定された測定部分についての測定内容を指示することをさらに含んでもよい。
この場合、プロファイル形状に設定された測定部分についての測定内容が事後的に指示される。これにより、指定された測定内容を含む測定結果を取得することができる。
(12)測定内容は、測定部分の位置もしくは角度の測定、または測定された位置もしくは角度を用いた演算結果を含んでもよい。
この場合、距離、高さ、幅、段差または交差角等の測定部分の位置または角度を事後的に取得することができる。また、測定された位置または角度を用いた真円度または平面度等の演算結果を事後的に取得することができる。
(13)第2の発明に係る測定シミュレーション方法は、一方向に沿って光を測定対象物に照射する投光部と、測定対象物からの反射光を受光し、受光量に基づいて測定対象物の画像を示す撮像画像データを生成する受光部とを備え、三角測距方式により測定対象物のプロファイル形状を検出するとともにプロファイル形状に関する測定結果を算出する光切断方式の光学式変位計側システムの測定シミュレーション方法であって、測定結果の測定方法を設定するステップと、受光部により生成された撮像画像データに基づいて、プロファイル形状を示すプロファイルデータを生成するステップと、生成されたプロファイルデータに基づいて、設定された測定方法により測定結果を算出するステップと、複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータの時間的変化を表す画像を生成するステップと、画像生成部により生成された画像を第1の表示部に表示するステップと、第1の表示部により表示された画像上で複数のプロファイルデータのいずれかを選択するステップと、選択されたプロファイルデータに基づいてプロファイル形状を第2の表示部に表示するステップと、測定方法設定部により設定された測定方法を変更するステップと、測定方法が変更された場合に、複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータに基づいて、変更後の測定方法により複数のプロファイルデータについての測定結果を算出するステップとを含む。
この測定シミュレーション方法によれば、測定結果の測定方法が設定される。受光部により生成された撮像画像データに基づいて、プロファイル形状を示すプロファイルデータが生成される。生成されたプロファイルデータに基づいて、設定された測定方法により測定結果が算出される。複数回のプロファイル形状の検出において複数のプロファイルデータが生成され、生成された複数のプロファイルデータの時間的変化を表す画像が生成される。生成された画像が第1の表示部に表示される。使用者は、第1の表示部に表示された画像を観測することにより、設定された測定方法が適切であるかどうかを視覚的に確認することができる。
設定された測定方法が適切でない場合には、第1の表示部により表示された画像上で複数のプロファイルデータのいずれかを選択することができる。選択されたプロファイルデータに基づいてプロファイル形状が第2の表示部に表示される。ここで、使用者は、設定された測定方法を変更することができる。測定方法が変更された場合に、複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータに基づいて、変更後の測定方法により複数のプロファイルデータについての測定結果が算出される。これにより、測定方法を事後的に変更するとともに変更された測定方法による複数の測定結果を取得することができる。
(14)第3の発明に係る測定シミュレーションプログラムは、一方向に沿って光を測定対象物に照射する投光部と、測定対象物からの反射光を受光し、受光量に基づいて測定対象物の画像を示す撮像画像データを生成する受光部とを備え、三角測距方式により測定対象物のプロファイル形状を検出するとともにプロファイル形状に関する測定結果を算出する光切断方式の光学式変位計側システムの測定シミュレーションを処理装置に実行させる測定シミュレーションプログラムであって、測定結果の測定方法を設定する処理と、受光部により生成された撮像画像データに基づいて、プロファイル形状を示すプロファイルデータを生成する処理と、生成されたプロファイルデータに基づいて、設定された測定方法により測定結果を算出する処理と、複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータの時間的変化を表す画像を生成する処理と、画像生成部により生成された画像を第1の表示部に表示する処理と、第1の表示部により表示された画像上で複数のプロファイルデータのいずれかを選択する処理と、選択されたプロファイルデータに基づいてプロファイル形状を第2の表示部に表示する処理と、測定方法設定部により設定された測定方法を変更する処理と、測定方法が変更された場合に、複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータに基づいて、変更後の測定方法により複数のプロファイルデータについての測定結果を算出する処理とを、処理装置に実行させる。
この測定シミュレーションプログラムによれば、測定結果の測定方法が設定される。受光部により生成された撮像画像データに基づいて、プロファイル形状を示すプロファイルデータが生成される。生成されたプロファイルデータに基づいて、設定された測定方法により測定結果が算出される。複数回のプロファイル形状の検出において複数のプロファイルデータが生成され、生成された複数のプロファイルデータの時間的変化を表す画像が生成される。生成された画像が第1の表示部に表示される。使用者は、第1の表示部に表示された画像を観測することにより、設定された測定方法が適切であるかどうかを視覚的に確認することができる。
設定された測定方法が適切でない場合には、第1の表示部により表示された画像上で複数のプロファイルデータのいずれかを選択することができる。選択されたプロファイルデータに基づいてプロファイル形状が第2の表示部に表示される。ここで、使用者は、設定された測定方法を変更することができる。測定方法が変更された場合に、複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータに基づいて、変更後の測定方法により複数のプロファイルデータについての測定結果が算出される。これにより、測定方法を事後的に変更するとともに変更された測定方法による複数の測定結果を取得することができる。
本発明によれば、光学式変位計側システムの測定方法を事後的に変更することができる。
本発明の一実施の形態に係る光学式変位計側システムの構成を示すブロック図である。 図1の光学式変位計側システムの処理装置の構成を示すブロック図である。 撮像ヘッドおよびワークの外観斜視図である。 ワークの表面における光の照射位置と受光素子における光の入射位置との関係を示す図である。 ワークの表面における光の照射位置と受光素子における光の入射位置との関係を示す図である。 受光素子の受光面における受光量分布を示す図である。 図6の1つの画素列における受光量分布を示す図である。 プロファイルデータを示す図である。 プロファイルデータに基づく表示部の一表示例である。 測定手順を示すフローチャートである。 測定手順を示すフローチャートである。 表示部に表示される設定編集画面を示す図である。 パラメータ詳細入力欄の一例を示す図である。 パラメータ詳細入力欄の他の例を示す図である。 表示部に表示されるカスタム探索画面を示す図である。 表示部に表示される撮像条件最適化画面を示す図である。 撮像条件最適化処理を示すフローチャートである。 撮像条件最適化処理を示すフローチャートである。 マスタ登録ボタンが操作されたときの設定編集画面を示す図である。 高さ測定モードが選択されたときの設定編集画面を示す図である。 角度測定モードが選択されたときの設定編集画面を示す図である。 図19の設定入力欄に表示される測定対象表示欄を示す図である。 プロファイル詳細設定欄を示す図である。 マスタプロファイル形状およびプロファイル形状が表示された表示部を示す図である。 X補正モードが選択されたときの設定編集画面を示す図である。 プロファイルマスクボタンが操作されたときの設定編集画面を示す図である。 図24の設定入力欄に表示されるプロファイルマスク設定欄を示す図である。 表示部に表示される設定シミュレータ画面を示す図である。 表示部に表示される設定変更画面を示す図である。 測定方法の変更についての他の例を説明するための図である。 測定方法の変更についての他の例を説明するための図である。 表示部に表示されるシミュレート対象データ選択画面を示す図である。 測定シミュレーション処理を示すフローチャートである。 測定シミュレーション処理を示すフローチャートである。
以下、本発明の一実施の形態に係る光学式変位計側システムとして、光切断方式の光学式変位計側システムについて図面を参照しながら説明する。
[1]光学式変位計側システム
(1)光学式変位計側システムの構成
図1は、本発明の一実施の形態に係る光学式変位計側システムの構成を示すブロック図である。図2は、図1の光学式変位計側システム1の処理装置200の構成を示すブロック図である。図1に示すように、光学式変位計側システム1は、表示部3、撮像ヘッド100、処理装置200およびPC(パーソナルコンピュータ)900を備える。表示部3は、例えば液晶ディスプレイパネルまたは有機EL(エレクトロルミネッセンス)パネルにより構成される。
撮像ヘッド100は、投光部110および受光部120を含み、処理装置200に対して着脱可能に構成される。撮像ヘッド100と処理装置200とは一体的に構成されてもよい。なお、本例では、複数の撮像ヘッド100が処理装置200に接続可能である。図1の例では、2個の撮像ヘッド100が処理装置200に接続されている。
投光部110は、一方向に広がる帯状の光を測定対象物(以下、ワークと呼ぶ。)Wに照射可能に構成される。投光部110は、一方向に広がる帯状の光に代えて、一方向に走査される光をワークWに照射可能に構成されてもよい。
受光部120は、受光素子121および受光レンズ122を含む。ワークWからの反射光が、受光レンズ122を通して受光素子121に入射する。受光素子121は例えばCMOS(相補型金属酸化膜半導体)センサを含み、2次元に配置された複数の画素を有する。受光素子121は、各画素の受光量に基づいて、ワークWの撮像画像を示す撮像画像データを生成する。
処理装置200は、撮像制御部210、データ処理部220、測定制御部230、表示処理部240、入力受付部250および記憶部260を含む。なお、撮像制御部210、データ処理部220、測定制御部230、表示処理部240および入力受付部250の少なくとも一部が、撮像ヘッド100の内部に設けられてもよい。
図2に示すように、撮像制御部210は、投光制御部211および受光制御部212を含む。投光制御部211および受光制御部212は、サンプリング信号に同期して動作する。サンプリング信号は、処理装置200の内部で発生されてもよいし、処理装置200の外部から撮像制御部210に与えられてもよい。
投光制御部211は、サンプリング信号に基づいて、投光部110による光の照射タイミングを制御する。また、投光制御部211は、投光部110から出射される光の強度等を制御する。受光制御部212は、サンプリング信号に基づいて、受光部120の受光タイミングを制御する。また、受光制御部212は、受光部120の露光時間および受光感度等を制御する。以下の説明において、サンプリング信号の周期をサンプリング周期と呼び、サンプリング信号の周波数をサンプリング周波数と呼ぶ。
データ処理部220は、ピーク検出部221およびプロファイル生成部222を含む。ピーク検出部221は、受光部120により生成された撮像画像データを取得し、撮像画像データから複数のピーク位置を検出する。また、ピーク検出部221により取得された撮像画像データを、図示しないインターフェース部を通して処理装置200の外部装置に出力することもできる。
プロファイル生成部222は、ピーク検出部221により検出された複数のピーク位置に基づいて、ワークWのプロファイル形状を示すプロファイルデータを生成する。生成されたプロファイルデータには、識別子としてプロファイル番号が付与される。上記のように、投光部110はワークWに一方向に広がる帯状の光または一方向に走査される光を照射し、受光部120の受光素子121は2次元に配列された複数の画素を有する。そのため、プロファイル生成部222はワークWのプロファイルデータを効率よく生成することができる。
測定制御部230は、測定処理部231および距離画像生成部232を含む。測定処理部231は、PC900からの指令信号に基づいて測定結果の測定方法を設定するとともに、プロファイル生成部222により生成されたプロファイルデータに対する測定処理を行う。ここで、測定処理とは、プロファイルデータに基づいてワークWの表面の任意の部分の寸法(変位)等の測定結果を算出する処理である。
また、測定処理部231には、測定結果についての許容値または公差等の評価値を予め登録することができる。測定処理部231は、予め登録された評価値に基づいて、測定結果が良好であるか否かを判定する。
距離画像生成部232は、距離画像を示す距離画像データを生成する。距離画像は、プロファイル生成部222により生成された複数のプロファイルデータの識別子と、測定処理により得られた複数の測定結果との関係を色彩の濃淡またはパターンにより表示する画像である。
表示処理部240は、撮像画像データに基づく撮像画像、プロファイルデータに基づくプロファイル形状、距離画像データに基づく距離画像等の種々の画像を表示部3に表示させる。また、表示処理部240は、測定処理部231により測定された種々の測定結果を表示部3に表示させる。
後述する複数の撮像パラメータの状態を決定することによりワークWの撮像条件を設定することができる。また、プロファイル形状の測定部分および測定内容等を決定することにより、ワークWの測定方法を設定することができる。以下、ワークWの撮像条件の設定を撮像設定と呼び、ワークWの測定結果の測定方法の設定を測定設定と呼ぶ。
入力受付部250は、撮像受付部251および測定受付部252を含む。撮像受付部251は、投光部110および受光部120についての撮像パラメータの複数の状態をPC900から受け付ける。また、撮像受付部251は、受け付けた撮像パラメータの複数の状態を撮像制御部210に与える。撮像制御部210は、設定した各撮像条件における撮像画像データを生成するように投光部110および受光部120を制御する。
測定受付部252は、PC900から測定方法の内容を示す指令信号を受け付ける。また、測定受付部252は、受け付けた指令信号を測定制御部230に与える。これにより、測定制御部230は、測定設定を行なうとともに、測定受付部252により与えられる指令信号に基づく測定処理を実行する。
記憶部260には、測定処理により得られた測定結果等が記憶される。また、記憶部260には、撮像受付部251により与えられた撮像条件および測定受付部252により与えられた測定方法に関する種々の情報が記憶される。記憶部260に記憶される種々の情報は、データ処理部220および測定制御部230等により実行される上記の処理に用いられる。
PC900は、操作部910、記憶部920および制御部930を含む。操作部910は、キーボードおよびポインティングデバイスを含み、使用者により操作可能に構成される。ポインティングデバイスとしては、マウスまたはジョイスティック等が用いられる。また、操作部910として専用のコンソールを用いてもよい。
記憶部920には、後述する撮像条件最適化処理を実行するための撮像条件最適化プログラムおよび後述する測定シミュレーション処理を実行するための測定シミュレーションプログラムが記憶される。また、記憶部920には、光学式変位計側システム1の動作に関する種々の情報が記憶される。
制御部930は、撮像設定部931、測定設定部932、処理間算出部933、信頼度算出部934、抽出部935およびシミュレーション部936を含む。制御部930が記憶部920に記憶される撮像条件最適化プログラムを実行することにより、撮像設定部931、処理間算出部933および信頼度算出部934の機能が実現される。また、制御部930が記憶部920に記憶される測定シミュレーションプログラムを実行することにより、測定設定部932、抽出部935およびシミュレーション部936の機能が実現される。
使用者は、操作部910を操作することにより、撮像設定部931および測定設定部932にそれぞれ撮像設定および測定設定を行なうことができる。撮像設定部931は、撮像パラメータの複数の状態に基づいて複数の撮像条件を設定し、設定された複数の撮像条件を処理装置200の撮像受付部251に与える。測定設定部932は、測定設定において設定された測定方法の内容を示す指令信号を処理装置200の測定受付部252に与える。
処理時間算出部933は、設定された撮像条件に基づいて処理時間を算出する。ここで、処理時間は、撮像制御部210がサンプリング信号に基づいて撮像ヘッド100の制御を開始してから1つの撮像画像データの生成が確定し、撮像画像データからプロファイルデータが生成されるまでの時間である。
信頼度算出部934は、プロファイル生成部222により生成されたプロファイルデータまたはそれに対応する撮像画像データに基づいて、そのプロファイル形状の信頼性の高さ(信頼度)を算出する。本例においては、信頼度は相対評価を示す。
使用者は、操作部910を操作することにより距離画像から所望のプロファイルデータを選択することができる。抽出部935は、使用者に選択されたプロファイルデータを記憶部920から抽出する。シミュレーション部936は、抽出部935により抽出されたプロファイルデータの測定方法を変更するとともに、変更後の測定方法に基づいて測定処理のシミュレーションを行なう。
