JP2016145920A - 電気泳動表示装置、電気泳動表示装置の製造方法および電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】表示が均一に切り替わる電気泳動表示装置を提供する。
【解決手段】電気泳動表示装置１は第１電極１０が設置された第１基板２と、第１基板２と対向し第２電極１６が設置された第２基板３と、第１基板２と第２基板３との間に位置し画素領域６を区画する隔壁部５と、画素領域６に充填され分散媒１４、白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３を含む電気泳動分散液１１と、を備え、第１基板２と第２基板３の間の距離を基板間距離とするとき、画素領域６には第１領域６ａと第１領域６ａより基板間距離の短い第２領域６ｂとを有する。
【選択図】図３

Description

本発明は、電気泳動表示装置、電気泳動表示装置の製造方法および電子機器に関するものである。

電荷を有する粒子が分散媒中を移動する電気泳動表示装置が広く知られている。電気泳動表示装置は画面のちらつきが少ないので、電子書籍を閲覧する表示装置等に用いられる。この電気泳動表示装置の例が特許文献１に開示されている。それによると、電気泳動表示装置は電極が設置された一対の基板をそなえている。そして、電極間に白色帯電粒子及び黒色帯電粒子を含む分散媒が設置されている。

白色帯電粒子を（−）に帯電させて、黒色帯電粒子を（＋）に帯電させている。そして、対向する基板に設置された電極に電圧を印加することにより、一方の電極に黒色帯電粒子が誘引され、他方の電極に白色帯電粒子が誘引される。次に、電極の電圧を入れ替えることにより、黒色帯電粒子と白色帯電粒子の位置が入れ替わる。

基板の間には隔壁部が設置され、隔壁部は分散媒を格子状に分割する。隔壁部により囲まれた部分が１つの画素となっている。そして、画素毎に黒色帯電粒子及び白色帯電粒子の位置を制御することで所定の図形を表示することが可能になっている。

特開２００８−５１９３２号公報

帯電粒子は粒子間や基板と粒子との間でファンデルワース力や電荷残りの影響を受ける。このため、粒子が同一位置に長時間滞在するとき、粒子が基板や隔壁部に固着することがある。特許文献１の電気泳動表示装置では粒子が基板の厚み方向に移動するので、分散媒の対流が少ない。従って、基板や隔壁部に固着した粒子を分散媒が剥離するように作用しないので表示が均一に切り替わらない。そこで、粒子が基板や隔壁部に固着するときにも粒子を基板や隔壁部から剥離して表示を均一に切り替れる電気泳動表示装置が望まれていた。

本発明は、上述の課題を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。

［適用例１］
本適用例にかかる電気泳動表示装置であって、第１電極が設置された第１基板と、前記第１基板と対向し第２電極が設置された第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に位置し画素領域を区画する隔壁部と、前記画素領域に充填され分散媒及び荷電粒子を含む電気泳動分散液と、を備え、前記第１基板と前記第２基板との間の距離を基板間距離とするとき、前記画素領域には第１領域と前記第１領域より前記基板間距離の短い第２領域とを有することを特徴とする。

本適用例によれば、第１基板には第１電極が設置されており、第２基板には第２電極が設置されている。第１基板と第２基板との間には隔壁部が設置され、隔壁部は画素領域を区画する。画素領域には電気泳動分散液が充填され、電気泳動分散液は分散媒及び荷電粒子を含んでいる。画素領域は第１領域及び第２領域を有し、第２領域は第１領域より基板間距離が短くなっている。

第１電極と第２電極とに異なる電圧を印加するとき第１電極と第２電極との間に電界を生じる。そして、第２領域は第１領域より基板間距離が短いので、第２領域は第１領域より電界の変化率が大きい。荷電粒子は電界の変化率が大きさに比例する力を作用する。従って、第２領域では第１領域より荷電粒子に強い力が作用するので、荷電粒子が加速する。そして、第２領域では第１領域に比べて荷電粒子の移動速度が高くなる。

荷電粒子の移動に伴って分散媒が移動する。第２領域において荷電粒子及び分散媒が第２基板から第１基板に向かって移動するとき、第１基板に到達した荷電粒子及び分散媒には慣性力が作用する。そして、荷電粒子及び分散媒は第１基板に沿って第２領域から第１領域へ移動する。そして、移動する荷電粒子及び分散媒が第１基板の第１領域に位置していた分散媒を押す。これにより、第１領域において分散媒が第１基板から第２基板に向かって移動する。

つまり、第２領域では第２基板から第１基板に向かう分散媒の流れが生ずる。第１基板に沿って第２領域から第１領域に向かう分散媒の流れが生ずる。第２領域では第１基板から第２基板に向かう分散媒の流れが生ずる。第２基板に沿って第１領域から第２領域に向かう分散媒の流れが生ずる。従って、第１基板に沿う荷電粒子と第２基板に沿う荷電粒子とが分散媒の流れに沿って入れかえることができる。そして、荷電粒子及び分散媒の流れは第１基板、第２基板及び隔壁部に沿って流動する。その結果、荷電粒子が基板や隔壁部に固着するときにも、電気泳動表示装置は荷電粒子を基板や隔壁部から剥離して表示を均一に切り替えることができる。

［適用例２］
上記適用例にかかる電気泳動表示装置において、前記第１領域は前記第２領域より前記隔壁部に近いことを特徴とする。

本適用例によれば、第１領域は隔壁部に近く、第２領域は隔壁部から離れている。隔壁部に荷電粒子が付着することがある。このとき、隔壁部に電位が生じる。第２領域は隔壁部から離れているので隔壁部の電位の影響を受け難くすることができる。従って、隔壁部に荷電粒子が付着しても安定して第２領域で荷電粒子及び分散媒に力を作用させることができる。

