JP2016151463A - テラヘルツ波計測装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】テラヘルツ波計測装置(100)は、テラヘルツ波(THz)を発生する発生手段(110)と、発生手段が発生させたテラヘルツ波を計測対象物(10)に向けて反射する反射面(171)を備える第1光学手段(170)と、反射面から所定距離だけ離れた位置において反射面の少なくとも一部に対向し、反射面を透過したテラヘルツ波である透過光が第1光学手段に向かって伝搬することを防止する第2光学手段(180)とを備える
【選択図】図1
Description
本実施形態のテラヘルツ波計測装置は、テラヘルツ波を発生する発生手段と、前記発生手段が発生させた前記テラヘルツ波を計測対象物に向けて反射する反射面を備える第1光学手段と、前記反射面から所定距離だけ離れた位置において前記反射面の少なくとも一部に対向し、前記反射面を透過した前記テラヘルツ波である透過光が前記第1光学手段に向かって伝搬することを防止する第2光学手段とを備える。
本実施形態のテラヘルツ波計測装置の他の態様では、前記第2光学手段は、前記反射面に対向し且つ前記反射面に平行である光学面を備える。
本実施形態のテラヘルツ波計測装置の他の態様では、前記第2光学手段は、前記透過光の少なくとも一部を吸収する若しくは透過する又は前記第1光学手段に向かう方向とは異なる方向に反射する。
本実施形態のテラヘルツ波計測装置の他の態様では、前記透過光は、エバネッセント光である。
本実施形態のテラヘルツ波計測装置の他の態様では、前記発生手段が発生させた前記テラヘルツ波は、前記反射面において全反射するように前記反射面に入射する。
本実施形態のテラヘルツ波計測装置の他の態様では、前記発生手段は、第1の偏光の前記テラヘルツ波を発生し、前記発生手段が発生させた前記第1の偏光の前記テラヘルツ波を、前記反射面に導く第3光学手段を更に備え、前記第1光学手段の前記反射面は、(i)前記第1の偏光の前記テラヘルツ波を前記計測対象物に向けて反射することで、前記第1の偏光の前記テラヘルツ波を第2の偏光の前記テラヘルツ波に変換し、(ii)前記計測対象物によって反射された前記第2の偏光の前記テラヘルツ波を前記第3光学手段に向けて反射することで、前記第2の偏光の前記テラヘルツ波を第3の偏光の前記テラヘルツ波に変換し、前記第1光学手段から伝搬してくる前記第3の偏光の前記テラヘルツ波を検出する検出手段を更に備え、前記第3光学手段は、前記第1光学手段から伝搬してくる前記第3の偏光の前記テラヘルツ波を、前記検出手段に導き、前記第3光学手段は、前記第1の偏光及び前記第3の偏光のうちのいずれか一方を反射し、前記第1の偏光及び前記第3の偏光のうちのいずれか他方を透過する。
上述の如く第3光学手段を備えるテラヘルツ波計測装置の他の態様では、前記第1の偏光は、第1の方向に沿って振動する電場成分を有する第1の直線偏光であり、前記第2の偏光は、円偏光であり、前記第3の変更は、前記第1の方向に直交する第2の方向に沿って振動する電場成分を有する第2の直線偏光である。
初めに、図1を参照しながら、本実施例のテラヘルツ波計測装置100の構成について説明する。図1は、本実施例のテラヘルツ波計測装置100の構成を示すブロック図である。
100 テラヘルツ波計測装置
101 パルスレーザ装置
110 テラヘルツ波発生素子
120 光学遅延機構
121 再帰反射鏡
122 回転基板
130 テラヘルツ波検出素子
150 制御部
151 ロックイン検出部
152 信号処理部
LB1 ポンプ光
LB2 プローブ光
THz テラヘルツ波
Claims (7)
- テラヘルツ波を発生する発生手段と、
前記発生手段が発生させた前記テラヘルツ波を計測対象物に向けて反射する反射面を備える第1光学手段と、
前記反射面から所定距離だけ離れた位置において前記反射面の少なくとも一部に対向し、前記反射面を透過した前記テラヘルツ波である透過光が前記第1光学手段に向かって伝搬することを防止する第2光学手段と
を備えることを特徴とするテラヘルツ波計測装置。 - 前記第2光学手段は、前記反射面に対向し且つ前記反射面に平行である光学面を備える
ことを特徴とする請求項1に記載のテラヘルツ波計測装置。 - 前記第2光学手段は、前記透過光の少なくとも一部を吸収する若しくは透過する又は前記第1光学手段に向かう方向とは異なる方向に反射する
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のテラヘルツ波計測装置。 - 前記透過光は、エバネッセント光である
ことを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載のテラヘルツ波計測装置。 - 前記発生手段が発生させた前記テラヘルツ波は、前記反射面において全反射するように前記反射面に入射する
ことを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載のテラヘルツ波計測装置。 - 前記発生手段は、第1の偏光の前記テラヘルツ波を発生し、
前記発生手段が発生させた前記第1の偏光の前記テラヘルツ波を、前記反射面に導く第3光学手段を更に備え、
前記第1光学手段の前記反射面は、(i)前記第1の偏光の前記テラヘルツ波を前記計測対象物に向けて反射することで、前記第1の偏光の前記テラヘルツ波を第2の偏光の前記テラヘルツ波に変換し、(ii)前記計測対象物によって反射された前記第2の偏光の前記テラヘルツ波を前記第3光学手段に向けて反射することで、前記第2の偏光の前記テラヘルツ波を第3の偏光の前記テラヘルツ波に変換し、
前記第1光学手段から伝搬してくる前記第3の偏光の前記テラヘルツ波を検出する検出手段を更に備え、
前記第3光学手段は、前記第1光学手段から伝搬してくる前記第3の偏光の前記テラヘルツ波を、前記検出手段に導き、
前記第3光学手段は、前記第1の偏光及び前記第3の偏光のうちのいずれか一方を反射し、前記第1の偏光及び前記第3の偏光のうちのいずれか他方を透過する
ことを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載のテラヘルツ波計測装置。 - 前記第1の偏光は、第1の方向に沿って振動する電場成分を有する第1の直線偏光であり、
前記第2の偏光は、円偏光であり、
前記第3の変更は、前記第1の方向に直交する第2の方向に沿って振動する電場成分を有する第2の直線偏光である
ことを特徴とする請求項6に記載のいずれか一項に記載のテラヘルツ波計測装置。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2017104697A1 (ja) * | 2015-12-15 | 2018-10-04 | 国立大学法人東京工業大学 | テラヘルツ検出センサ及びテラヘルツ画像測定装置 |
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JP2006218193A (ja) * | 2005-02-14 | 2006-08-24 | Pentax Corp | 光学素子 |
JP2006218192A (ja) * | 2005-02-14 | 2006-08-24 | Pentax Corp | 内視鏡システム |
JP2009300108A (ja) * | 2008-06-10 | 2009-12-24 | Sony Corp | テラヘルツ分光装置 |
US20110176768A1 (en) * | 2010-01-15 | 2011-07-21 | Innovision Inc. | Optical spectral filter, angular filter and polariser |
-
2015
- 2015-02-17 JP JP2015028564A patent/JP6541366B2/ja active Active
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