処理装置200の表示処理部240は、処理時間算出部933により算出された処理時間および信頼度算出部934により算出された信頼度に対応する指標を表示部3に表示させる。また、表示処理部240は、シミュレーション部936により測定された測定結果を表示部3に表示させる。
上記実施の形態においては、処理装置200とPC900とが別個に設けられるが、これに限定されない。処理装置200とPC900とは一体的に設けられてもよい。あるいは、処理装置200の構成要素の一部がPC900に設けられてもよいし、PC900の構成要素の一部が処理装置200に設けられてもよい。例えば、処理装置200の距離画像生成部232がPC900に設けられてもよいし、PC900の処理間算出部933が処理装置200に設けられてもよい。
(2)動作の概要
図3は、撮像ヘッド100およびワークWの外観斜視図である。図4および図5は、ワークWの表面における光の照射位置と受光素子121における光の入射位置との関係を示す図である。図3〜図5においては、水平面内で互いに直交する2方向をX1方向およびY1方向と定義し、それぞれ矢印X1,Y1で示す。また、鉛直方向をZ1方向と定義し、矢印Z1で示す。さらに、図4および図5においては、受光素子121の受光面上で互いに直交する2方向をX2方向およびZ2方向と定義し、それぞれ矢印X2,Z2で示す。ここで、受光面とは、受光素子121の複数の画素により形成される面である。
撮像ヘッド100は、X1方向に沿った帯状の光をワークWの表面に照射する。以下、帯状の光が照射されるワークWの表面の線状の領域を照射領域T1と呼ぶ。図4に示すように、照射領域T1で反射される光が、受光レンズ122を通して受光素子121に入射する。この場合、照射領域T1における光の反射位置がZ1方向に異なると、受光素子121への反射光の入射位置がZ2方向に異なる。
また、図5に示すように、照射領域T1における光の反射位置がX1方向に異なると、受光素子121への反射光の入射位置がX2方向に異なる。これにより、受光素子121のZ2方向における光の入射位置が、照射領域T1のZ1方向における位置(高さ)を表し、受光素子121のX2方向における光の入射位置が、照射領域T1におけるX1方向の位置を表す。
図6は、受光素子121の受光面における受光量分布を示す図である。図6の受光素子121の各画素の受光量に基づいて撮像画像データが生成される。受光素子121の複数の画素は、X2方向およびZ2方向に沿うように2次元に配置される。図3の照射領域T1で反射された光は、図6に点線で示される受光領域R1に入射する。それにより、受光領域R1の受光量が大きくなる。図6の受光量分布が、Z2方向に沿った画素の列(以下、画素列と呼ぶ。)SSごとにデジタルの受光信号として出力される。出力された受光信号に基づいて、画素列SSごとの撮像画像データが生成される。
図7は、図6の1つの画素列SSにおける受光量分布を示す図である。図7において、横軸はZ2方向の位置を示し、縦軸は受光量を示す。図7に示すように、1つの画素列SSにおける受光量分布には、図6の受光領域R1に対応するピーク(極大値)P1が現れる。ピークP1の位置(以下、ピーク位置と呼ぶ。)PPは、照射領域T1におけるワークWの表面(反射面)の高さを示す。
複数の画素列SSに対応する複数の受光量分布の各々において1つのピーク位置PPが図2のピーク検出部221により検出される。複数のピーク位置PPに基づいて、ワークWのプロファイル形状(照射領域T1の形状)を示すプロファイルデータが図2のプロファイル生成部222により生成される。
図8は、プロファイルデータを示す図である。図8の横軸はX1方向における位置(以下、X座標の値と呼ぶ。)を示し、図8の縦軸はZ1方向における位置(以下、Z座標の値と呼ぶ。)を示す。図8に実線で示すように、プロファイルデータは、複数のピークP1と、複数のピークP1の補間により得られる複数のデータとにより構成される。各プロファイルデータは、X1方向における位置(X座標の値)およびZ1方向における位置(Z座標の値)を表している。このプロファイルデータは、ワークWのプロファイル形状を表す。
プロファイル生成部222により生成されたプロファイルデータは、図2の表示処理部240に与えられる。表示処理部240により、プロファイルデータに基づく画像データが生成され、生成された画像データが図2の表示部3に与えられる。表示部3は、与えられた画像データに基づいてプロファイル形状を表示する。
図9は、プロファイルデータに基づく表示部3の一表示例である。図9の例では、表示部3の略中央に図2のワークWのプロファイル形状PRが示される。表示部3の画面上には、上記のX1方向およびZ1方向にそれぞれ対応するX3方向およびZ3方向が定義されている。この状態で、使用者は、表示部3の画面上でワークWの測定設定を行なうことができる。詳細は後述する。
図10および図11は、測定手順を示すフローチャートである。以下、図1、図2、図10および図11を参照しながら、ワークWのプロファイル形状の測定手順を説明する。
まず、使用者は、手動で撮像設定を行なうか否かを判断する(ステップS1)。ステップS1において手動で撮像設定を行なう場合、使用者はステップS3の手順に進む。ステップS1において手動で撮像設定を行なわない場合、使用者は、後述する撮像条件最適化処理の実行をPC900に指示する。この場合、PC900により撮像条件最適化処理が実行される(後述する図17および図18のステップS11〜S20)。これにより、撮像設定が行なわれる。
撮像設定が行なわれた後、使用者は、測定設定を行なう(ステップS3)。次に、使用者は、処理装置200に測定処理の実行を指示する(ステップS4)。これにより、設定された測定方法に基づいて、処理装置200の測定処理部231によりワークWのプロファイル形状の測定結果が取得される。
その後、使用者は、取得された測定結果を視認して、測定方法の変更が必要であるか否かを判断する(ステップS5)。ステップS5において測定方法の変更が必要ではない場合、使用者は測定手順を終了する。
ステップS5において測定方法の変更が必要である場合、使用者は、後述する測定シミュレーション処理の実行をPC900に指示する(ステップS6)。この場合、PC900により測定シミュレーション処理が実行される(後述する図33および図34のステップS21〜S28)。これにより、測定方法が変更され、変更後の測定方法に基づいて測定処理がシミュレーションにより実行される。その後、使用者は測定手順を終了する。
[2]撮像設定
(1)撮像設定の手順
光学式変位計側システム1は、例えばベルトコンベアにより一定速度で運搬される同一種類の複数のワークWについて、共通部分の寸法(変位)を一定の周期で順次測定するために用いられる。このような用途においては、ワークの正確なプロファイル形状を取得するために、ワークの種類に応じて撮像設定を最適に行なう必要がある。
以下、撮像設定の手順について説明する。なお、処理装置200に複数の撮像ヘッド100が接続されている場合には、複数の撮像ヘッド100に一括して共通の撮像設定を行なうこともできるし、複数の撮像ヘッド100に個別の撮像設定を行なうこともできる。
図12は、表示部3に表示される設定編集画面を示す図である。設定編集画面300は、撮像設定および測定設定を行なう際に共通して表示部3に表示される。図12に示すように、設定編集画面300には、共通表示欄310および個別表示欄320が表示される。本例では、共通表示欄310は、設定編集画面300の上部および下部に分離して表示される。本発明はこれに限定されず、共通表示欄310は、設定編集画面300の上部または下部等に分離せずに表示されてもよい。
個別表示欄320には、画像表示欄321、設定入力欄322および画像更新ボタン323が表示される。画像表示欄321および設定入力欄322は、設定編集画面300の略中央に左右に並ぶように配置される。個別表示欄320には、撮像画像またはプロファイル形状等が表示される。
画像更新ボタン323が操作されると、現在の撮像条件で新たに撮像画像データが生成される。生成された撮像画像データに基づいて、画像表示欄321に表示される撮像画像が更新される。設定入力欄322には、共通表示欄310の操作に基づいて種々の入力欄が表示される。
設定編集画面300の上部における共通表示欄310には、撮像設定欄311、測定設定欄312、出力設定欄313およびファイル保存ボタン314等が表示される。設定編集画面300の下部における共通表示欄310には、サンプリング周波数表示欄315、処理時間表示欄316および完了ボタン317等が表示される。
撮像設定欄311には、トリガ設定ボタン311a、撮像設定ボタン311bおよびプロファイルボタン311cが表示される。撮像設定欄311は、主に撮像設定を行なう際に操作される。なお、プロファイルボタン311cは、撮像設定に加えて測定設定においても操作されることがある。
トリガ設定ボタン311aが操作されると、撮像パラメータとしてサンプリング周波数の入力欄が設定入力欄322に表示される。なお、本例においては、サンプリング周波数が設定されていない場合には、トリガ設定ボタン311aが操作されなくても設定編集画面300が表示部3に表示されたときに当該入力欄が設定入力欄322に表示される。
サンプリング周波数は、複数のワークWを測定する周期に応じて決定される。使用者は、設定入力欄322に所定の操作を行なうことにより、決定したサンプリング周波数を図2の撮像設定部931に設定することができる。設定されたサンプリング周波数は、サンプリング周波数表示欄315に表示される。
サンプリング周波数が設定された後、撮像設定ボタン311bが操作されると、複数の撮像パラメータの入力欄(以下、パラメータ入力欄と呼ぶ。)が設定入力欄322に表示される。なお、本例では、パラメータ入力欄には、撮像パラメータを簡易な操作で入力するためのパラメータ簡易入力欄と、撮像パラメータを詳細に入力するためのパラメータ詳細入力欄とがある。
使用者は、設定入力欄322に所定の操作を行なうことにより、複数の撮像パラメータを撮像設定部931に設定することができる。設定された複数の撮像パラメータに基づいて、処理時間が図2の処理時間算出部933により算出される。算出された処理時間は、処理時間表示欄316に表示される。撮像パラメータの詳細については後述する。
プロファイルボタン311cが操作されると、生成されたプロファイルデータに種々の設定を行なうための入力欄が設定入力欄322に表示される。使用者は、設定入力欄322に所定の操作を行なうことにより、スムージング処理またはフィルタ処理等の種々の処理をプロファイルデータに設定することができる。完了ボタン317が操作されると、撮像設定が完了する。測定設定欄312、出力設定欄313およびファイル保存ボタン314については後述する。
(2)撮像パラメータ
本例においては、図12の撮像設定ボタン311bが操作されると、図示しないパラメータ簡易入力欄が設定入力欄322に表示される。パラメータ簡易入力欄に所定の操作が行なわれると、パラメータ簡易入力欄に代えてパラメータ詳細入力欄が設定入力欄322に表示される。図13は、パラメータ詳細入力欄の一例を示す図である。図14は、パラメータ詳細入力欄の他の例を示す図である。
図13に示すように、一例におけるパラメータ詳細入力欄330には、受光特性欄331、光量設定欄332、ピーク時処理欄333、複数ピーク処理欄334、撮像モード欄335および画像マスク欄336が表示される。また、パラメータ詳細入力欄330には、設定最適ボタン330aおよびやり直しボタン330bが表示される。
やり直しボタン330bが操作されると、パラメータ詳細入力欄330に代えて図示しないパラメータ簡易入力欄が設定入力欄322に表示される。設定最適ボタン330aは、パラメータ簡易入力欄にも表示される。設定最適ボタン330aが操作されると、後述する図15のカスタム探索画面500が表示部3に表示される。詳細は後述する。
受光特性欄331には、受光感度特性プルダウンメニュー331aが表示される。使用者は、図1の受光素子121の受光感度を受光感度特性プルダウンメニュー331aから選択することができる。ここで、受光感度特性とは、受光素子121の各画素の受光量と撮像画像データの各画素の画素値との変換特性を示す。受光感度特性を変化させることにより、例えば測定部位により反射率に差があるワークWであっても測定が可能になる。受光感度は、例えば「高精度」、「高ダイナミックレンジ1」、「高ダイナミックレンジ2」および「高ダイナミックレンジ3」を含む。
光量設定欄332には、露光時間プルダウンメニュー332a、光量設定ボタン332bおよび光量制御欄332cが表示される。使用者は、図1の受光素子121の露光時間を露光時間プルダウンメニュー332aから選択することができる。露光時間は、例えば15μs、30μs、60μs、120μs、240μs、480μs、960μs、1920μs、5msおよび10msを含む。
また、使用者は、光量設定ボタン332bを操作することにより、投光部110から出射される光の強度を任意に設定するか、または自動モードに設定することができる。設定された光の強度が光量制御欄332cに表示される。図13の例では、光の強度は自動モードに設定されている。自動モードにおいては、受光素子121への全体的な光量が一定になるように光の強度が制御される。
ピーク時処理欄333には、ピーク検出感度プルダウンメニュー333aおよび無効データ補間点数入力欄333bが表示される。使用者は、図2のピーク検出部221が撮像画像データからピーク位置を検出する際の感度をピーク検出感度プルダウンメニュー333aから選択することができる。ピーク検出感度は、低い方から順に「1」、「2」、「3」、「4」および「5」の5段階の感度を含む。
ピーク検出部221は、設定された感度に対応する受光量よりも高いピークの位置をピーク位置として検出する。したがって、任意の画素列SS(図6)の全ての画素の受光量が設定された感度に対応する受光量以下である場合、その画素列SSに対応するプロファイルデータの部分は無効となる。使用者は、プロファイルデータの無効データの補間数の上限を無効データ補間点数入力欄333bに入力することができる。図2のプロファイル生成部222は、連続する無効の部分の数が無効データ補間点数入力欄333bに入力された数以下である場合には、当該無効の部分を補間してプロファイルデータを生成する。
複数ピーク処理欄334には、ピーク選択プルダウンメニュー334aおよびピーク幅フィルタチェックボックス334b,334cが表示される。任意の画素列SS(図6)において、複数のピーク位置が存在することがある。使用者は、複数のピーク位置から1つの真のピーク位置を選択する方式をピーク選択プルダウンメニュー334aから選択することができる。ピーク位置を選択する方式は、例えば「標準(最大ピーク)」、「NEAR」、「FAR」、「X多重反射を除去する」、「Y多重反射を除去する」および「無効データにする」を含む。
「標準(最大ピーク)」においては、最大の受光量を有するピーク位置が真のピーク位置として選択される。「NEAR」においては、図6のZ2方向において最も上(図7のZ2方向において最も右)に現れるピーク位置が真のピーク位置として選択される。「FAR」においては、図6のZ2方向において最も下(図7のZ2方向において最も左)に現れるピーク位置が真のピーク位置として選択される。
「X多重反射を除去する」においては、複数の光を用いて、ワークWで直接反射された光と図3のX1方向において多重反射された光とが識別される。複数の光は、図1の投光部110により出射されてもよいし、投光部110とは異なる図示しない他の光源により出射されてもよい。多重反射された光に対応するピーク位置が除去され、直接反射された光に対応するピーク位置が真のピーク位置として選択される。
「Y多重反射を除去する」においては、図3のX1方向ではなくY1方向において多重反射された光に対応するピーク位置が除去される点を除いて「X多重反射を除去する」と同様の処理が行なわれる。「無効データにする」においては、真のピーク位置が選択されない。したがって、その画素列SSに相当するプロファイルデータの部分は無効となる。
使用者は、ピーク幅フィルタチェックボックス334b,334cのいずれかを指定することにより、ピーク幅フィルタの設定のオフとオンとを切り替えることができる。ピーク幅フィルタの設定がオンである場合において、図7のピーク位置PPにおける受光量分布の幅(以下、ピーク幅と呼ぶ。)が所定のカットオフ値よりも大きいとき、これらのピーク位置は真のピーク位置の候補から除去される。したがって、残りのピーク位置の候補に対して上記の真のピーク位置を選択する方式が適用される。本例においてはピーク幅のカットオフ値は固定値であるが、これに限定されない。カットオフ値は使用者が設定可能であってもよい。
撮像モード欄335には、撮像モードプルダウンメニュー335aが表示される。使用者は、図1の受光部120の撮像モードを撮像モードプルダウンメニュー335aから選択することができる。撮像モードは、例えば「標準」、「マルチ発光(合成)3回」、「マルチ発光(合成)5回」、「マルチ発光(光量最適化)2回」および「マルチ発光(光量最適化)4回」を含む。
「標準」においては、1つの撮像画像データを生成するために、図1の投光部110から光が1回出射されるとともに、図1の受光部120により光が1回受光される。すなわち、1つの撮像画像データを生成するために、1回の撮像が行なわれる。
「マルチ発光(合成)3回」においては、光の強度が変化されつつ3回の撮像が行なわれる。その後、白とびおよび黒つぶれが少ない撮像画像を示す撮像画像データが生成されるように、3回の撮像による撮像画像データが合成される。「マルチ発光(合成)5回」においては、撮像の回数が3回ではなく5回である点を除いて「マルチ発光(合成)3回」と同様の処理が行なわれる。