［適用例３］
上記適用例にかかる電気泳動表示装置において、前記第１基板には半導体素子が設置された素子層と絶縁層と前記第１電極とがこの順に重ねて設置され、前記絶縁層は前記第１領域に比べて前記第２領域が前記第２基板側に突出することを特徴とする。

本適用例によれば、第１基板上に素子層と絶縁層と第１電極とがこの順に重ねて設置されている。そして、絶縁層は第１領域に比べて第２領域が第２基板側に突出する層になっている。これにより、第２領域では基板間距離が第１領域より短くなる。第１基板において素子層側の面は凹凸がない平坦な面でも良い。凹凸のある面より平坦な面の方が素子層を設置し易い。従って、電気泳動表示装置は第１基板上に素子層を設置し易い構造にすることができる。

［適用例４］
上記適用例にかかる電気泳動表示装置において、前記第１基板には半導体素子が設置され、前記第２基板は前記第１領域に比べて前記第２領域が前記第１基板側に突出することを特徴とする。

本適用例によれば、第１基板上に素子層が設置されている。そして、第２基板は第１領域に比べて第２領域が第１基板側に突出する。第１基板において素子層側の面は凹凸がない平坦な面でも良い。凹凸のある面より平坦な面の方が素子層を設置し易い。従って、電気泳動表示装置は第１基板上に素子層を設置し易い構造にすることができる。

［適用例５］
本適用例にかかる電子機器であって、表示部と、前記表示部を駆動する駆動部と、を備え、前記表示部は上記のいずれか一項に記載の電気泳動表示装置であることを特徴とする。

本適用例によれば、電子機器は表示部と表示部を駆動する駆動部を備えている。そして、駆動部が表示部を駆動する。表示部には上記の電気泳動表示装置が用いられている。従って、電子機器は表示を均一に切り替えることができる電気泳動表示装置を表示部に用いた装置とすることができる。

［適用例６］
本適用例にかかる電気泳動表示装置の製造方法であって、第１基板上に半導体素子が設置された素子層を設置し、前記素子層に重ねて凹凸のある絶縁層を設置し、前記絶縁層に重ねて第１電極を設置し、前記第１基板上に画素領域を区画する隔壁部を設置し、前記画素領域に分散媒及び荷電粒子を含む電気泳動分散液を充填し、前記隔壁部に重ねて第２電極を有する第２基板を設置することを含み、前記凹凸は、前記画素領域毎に存在することを特徴とする。

本適用例によれば、電気泳動表示装置の製造方法は第１基板上に半導体素子が設置された素子層を設置している。そして、素子層の各々の画素領域に重ねて凹凸のある絶縁層を設置している。そして、絶縁層に重ねて第１電極を設置している。次に、第１基板上に画素領域を区画する隔壁部を設置している。次に、画素領域に分散媒及び荷電粒子を含む電気泳動分散液を充填している。そして、隔壁部に重ねて第２電極を有する第２基板を設置している。

絶縁層に凹凸があるので第１電極と第２電極との間は距離の短い場所と長い場所が設置される。第１電極と第２電極との間が距離の短い場所では電極間の電界の変化率が大きい。この場所では第１電極と第２電極との間に電圧を印加したときに荷電粒子が加速されるので荷電粒子及び分散媒の流れが形成される。従って、荷電粒子が第１基板、第２基板及び隔壁部に付着するときにも、第１基板、第２基板及び隔壁部に沿う荷電粒子及び分散媒の流れによって荷電粒子が剥離される為、電気泳動表示装置は表示を均一に切り替えることができる。

第１基板上に素子層を設置し、素子層に重ねて絶縁層が設置されている。そして、絶縁層は凹凸のある層になっている。第１基板において素子層側の面は凹凸がない平坦な面でも良い。凹凸のある面より平坦な面の方が素子層を設置し易い。従って、電気泳動表示装置は第１基板上に素子層を設置し易い構造にすることができる。

第１の実施形態にかかわり、（ａ）は電気泳動表示装置の構造を示す概略斜視図、（ｂ）は電気泳動表示装置の構造を示す模式平面図。 電気泳動表示装置の構造を示す部分概略分解斜視図。 （ａ）は電気泳動表示装置の構造を示す模式側断面図、（ｂ）は電極間の電位分布を説明するための模式図。 荷電粒子の移動を説明するための模式図。 荷電粒子の移動を説明するための模式図。 電気泳動表示装置の製造方法のフローチャート。 電気泳動表示装置の製造方法を説明するための模式図。 電気泳動表示装置の製造方法を説明するための模式図。 第２の実施形態にかかわり、（ａ）は電気泳動表示装置の構造を示す模式側断面図、（ｂ）は電極間の電位分布を説明するための模式図。 第３の実施形態にかかわる電気泳動表示装置の構造を示す概略分解斜視図。 第４の実施形態にかかわる電気泳動表示装置の構造を示す模式側断面図。 第５の実施形態にかかわる電気泳動表示装置の構造を示す模式側断面図。 第６の実施形態にかかわり、（ａ）は電子ブックの構造を示す概略斜視図、（ｂ）は腕時計の構造を示す概略斜視図。

本実施形態では、電気泳動表示装置と、この電気泳動表示装置を製造する特徴的な例について説明する。尚、各図面における各部材は、各図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材毎に縮尺を異ならせて図示している。
（第１の実施形態）
第１の実施形態にかかわる電気泳動表示装置について図１〜図８に従って説明する。図１（ａ）は、電気泳動表示装置の構造を示す概略斜視図であり、図１（ｂ）は電気泳動表示装置の構造を示す模式平面図である。

図１（ａ）に示すように、電気泳動表示装置１は第１基板２と第２基板３とが重なった構造になっている。第１基板２及び第２基板３の厚み方向をＺ方向とし、＋Ｚ方向側に第２基板３が位置する。観察者が電気泳動表示装置１を見るときには＋Ｚ方向側から見ることとする。第２基板３の＋Ｚ方向側の面が画像表示面３ａである。第１基板２及び第２基板３はＸ方向及びＹ方向に延在する。第１基板２は第２基板３より−Ｙ方向に長い形状になっている。第１基板２の−Ｙ方向側では＋Ｚ方向側の面にフレキシブルケーブル４が設置されている。フレキシブルケーブル４は図示しない駆動回路に接続され、フレキシブルケーブル４を介して電源と駆動信号が供給される。

図１（ｂ）に示すように、電気泳動表示装置１は第１基板２と第２基板３との間に隔壁部５が設置されている。隔壁部５は格子状の形状を有し画素領域６を区画する。図中画素領域６は図を見易くするためにＸ方向に１４個、Ｙ方向に１０個並べて配置されている。画素領域６の個数は特に限定されないが本実施形態では、例えば、Ｘ方向に３００個、Ｙ方向に２５０個並べて配置されている。電気泳動表示装置１の大きさも特に限定されないが本実施形態では、例えば、第１基板２はＸ方向の長さが３０ｍｍであり、Ｙ方向の長さが２０ｍｍになっている。

図２は電気泳動表示装置の構造を示す部分概略分解斜視図であり、電気泳動表示装置１の一部分をＺ方向に分解した図である。図２に示すように、第１基板２は第１基材７を備えている。第１基材７は、ガラス、プラスチック、セラミック、シリコン等からなる基板である。第１基材７は＋Ｚ方向から見える画像表示面３ａとは反対側に配置されるため不透明な材質でもよい。

第１基材７上には素子層８が設置されている。素子層８には電圧供給線８ａ、制御信号線８ｂ、半導体素子８ｃ及び貫通電極８ｄ等が設置されている。半導体素子８ｃはＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）素子であり、スイッチングを行う素子である。素子層８の上には絶縁層９が設置され、絶縁層９の上には第１電極１０が設置されている。絶縁層９は素子層８と第１電極１０とを絶縁する層である。素子層８の貫通電極８ｄは第１電極１０と接続されている。第１電極１０は画素領域６毎に分離されている。第１基材７、素子層８、絶縁層９及び第１電極１０等により第１基板２が構成されている。

素子層８の材質は半導体が形成できる材質であれば良く特に限定されず、シリコン、ゲルマニウム、ヒ化ガリウム、ガリウム砒素リン、窒化ガリウム、炭化珪素、等を用いることができる。絶縁層９の材質は絶縁性があり電気泳動分散液１１に影響を及ぼさず成形しやすい材質であれば良く特に限定されず、ガラス、樹脂、酸化シリコンや窒化シリコン等を用いることができる。本実施形態では、例えば、絶縁層９の材質には有機絶縁膜、低融点ガラスを用いている。

第１電極１０の材質は導電性のある材質であれば良く特に限定されず、銅、アルミニウム、ニッケル、金、銀、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）の他、銅箔上にニッケル膜や金膜を積層した物、アルミニウム箔上にニッケル膜や金膜を積層した物を用いることができる。本実施形態では、例えば、第１電極１０はＩＴＯ膜あるいはアルミニウム箔上に金膜を設置した構造になっている。

第１電極１０上には隔壁部５が設置され、隔壁部５によって区画された画素領域６には電気泳動分散液１１が充填されている。隔壁部５の材質は絶縁性と強度があり形成しやすい材質であれば良く特に限定されず、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等の樹脂を用いることができる。本実施形態では、例えば、感光性樹脂を用いている。電気泳動分散液１１は白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３を有し、白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３が分散媒１４に分散している。

白色荷電粒子１２の材料は、白色で帯電可能であり微細な粒子に形成可能であれば良く特に限定されない。白色荷電粒子１２の材料は、例えば、二酸化チタン、亜鉛華、三酸化アンチモン等の白色顔料からなる粒子、高分子、コロイドを用いることができる。本実施形態では、例えば、白色荷電粒子１２は二酸化チタンの粒子を正極に帯電して用いている。

黒色荷電粒子１３は、黒色で帯電可能であり微細な粒子に形成可能であれば良く特に限定されない。黒色荷電粒子１３の材料は、例えば、アニリンブラック、カーボンブラック、酸窒化チタン等の黒色顔料からなる粒子、高分子、コロイドを用いることができる。本実施形態では、例えば、黒色荷電粒子１３は酸窒化チタンを負極に帯電して用いている。白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３にはこれらの粒子に必要に応じて電解質、界面活性剤、金属石鹸、樹脂、ゴム、油、ワニス、コンパウンド等の帯電制御剤を用いることができる。他にも、白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３にはチタン系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、シラン系カップリング剤等の分散剤、潤滑剤、安定化剤等を添加することができる。

分散媒１４は流動性があって変質し難い材質であれば良く特に限定されない。分散媒１４の材質には水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール、メチルセルソルブ等のアルコール系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ぺンタン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素、シクロへキサン、メチルシクロへキサン等の脂環式炭化水素を用いることができる。他にも分散媒１４の材質にはベンゼン、トルエン、キシレン、長鎖アルキル基を有するベンゼン類等の芳香族炭化水素を用いることができる。長鎖アルキル基を有するベンゼン類としてはヘキシルベンゼン、ヘプチルベンゼン、オクチルベンゼン、ノニルベンゼン、デシルベンゼン、ウンデシルベンゼン、ドデシルベンゼン、トリデシルベンゼン、テトラデシルベンゼン等を用いることができる。他にも分散媒１４としては、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素を用いることができる。他にも、分散媒１４の材質には油類やシリコーンオイルを用いることができる。これらの物質は単独または混合物として用いることができ、さらに、カルボン酸塩のような界面活性剤等を配合してもよい。