「マルチ発光(光量最適化)2回」においては、全体的な光量が一定になるように図1の投光部110および受光部120が制御されつつ、2回の撮像が行なわれる。その後、制御が最も安定したと期待される最後の撮像による撮像画像データが真の撮像画像データとして選択される。「マルチ発光(光量最適化)4回」においては、撮像の回数が2回ではなく4回である点を除いて「マルチ発光(光量最適化)2回」と同様の処理が行なわれる。
画像マスク欄336には、画像マスクボタン336aおよび画像マスク表示欄336bが表示される。撮像画像に設定されるマスクを画像マスクと呼ぶ。使用者は、画像マスクボタン336aを操作することにより、撮像画像に画像マスクを設定するか否かを選択することができる。画像マスクを設定する場合には、使用者は、画像マスクの形状および配置されるべき位置をさらに設定することができる。
画像マスクが設定された撮像画像の部分に対応するピーク位置は、プロファイルデータを生成する際の真のピーク位置の候補から除去される。したがって、残りのピーク位置の候補に対して上記の真のピーク位置を選択する方式が適用される。画像マスク表示欄336bに画像マスクの設定の有無が表示される。図13の例では、画像マスクは設定されていない。
図14に示すように、他の例におけるパラメータ詳細入力欄330には、図13の受光特性欄331、光量設定欄332、ピーク時処理欄333、複数ピーク処理欄334、撮像モード欄335および画像マスク欄336に代えて測定範囲欄337および受光特性欄338が表示される。
測定範囲欄337には、X方向プルダウンメニュー337aおよびZ方向プルダウンメニュー337bが表示される。測定範囲欄337におけるX方向およびZ方向は、図6のX2方向およびZ2方向をそれぞれ意味する。使用者は、X2方向およびZ2方向における撮像画像データの生成範囲をX方向プルダウンメニュー337aおよびZ方向プルダウンメニュー337bからそれぞれ選択することができる。撮像画像データの生成範囲は、例えば「FULL」、「MIDDLE」および「SMALL」を含む。
「FULL」においては、図6の受光素子121の受光面の全部に対応する撮像画像データが生成される。「MIDDLE」および「SMALL」においては、受光素子121の受光面の一部に対応する撮像画像データが生成される。「SMALL」における撮像画像データの生成範囲は、「MIDDLE」における撮像画像データの生成範囲よりも小さい。
受光特性欄338には、ビニングプルダウンメニュー338aが表示される。使用者は、ビニングプルダウンメニュー338aを操作することにより、生成される撮像画像データにビニング処理を設定するか否かを選択することができる。ビニング処理を設定する場合には、使用者は、ビニング処理の程度をさらに設定することができる。図14の例では、ビニング処理は設定されていない。
(3)撮像条件の最適化
上記のように、撮像パラメータは多数存在するとともに、各撮像パラメータの状態は多岐にわたる。そのため、撮像パラメータの状態の組み合わせにより極めて多数の撮像条件が存在する。また、どの撮像パラメータのどの状態を変更すると生成されるプロファイル形状がどのように変化するかを使用者が直感的に把握することは難しい。そのため、使用者には、撮像条件が最適になる撮像パラメータの状態の組み合わせを見つけ出すことは困難である。また、使用者には、設定された撮像条件が最適であるか否かを判断することができない。
そこで、図2の撮像設定部931は、種々の撮像パラメータの状態を変更しつつ撮像を行なうように撮像ヘッド100を制御する。また、図2の信頼度算出部934は、生成された各撮像画像データまたはそれに対応するプロファイルデータに基づいて、そのプロファイル形状の信頼度を算出する。このように撮像パラメータの状態を変更しつつ撮像を行なうことを以下、撮像条件の探索と呼ぶ。
使用者は、図示しないパラメータ簡易入力欄または図13もしくは図14のパラメータ詳細入力欄330の設定最適ボタン330aを操作することにより、後述する図16の撮像条件最適化画面400を表示部3に表示させることができる。また、使用者は、撮像条件最適化画面400のカスタム探索ボタン412(図16)を操作することにより、最適な撮像条件を探索するためのカスタム探索画面500(図15)を表示部3にさらに表示させることができる。図15は、表示部3に表示されるカスタム探索画面500を示す図である。
図15に示すように、カスタム探索画面500には、受光感度特性チェックボックス510〜514、露光時間チェックボックス520〜529,52Aおよびピーク検出感度チェックボックス530〜535が表示される。また、カスタム探索画面500には、ピーク選択チェックボックス540〜546、ピーク幅フィルタチェックボックス550および撮像モードチェックボックス560〜565が表示される。さらに、カスタム探索画面500には、実行パターン数表示欄501および探索実行ボタン502が表示される。
受光感度特性チェックボックス511〜514は、受光感度の「高精度」、「高ダイナミックレンジ1」、「高ダイナミックレンジ2」および「高ダイナミックレンジ3」にそれぞれ対応する。使用者は、受光感度特性チェックボックス510を指定した後、受光感度特性チェックボックス511〜514の少なくとも1つを指定することができる。指定された受光感度特性チェックボックス511〜514に対応する受光感度が探索されるべき撮像パラメータの状態として選択される。
露光時間チェックボックス521〜529,52Aは、露光時間の15μs、30μs、60μs、120μs、240μs、480μs、960μs、1920μs、5msおよび10msにそれぞれ対応する。使用者は、露光時間チェックボックス520を指定した後、露光時間チェックボックス521〜529,52Aの少なくとも1つを指定することができる。指定された露光時間チェックボックス521〜52Aに対応する露光時間が探索されるべき撮像パラメータの状態として選択される。
ここで、ベルトコンベア等により運搬される複数のワークWを適切に撮像するために、サンプリング周期は複数のワークWを測定する周期に応じて適切に設定される必要がある。しかしながら、受光素子121の露光時間が長過ぎると、設定されたサンプリング周期を維持することができない。そこで、本実施の形態では、露光時間の状態の探索範囲は既に設定されたサンプリング周期を維持可能な範囲に制限される。
ピーク検出感度チェックボックス531〜535は、ピーク検出感度の「1」、「2」、「3」、「4」および「5」にそれぞれ対応する。使用者は、ピーク検出感度チェックボックス530を指定した後、ピーク検出感度チェックボックス531〜535の少なくとも1つを指定することができる。指定されたピーク検出感度チェックボックス531〜535に対応するピーク検出感度が探索されるべき撮像パラメータの状態として選択される。
ピーク選択チェックボックス541〜546は、ピーク位置を選択する方式の「標準(最大ピーク)」、「NEAR」、「FAR」、「X多重反射を除去する」、「Y多重反射を除去する」および「無効データにする」にそれぞれ対応する。使用者は、ピーク選択チェックボックス540を指定した後、ピーク選択チェックボックス541〜546の少なくとも1つを指定することができる。指定されたピーク選択チェックボックス541〜546に対応する方式が探索されるべき撮像パラメータの状態として選択される。
ピーク幅フィルタチェックボックス550は、ピーク幅フィルタの設定に対応する。使用者は、ピーク幅フィルタチェックボックス550を指定することができる。ピーク幅フィルタチェックボックス550が指定された場合には、ピーク幅フィルタのオンおよびオフの両方が探索されるべき撮像パラメータの状態として選択される。
撮像モードチェックボックス561〜565は、撮像モードの「標準」、「マルチ発光(合成)3回」、「マルチ発光(合成)5回」、「マルチ発光(光量最適化)2回」および「マルチ発光(光量最適化)4回」にそれぞれ対応する。使用者は、撮像モードチェックボックス560を指定した後、撮像モードチェックボックス561〜565の少なくとも1つを指定することができる。指定された撮像モードチェックボックス561〜565に対応する撮像モードが探索されるべき撮像パラメータの状態として選択される。
上記のように、使用者は、カスタム探索画面500において所望の撮像パラメータに対応するチェックボックスを指定することにより、複数の撮像パラメータにおける1または複数の状態を選択することができる。なお、カスタム探索画面500において選択されない撮像パラメータの状態については、現在の撮像パラメータの状態が引き継がれる。複数の撮像パラメータの状態が選択されると、選択された複数の撮像パラメータの複数の状態の組み合わせを含む複数パターンの撮像条件が決定する。
図15の例においては、ピーク検出感度として2つの状態(「2」および「4」)が選択され、ピーク幅フィルタとして2つの状態(ピーク幅フィルタのオンおよびオフ)が選択されている。また、他の撮像パラメータにおいては、それぞれ1つの状態が選択されている。そのため、決定される撮像条件のパターン数は4である。実行パターン数表示欄501には、決定された撮像条件のパターン数が表示される。この状態で探索実行ボタン502または後述する図16のオプティマイズボタン413が操作されることにより撮像条件の探索が実行される。
上記のように、図13のパラメータ詳細入力欄330等の設定最適ボタン330aが操作されると、撮像条件を最適化するための撮像条件最適化画面(図16)が表示部3に表示される。図16は、表示部3に表示される撮像条件最適化画面400を示す図である。
図16に示すように、撮像条件最適化画面400においては、左右に並ぶように結果表示領域410および選択画像表示領域420が表示される。結果表示領域410の下部および上部には、それぞれカスタム探索ボタン412およびオプティマイズボタン413が表示される。上記のように、カスタム探索ボタン412が操作されると、図15のカスタム探索画面500が表示部3にさらに表示される。オプティマイズボタン413が操作されると、複数の撮像パラメータの状態が変更されつつ撮像が実行される。
ここで、熟練していない使用者には、カスタム探索画面500を操作して複数の撮像パラメータのうち変更すべき撮像パラメータを判断すること、および撮像パラメータの変更すべき複数の状態を判断することが困難であることが多い。そこで、図2の撮像設定部931には、複数の撮像パラメータのうち変更すべき1以上の撮像パラメータが推奨設定されている。また、予め設定された1以上の当該パラメータについては、変更すべき複数の状態が推奨設定されている。この構成によれば、使用者は、カスタム探索画面500上で変更すべき撮像パラメータおよび変更すべき複数の状態を指定しない場合でも、オプティマイズボタン413を操作することにより、撮像条件の探索を容易に行なうことができる。
また、熟練した使用者は、図2の操作部910を操作することにより、変更すべき1以上の撮像パラメータの推奨設定を任意に変更するとともに、変更すべき複数の状態の推奨設定を任意に変更することができる。したがって、より詳細な撮像条件の探索を行なうことができる。
結果表示領域410の略中央には、上下方向に並びかつ上下方向にスクロール可能に複数の結果表示欄411が表示される。複数の結果表示欄411は、カスタム探索画面500において決定された複数パターンの撮像条件にそれぞれ対応する。各結果表示欄411には、左右に並ぶように撮像画像表示欄411a、プロファイル形状表示欄411bおよびスコア表示欄411cが表示される。
各撮像画像表示欄411aには、対応する撮像条件において図2のピーク検出部221により取得された撮像画像データに基づく撮像画像が表示される。各プロファイル形状表示欄411bには、対応する撮像画像データから図2のプロファイル生成部222により生成されたプロファイルデータに基づくプロファイル形状が表示される。
スコア表示欄411cには、対応する撮像画像データまたはプロファイルデータに基づいて図2の信頼度算出部934により算出された信頼度(スコア)に対応する指標が表示される。図16の例において、信頼度は3段階評価であり、星マークの指標の数により表示される。信頼度は、指標の数に代えて、数値により表示されてもよい。
信頼度はプロファイルデータを解析することにより行なわれる。本実施の形態においては、信頼度は、例えばプロファイルデータにおける無効データの数またはプロファイル形状の連続性等に基づいて算出される。信頼度が同程度である複数のプロファイル形状が存在する場合には、当該複数のプロファイル形状の信頼度を異ならせるために、当該複数のプロファイル形状にそれぞれ対応する複数の撮像画像データが解析される。本実施の形態においては、例えば撮像画像のコントラストの高さまたは撮像画像データのピークの大きさ等に基づいてプロファイル形状の信頼度が算出される。なお、複数の信頼度が同程度であることは、複数の信頼度の差が予め定められた一定の程度よりも小さいことを意味する。
複数の結果表示欄411は、上方から下方へ信頼度の降順で表示される。これにより、最も高い信頼度を有するプロファイル形状を視認することが容易になる。複数の結果表示欄411は、上方から下方へ信頼度の昇順で表示されてもよい。
次に、探索された複数の撮像条件のうち最も好ましい撮像条件が選択される。ここで、図2の撮像設定部931は、最も高い信頼度を有する撮像条件を最も好ましい撮像条件として選択することができる。一方で、最も高い信頼度を有する撮像条件以外の撮像条件において、ワークWの所望の部分における撮像画像が適切に取得されることもある。そのため、使用者は、結果表示領域410において複数の結果表示欄411のいずれか1つを指定することにより、最も好ましい撮像条件を選択することができる。図16の例においては、上から2番目に表示された結果表示欄411が選択されている。
選択画像表示領域420の略中央には、上下方向に並ぶように撮像画像表示欄421およびプロファイル形状表示欄422が表示される。選択画像表示領域420の上部および下部には、それぞれ連続更新ボタン423および確定ボタン424が表示される。撮像画像表示欄421およびプロファイル形状表示欄422には、選択された撮像条件に対応する撮像画像およびプロファイル形状がそれぞれ表示される。すなわち、撮像画像表示欄421には撮像画像表示欄411aの撮像画像が表示され、プロファイル形状表示欄422にはプロファイル形状表示欄411bのプロファイル形状が表示される。
連続更新ボタン423が操作されると、選択された撮像条件で撮像が行なわれることにより、撮像画像表示欄421およびプロファイル形状表示欄422にそれぞれ表示される撮像画像およびプロファイル形状が順次更新される。この状態で、使用者は撮像されるワークWの位置および姿勢をわずかに変化させることにより、ワークWの位置および姿勢が変化したときでも、適切な撮像画像を取得できるか否かを確認することができる。すなわち、撮像条件のロバスト性が高いか否かを確認することができる。
また、撮像条件のロバスト性を向上させるための撮像パラメータの状態の組み合わせをさらに探索することができる。使用者は、ワークWの位置および姿勢が変化したときでも適切なプロファイル形状を取得できるように複数の撮像パラメータの状態を決定することにより、ロバスト性の高い撮像条件を設定することができる。
これにより、撮像ヘッド100の撮像領域に順次運搬される複数のワークWが完全に一定間隔で配置されていない場合、または複数のワークWの姿勢が完全に同一でない場合でも、適切なプロファイル形状を取得することができる。撮像条件が選択された状態で確定ボタン424が操作されることにより、最適な撮像条件が確定する。
使用者は、探索された複数の撮像条件から2以上の撮像条件を選択し、選択された撮像条件を再度探索することができる。再度の撮像条件の探索においては、ワークWの撮像部分が変更されてもよいし、一部の撮像パラメータの状態が変更されてもよい。再度の撮像条件の探索により得られる信頼度には、以前の探索により得られた信頼度が加味されてもよい。例えば、再度の撮像条件の探索により得られる信頼度は、以前の探索により得られた信頼度との合算(重み付け合算を含む)であってもよい。撮像条件の探索を繰り返すことにより、さらに信頼度の高い撮像設定を行なうことができる。
(4)撮像条件最適化処理
図17および図18は、撮像条件最適化処理を示すフローチャートである。以下、図1、図2、図17および図18を参照しながらPC900による撮像条件最適化処理を説明する。PC900は、撮像条件最適化プログラムに基づいて処理装置200を制御することにより撮像条件最適化処理を実行する。
まず、PC900は、図15のカスタム探索画面500において、変更するべき撮像パラメータの状態を受け付ける(ステップS11)。変更するべき撮像パラメータおよび変更するべき複数の状態が推奨設定されている場合には、ステップS11の処理は省略されてもよい。次に、PC900は、探索する撮像条件が決定したか否かを判定する(ステップS12)。使用者は、図15の探索実行ボタン502または図16のオプティマイズボタン413を操作することにより探索する撮像条件を決定することができる。
ステップS12において撮像条件が決定していない場合、PC900はステップS11の処理に戻る。ステップS12において撮像条件が決定した場合、PC900は、決定した各撮像条件においてワークWを撮像するように撮像ヘッド100を制御する(ステップS13)。続いて、PC900は、各撮像条件における信頼度を算出する(ステップS14)。その後、PC900は、取得した撮像画像およびプロファイル形状ならびに算出した信頼度に対応する指標を図16の撮像条件最適化画面400の結果表示欄411に表示する(ステップS15)。