隔壁部５及び電気泳動分散液１１上には第２基板３が設置されている。第２基板３は第２基材１５を備えている。第２基材１５上には第２電極１６が設置され、第２電極１６上には接着層１７が設置されている。第２電極１６は複数の画素領域６に渡って設置された共通電極になっている。従って、第２電極１６は複数の第１電極１０と対向する。接着層１７は隔壁部５と第２基板３とを接着する機能を備えている。

第２基材１５の材質は光透過性、強度及び絶縁性があれば良く特に限定されない。第２基材１５の材質にガラスや樹脂材料を用いることができる。本実施形態では、例えば、第２基材１５の材質にガラス板を用いている。

第２電極１６は、透明導電膜であれば良く特に限定されない。例えば、第２電極１６にはＭｇＡｇ、ＩＧＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−ｇａｌｌｉｕｍ ｏｘｉｄｅ）、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＣＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−ｃｅｒｉｕｍ ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（インジウム・亜鉛酸化物）等を用いることができる。本実施形態では、例えば、第２電極１６にＩＴＯを用いている。

接着層１７の材質は隔壁部５と第２基板３とを接着可能であり、電気泳動分散液１１を変質させない材質であれば良く特に限定されない。例えば、接着層１７の材質にはポリウレタン、ポリ尿素、ポリ尿素−ポリウレタン、尿素−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ポリスルホンアミド、ポリカーボネート、ポリスルフィネート、エポキシ樹脂、ポリアクリル酸エステル等のアクリル樹脂、ポリメタクリル酸エステル、ポリ酢酸ビニル、ゼラチン、フェノール樹脂、ビニル樹脂等が用いることができる。本実施形態では、例えば、紫外性硬化型のアクリル樹脂やエポキシ樹脂を用いている。

図３（ａ）は電気泳動表示装置の構造を示す模式側断面図であり、図２のＡ−Ａ線に沿う断面図である。図３（ａ）に示すように、電気泳動表示装置１は第１電極１０と第２電極１６との間に電圧を印加して用いられる。そして、第１電極１０と第２電極１６との間の相対電圧を切り替えて用いられる。

第１電極１０に対して第２電極１６を低い電圧にする。このとき黒色荷電粒子１３は負極の電圧に帯電しているので、黒色荷電粒子１３は第１電極１０に誘引される。白色荷電粒子１２は正極の電圧に帯電しているので、白色荷電粒子１２は第２電極１６に誘引される。その結果、第１基板２には黒色荷電粒子１３が集合し、第２基板３には白色荷電粒子１２が集合する。

第２基板３側から電気泳動表示装置１を見るとき第２基板３を通して白色荷電粒子１２を見ることができる。従って、画素領域６では白色の表示となる。第１電極１０と第２電極１６との間の相対電圧を切り替えて第１電極１０に対して第２電極１６を高い電圧にする。このとき黒色荷電粒子１３は第２電極１６に誘引され、白色荷電粒子１２は第１電極１０に誘引される。その結果、第１基板２には白色荷電粒子１２が集合し、第２基板３には黒色荷電粒子１３が集合する。従って、画素領域６では黒色の表示となる。

図３（ｂ）は電極間の電位分布を説明するための模式図であり、白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３を省略した図である。図３（ｂ）に示すように、第１電極１０と第２電極１６との間には電圧が印加されている。第１電極１０上は同電位であり、第２電極１６上も同電位である。そして、第１電極１０と第２電極１６との間には電位差があるので、第１電極１０と第２電極１６と間には電場が形成される。そして、第１電極１０と第２電極１６との間では場所により電位が変化する。

第１電極１０と第２電極１６と間には７つの等電位面１８が記載されている。等電位面１８は電位が等しい場所を通過する面である。隔壁部５に近い場所に位置する領域を第１領域６ａとし、隣り合う隔壁部５の中間に位置する領域を第２領域６ｂとする。第２領域６ｂは隔壁部５から離れた場所になっている。絶縁層９は第２領域６ｂの厚さが第１領域６ａの厚さより厚い層になっている。一方、第２電極１６は第１基材７と平行な平坦な面になっている。

第１領域６ａにおける第１基板２と第２基板３との間の距離を基板間距離としての第１基板間距離２１ａとする。そして、第２領域６ｂにおける第１基板２と第２基板３との間の距離を基板間距離としての第２基板間距離２１ｂとする。このとき、第２基板間距離２１ｂは第１基板間距離２１ａより短い距離になっている。このため、等電位面１８の間隔は第１基板間距離２１ａより第２基板間距離２１ｂが短くなっている。換言すれば、電位の変化率は第１基板間距離２１ａより第２基板間距離２１ｂが大きくなっている。

電位の変化率が大きい場所の方が小さい場所より電場の大きさが大きい。従って、電場の大きさは第１領域６ａより第２領域６ｂが大きくなっている。電場により白色荷電粒子１２に加わる力は白色荷電粒子１２が位置する場所の電場の大きさと白色荷電粒子１２の電荷の大きさの積である。同様に、黒色荷電粒子１３に加わる力は黒色荷電粒子１３が位置する場所の電場の大きさと黒色荷電粒子１３の電荷の大きさの積である。従って、第１領域６ａに位置する白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３は第２領域６ｂに位置する白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３より受ける力が大きくなっている。

第１領域６ａは隔壁部５に近く、第２領域６ｂは隔壁部５から離れている。隔壁部５に白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３が付着することがある。このとき、隔壁部５に電位が生じる。第２領域６ｂは隔壁部５から離れているので隔壁部５の電位の影響を受け難くすることができる。従って、隔壁部５に白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３が付着しても安定して第２領域６ｂで白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３及び分散媒１４に力を作用させることができる。