次に、PC900は、探索された撮像条件からいずれかが選択されたか否かを判定する(ステップS16)。撮像条件の選択は、算出された信頼度に基づいてPC900により行なわれてもよいし、使用者により行われてもよい。ステップS16において撮像条件が選択されていない場合、PC900は撮像条件が選択されるまで待機する。ステップS16において撮像条件が選択された場合、PC900は、選択された撮像条件に対応する撮像画像およびプロファイル形状を図16の選択画像表示領域420に表示する(ステップS17)。
次に、PC900は、撮像条件の確定が指示されたか否かを判定する(ステップS18)。使用者は、図16の確定ボタン424を操作することにより撮像条件の確定を指示することができる。ステップS18において撮像条件の確定が指示されていない場合、PC900は、撮像画像の連続更新が指示されたか否かを判定する(ステップS19)。使用者は、図16の連続更新ボタン423を操作することにより撮像画像の連続更新を指示することができる。
ステップS19において撮像画像の連続更新が指示された場合、PC900はステップS17の処理に戻る。撮像画像の連続更新の指示が停止されるまで、PC900はステップS17〜S19の処理を繰り返す。使用者は、図16の撮像画像表示欄421およびプロファイル形状表示欄422にそれぞれ表示される撮像画像およびプロファイル形状を観察しつつワークWの位置および姿勢を変化させることができる。これにより、選択された撮像条件のロバスト性が高いか否かを確認することができる。
ステップS19において撮像画像の連続更新が指示されていない場合、PC900は再度の撮像条件の探索が指示されたか否かを判定する(ステップS20)。使用者は、図15の探索実行ボタン502または図16のオプティマイズボタン413を操作することにより再度の撮像条件の探索を指示することができる。
ステップS20において再度の撮像条件の探索が指示された場合、PC900はステップS11の処理に戻る。これにより、既に探索された撮像条件の信頼度が加味されつつ撮像条件の探索が再度行なわれる。ステップS20において再度の撮像条件の探索が指示されていない場合、PC900はステップS18の処理に戻る。その後、撮像条件の確定が指示されるまでステップS18〜S20の処理が繰り返される。ステップS18において撮像条件の確定が指示された場合、PC900は撮像条件最適化処理を終了する。
(5)効果
本実施の形態に係る光学式変位計側システム1においては、撮像条件を設定するための複数の撮像パラメータの状態が撮像設定部931により設定される。設定された複数の撮像パラメータのいずれかの状態が変更されることにより、複数の撮像条件にそれぞれ対応する複数の撮像画像データが受光部120により生成される。
生成された各撮像画像データに基づいて、プロファイル形状を示すプロファイルデータがプロファイル生成部222により生成される。生成された各プロファイルデータまたは当該プロファイルデータに対応する撮像画像データに基づいて、当該プロファイルデータにより示されるプロファイル形状の信頼度が信頼度算出部934により算出される。
この構成によれば、撮像パラメータの複数の状態の組み合わせに対応する複数の撮像条件において撮像画像データが生成される。また、各撮像画像データに対応するプロファイル形状の信頼度が算出される。そのため、使用者は、生成されたプロファイルデータに基づくプロファイル形状または算出された信頼度に基づいて、いずれの撮像条件が最適であるかを判断することができる。これにより、最適な撮像条件を容易に設定することができる。
また、使用者は、操作部910を操作することにより、変更すべき1以上の撮像パラメータを選択するとともに、選択した1以上のパラメータの各々について、変更すべき複数の状態を指定することができる。これにより、使用者は、所望の撮像パラメータの状態を所望の複数の状態に変更した場合の最適な撮像条件を判断することができる。
さらに、使用者は、操作部910を操作することにより、サンプリング周波数等の予め定められた特定の撮像パラメータの状態を設定することができる。特定の撮像パラメータに依存関係を有する他の撮像パラメータの探索範囲は、設定された特定の撮像パラメータの状態を維持可能な範囲に制限される。他の撮像パラメータは、例えば受光素子121の露光時間である。これにより、当該特定の撮像パラメータの状態を維持しつつ、他の選択された1以上の撮像パラメータの状態を変更した場合の最適な撮像条件を判断することができる。
[3]測定設定
(1)測定設定の手順
撮像設定が行なわれた後、同一種類の複数のワークWについて共通部分の寸法(変位)を測定するために測定設定を行なう必要がある。以下、図12の設定編集画面300を参照して測定設定の手順について説明する。なお、撮像設定と同様に、処理装置200に複数の撮像ヘッド100が接続されている場合には、複数の撮像ヘッド100に一括して共通の測定設定を行なうこともできるし、複数の撮像ヘッド100に個別の測定設定を行なうこともできる。
測定設定欄312には、マスタ登録ボタン312a、位置補正ボタン312b、プロファイルマスクボタン312cおよびOUT測定設定ボタン312dが表示される。測定設定欄312は、測定設定を行なう際に操作される。なお、上記のように、撮像設定欄311のプロファイルボタン311cは測定設定においても操作されることがある。
図19は、マスタ登録ボタン312aが操作されたときの設定編集画面300を示す図である。図19に示すように、マスタ登録ボタン312aが操作されると、図12の画像更新ボタン323に代えてプロファイル更新ボタン324およびプロファイル選択ボタン325が個別表示欄320に表示される。また、設定入力欄322にマスタプロファイル登録欄340が表示される。
プロファイル更新ボタン324が操作されると、現在の撮像条件で新たに撮像画像データが生成されるとともに、生成された撮像画像データに基づいてプロファイルデータが生成される。生成されたプロファイルデータに基づいて、画像表示欄321に表示されるプロファイル形状が更新される。また、プロファイル選択ボタン325が操作されると、現在までに生成された所望のプロファイルデータに基づいて、画像表示欄321にプロファイル形状が表示される。
マスタプロファイル登録欄340には、登録ボタン341が表示される。登録ボタン341が操作されると、画像表示欄321に表示されているプロファイル形状を示すプロファイルデータがマスタプロファイルデータとして登録される。マスタプロファイルデータは、同一種類の複数のプロファイル形状についての共通の測定部分の設定に用いられる。また、マスタプロファイルデータは、後述する位置補正およびプロファイルマスクの設定に用いられる。以下、マスタプロファイルデータに基づいて表示されるプロファイル形状をマスタプロファイル形状MPと呼ぶ。
OUT測定設定ボタン312dが操作されると、画像表示欄321に表示されているプロファイル形状における測定部分の設定を行なうための入力欄が設定入力欄322に表示される。また、マスタプロファイルデータが登録された状態でOUT測定設定ボタン312dが操作されると、マスタプロファイル形状MPにおける測定部分の設定を行なうための入力欄が設定入力欄322に表示される。
使用者は、設定入力欄322に所定の操作を行なうことにより、複数種類の測定モードから一の測定モードを選択することができる。測定モードは、高さ測定モード、幅測定モード、位置測定モード、段差測定モード、断面積測定モード、円弧曲率測定モードおよび角度測定モード等を含む。以下、測定モードの設定の手順を説明する。また、各測定モードにおいては、測定結果を用いてプロファイル形状の部分の真円度または平面度等を評価することもできる。
図20は、高さ測定モードが選択されたときの設定編集画面300を示す図である。図20に示すように、高さ測定モードが選択されたときには、測定対象表示欄350が設定入力欄322に表示される。測定対象表示欄350には、測定対象入力欄351、測定範囲入力欄352、測定結果出力欄353および確定ボタン350aが表示される。また、プロファイル形状についての測定範囲を示す測定範囲表示指標M1が画像表示欄321に表示される。図20の説明で用いられるプロファイル形状はマスタプロファイル形状MPである。
測定対象入力欄351には、対象ヘッドプルダウンメニュー351a、測定対象設定欄351bおよび測定対象設定ボタン351cが表示される。使用者は、測定設定を行なう撮像ヘッド100を対象ヘッドプルダウンメニュー351aから選択することができる。撮像ヘッド100は、例えば「ヘッドA」、「ヘッドB」および「共通」を含む。ここで、「ヘッドA」および「ヘッドB」は処理装置200に接続された2つの撮像ヘッド100の一方および他方をそれぞれ意味する。
測定範囲入力欄352には、左端入力欄352aおよび右端入力欄352bが表示される。使用者は、左端入力欄352aおよび右端入力欄352bに数値を入力する。これにより、画像表示欄321に表示されたマスタプロファイル形状MPについての測定範囲の左端および右端がそれぞれ設定される。この場合、左端入力欄352aおよび右端入力欄352bに入力された数値に対応して測定範囲を示すように測定範囲表示指標M1の位置および大きさが変化する。
あるいは、使用者は、画像表示欄321に表示された測定範囲表示指標M1の位置および大きさを操作することにより測定範囲の左端および右端を設定することもできる。この場合、測定範囲表示指標M1の位置および大きさに対応して左端入力欄352aおよび右端入力欄352bの数値が変化する。本例においては測定範囲表示指標M1は矩形状を有するが、本発明はこれに限定されない。測定範囲表示指標M1は、例えば測定範囲の左端および右端をそれぞれ示すように上下に延びる2つの線であってもよい。あるいは、測定範囲表示指標M1は、測定範囲の左端および右端を示すように左右に延びる線または矢印等であってもよい。
測定対象入力欄351の測定対象設定欄351bには、測定範囲入力欄352により設定された測定範囲に含まれるマスタプロファイル形状MPについての測定対象が表示される。測定モードとして高さ測定モードが選択されている場合には、使用者は、測定対象設定ボタン351cを操作することにより、測定対象として例えば「平均」、「最大」または「最小」を設定することができる。図20の例では、測定対象は「平均」に設定されている。この場合、測定範囲に含まれるマスタプロファイル形状MPの部分のプロファイルデータの平均値が図2の測定処理部231により算出される。
測定結果出力欄353は、測定結果表示欄353aを含む。測定結果表示欄353aには、測定処理部231により算出された測定対象の値が表示される。本例では、測定結果表示欄353aに表示される値は、予め定められた位置からの測定範囲に含まれるマスタプロファイル形状MPの部分の平均の高さを意味する。予め定められた位置は、使用者により任意に設定することができる。確定ボタン350aが操作されると、当該測定モード(高さ測定モード)の設定が終了する。
図21は、角度測定モードが選択されたときの設定編集画面300を示す図である。図22は、図21の設定入力欄322に表示される測定対象表示欄350を示す図である。角度測定モードが選択されたときの測定対象表示欄350は、以下の点を除き、高さ測定モードが選択されたときの測定対象表示欄350と同様である。
図22に示すように、測定対象設定欄351bには、測定対象として「平均」等ではなく角度が表示される。図22の例では、測定対象入力欄351に「2直線間の角度」が表示される。また、図22の例では、図20の測定対象設定ボタン351cが表示されない。
測定範囲入力欄352には、2組の左端入力欄352aおよび右端入力欄352bが表示される。これにより、マスタプロファイル形状MPの2つの部分に測定範囲を設定することができる。図22の例では、測定範囲入力欄352に2組の左端入力欄352aおよび右端入力欄352bが表示されている。
一方の組の左端入力欄352aおよび右端入力欄352bまたはこれらに対応する測定範囲表示指標M1が操作されることにより、マスタプロファイル形状MPの一部分に測定範囲が設定される。この場合、測定範囲に含まれるマスタプロファイル形状MPの一部分が所定の基準線に対してなす角度が図2の測定処理部231により算出される。本例においては、基準線は左右方向に延びる直線である。また、本例においては、他方の組の左端入力欄352aおよび右端入力欄352bは使用されていない。
測定結果出力欄353には、測定結果表示欄353aに加えて、2つの測定結果表示欄353b,353cが表示される。測定結果表示欄353bには、マスタプロファイル形状MPの一部分と基準線とのなす角度が表示される。また、測定結果表示欄353cには、基準対象として予め設定されたマスタプロファイル形状MPの他の部分と基準線とのなす角度が表示される。本例においては、マスタプロファイル形状MPの大きく傾斜している所定の部分が基準対象として設定されている。
測定結果表示欄353aには、マスタプロファイル形状MPにおいて、測定範囲として設定された一部分と基準対象として予め設定された他の部分とのなす角度が表示される。すなわち、測定結果表示欄353aには、測定結果表示欄353b,353cに表示された角度の差が表示される。確定ボタン350aが操作されると、当該測定モード(角度測定モード)の設定が終了する。
幅測定モード等の他の測定モードにおける測定対象表示欄は、測定対象設定欄351bに表示される測定対象を除いて図20および図22の測定対象表示欄350と同様である。なお、幅測定モードの測定対象表示欄における測定対象設定欄には、測定対象としてマスタプロファイル形状MPのエッジレベル、2つの線の交点および変曲点等が表示される。
測定モードの設定が終了した後、完了ボタン317が操作されると、測定設定が完了する。測定設定には、後述するフィルタ処理、位置補正処理およびプロファイルマスク処理等の補足的な設定を追加することができる。
出力設定欄313には、端子/ストレージボタン313aが表示される。端子/ストレージボタン313aが操作されると、データの出力および保存に関する種々の設定を行なうための入力欄が設定入力欄322に表示される。使用者は、設定入力欄322に所定の操作を行なうことにより、処理装置200の図示しない入出力端子の割付動作の設定を行なうことができる。また、使用者は、設定入力欄322に所定の操作を行なうことにより、図2の記憶部260にデータを保存するためのデータ処理部220または測定制御部230の設定を行なうことができる。
ファイル保存ボタン314が操作されると、処理装置200の入出力端子に接続されたPC900の記憶部920にデータが保存される。これにより、保存されたデータに後述する測定シミュレーション処理を実行することができる。その結果、変更された測定方法による測定結果を取得することができる。
また、PC900とは異なる他のパーソナルコンピュータに測定シミュレーションプログラムがインストールされている場合には、当該他のパーソナルコンピュータを用いて測定シミュレーション処理を実行することができる。そのため、使用者は、光学式変位計側システム1が設置される環境とは異なる環境においても、測定シミュレーション処理を実行することができる。そのため、使用者は、光学式変位計側システム1が設置される環境とは異なる環境においても、測定シミュレーション処理を実行することにより、変更された測定方法による測定結果を取得することができる。
(2)測定設定の補足
(a)フィルタ処理
上記の測定設定において、プロファイル形状に不要な部分が含まれている場合には、測定結果が不適切になることがある。そこで、プロファイルデータに所望のフィルタ処理を行なうことにより、プロファイル形状に含まれた不要な部分を除去することができる。
所望のプロファイルデータが生成された後、図12のプロファイルボタン311cが操作されると、プロファイルデータにフィルタ処理を設定するためのプロファイル設定欄が設定入力欄322に表示される。なお、本例では、プロファイル設定には、フィルタ処理を簡易な操作で設定するためのプロファイル簡易設定欄と、フィルタ処理を詳細に設定するためのプロファイル詳細設定欄とがある。
本例においては、プロファイルボタン311cが操作されると、図示しないプロファイル簡易設定欄が設定入力欄322に表示される。プロファイル簡易設定欄に所定の操作が行なわれると、プロファイル簡易設定欄に代えてプロファイル詳細設定欄が設定入力欄322に表示される。図23は、プロファイル詳細設定欄を示す図である。
図23の画像表示欄321には、所望のプロファイルデータに基づくプロファイル形状PRが表示されている。図23のプロファイル形状PRは、A部およびB部に示すように不連続に突出するノイズ部NPを含む。
図23に示すように、プロファイル詳細設定欄360には、X軸(図9のX3方向)においてプロファイルデータにフィルタ処理を設定するための空間フィルタ設定欄361が表示される。なお、プロファイル詳細設定欄360には、時間軸においてプロファイルデータにフィルタ処理を設定するための時間フィルタ設定欄362が表示される。また、プロファイル詳細設定欄360には、当該プロファイル詳細設定欄360に代えて図示しないプロファイル簡易設定欄を設定入力欄322に表示するための標準設定へボタン360aが表示される。
空間フィルタ設定欄361には、スムージングプルダウンメニュー361aおよびメディアンプルダウンメニュー361bが表示される。使用者は、空間フィルタ処理におけるスムージング処理およびメディアン処理の程度をスムージングプルダウンメニュー361aおよびメディアンプルダウンメニュー361bからそれぞれ選択することができる。フィルタ処理が設定されると、図2の測定処理部231は、プロファイルデータにフィルタ処理を実行する。適切なスムージング処理およびメディアン処理を選択することにより、プロファイル形状PRからノイズ部NPを除去することができる。
(b)位置補正処理