図４及び図５は荷電粒子の移動を説明するための模式図である。図４（ａ）に示すように、第１電極１０の電位を第２電極１６の電位より低くする。白色荷電粒子１２は黒色荷電粒子１３より粒径の小さい粒子になっている。白色荷電粒子１２は黒色荷電粒子１３より分散媒１４に対する流体抵抗が小さい。これにより、白色荷電粒子１２は黒色荷電粒子１３より早く移動することができる。第２領域６ｂでは白色荷電粒子１２が第１基板２に向かって早く移動する。白色荷電粒子１２の移動に伴って分散媒１４も第１基板２に向かって移動する。その結果、第２領域６ｂでは第２基板３側から第１基板２側に分散媒１４が流動する流れ１４ａが生ずる。

第２領域６ｂでは第１基板２に向かう分散媒１４の流れ１４ａは第１電極１０に至る。そして、流れ１４ａは進行方向を第１領域６ａに変える。そして、分散媒１４の流れ１４ａは第１電極１０に沿って進行する。第１電極１０上に位置する黒色荷電粒子１３は分散媒１４の流れ１４ａに流されて第１領域６ａに進行する。

第２領域６ｂの第２基板３側では分散媒１４が第１基板２に向かって流動するので負圧になる。そして、第２基板３の近くに位置する分散媒１４及び白色荷電粒子１２が第２領域６ｂに向かって流動する。

図４（ｂ）に示すように、引き続き第２領域６ｂでは分散媒１４が第２基板３から第１基板２に向かって流動する。電気泳動分散液１１の第１基板２側では分散媒１４が第２領域６ｂから第１領域６ａに向かって流動する。第１領域６ａでは分散媒１４が第１基板２側から第２基板３に向かって流動する。電気泳動分散液１１の第２基板３側では分散媒１４が第１領域６ａから第２領域６ｂに向かって流動する。このように分散媒１４の流れ１４ａが巡回する。

白色荷電粒子１２は第２領域６ｂに集まって第２基板３から第１基板２に向かって流動する。黒色荷電粒子１３は第１領域６ａに集まって第１基板２側から第２基板３に向かって流動する。

図４（ｃ）に示すように、白色荷電粒子１２の一部は第１基板２側に到達する。黒色荷電粒子１３の一部は第２基板３に到達する。次に、図５（ａ）に示すように、第１基板２側に到達した白色荷電粒子１２は第１領域６ａに向かって流動する。第２基板３に到達した黒色荷電粒子１３は第２領域６ｂに向かって流動する。

図５（ｂ）に示すように、白色荷電粒子１２は大部分が第１基板２に到達し、第１基板２に沿って広がる。黒色荷電粒子１３も大部分が第２基板３に到達し、第２基板３に沿って広がる。分散媒１４の流れ１４ａには慣性力が作用する。これにより、第１領域６ａの黒色荷電粒子１３が第２基板３に到達し、第２領域６ｂの白色荷電粒子１２が第１基板２に到達した後もしばらくは分散媒１４の流れ１４ａが存続する。

図５（ｃ）に示すように、白色荷電粒子１２が第１基板２に沿って広がり第１基板２上にて停止する。黒色荷電粒子１３も第２基板３に沿って広がり第２基板３上にて停止する。そして、分散媒１４の流れ１４ａも停止する。画像表示面３ａ側から電気泳動表示装置１を見るとき、第２基板３側には黒色荷電粒子１３が広がっているので黒表示になる。

このように、分散媒１４の流れ１４ａが白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３を流動させる。このため、第１基板２、第２基板３及び隔壁部５に白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３が固着するときにも白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３を移動させることができる。その結果、電気泳動表示装置は白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３を第１基板２、第２基板３及び隔壁部５から剥離して表示を均一に切り替えることができる。

第１電極１０と第２電極１６との間に印加する電圧を逆転するとき、白色荷電粒子１２は第２基板３に向かって移動し、黒色荷電粒子１３は第１基板２に向かって移動する。このとき、白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３は図５（ｃ）の状態から図５（ｂ）、図５（ａ）、図４（ｃ）、図４（ｂ）、図４（ａ）の順に推移する。従って、分散媒１４の流れ１４ａが白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３を流動させる。このため、第１基板２、第２基板３及び隔壁部５に白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３が固着しても白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３を移動させることができる。その結果、電気泳動表示装置は白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３を第１基板２、第２基板３及び隔壁部５から剥離して表示を均一に切り替えることができる。

次に上述した電気泳動表示装置１の製造方法について図６〜図８にて説明する。図６は、電気泳動表示装置の製造方法のフローチャートであり、図７及び図８は電気泳動表示装置の製造方法を説明するための模式図である。図６のフローチャートにおいて、ステップＳ１は上部電極設置工程に相当する。この工程は、第２基板３上に第２電極１６及び接着層１７を設置する工程である。次にステップＳ２に移行する。ステップＳ２は素子設置工程である。この工程は、第１基材７上に素子層８を設置する工程である。次にステップＳ３に移行する。ステップＳ３は下部電極設置工程である。この工程は、素子層８上に絶縁層９及び第１電極１０を設置する工程である。次にステップＳ４に移行する。

ステップＳ４は隔壁部設置工程である。この工程は、第１基板２上に隔壁部５を設置する工程である。次にステップＳ５に移行する。ステップＳ５は分散液充填工程である。この工程は、画素領域６に電気泳動分散液１１を充填する工程である。次にステップＳ６に移行する。ステップＳ６は基板組立工程である。この工程は、隔壁部５と第２基板３とを接着する工程である。以上の工程により電気泳動表示装置１を製造する工程を終了する。