マスタプロファイルデータが登録されたときのワークWの位置と実際に測定されるワークWの位置とが完全に一致するとは限らない。マスタプロファイルデータが登録されたときのワークWの位置と実際に測定されるワークWの位置とがずれた状態で撮像が行なわれると、測定結果が不適切になることがある。
図24は、マスタプロファイル形状MPおよびプロファイル形状PRが表示された表示部3を示す図である。図24の例では、マスタプロファイル形状MPの位置とプロファイル形状PRの位置とがずれている。そのため、マスタプロファイル形状MPに設定された測定範囲(測定範囲表示指標M1)は、実際に測定すべきプロファイル形状PRの測定範囲に一致していない。そこで、マスタプロファイルデータに位置補正処理を行なうことにより、マスタプロファイル形状MPの測定範囲を実際に測定すべきプロファイル形状PRの測定範囲に一致させることができる。
位置補正ボタン312bが操作されると、プロファイルデータに位置補正処理を設定するための位置補正欄が設定入力欄322に表示される。使用者は、設定入力欄322の図示しない位置補正欄に所定の操作を行なうことにより、複数種類の補正モードから一の補正モードを選択することができる。補正モードは、X補正モード、Z補正モード、ZX補正モード、XZ補正モード、θ補正モードおよびXθ補正モード等を含む。なお、補正モードの設定におけるX方向およびZ方向は、図9のX3方向およびZ3方向をそれぞれ意味する。
X補正モードにおいては、測定範囲のX3方向の位置が補正される。Z補正モードにおいては、測定範囲のZ3方向の位置が補正される。ZX補正モードにおいては、測定範囲のZ3方向の位置が補正された後、測定範囲のX3方向の位置が補正される。XZ補正モードにおいては、測定範囲のX3方向の位置が補正された後、測定範囲のZ3方向の位置が補正される。θ補正モードにおいては、測定範囲の回転角度が補正される。Xθ補正モードにおいては、測定範囲のX3方向の位置が補正された後、測定範囲の回転角度が補正される。
図25は、X補正モードが選択されたときの設定編集画面300を示す図である。図25に示すように、X補正モードが選択されたときには、X補正欄370が設定入力欄322に表示される。X補正欄370には、エッジ測定エリア欄371、エッジ測定詳細欄372および確定ボタン370aが表示される。また、マスタプロファイル形状MPについての補正範囲を示す補正範囲表示指標M2が画像表示欄321に表示される。
エッジ測定エリア欄371には、左端入力欄371a、右端入力欄371bおよびエッジレベル入力欄371cが表示される。使用者は、左端入力欄371aおよび右端入力欄371bに数値を入力する。これにより、画像表示欄321に表示されたマスタプロファイル形状MPについての補正範囲の左端および右端がそれぞれ設定される。この場合、左端入力欄371aおよび右端入力欄371bに入力された数値に対応して補正範囲を示すように補正範囲表示指標M2の位置および大きさが変化する。
あるいは、使用者は、画像表示欄321に表示された補正範囲表示指標M2の位置および大きさを操作することにより補正範囲を設定することもできる。この場合、補正範囲表示指標M2の位置および大きさに対応して左端入力欄371aおよび右端入力欄371bの数値が変化する。本例においては補正範囲表示指標M2は矩形状を有するが、本発明はこれに限定されない。補正範囲表示指標M2は、例えば補正範囲の左端および右端をそれぞれ示すように上下に延びる2つの線であってもよい。あるいは、補正範囲表示指標M2は、補正範囲の左端および右端を示すように左右に延びる線または矢印等であってもよい。
設定された補正範囲内において、マスタプロファイル形状MPのエッジMEが検出される。マスタプロファイル形状MPのエッジMEとは、マスタプロファイル形状MPのうち急峻に立ち上がる部分または急峻に立ち下がる部分である。使用者は、エッジレベル入力欄371cに数値を入力する。これにより、マスタプロファイル形状MPのエッジMEにおける高さ(以下、エッジレベルMLと呼ぶ。)が設定される。
補正範囲内に複数のエッジが存在する場合には、以下のエッジ測定詳細欄372が操作されることにより1つのエッジMEが特定される。エッジ測定詳細欄372には、エッジ方向プルダウンメニュー372a、検出方向プルダウンメニュー372bおよび検出No.プルダウンメニュー372cが表示される。使用者は、エッジ方向をエッジ方向プルダウンメニュー372aから選択することができる。エッジ方向は、「立ち上がり」および「立ち下がり」を含む。
また、使用者は、検出方向を検出方向プルダウンメニュー372bから選択することができる。検出方向は、「+方向」および「−方向」を含む。ここで、「+方向」は画像表示欄321において左から右へ向かう方向であり、「−方向」は画像表示欄321において右から左へ向かう方向である。さらに、使用者は、検出番号を検出No.プルダウンメニュー372cから選択することができる。
図25の例では、エッジ方向として「立ち下がり」が選択され、検出方向として「+方向」が選択され、検出番号として「1番目」が選択されている。この場合、補正範囲内で左から右へ向かう方向において、1番目に立ち下がりとなるマスタプロファイル形状MPの部分がエッジMEとして検出される。また、エッジMEにおけるエッジレベル入力欄371cにより指定された高さがエッジレベルMLとなる。確定ボタン370aが操作されると、当該補正モード(X補正モード)の設定が終了する。また、完了ボタン317が操作されると、位置補正処理の設定が終了する。
位置補正処理が設定された場合、図2の測定処理部231により位置補正処理が実行される。位置補正処理においては、補正範囲内でマスタプロファイル形状MPのエッジMEに対応するプロファイル形状PRのエッジPEが検出される。また、エッジMEにおけるエッジレベルMLに対応するエッジレベルPLがエッジPEから検出される。
エッジレベルMLのX3方向の位置がエッジレベルPLのX3方向の位置に一致するように、マスタプロファイル形状MPがX3方向に移動される。ここで、マスタプロファイル形状MPに設定された測定範囲もマスタプロファイル形状MPと一体的にX3方向に移動される。これにより、マスタプロファイル形状MPとプロファイル形状PRとが重なるとともに、マスタプロファイル形状MPの測定範囲が実際に測定すべきプロファイル形状PRの測定範囲に一致する。
なお、マスタプロファイル形状MPには、複数の補正範囲を設定することができる。また、マスタプロファイル形状MPに複数の測定範囲が設定されている場合には、複数の測定範囲を複数の補正範囲に対応付けることができる。この場合、位置補正処理時には、各測定範囲は、対応する補正範囲のマスタプロファイル形状MPの部分と一体的に移動する。これにより、マスタプロファイル形状MPの各測定範囲を実際に測定すべきプロファイル形状PRの測定範囲に一致させることができる。
(c)プロファイルマスク処理
以下、マスタプロファイル形状MPに設定されるマスクをプロファイルマスクと呼ぶ。上記の測定方法において、マスタプロファイル形状MPに設定された測定範囲に不要な部分が含まれている場合には、測定結果が不適切になることがある。そこで、マスタプロファイル形状MPに所望のプロファイルマスク処理を行なうことにより、測定範囲に含まれた不要な部分を除去して測定を行なうことができる。
図19においてマスタプロファイルデータが登録された後、プロファイルマスクボタン312cが操作されると、マスタプロファイル形状MPにプロファイルマスク処理を設定するためのプロファイルマスク設定欄が設定入力欄322に表示される。図26は、プロファイルマスクボタン312cが操作されたときの設定編集画面300を示す図である。図27は、図26の設定入力欄322に表示されるプロファイルマスク設定欄380を示す図である。
図26に示すように、プロファイルマスクを設定する範囲(以下、マスク範囲と呼ぶ。)を示すマスク範囲表示指標M3が画像表示欄321に表示される。図27に示すように、プロファイルマスク設定欄380には、マスクエリア欄381、マスクエリア詳細欄382、エリア設定欄383、位置補正選択欄384および確定ボタン380aが表示される。
マスクエリア欄381には、各プロファイルマスクの詳細を記載したマスクエリア一覧表381aが表示される。プロファイルマスクの詳細は、マスク範囲、形状および対応付けられる補正範囲を含む。使用者は、マスクエリア一覧表381aを操作することにより、複数のプロファイルマスクから設定すべき所望のプロファイルマスクを選択することができる。
使用者は、マスクエリア詳細欄382を操作することにより、マスクエリア欄381から選択されたプロファイルマスクの詳細を設定することができる。具体的には、マスクエリア詳細欄382には、エリア表示欄382aおよび形状表示欄382bが表示される。エリア表示欄382aおよび形状表示欄382bには、マスクエリア欄381から選択されたプロファイルマスクのマスク範囲および形状がそれぞれ表示される。使用者は、形状表示欄382bを操作することにより、プロファイルマスクの形状を矩形、円形または他の形状に設定することができる。図27の例では、プロファイルマスクの形状は矩形に設定されている。
使用者は、エリア設定欄383を操作することにより、マスク範囲を設定することができる。具体的には、プロファイルマスクの形状が矩形である場合には、エリア設定欄383には、左上X座標入力欄383a、左上Z座標入力欄383b、右下X座標入力欄383cおよび右下Z座標入力欄383dが表示される。エリア設定欄383におけるX座標およびZ座標は、それぞれ図9のX3方向における位置およびZ3方向における位置を意味する。使用者は、左上X座標入力欄383a、左上Z座標入力欄383b、右下X座標入力欄383cおよび右下Z座標入力欄383dに数値を入力する。これにより、矩形のマスク範囲の4つの角部の位置が設定される。
この場合、左上X座標入力欄383a、左上Z座標入力欄383b、右下X座標入力欄383cおよび右下Z座標入力欄383dに入力された数値に対応してマスク範囲を示すようにマスク範囲表示指標M3の位置および大きさが変化する。あるいは、使用者は、画像表示欄321に表示されたマスク範囲表示指標M3の位置および大きさを操作することにより矩形のマスク範囲の4つの角部の位置を設定することもできる。この場合、マスク範囲表示指標M3の位置および大きさに対応して左上X座標入力欄383a、左上Z座標入力欄383b、右下X座標入力欄383cおよび右下Z座標入力欄383dの数値が変化する。
なお、プロファイルマスクの形状が他の形状である場合には、エリア設定欄383には、左上X座標入力欄383a、左上Z座標入力欄383b、右下X座標入力欄383cおよび右下Z座標入力欄383dに代えて他の入力欄が表示される。例えば、プロファイルマスクの形状が円形である場合には、マスク範囲の中心位置および半径(または直径)をそれぞれ設定するための中心座標入力欄および半径(直径)入力欄が表示される。
使用者は、位置補正選択欄384を操作することにより、マスクエリア欄381から選択されたプロファイルマスクに対応付ける補正範囲を設定することができる。具体的には、位置補正選択欄384には、位置補正選択プルダウンメニュー384aが表示される。使用者は、プロファイルマスクに対応付ける補正範囲を位置補正選択プルダウンメニュー384aから選択することができる。
確定ボタン380aが操作されると、選択されたプロファイルマスクの設定が終了する。また、図26の完了ボタン317が操作されると、プロファイルマスク処理の設定が終了する。
図26の画像表示欄321には、マスタプロファイル形状MPが表示されている。また、画像表示欄321には、マスタプロファイル形状MPの平坦部分の高さを測定するように設定された測定範囲が測定範囲表示指標M1により示されている。図26の例では、当マスタプロファイル形状MPの平坦部分に連続するエッジ部分も測定範囲内に含まれている。そのため、平坦部分の高さを正確に測定することができない。
そこで、図26に示すように、エッジ部分が含まれかつ平坦部分がほとんど含まれないように、マスク範囲表示指標M3で示されるマスク範囲が設定される。この場合、図2の測定処理部231は、測定範囲に含まれるマスタプロファイル形状MPの部分のプロファイルデータからマスク範囲に含まれるマスタプロファイル形状MPの部分のプロファイルデータを除去して高さを算出する。これにより、マスタプロファイル形状MPの平坦部分の高さを正確に測定することができる。
また、マスク範囲は補正範囲に対応付けられる。そのため、マスク範囲は、対応する補正範囲のマスタプロファイル形状MPの部分と一体的に移動する。これにより、マスタプロファイル形状MPの位置と実際に測定されるプロファイル形状の位置とが一致しない場合でも、プロファイル形状の測定範囲に含まれた不要な部分を除去して測定を行なうことができる。
(3)測定方法の変更
(a)距離画像
上記の測定設定が行なわれた後、同一種類の複数のワークWの測定が順次行なわれる。ここで、ワークWの測定の途中または終了後に測定方法が適切ではなかったことが判明する場合がある。このような場合、従来の光学式変位計側システムにおいては、測定時の状況を再現し、測定設定を再度行なった後、ワークWの再測定および測定結果の再確認を行なう必要がある。しかしながら、測定時の状況を正確に再現できるとは限らない。仮に測定時の状況を正確に再現できたとしても、測定方法を最適にするために、試行錯誤しつつ測定方法の変更およびワークWの測定を繰り返す必要がある。そのため、使用者の負担が増加する。
そこで、抽出部935(図2)は、距離画像生成部232(図2)により生成された距離画像データから所望のプロファイルデータを抽出する。シミュレーション部936(図2)は、抽出部935により抽出されたプロファイルデータの測定方法を変更して、シミュレーションを行なう。以下、測定処理のシミュレーションについて説明する。
図28は、表示部3に表示される設定シミュレータ画面を示す図である。使用者は、表示部3に所定の操作をすることにより、図28の設定シミュレータ画面600を表示部3に表示させることができる。図28に示すように、設定シミュレータ画面600には、測定エリア表示領域610、測定結果表示領域620および選択結果表示領域630が表示される。また、設定シミュレータ画面600には、設定変更ボタン601が表示される。
測定エリア表示領域610には、複数の測定範囲を示す一覧表が表示される。測定結果表示領域620および選択結果表示領域630は、上下方向に並ぶように測定エリア表示領域610の隣に配置される。測定結果表示領域620には、距離画像表示欄621およびトレンドグラフ表示欄622が左右に並ぶように配置される。距離画像表示欄621は、全体画像表示欄621aと部分画像表示欄621bとを含む。全体画像表示欄621aは部分画像表示欄621b内に配置される。
全体画像表示欄621aには、測定エリア表示領域610から選択された測定範囲についての距離画像が表示される。部分画像表示欄621bには、全体画像表示欄621aの距離画像の一部が拡大表示される。図28の例においては、距離画像の横軸はワークWのX1方向(図3)の距離(幅)を示し、距離画像の縦軸はプロファイル番号を示す。距離画像の白黒の濃淡は、ワークWのZ1方向(図3)の距離(高さ)を示す。
トレンドグラフ表示欄622には、トレンドグラフが表示される。トレンドグラフは、部分画像表示欄621bの距離画像についての測定結果の時間変化を上下方向に延びる波形で表示(トレンド表示)する。本例では、測定結果は、設定された2つの測定範囲の高さの差(段差)である。使用者は、トレンドグラフ表示欄622に表示されたトレンドグラフを観測することにより、測定方法が適切であったか否かを容易に認識することができる。
全体画像表示欄621aおよび部分画像表示欄621bには、左右方向に延びかつ上下方向に移動可能なカーソル621cが表示される。使用者は、図2の操作部910を操作してカーソル621cを上下方向に移動させることにより、所望の測定結果に対応するプロファイルデータを距離画像上で指定することができる。距離画像上でプロファイルデータが指定された状態で設定変更ボタン601が操作されると、後述する図29の設定変更画面300Aが表示部3に表示される。
また、使用者は、トレンドグラフから特定の条件(以下、検索条件と呼ぶ。)を満たす測定結果を検索することができる。検索条件は、測定結果がある許容範囲内であること、測定結果がある許容範囲を超えること、測定結果が公差の範囲内であること、または測定結果が公差の範囲を超えること等を含む。これにより、測定方法を変更すべき測定結果を容易に検索することができる。
測定結果の検索が行なわれると、検索条件を満たすトレンドグラフの部分にマーカ622mが表示されることにより、検索条件を満たすトレンドグラフの部分が識別可能に表示される。また、距離画像表示欄621のカーソル621cは、トレンドグラフ表示欄622のマーカ622mの位置に対応する距離画像上の位置へ移動する。これにより、使用者は、測定方法を変更すべき所望の測定結果に対応するプロファイルデータを距離画像またはトレンドグラフ上で容易に識別し、指定することができる。
選択結果表示領域630には、プロファイル形状表示欄631および選択結果表示欄632が左右に並ぶように配置される。プロファイル形状表示欄631には、距離画像表示欄621の距離画像またはトレンドグラフ表示欄622のトレンドグラフ上で指定されたプロファイルデータに基づくプロファイル形状PRが表示される。使用者は、プロファイル形状表示欄631に表示されたプロファイル形状PRを観測することにより、測定方法を変更すべきか否かを視覚的に確認することができる。
選択結果表示欄632には、プロファイル形状表示欄631に表示されたプロファイル形状PRの測定範囲についての測定結果を示す一覧表が表示される。選択結果表示欄632には、複数の測定結果の統計値を表示することも可能である。
(b)測定処理のシミュレーション
測定設定において、図20の例のように、ワークWの平坦部分の高さを測定するために、マスタプロファイル形状MPの平坦部分に測定範囲が設定されたことを想定する。しかしながら、測定範囲が大きすぎる場合等のように、設定された測定方法に不具合がある場合には、ワークWによってはプロファイル形状PRの平坦部分に連続する不要なエッジ部分も測定範囲内に含まれることがある。
このような場合には、部分画像表示欄621bの一点鎖線Cよりも下方の部分のように、当初(一点鎖線Cよりも上方)の部分とは異なる測定結果が得られることとなる。そのため、部分画像表示欄621bの一点鎖線Cよりも下方の測定結果に対応するプロファイルデータについては、以下のように測定方法を変更することが望まれる。
図29は、表示部3に表示される設定変更画面を示す図である。図28の距離画像上でプロファイルデータが指定された状態で設定変更ボタン601が操作されると、図29の設定変更画面300Aが表示部3に表示される。
図29に示すように、設定変更画面300Aの表示内容は、図12または図20等の完了ボタン317に代えて実行ボタン317Aが表示される点を除き、設定編集画面300の表示内容と同様である。そのため、設定変更画面300Aの表示内容には、設定編集画面300の表示内容と同一の符号が付される。図29の例では、OUT測定設定ボタン312dが操作されている。したがって、設定入力欄322には、測定対象表示欄350が表示されている。
図2の抽出部935は、図28の距離画像上で指定されたプロファイルデータを抽出する。図29の画像表示欄321には、抽出部935により抽出されたプロファイルデータに基づくプロファイル形状PRが表示される。測定設定欄312または撮像設定欄311のプロファイルボタン311cが操作されると、図2のシミュレーション部936は抽出部935により抽出されたプロファイルデータの測定方法を変更する。
なお、設定変更画面300Aにおいては、撮像パラメータの状態を変更することができない。すなわち、トリガ設定ボタン311aおよび撮像設定ボタン311bは操作不可能である。そのため、トリガ設定ボタン311aおよび撮像設定ボタン311bはグレーアウト表示される。
図29の例では、測定範囲が大きすぎるため、プロファイル形状PRの平坦部分に連続する不要なエッジ部分も測定範囲内に含まれている。このような場合、測定範囲入力欄352が操作されることにより、不要なエッジ部分を含まないように測定範囲の設定を変更することができる。あるいは、図26の例と同様に、エッジ部分が含まれかつ平坦部分がほとんど含まれないようにマスク範囲を追加的に設定することができる。
上記の測定方法の変更が行なわれた後、実行ボタン317Aが操作されると、シミュレーション部936は、変更後の測定方法に基づいて測定処理をシミュレーションにより実行する。これにより、測定設定が適切に行なわれていた場合の測定結果と等価な測定結果を得ることができる。図28の距離画像表示欄621には、シミュレーションにより得られた測定結果に基づいて更新された距離画像が表示される。使用者は、更新された距離画像を観察することにより、測定結果が適切であるか否かを視認することができる。
図30および図31は、測定方法の変更についての他の例を説明するための図である。図30および図31の設定変更画面300Aは、完了ボタン317に代えて実行ボタン317Aが表示される点を除き、図25の設定編集画面300と同様である。図30の例のように、マスタプロファイル形状MPのエッジME近傍に対応するプロファイル形状PRの部分に歪みが発生した場合には、所望の部分とは異なる部分がプロファイル形状PRのエッジPEとして検出されることがある。この場合、測定処理において適切な位置補正処理が実行されないので、適切な測定結果が得られない。
そこで、シミュレーションによりマスタプロファイル形状MPのエッジレベルMLの設定を変更することができる。図30および図31の例では、マスタプロファイル形状MPのエッジMEの比較的上部に対応するプロファイル形状PRの部分には大きな歪みが発生していない。そこで、マスタプロファイル形状MPのエッジレベルMLが図30の例よりも高く設定される。これにより、図31の例のように、プロファイル形状PRのエッジPEを適切に検出することができる。その結果、測定処理のシミュレーションにおいて、適切な位置補正処理を実行することができる。
測定方法の変更についてのさらに他の例として、図29〜図31の設定変更画面300Aが操作されることにより、マスタプロファイルデータの設定を変更することができる。また、フィルタ処理、測定対象または測定モードの追加または変更を行なうことができる。
図2の測定処理部231は、測定結果についての許容値または公差等の評価値に基づいて、距離画像ごとに測定結果が良好であるか否かを判定することができる。使用者は、距離画像の判定結果を確認することにより、上記の測定方法の変更を行なう必要がある距離画像を選択することができる。
図32は、表示部3に表示されるシミュレート対象データ選択画面を示す図である。使用者は、表示部3に所定の操作をすることにより、図32のシミュレート対象データ選択画面700を表示部3に表示させることができる。図32に示すように、シミュレート対象データ選択画面700には、左右に並ぶように距離画像表示領域710および選択結果表示領域720が表示される。また、シミュレート対象データ選択画面700には、OKボタン701が表示される。
距離画像表示領域710には、複数の距離画像表示欄711が表示される。各距離画像表示欄711には、距離画像が表示される。また、測定結果が不良である距離画像を表示する距離画像表示欄711には、判定結果が不良であることを示す指標(本例では「NG」マーク)が表示される。
いずれかの距離画像表示欄711が操作されると、操作された距離画像表示欄711に対応する距離画像が選択される。選択結果表示領域720には、距離画像表示領域710から選択された距離画像に関する測定結果を示す一覧表が表示される。使用者は、いずれかの距離画像表示欄711を操作した状態でOKボタン701を操作することにより、上記の測定方法の変更を行なう距離画像を決定することができる。
(4)測定シミュレーション処理
図33および図34は、測定シミュレーション処理を示すフローチャートである。以下、図1、図2、図33および図34を参照しながらPC900による測定シミュレーション処理を説明する。
まず、PC900は、所望の距離画像を図28の設定シミュレータ画面600の距離画像表示欄621に表示する(ステップS21)。使用者は、操作部910を用いて所定の操作を行なうことにより、表示部3に設定シミュレータ画面600を表示するとともに、距離画像表示欄621に表示させる距離画像を選択することができる。あるいは、使用者は、図32のシミュレート対象データ選択画面700から所望の距離画像を選択することもできる。
次に、PC900は、距離画像上でプロファイルデータが指定されたか否かを判定する(ステップS22)。使用者は、距離画像表示欄621のカーソル621cを移動させることにより、距離画像上でプロファイルデータが指定することができる。
ステップS22においてプロファイルデータが指定されていない場合には、PC900はプロファイルデータが指定されるまで待機する。ステップS22においてプロファイルデータが指定された場合には、PC900は、指定されたプロファイルデータに対応するプロファイル形状PRを図29〜図31の設定変更画面300Aの画像表示欄321に表示させる(ステップS23)。
続いて、PC900は、測定方法の変更が指示されたか否かを判定する(ステップS24)。使用者は、設定変更画面300Aの設定入力欄322を操作することにより、測定方法の変更を指示することができる。
ステップS24において測定方法の変更が指示されていない場合には、PC900は測定方法の変更が指示されるまで待機する。ステップS24において測定方法の変更が指示された場合には、PC900は、変更後の測定方法における測定処理をシミュレーションする(ステップS25)。また、表示処理部240は、シミュレーションの結果を設定シミュレータ画面600に表示する(ステップS26)。
その後、PC900は、測定方法の変更の終了が指示されたか否かを判定する(ステップS27)。使用者は、設定シミュレータ画面600の図示しない終了ボタンを操作することにより、測定方法の変更の終了を指示することができる。ステップS27において測定方法の変更の終了が指示されていない場合には、PC900は、測定方法の変更が再度指示されたか否かを判定する(ステップS28)。使用者は、設定シミュレータ画面600の設定変更ボタン601を操作することにより、測定方法の変更を再度指示することができる。
ステップS28において測定方法の変更が再度指示された場合には、PC900はステップS25の処理に戻る。ステップS28において測定方法の変更が再度指示されていない場合には、PC900はステップS27の処理に戻る。測定方法の変更の終了が指示されるまでステップS25〜S28の処理が繰り返される。ステップS27において測定方法の変更の終了が指示された場合には、PC900は測定シミュレーション処理を終了する。
(5)効果
本実施の形態に係る光学式変位計側システム1においては、プロファイル形状に関する測定結果の測定方法が測定処理部231に設定される。受光部120により生成された撮像距離画像データに基づいて、プロファイル形状を示すプロファイルデータがプロファイル生成部222により生成される。生成されたプロファイルデータに基づいて、測定結果が測定処理部231により算出される。
複数回のプロファイル形状の検出において複数のプロファイルデータがプロファイル生成部222により生成される。生成された複数のプロファイルデータの時間的変化を表す距離画像が距離画像生成部232により生成される。生成された距離画像が設定シミュレータ画面600の距離画像表示欄621に表示される。使用者は、距離画像表示欄621に表示された距離画像を観測することにより、設定された測定方法が適切であるかどうかを視覚的に確認することができる。
設定された測定方法が適切でない場合には、距離画像表示欄621に表示された距離画像上で複数のプロファイルデータのいずれかを選択することができる。選択されたプロファイルデータに基づいてプロファイル形状が設定変更画面300Aの画像表示欄321に表示される。ここで、使用者は、設定変更画面300Aの設定入力欄322を操作することにより、設定された測定方法を変更することができる。測定方法が変更された場合に、複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータに基づいて、変更後の測定方法により複数のプロファイルデータについての測定結果がシミュレーション部936により算出される。これにより、測定方法を事後的に変更するとともに変更された測定方法による複数の測定結果を取得することができる。
[4]他の実施の形態
(1)上記実施の形態の撮像設定においては、使用者が状態を変更すべき撮像パラメータを選択するとともに変更すべき複数の状態を指定するが、本発明はこれに限定されない。撮像パラメータごとに変更すべき複数の状態が予め設定されている場合には、使用者は、選択した撮像パラメータについて、変更すべき複数の状態を指定しなくてもよい。
また、状態を変更すべき撮像パラメータが予め設定されている場合には、使用者は、状態を変更すべき撮像パラメータを選択しなくてもよい。そのため、例えば、受光素子121の露光時間のように探索される頻度が高い撮像パラメータは、状態を変更すべき撮像パラメータとして予め設定されていてもよい。これにより、短時間で最適な撮像条件を設定することができる。
(2)上記実施の形態の撮像設定においては、図16に示すように、信頼度に対応する指標が撮像条件最適化画面400に表示されることが好ましいが、本発明はこれに限定されない。信頼度に対応する指標は、撮像条件最適化画面400に表示されなくてもよい。
また、複数の指標および複数のプロファイル形状は、信頼度の降順または昇順に表示されることが好ましいが、本発明はこれに限定されない。複数の指標および複数のプロファイル形状は、取得された順序で表示されてもよいし、他の順序で表示されてもよい。
(3)上記実施の形態の撮像設定においては、カスタム探索画面500には、受光感度、露光時間、ピーク検出感度、ピーク位置を選択する方式、ピーク幅フィルタおよび撮像モードを選択するためのチェックボックスが表示されるが、本発明はこれに限定されない。カスタム探索画面500には、任意の撮像パラメータを選択するためのチェックボックスが表示されてもよい。
(4)上記実施の形態の撮像設定においては、信頼度算出部934により算出された信頼度に対応する指標を表示するためのスコア表示欄411cが撮像条件最適化画面400に設けられるが、本発明はこれに限定されない。PC900が最も高い信頼度を有する撮像条件を最も好ましい撮像条件として選択する場合には、使用者は指標を視認する必要がないので、スコア表示欄411cは撮像条件最適化画面400に設けられなくてもよい。
(5)上記実施の形態の測定設定においては、距離画像生成部232は複数のプロファイルデータの識別子と複数の測定結果との関係を表示するための距離画像データを生成するが、本発明はこれに限定されない。距離画像生成部232は、複数のプロファイルデータの時間的変化を表す他の画像を表示するための画像データを生成してもよい。
(6)上記実施の形態の測定設定の補正処理においては、マスタプロファイル形状MPが他のプロファイル形状PRに一致するように移動することにより、プロファイル形状PRに対する測定範囲およびマスク範囲の相対的な位置が補正されるが、本発明はこれに限定されない。他のプロファイル形状PRがマスタプロファイル形状MPに一致するように移動することにより、プロファイル形状PRに対する測定範囲およびマスク範囲の相対的な位置が補正されてもよい。
[5]請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各部との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
上記実施の形態においては、ワークWが測定対象物の例であり、投光部110が投光部の例であり、受光部120が受光部の例であり、光学式変位計側システム1が光学式変位計側システムの例である。測定処理部231が測定方法設定部および情報算出部の例であり、プロファイル生成部222がプロファイル生成部の例であり、距離画像生成部232が画像生成部の例である。
距離画像表示欄621が第1の表示部の例であり、画像表示欄321またはプロファイル形状表示欄631が第2および第4の表示部の例であり、トレンドグラフ表示欄622が第3の表示部の例である。抽出部935が選択部の例であり、シミュレーション部936が測定方法変更部および情報更新部の例であり、操作部2が操作部の例であり、処理装置200およびPC900が処理装置の例である。
請求項の各構成要素として、上記実施の形態に記載された構成要素の他、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の構成要素を用いることもできる。
本発明は、光学式変位計側システムの測定方法を事後的に変更するために有効に利用することができる。
1 光学式変位計側システム
3 表示部
100 撮像ヘッド
110 投光部
120 受光部
121 受光素子
122 受光レンズ
200 処理装置
210 撮像制御部
211 投光制御部
212 受光制御部
220 データ処理部
221 ピーク検出部
222 プロファイル生成部
230 測定制御部
231 測定処理部
232 距離画像生成部
240 表示処理部
250 入力受付部
251 撮像受付部
252 測定受付部
260,920 記憶部
300 設定編集画面
300A 設定変更画面
310 共通表示欄
311 撮像設定欄
311a トリガ設定ボタン
311b 撮像設定ボタン
311c プロファイルボタン
312 測定設定欄
312a マスタ登録ボタン
312b 位置補正ボタン
312c プロファイルマスクボタン
312d OUT測定設定ボタン
313 出力設定欄
313a 端子/ストレージボタン
314 ファイル保存ボタン
315 サンプリング周波数表示欄
316 処理時間表示欄
317 完了ボタン
317A 実行ボタン
320 個別表示欄
321 画像表示欄
322 設定入力欄
323 画像更新ボタン
324 プロファイル更新ボタン
325 プロファイル選択ボタン
330 パラメータ詳細入力欄
330a 設定最適ボタン
330b やり直しボタン
331,338 受光特性欄
331a 受光感度特性プルダウンメニュー
332 光量設定欄
332a 露光時間プルダウンメニュー
332b 光量設定ボタン
332c 光量制御欄
333 ピーク時処理欄
333a ピーク検出感度プルダウンメニュー
333b 無効データ補間点数入力欄
334 複数ピーク処理欄
334a ピーク選択プルダウンメニュー
334b,334c ピーク幅フィルタチェックボックス
335 撮像モード欄
335a 撮像モードプルダウンメニュー
336 画像マスク欄
336a 画像マスクボタン
336b 画像マスク表示欄
337 測定範囲欄
337a X方向プルダウンメニュー
337b Z方向プルダウンメニュー
338a ビニングプルダウンメニュー
340 マスタプロファイル登録欄
341 登録ボタン
350 測定対象表示欄
350a,370a,380a,424 確定ボタン
351 測定対象入力欄
351a 対象ヘッドプルダウンメニュー
351b 測定対象設定欄
351c 測定対象設定ボタン
352 測定範囲入力欄
352a,371a 左端入力欄
352b,371b 右端入力欄
353 測定結果出力欄
353a〜353c 測定結果表示欄
360 プロファイル詳細設定欄
360a 標準設定へボタン
361 空間フィルタ設定欄