次に、図７〜図８を用いて、図６に示したステップと対応させて、製造方法を詳細に説明する。
まず、第２基板３を製造する。図７（ａ）及び図７（ｂ）はステップＳ１の上部電極設置工程に対応する図である。図７（ａ）に示すように、第２基材１５を用意する。第２基材１５はガラス板を所定の厚みに研削及び研磨して表面粗さを小さくした板を用いる。次に、図７（ｂ）に示すように、第２基材１５上に第２電極１６を設置する。スパッタリング法等の成膜法を用いて膜厚１００ｎｍ程度のＩＴＯ膜を第２基材１５上に形成する。次に、フォトリソグラフィー法によってＩＴＯ膜をパターニングして、第２電極１６を形成する。

次に、第２電極１６上に接着層１７を設置する。接着層１７はインクジェット法、オフセット印刷、スクリーン印刷、フレキソ印刷等の凸版印刷、グラビア印刷等の凹版印刷等の各種印刷法を用いて設置することができる。他にも、スピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、スリットコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ダイコート法、ディップコート法等を用いても良い。

続いて、第１基板２を製造する。図７（ｃ）及び図７（ｄ）はステップＳ２の素子設置工程に対応する図である。図７（ｃ）に示すように、ステップＳ２において、第１基材７を用意する。第１基材７もガラス板を所定の厚みに研削及び研磨して表面粗さを小さくした板を用いる。図７（ｄ）に示すように、第１基材７上に素子層８を形成する。素子層８の形成方法は公知であるので詳細の説明は省略し、概略の製造方法を説明する。素子層８の形成方法は複数存在し特に限定されない。

まず、ＣＶＤ法（ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）によって第１基材７上に図示しないＳｉＯ₂の下地絶縁膜を形成する。次に、下地絶縁膜上に、ＣＶＤ法等によって膜厚５０ｎｍ程度の非晶質シリコン膜を形成する。その非晶質シリコン膜をレーザー結晶化法等によって結晶化して、多結晶シリコン膜を形成する。その後、フォトリソグラフィー法等によって島状の多結晶シリコン膜である半導体膜８ｅを形成する。

次に、半導体膜８ｅ及び下地絶縁膜を覆うように、ＣＶＤ法等によって膜厚１００ｎｍ程度のＳｉＯ₂を形成し、ゲート絶縁膜８ｆとする。スパッタリング法等によって、ゲート絶縁膜８ｆ上に膜厚５００ｎｍ程度のＭｏ膜を形成し、フォトリソグラフィー法によって島状のゲート電極８ｇを形成する。イオン注入法によって半導体膜に不純物イオンを注入し、ソース領域８ｈ、ドレイン領域８ｊ、チャネル形成領域８ｋを形成する。ゲート絶縁膜８ｆとゲート電極８ｇを覆うように、膜厚８００ｎｍ程度のＳｉＯ₂膜を形成し、第１層間絶縁膜８ｍとする。

次に、第１層間絶縁膜８ｍにソース領域８ｈに達するコンタクトホールとドレイン領域８ｊに達するコンタクトホールを形成する。その後、第１層間絶縁膜８ｍ上とコンタクトホール及びコンタクトホール内に、スパッタリング法等によって膜厚５００ｎｍ程度のＭｏ膜を形成し、フォトリソグラフィー法によってパターニングして、ソース電極８ｎ、ドレイン電極８ｐ及び配線を形成する。

第１層間絶縁膜８ｍとソース電極８ｎとドレイン電極８ｐと配線とを覆うように、膜厚８００ｎｍ程度のＳｉ₃Ｎ₄膜を形成し、第２層間絶縁膜８ｒとする。フォトリソグラフィー法によってパターニングして、第２層間絶縁膜８ｒにコンタクトホールを形成する。

図７（ｅ）及び図７（ｆ）はステップＳ３の下部電極設置工程に対応する図である。図７（ｅ）に示すように、ステップＳ３において、素子層８上に絶縁層９を設置する。まず素子層８の上に低融点ガラス板を搭載し加熱することで低融点ガラス板を素子層８に固着させる。次に、低融点ガラス板上にマスク材料を塗布し乾燥した後フォトリソグラフィー法によってパターニングする。続いて、フッ酸またはバッファードフッ酸等のエッチング液を用いて低融点ガラス板をエッチングする。エッチング条件を調整することにより低融点ガラス板に凹凸を形成する。

さらに、同様の方法を用いてドレイン電極８ｐに達するコンタクトホールを形成する。以上の工程により素子層８に重ねて凹凸のある絶縁層９が設置される。そして、図７（ｆ）に示すように、絶縁層９上とコンタクトホール及びコンタクトホール内に、スパッタリング法等の成膜法を用いて膜厚５００ｎｍ程度のＡｌ膜を形成する。さらに、スパッタリング法または蒸着等によってＡｌ膜上にＡｕ膜を積層する。続いて、Ａｌ膜及びＡｕ膜をエッチングして第１電極１０を形成する。エッチングはドライエッチング法を用いることができる。

図８（ａ）はステップＳ４の隔壁部設置工程に対応する図である。図８（ａ）に示すように、ステップＳ４において、第１電極１０上に隔壁部５を設置する。まず、第１電極１０に隔壁部５の材料となる感光性樹脂材料を塗布する。塗布方法はオフセット印刷、スクリーン印刷、凸版印刷等の各種印刷法を用いて設置することができる。他にも、スピンコート法やロールコート法等のコート法を用いても良い。続いて、感光性樹脂材料を加熱乾燥して固化する。次に、感光性樹脂材料をフォトリソグラフィー法によってパターニングする。

図８（ｂ）はステップＳ５の分散液充填工程に対応する図である。図８（ｂ）に示すように、ステップＳ５において、隔壁部５が設置された第１基板２を図示しない容器内に設置する。そして、分散媒１４に白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３を加えて撹拌し電気泳動分散液１１を用意する。次に、シリンジ等の供給器具を用いて画素領域６に電気泳動分散液１１を供給する。電気泳動分散液１１の供給方法は各種印刷法やインクジェット法を用いても良い。電気泳動分散液１１は画素領域６から溢れる程度に供給される。