361a スムージングプルダウンメニュー
361b メディアンプルダウンメニュー
370 X補正欄
371 エッジ測定エリア欄
371c エッジレベル入力欄
372 エッジ測定詳細欄
372a エッジ方向プルダウンメニュー
372b 検出方向プルダウンメニュー
372c 検出No.プルダウンメニュー
380 プロファイルマスク設定欄
381 マスクエリア欄
381a マスクエリア一覧表
382 マスクエリア詳細欄
382a エリア表示欄
382b 形状表示欄
383 エリア設定欄
383a 左上X座標入力欄
383b 左上Z座標入力欄
383c 右下X座標入力欄
383d 右下Z座標入力欄
384 位置補正選択欄
384a 位置補正選択プルダウンメニュー
400 撮像条件最適化画面
410 結果表示領域
411 結果表示欄
411a,421 撮像画像表示欄
411b,422,631 プロファイル形状表示欄
411c スコア表示欄
412 カスタム探索ボタン
413 オプティマイズボタン
420 選択画像表示領域
423 連続更新ボタン
500 カスタム探索画面
501 実行パターン数表示欄
502 探索実行ボタン
510〜514 受光感度特性チェックボックス
520〜529,52A 露光時間チェックボックス
530〜535 ピーク検出感度チェックボックス
540〜546 ピーク選択チェックボックス
550 ピーク幅フィルタチェックボックス
560〜565 撮像モードチェックボックス
600 設定シミュレータ画面
601 設定変更ボタン
610 測定エリア表示領域
620 測定結果表示領域
621,711 距離画像表示欄
621a 全体画像表示欄
621b 部分画像表示欄
621c カーソル
622 トレンドグラフ表示欄
622m マーカ
630,720 選択結果表示領域
632 選択結果表示欄
700 シミュレート対象データ選択画面
701 OKボタン
710 距離画像表示領域
900 PC
910 操作部
930 制御部
931 撮像設定部
932 測定設定部
933 処理間算出部
934 信頼度算出部
935 抽出部
936 シミュレーション部
M1 測定範囲表示指標
M2 補正範囲表示指標
M3 マスク範囲表示指標
ME,PE エッジ
ML,PL エッジレベル
MP マスタプロファイル形状
NP ノイズ部
P1 ピーク
PP ピーク位置
PR プロファイル形状
R1 受光領域
SS 画素列
W ワーク
本発明は、光学式変位計測システム、測定シミュレーション方法および測定シミュレーションプログラムに関する。
測定対象物(以下、ワークと呼ぶ。)の形状を測定するために、三角測距方式の光学式変位計測システムが用いられることがある。このような光学式変位計測システムにおいては、最初にワークが撮像される。撮像により生成されたワークの画像データに基づいて、ワークのプロファイル形状(輪郭形状)が測定される(例えば特許文献1参照)。
特許文献1に記載された光切断方式の光学式変位計測システムにおいては、線状の断面を有する帯状の光がワークの表面に照射され、その反射光が2次元の受光素子で受光されることにより撮像が行なわれる。受光素子により得られる画素ごとの受光量に基づいて、画像データが生成される。画像データにおける受光量分布のピーク位置に基づいて、ワークのプロファイル形状を示すプロファイルデータが算出される。算出されたプロファイルデータを用いてワークの形状が測定される。
本発明の目的は、測定方法を事後的に変更することが可能な光学式変位計測システム、測定シミュレーション方法および測定シミュレーションプログラムを提供することである。
(1)第1の発明に係る光学式変位計測システムは、一方向に沿って光を測定対象物に照射する投光部と、測定対象物からの反射光を受光し、受光量に基づいて測定対象物の画像を示す撮像画像データを生成する受光部とを備え、三角測距方式により測定対象物のプロファイル形状を検出するとともにプロファイル形状に関する測定結果を算出する光切断方式の光学式変位計測システムであって、測定結果の測定方法を設定するための測定方法設定部と、受光部により生成された撮像画像データに基づいて、プロファイル形状を示すプロファイルデータを生成するプロファイル生成部と、プロファイル生成部により生成されたプロファイルデータに基づいて、設定された測定方法により測定結果を算出する情報
算出部と、複数回のプロファイル形状の検出においてプロファイル生成部により生成された複数のプロファイルデータの時間的変化を表す画像を生成する画像生成部と、画像生成部により生成された画像を表示する第1の表示部と、第1の表示部により表示された画像上で複数のプロファイルデータのいずれかを選択するための選択部と、選択部により選択されたプロファイルデータに基づいてプロファイル形状を表示する第2の表示部と、測定方法設定部により設定された測定方法を変更する測定方法変更部と、測定方法変更部により測定方法が変更された場合に、複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータに基づいて、測定方法変更部による変更後の測定方法により複数のプロファイルデータについての測定結果を算出する情報更新部とを備える。
この光学式変位計測システムにおいては、測定結果の測定方法が設定される。受光部により生成された撮像画像データに基づいて、プロファイル形状を示すプロファイルデータが生成される。生成されたプロファイルデータに基づいて、設定された測定方法により測定結果が算出される。複数回のプロファイル形状の検出において複数のプロファイルデータが生成され、生成された複数のプロファイルデータの時間的変化を表す画像が生成される。生成された画像が第1の表示部に表示される。使用者は、第1の表示部に表示された画像を観測することにより、設定された測定方法が適切であるかどうかを視覚的に確認することができる。
(2)光学式変位計測システムは、複数回のプロファイル形状の検出において情報算出部により算出された複数の測定結果の時間的変化をトレンドグラフとして表示する第3の表示部をさらに備えてもよい。
(3)光学式変位計測システムは、測定結果についての検索条件を指定するために使用者により操作される操作部をさらに備え、第3の表示部は、トレンドグラフにおいて、操作部により指定された検索条件を満たす測定結果に対応する部分を識別可能に表示してもよい。
(4)操作部は、第3の表示部により表示されたトレンドグラフの部分を指定するために使用者により操作され、光学式変位計測システムは、操作部により指定されたトレンドグラフの部分に対応するプロファイル形状を表示する第4の表示部をさらに備えてもよい。
(13)第2の発明に係る測定シミュレーション方法は、一方向に沿って光を測定対象物に照射する投光部と、測定対象物からの反射光を受光し、受光量に基づいて測定対象物の画像を示す撮像画像データを生成する受光部とを備え、三角測距方式により測定対象物のプロファイル形状を検出するとともにプロファイル形状に関する測定結果を算出する光切断方式の光学式変位計測システムの測定シミュレーション方法であって、測定結果の測定方法を設定するステップと、受光部により生成された撮像画像データに基づいて、プロファイル形状を示すプロファイルデータを生成するステップと、生成されたプロファイルデータに基づいて、設定された測定方法により測定結果を算出するステップと、複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータの時間的変化を表す画像を生成するステップと、画像生成部により生成された画像を第1の表示部に表示するステップと、第1の表示部により表示された画像上で複数のプロファイルデータのいずれかを選択するステップと、選択されたプロファイルデータに基づいてプロファイル形状を第2の表示部に表示するステップと、測定方法設定部により設定された測定方法を変更するステップと、測定方法が変更された場合に、複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータに基づいて、変更後の測定方法により複数のプロファイルデータについての測定結果を算出するステップとを含む。
(14)第3の発明に係る測定シミュレーションプログラムは、一方向に沿って光を測定対象物に照射する投光部と、測定対象物からの反射光を受光し、受光量に基づいて測定対象物の画像を示す撮像画像データを生成する受光部とを備え、三角測距方式により測定対象物のプロファイル形状を検出するとともにプロファイル形状に関する測定結果を算出する光切断方式の光学式変位計測システムの測定シミュレーションを処理装置に実行させる測定シミュレーションプログラムであって、測定結果の測定方法を設定する処理と、受光部により生成された撮像画像データに基づいて、プロファイル形状を示すプロファイルデータを生成する処理と、生成されたプロファイルデータに基づいて、設定された測定方法により測定結果を算出する処理と、複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータの時間的変化を表す画像を生成する処理と、画像生成部により生成された画像を第1の表示部に表示する処理と、第1の表示部により表示された画像上で複数のプロファイルデータのいずれかを選択する処理と、選択されたプロファイルデータに基づいてプロファイル形状を第2の表示部に表示する処理と、測定方法設定部により設定された測定方法を変更する処理と、測定方法が変更された場合に、複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータに基づいて、変更後の測定方法により複数のプロファイルデータについての測定結果を算出する処理とを、処理装置に実行させる。
本発明によれば、光学式変位計測システムの測定方法を事後的に変更することができる。
本発明の一実施の形態に係る光学式変位計測システムの構成を示すブロック図である。 図1の光学式変位計測システムの処理装置の構成を示すブロック図である。 撮像ヘッドおよびワークの外観斜視図である。 ワークの表面における光の照射位置と受光素子における光の入射位置との関係を示す図である。 ワークの表面における光の照射位置と受光素子における光の入射位置との関係を示す図である。 受光素子の受光面における受光量分布を示す図である。 図6の1つの画素列における受光量分布を示す図である。 プロファイルデータを示す図である。 プロファイルデータに基づく表示部の一表示例である。 測定手順を示すフローチャートである。 測定手順を示すフローチャートである。 表示部に表示される設定編集画面を示す図である。 パラメータ詳細入力欄の一例を示す図である。 パラメータ詳細入力欄の他の例を示す図である。 表示部に表示されるカスタム探索画面を示す図である。 表示部に表示される撮像条件最適化画面を示す図である。 撮像条件最適化処理を示すフローチャートである。 撮像条件最適化処理を示すフローチャートである。 マスタ登録ボタンが操作されたときの設定編集画面を示す図である。 高さ測定モードが選択されたときの設定編集画面を示す図である。 角度測定モードが選択されたときの設定編集画面を示す図である。 図19の設定入力欄に表示される測定対象表示欄を示す図である。 プロファイル詳細設定欄を示す図である。 マスタプロファイル形状およびプロファイル形状が表示された表示部を示す図である。 X補正モードが選択されたときの設定編集画面を示す図である。 プロファイルマスクボタンが操作されたときの設定編集画面を示す図である。 図24の設定入力欄に表示されるプロファイルマスク設定欄を示す図である。 表示部に表示される設定シミュレータ画面を示す図である。 表示部に表示される設定変更画面を示す図である。 測定方法の変更についての他の例を説明するための図である。 測定方法の変更についての他の例を説明するための図である。 表示部に表示されるシミュレート対象データ選択画面を示す図である。 測定シミュレーション処理を示すフローチャートである。 測定シミュレーション処理を示すフローチャートである。
以下、本発明の一実施の形態に係る光学式変位計測システムとして、光切断方式の光学式変位計測システムについて図面を参照しながら説明する。
[1]光学式変位計測システム
(1)光学式変位計測システムの構成
図1は、本発明の一実施の形態に係る光学式変位計測システムの構成を示すブロック図である。図2は、図1の光学式変位計測システム1の処理装置200の構成を示すブロック図である。図1に示すように、光学式変位計測システム1は、表示部3、撮像ヘッド100、処理装置200およびPC(パーソナルコンピュータ)900を備える。表示部3は、例えば液晶ディスプレイパネルまたは有機EL(エレクトロルミネッセンス)パネルにより構成される。
記憶部920には、後述する撮像条件最適化処理を実行するための撮像条件最適化プログラムおよび後述する測定シミュレーション処理を実行するための測定シミュレーションプログラムが記憶される。また、記憶部920には、光学式変位計測システム1の動作に関する種々の情報が記憶される。
[2]撮像設定
(1)撮像設定の手順
光学式変位計測システム1は、例えばベルトコンベアにより一定速度で運搬される同一種類の複数のワークWについて、共通部分の寸法(変位)を一定の周期で順次測定するために用いられる。このような用途においては、ワークの正確なプロファイル形状を取得するために、ワークの種類に応じて撮像設定を最適に行なう必要がある。
(5)効果
本実施の形態に係る光学式変位計測システム1においては、撮像条件を設定するための複数の撮像パラメータの状態が撮像設定部931により設定される。設定された複数の撮像パラメータのいずれかの状態が変更されることにより、複数の撮像条件にそれぞれ対応する複数の撮像画像データが受光部120により生成される。
また、PC900とは異なる他のパーソナルコンピュータに測定シミュレーションプログラムがインストールされている場合には、当該他のパーソナルコンピュータを用いて測定シミュレーション処理を実行することができる。そのため、使用者は、光学式変位計測システム1が設置される環境とは異なる環境においても、測定シミュレーション処理を実行することができる。そのため、使用者は、光学式変位計測システム1が設置される環境とは異なる環境においても、測定シミュレーション処理を実行することにより、変更された測定方法による測定結果を取得することができる。
(3)測定方法の変更
(a)距離画像
上記の測定設定が行なわれた後、同一種類の複数のワークWの測定が順次行なわれる。ここで、ワークWの測定の途中または終了後に測定方法が適切ではなかったことが判明する場合がある。このような場合、従来の光学式変位計測システムにおいては、測定時の状況を再現し、測定設定を再度行なった後、ワークWの再測定および測定結果の再確認を行なう必要がある。しかしながら、測定時の状況を正確に再現できるとは限らない。仮に測定時の状況を正確に再現できたとしても、測定方法を最適にするために、試行錯誤しつつ測定方法の変更およびワークWの測定を繰り返す必要がある。そのため、使用者の負担が増加する。
(5)効果
本実施の形態に係る光学式変位計測システム1においては、プロファイル形状に関する測定結果の測定方法が測定処理部231に設定される。受光部120により生成された撮像距離画像データに基づいて、プロファイル形状を示すプロファイルデータがプロファイル生成部222により生成される。生成されたプロファイルデータに基づいて、測定結果が測定処理部231により算出される。
上記実施の形態においては、ワークWが測定対象物の例であり、投光部110が投光部の例であり、受光部120が受光部の例であり、光学式変位計測システム1が光学式変位計測システムの例である。測定処理部231が測定方法設定部および情報算出部の例であり、プロファイル生成部222がプロファイル生成部の例であり、距離画像生成部232が画像生成部の例である。
本発明は、光学式変位計測システムの測定方法を事後的に変更するために有効に利用することができる。
1 光学式変位計測システム
3 表示部
100 撮像ヘッド
110 投光部
120 受光部
121 受光素子
122 受光レンズ
200 処理装置
210 撮像制御部
211 投光制御部
212 受光制御部
220 データ処理部
221 ピーク検出部
222 プロファイル生成部
230 測定制御部
231 測定処理部
232 距離画像生成部
240 表示処理部
250 入力受付部
251 撮像受付部
252 測定受付部
260,920 記憶部
300 設定編集画面
300A 設定変更画面
310 共通表示欄
311 撮像設定欄
311a トリガ設定ボタン
311b 撮像設定ボタン
311c プロファイルボタン
312 測定設定欄
312a マスタ登録ボタン
312b 位置補正ボタン
312c プロファイルマスクボタン
312d OUT測定設定ボタン
313 出力設定欄
313a 端子/ストレージボタン
314 ファイル保存ボタン
315 サンプリング周波数表示欄
316 処理時間表示欄
317 完了ボタン
317A 実行ボタン
320 個別表示欄
321 画像表示欄
322 設定入力欄
323 画像更新ボタン
324 プロファイル更新ボタン
325 プロファイル選択ボタン
330 パラメータ詳細入力欄
330a 設定最適ボタン
330b やり直しボタン
331,338 受光特性欄
331a 受光感度特性プルダウンメニュー
332 光量設定欄
332a 露光時間プルダウンメニュー
332b 光量設定ボタン
332c 光量制御欄
333 ピーク時処理欄
333a ピーク検出感度プルダウンメニュー
333b 無効データ補間点数入力欄
334 複数ピーク処理欄
334a ピーク選択プルダウンメニュー
334b,334c ピーク幅フィルタチェックボックス
335 撮像モード欄
335a 撮像モードプルダウンメニュー
336 画像マスク欄
336a 画像マスクボタン
336b 画像マスク表示欄
337 測定範囲欄
337a X方向プルダウンメニュー
337b Z方向プルダウンメニュー
338a ビニングプルダウンメニュー
340 マスタプロファイル登録欄
341 登録ボタン
350 測定対象表示欄
350a,370a,380a,424 確定ボタン
351 測定対象入力欄
351a 対象ヘッドプルダウンメニュー
351b 測定対象設定欄
351c 測定対象設定ボタン
352 測定範囲入力欄
352a,371a 左端入力欄
352b,371b 右端入力欄
353 測定結果出力欄
353a〜353c 測定結果表示欄
360 プロファイル詳細設定欄
360a 標準設定へボタン
361 空間フィルタ設定欄
361a スムージングプルダウンメニュー
361b メディアンプルダウンメニュー
370 X補正欄
371 エッジ測定エリア欄
371c エッジレベル入力欄
372 エッジ測定詳細欄
372a エッジ方向プルダウンメニュー
372b 検出方向プルダウンメニュー
372c 検出No.プルダウンメニュー
380 プロファイルマスク設定欄
381 マスクエリア欄
381a マスクエリア一覧表
382 マスクエリア詳細欄
382a エリア表示欄
382b 形状表示欄
383 エリア設定欄
383a 左上X座標入力欄
383b 左上Z座標入力欄
383c 右下X座標入力欄
383d 右下Z座標入力欄
384 位置補正選択欄
384a 位置補正選択プルダウンメニュー
400 撮像条件最適化画面
410 結果表示領域
411 結果表示欄
411a,421 撮像画像表示欄
411b,422,631 プロファイル形状表示欄
411c スコア表示欄
412 カスタム探索ボタン
413 オプティマイズボタン
420 選択画像表示領域
423 連続更新ボタン
500 カスタム探索画面
501 実行パターン数表示欄
502 探索実行ボタン
510〜514 受光感度特性チェックボックス
520〜529,52A 露光時間チェックボックス
530〜535 ピーク検出感度チェックボックス
540〜546 ピーク選択チェックボックス
550 ピーク幅フィルタチェックボックス
560〜565 撮像モードチェックボックス
600 設定シミュレータ画面
601 設定変更ボタン
610 測定エリア表示領域
620 測定結果表示領域
621,711 距離画像表示欄
621a 全体画像表示欄
621b 部分画像表示欄
621c カーソル
622 トレンドグラフ表示欄
622m マーカ
630,720 選択結果表示領域
632 選択結果表示欄
700 シミュレート対象データ選択画面
701 OKボタン
710 距離画像表示領域
900 PC
910 操作部
930 制御部
931 撮像設定部
932 測定設定部
933 処理間算出部
934 信頼度算出部
935 抽出部
936 シミュレーション部
M1 測定範囲表示指標
M2 補正範囲表示指標
M3 マスク範囲表示指標
ME,PE エッジ
ML,PL エッジレベル
MP マスタプロファイル形状
NP ノイズ部
P1 ピーク
PP ピーク位置
PR プロファイル形状
R1 受光領域
SS 画素列
W ワーク

Claims (14)

  1. 一方向に沿って光を測定対象物に照射する投光部と、測定対象物からの反射光を受光し、受光量に基づいて測定対象物の画像を示す撮像画像データを生成する受光部とを備え、三角測距方式により測定対象物のプロファイル形状を検出するとともに前記プロファイル形状に関する測定結果を算出する光切断方式の光学式変位計側システムであって、
    前記測定結果の測定方法を設定するための測定方法設定部と、
    前記受光部により生成された撮像画像データに基づいて、前記プロファイル形状を示すプロファイルデータを生成するプロファイル生成部と、
    前記プロファイル生成部により生成されたプロファイルデータに基づいて、前記設定された測定方法により前記測定結果を算出する情報算出部と、
    複数回のプロファイル形状の検出において前記プロファイル生成部により生成された複数のプロファイルデータの時間的変化を表す画像を生成する画像生成部と、
    前記画像生成部により生成された画像を表示する第1の表示部と、
    前記第1の表示部により表示された画像上で前記複数のプロファイルデータのいずれかを選択するための選択部と、
    前記選択部により選択されたプロファイルデータに基づいてプロファイル形状を表示する第2の表示部と、
    前記測定方法設定部により設定された測定方法を変更する測定方法変更部と、
    前記測定方法変更部により測定方法が変更された場合に、前記複数回のプロファイル形状の検出において生成された前記複数のプロファイルデータに基づいて、前記測定方法変更部による変更後の測定方法により前記複数のプロファイルデータについての前記測定結果を算出する情報更新部とを備える、光学式変位計側システム。
  2. 前記複数回のプロファイル形状の検出において前記情報算出部により算出された複数の測定結果の時間的変化をトレンドグラフとして表示する第3の表示部をさらに備える、請求項1記載の光学式変位計側システム。
  3. 測定結果についての検索条件を指定するために使用者により操作される操作部をさらに備え、
    前記第3の表示部は、前記トレンドグラフにおいて、前記操作部により指定された検索条件を満たす測定結果に対応する部分を識別可能に表示する、請求項2記載の光学式変位計側システム。
  4. 前記操作部は、前記第3の表示部により表示された前記トレンドグラフの部分を指定するために使用者により操作され、
    前記光学式変位計側システムは、
    前記操作部により指定された前記トレンドグラフの部分に対応するプロファイル形状を表示する第4の表示部をさらに備える、請求項3記載の光学式変位計側システム。
  5. 前記検索条件は、前記情報算出部により算出された測定結果の良否を判定するための判定基準を含む、請求項3または4記載の光学式変位計側システム。
  6. 前記測定方法変更部による変更後の測定方法は、前記プロファイル生成部により生成されたプロファイルデータに対して予め定められた処理を行うことを含み、
    前記情報更新部は、前記複数回のプロファイル形状の検出において生成された前記複数のプロファイルデータに前記予め定められた処理を行い、前記測定方法変更部による変更後の測定方法により前記処理が行われた複数のプロファイルデータについて前記測定結果を算出する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の光学式変位計側システム。
  7. 前記予め定められた処理はフィルタ処理を含む、請求項6記載の光学式変位計側システム。
  8. 前記測定方法変更部による変更後の測定方法は、前記プロファイル形状の測定部分を指定することを含み、
    前記情報更新部は、前記複数のプロファイルデータにおける前記測定部分に対応する部分に基づいて前記測定結果を算出する、請求項1〜7のいずれか一項に記載の光学式変位計側システム。
  9. 前記測定方法変更部による変更後の測定方法は、前記プロファイル形状の非測定部分を指定することをさらに含み、
    前記情報更新部は、前記複数のプロファイルデータにおける前記測定部分に対応する部分のうち前記非測定部分に対応する部分を除く部分に基づいて前記測定結果を算出する、請求項8記載の光学式変位計側システム。
  10. 前記測定方法変更部による変更後の測定方法は、前記第2の表示部により表示されたプロファイル形状に補正基準位置を設定することをさらに含み、
    前記情報更新部は、前記複数回のプロファイル形状の検出において生成された前記複数のプロファイルデータの位置を補正基準位置に対して相対的に補正し、補正後の複数のプロファイルデータに基づいて前記測定結果を算出する、請求項8または9記載の光学式変位計側システム。
  11. 前記測定方法変更部による変更前および変更後の測定方法は、プロファイル形状に設定された測定部分についての測定内容を指示することをさらに含む、請求項8〜10のいずれか一項に記載の光学式変位計側システム。
  12. 前記測定内容は、測定部分の位置もしくは角度の測定、または測定された位置もしくは角度を用いた演算結果を含む、請求項11記載の光学式変位計側システム。
  13. 一方向に沿って光を測定対象物に照射する投光部と、測定対象物からの反射光を受光し、受光量に基づいて測定対象物の画像を示す撮像画像データを生成する受光部とを備え、三角測距方式により測定対象物のプロファイル形状を検出するとともに前記プロファイル形状に関する測定結果を算出する光切断方式の光学式変位計側システムの測定シミュレーション方法であって、
    前記測定結果の測定方法を設定するステップと、
    前記受光部により生成された撮像画像データに基づいて、前記プロファイル形状を示すプロファイルデータを生成するステップと、
    生成されたプロファイルデータに基づいて、前記設定された測定方法により前記測定結果を算出するステップと、
    複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータの時間的変化を表す画像を生成するステップと、
    前記画像生成部により生成された画像を第1の表示部に表示するステップと、
    前記第1の表示部により表示された画像上で前記複数のプロファイルデータのいずれかを選択するステップと、
    選択されたプロファイルデータに基づいてプロファイル形状を第2の表示部に表示するステップと、
    前記測定方法設定部により設定された測定方法を変更するステップと、
    測定方法が変更された場合に、前記複数回のプロファイル形状の検出において生成された前記複数のプロファイルデータに基づいて、変更後の測定方法により前記複数のプロファイルデータについての前記測定結果を算出するステップとを含む、測定シミュレーション方法。
  14. 一方向に沿って光を測定対象物に照射する投光部と、測定対象物からの反射光を受光し、受光量に基づいて測定対象物の画像を示す撮像画像データを生成する受光部とを備え、三角測距方式により測定対象物のプロファイル形状を検出するとともに前記プロファイル形状に関する測定結果を算出する光切断方式の光学式変位計側システムの測定シミュレーションを処理装置に実行させる測定シミュレーションプログラムであって、
    前記測定結果の測定方法を設定する処理と、
    前記受光部により生成された撮像画像データに基づいて、前記プロファイル形状を示すプロファイルデータを生成する処理と、
    生成されたプロファイルデータに基づいて、前記設定された測定方法により前記測定結果を算出する処理と、
    複数回のプロファイル形状の検出において生成された複数のプロファイルデータの時間的変化を表す画像を生成する処理と、
    前記画像生成部により生成された画像を第1の表示部に表示する処理と、
    前記第1の表示部により表示された画像上で前記複数のプロファイルデータのいずれかを選択する処理と、
    選択されたプロファイルデータに基づいてプロファイル形状を第2の表示部に表示する処理と、
    前記測定方法設定部により設定された測定方法を変更する処理と、
    測定方法が変更された場合に、前記複数回のプロファイル形状の検出において生成された前記複数のプロファイルデータに基づいて、変更後の測定方法により前記複数のプロファイルデータについての前記測定結果を算出する処理とを、
    前記処理装置に実行させる、測定シミュレーションプログラム。
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018151209A (ja) * 2017-03-10 2018-09-27 株式会社ミツトヨ 光学式変位計、光学式変位計の調整方法および光学式変位測定方法
JP2020027053A (ja) * 2018-08-13 2020-02-20 株式会社キーエンス 光学式変位計
JP2020027055A (ja) * 2018-08-13 2020-02-20 株式会社キーエンス 光学式変位計
JP2020144102A (ja) * 2019-03-04 2020-09-10 東京エレクトロン株式会社 基板検査装置、基板処理装置、基板検査方法、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体
CN111854630A (zh) * 2019-04-26 2020-10-30 株式会社基恩士 光学位移计
JP7554061B2 (ja) 2020-06-04 2024-09-19 株式会社ミツトヨ 三次元測定機、形状測定方法およびデータ処理装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002286422A (ja) * 2001-03-25 2002-10-03 Omron Corp 変位センサ
JP2008096118A (ja) * 2006-10-05 2008-04-24 Keyence Corp 光学式変位計、光学式変位測定方法、光学式変位測定プログラム及びコンピュータで読み取り可能な記録媒体並びに記録した機器
JP2010107789A (ja) * 2008-10-31 2010-05-13 Olympus Corp 共焦点顕微鏡システム
JP2015021759A (ja) * 2013-07-16 2015-02-02 株式会社キーエンス 三次元画像処理装置、三次元画像処理装置用ヘッド部及び三次元画像処理方法
JP2015031540A (ja) * 2013-07-31 2015-02-16 株式会社キーエンス 画像処理装置、画像処理システム、検査方法およびプログラム

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002286422A (ja) * 2001-03-25 2002-10-03 Omron Corp 変位センサ
JP2008096118A (ja) * 2006-10-05 2008-04-24 Keyence Corp 光学式変位計、光学式変位測定方法、光学式変位測定プログラム及びコンピュータで読み取り可能な記録媒体並びに記録した機器
JP2010107789A (ja) * 2008-10-31 2010-05-13 Olympus Corp 共焦点顕微鏡システム
JP2015021759A (ja) * 2013-07-16 2015-02-02 株式会社キーエンス 三次元画像処理装置、三次元画像処理装置用ヘッド部及び三次元画像処理方法
JP2015031540A (ja) * 2013-07-31 2015-02-16 株式会社キーエンス 画像処理装置、画像処理システム、検査方法およびプログラム

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7057067B2 (ja) 2017-03-10 2022-04-19 株式会社ミツトヨ 光学式変位計、光学式変位計の調整方法および光学式変位測定方法
JP2018151209A (ja) * 2017-03-10 2018-09-27 株式会社ミツトヨ 光学式変位計、光学式変位計の調整方法および光学式変位測定方法
JP7117189B2 (ja) 2018-08-13 2022-08-12 株式会社キーエンス 光学式変位計
CN110823125A (zh) * 2018-08-13 2020-02-21 株式会社基恩士 光学位移计
JP2020027055A (ja) * 2018-08-13 2020-02-20 株式会社キーエンス 光学式変位計
JP7064404B2 (ja) 2018-08-13 2022-05-10 株式会社キーエンス 光学式変位計
JP2020027053A (ja) * 2018-08-13 2020-02-20 株式会社キーエンス 光学式変位計
JP2020144102A (ja) * 2019-03-04 2020-09-10 東京エレクトロン株式会社 基板検査装置、基板処理装置、基板検査方法、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体
JP7379104B2 (ja) 2019-03-04 2023-11-14 東京エレクトロン株式会社 基板検査装置、基板処理装置、基板検査方法、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体
US11823922B2 (en) 2019-03-04 2023-11-21 Tokyo Electron Limited Substrate inspection apparatus, substrate processing apparatus, substrate inspection method, and computer-readable recording medium
TWI845613B (zh) * 2019-03-04 2024-06-21 日商東京威力科創股份有限公司 基板檢查裝置、基板處理裝置、基板檢查方法、及電腦可讀取記錄媒體
CN111854630A (zh) * 2019-04-26 2020-10-30 株式会社基恩士 光学位移计
JP2020180916A (ja) * 2019-04-26 2020-11-05 株式会社キーエンス 光学式変位計
JP7319083B2 (ja) 2019-04-26 2023-08-01 株式会社キーエンス 光学式変位計
JP7554061B2 (ja) 2020-06-04 2024-09-19 株式会社ミツトヨ 三次元測定機、形状測定方法およびデータ処理装置

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