図８（ｃ）はステップＳ６の基板組立工程に対応する図である。図８（ｃ）に示すように、ステップＳ６において、隔壁部５上に第２基板３を設置する。まず、電気泳動分散液１１が供給された第１基板２を減圧チャンバー内に設置する。次に、隔壁部５上に第２基板３を搭載する。続いて、減圧チャンバー内を減圧し接着層１７に紫外線を照射する。接着層１７は紫外線硬化型の接着剤であり、隔壁部５と第２基板３とが仮固定される。次に、第２基板３が設置された第１基板２を加熱し接着層１７を固化することにより第２基板３が隔壁部５に固定される。以上の工程により電気泳動表示装置１が完成する。

上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、画素領域６は第１領域６ａ及び第２領域６ｂを有し、第２領域６ｂの第２基板間距離２１ｂは第１領域６ａの第１基板間距離２１ａより短くなっている。第１電極１０と第２電極１６との間に電圧を印加するとき画素領域６に電界を生じる。そして、第２領域６ｂの第２基板間距離２１ｂは第１領域６ａの第１基板間距離２１ａより短いので、第２領域６ｂは第１領域６ａより電界の変化率が大きい。白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３には電界の変化率の大きさに比例する力が作用する。従って、第２領域６ｂでは第１領域６ａより白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３に強い力が作用するので、白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３が加速する。そして、第２領域６ｂでは第１領域６ａに比べて白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３の移動速度が高くなる。

白色荷電粒子１２の移動に伴って分散媒１４が移動する。第２領域６ｂにおいて白色荷電粒子１２及び分散媒１４が第１基板２に向かって移動するとき、第１基板２に到達した白色荷電粒子１２及び分散媒１４には慣性力が作用して第２領域６ｂから第１領域６ａへ移動する。そして、移動する白色荷電粒子１２及び分散媒１４が第１基板２の第２領域６ｂに位置していた分散媒１４を押す。第１基板２の第２領域６ｂでは分散媒１４が押されて第１基板２の第１領域に向かって進行する。

第２領域６ｂでは第２基板３から第１基板２に向かう分散媒１４の流れが生ずる。第１基板２に沿って第２領域６ｂから第１領域６ａに向かう分散媒１４の流れが生ずる。第１領域６ａでは第１基板２から第２基板３に向かう分散媒１４の流れが生ずる。第２基板３に沿って第１領域６ａから第２領域６ｂに向かう分散媒１４の流れが生ずる。従って、第１基板２に沿う黒色荷電粒子１３と第２基板３に沿う白色荷電粒子１２とを分散媒１４の流れに沿って入れかえることができる。その結果、白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３が第１基板２、第２基板３や隔壁部５に固着するときにも、電気泳動表示装置１は白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３を第１基板２、第２基板３や隔壁部５から剥離して表示を均一に切り替えることができる。

（２）本実施形態によれば、第１領域６ａは隔壁部５に近く、第２領域６ｂは隔壁部から離れている。隔壁部５に白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３が付着することがある。このとき、隔壁部５に電位が生じる。第２領域６ｂは隔壁部５から離れているので隔壁部５の電位の影響を受け難くすることができる。従って、隔壁部５に白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３が付着しても安定して第２領域６ｂで白色荷電粒子１２及び分散媒１４に力を作用させることができる。

（３）本実施形態によれば、第１基材７上に素子層８と絶縁層９と第１電極１０とがこの順に重ねて設置されている。そして、絶縁層９は第１領域６ａに比べて第２領域６ｂが第２基板３側に突出している。第１基材７において素子層８側の面は凹凸がない平坦な面になっている。凹凸のある面より平坦な面の方が素子層８を設置し易い。従って、電気泳動表示装置１は第１基材７上に素子層８を設置し易い構造にすることができる。

（第２の実施形態）
次に、電気泳動表示装置の一実施形態について図９を用いて説明する。図９（ａ）は電気泳動表示装置の構造を示す模式側断面図である。図９（ｂ）は電極間の電位分布を説明するための模式図であり、白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３を省略した図である。本実施形態が第１の実施形態と異なるところは、隔壁部５に近い場所の基板間距離が短く、隔壁部５から離れた場所の基板間距離が長い点にある。尚、第１の実施形態と同じ点については説明を省略する。

すなわち、本実施形態では、図９（ａ）に示すように電気泳動表示装置２４は第１基板２５を備えている。第１基板２５は第１基材７上に素子層８、絶縁層２６、第１電極１０がこの順に積層された構造になっている。隔壁部５に囲まれた領域を画素領域２７とする。画素領域２７において隔壁部５に近い場所を第２領域２７ｂとし、画素領域２７の中央の場所を第１領域２７ａとする。第１領域２７ａにおける絶縁層２６の厚みは第２領域２７ｂにおける絶縁層２６の厚みより薄くなっている。そして、第２電極１６は第１基材７と平行な平坦な面になっている。

図９（ｂ）に示すように、第１電極１０と第２電極１６とには電圧が印加されている。第１電極１０上は同電位であり、第２電極１６上も同電位である。そして、第１電極１０と第２電極１６との間には電位差があるので、第１電極１０と第２電極１６と間には電場が形成されている。画素領域２７では場所により電位が変化する。第１電極１０と第２電極１６と間には７つの等電位面２８が記載されている。等電位面２８は電位が等しい場所を通過する面である。

第１領域２７ａにおける第１基板２５と第２基板３との間の距離を基板間距離としての第１基板間距離２９ａとする。そして、第２領域２７ｂにおける第１基板２５と第２基板３との間の距離を基板間距離としての第２基板間距離２９ｂとする。このとき、第２基板間距離２９ｂは第１基板間距離２９ａより短い距離になっている。このため、等電位面２８の間隔は第１基板間距離２９ａより第２基板間距離２９ｂが短くなっている。換言すれば、電位の変化率は第１領域２７ａより第２領域２７ｂが大きくなっている。

電位の変化率が大きい場所の方が小さい場所より電場の大きさが大きい。従って、電場大きさは第１領域２７ａより第２領域２７ｂが大きくなっている。その結果、第１領域２７ａに位置する白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３より第２領域２７ｂに位置する白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３は電場により受ける力が大きくなっている。

白色荷電粒子１２は黒色荷電粒子１３より粒径の小さい粒子になっている。白色荷電粒子１２は黒色荷電粒子１３より分散媒１４に対する流体抵抗が小さい。これにより、白色荷電粒子１２は黒色荷電粒子１３より早く移動することができる。第２領域２７ｂでは白色荷電粒子１２が第１基板２５に向かって移動する。白色荷電粒子１２の移動に伴って分散媒１４も第１基板２５に向かって移動する。その結果、第２領域２７ｂでは第２基板３側から第１基板２５側に分散媒１４が流動する流れ１４ａが生ずる。

電気泳動分散液１１の第１基板２５側では分散媒１４が第２領域２７ｂから第１領域２７ａに向かって流動する。第１領域２７ａでは分散媒１４が第１基板２５側から第２基板３に向かって流動する。電気泳動分散液１１の第２基板３側では分散媒１４が第１領域２７ａから第２領域２７ｂに向かって流動する。このように分散媒１４の流れ１４ａが巡回する。

そして、流れ１４ａに沿って、白色荷電粒子１２は第１基板２５側に移動し、黒色荷電粒子１３は第２基板３側に移動する。第１電極１０と第２電極１６との間に印加する電圧を逆転するとき、白色荷電粒子１２は第２基板３に向かって移動し、黒色荷電粒子１３は第１基板２５に向かって移動する。このとき、白色荷電粒子１２は第２領域２７ｂを通って移動し、黒色荷電粒子１３は第１領域２７ａを通って移動する。そして、分散媒１４の流れ１４ａが白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３を流動させる。このため、第１基板２５、第２基板３及び隔壁部５に白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３が固着しても白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３を移動させることができる。その結果、白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３が第１基板２５、第２基板３や隔壁部５に固着するときにも、電気泳動表示装置２４は白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３を第１基板２５、第２基板３や隔壁部５から剥離して表示を均一に切り替えることができる。

（第３の実施形態）
次に、電気泳動表示装置の一実施形態について図１０を用いて説明する。図１０は電気泳動表示装置の構造を示す概略分解斜視図である。本実施形態が第１の実施形態と異なるところは、絶縁層は４つの凸部が設置されている点にある。尚、第１の実施形態と同じ点については説明を省略する。

図１０に示すように、電気泳動表示装置３２は第１基板３３及び第２基板３を備え、第１基板３３と第２基板３とで電気泳動分散液１１を挟む構造になっている。第１基板３３は第１基材７を備え、第１基材７上に素子層８、絶縁層３４及び第１電極１０がこの順に積層されている。そして、第１電極１０上に格子状の隔壁部５が設置されている。

画素領域６では絶縁層３４に４つの凸部３４ａが設置されている。凸部３４ａは扇型の斜面を有している。そして、凸部３４ａと対向する場所が第２領域３５ｂである。凸部３４ａの斜面側において凸部３４ａと離れている場所が第１領域３５ａである。

第１電極１０の電位を第２電極１６の電位より低くする。このとき、白色荷電粒子１２は第２領域３５ｂを通って第１基板３３側に移動する。これにより、白色荷電粒子１２の移動に伴って電気泳動分散液１１が流動し流れ１４ａが形成される。そして、黒色荷電粒子１３は第１領域３５ａを通って第２基板３側に移動する。流れ１４ａは画素領域６の中央を軸にして回転する。このため、第１基板３３、第２基板３及び隔壁部５に白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３が固着しても白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３を移動させることができる。その結果、白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３が第１基板３３、第２基板３や隔壁部５に固着するときにも、電気泳動表示装置３２は白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３を第１基板３３、第２基板３や隔壁部５から剥離して表示を均一に切り替えることができる。

（第４の実施形態）
次に、電気泳動表示装置の一実施形態について図１１を用いて説明する。図１１は電気泳動表示装置の構造を示す模式側断面図である。本実施形態が第１の実施形態と異なるところは、第１基板２側の絶縁層は平坦であり、第２基板３に凹凸がある点にある。尚、第１の実施形態と同じ点については説明を省略する。

図１１に示すように、電気泳動表示装置３８は第１基板３９及び第２基板４０を備え、第１基板３９と第２基板４０とで電気泳動分散液１１を挟む構造になっている。第１基板３９は第１基材７を備え、第１基材７上に素子層８、絶縁層４１及び第１電極１０がこの順に積層されている。そして、第１電極１０上に格子状の隔壁部５が設置されている。絶縁層４１は平坦な膜になっている。従って、第１電極１０が電気泳動分散液１１と接する面は平坦な面になっている。

第２基板４０は第２基材１５を備え、第２基材１５上に凹凸層４２、第２電極１６及び接着層１７がこの順に積層されている。凹凸層４２は隔壁部５と対向する場所の厚みが薄くなっている。隔壁部５に囲まれた領域を画素領域４３とするとき画素領域４３の中央では凹凸層４２の厚みが厚くなっている。凹凸層４２の材質は透明で電気泳動分散液１１に影響を及ぼさず成形しやすい材質であれば良く特に限定されない。ガラス、樹脂、酸化シリコンや窒化シリコン等を用いることができる。本実施形態では、例えば、凹凸層４２の材質には低融点ガラスを用いている。

隔壁部５に近い場所に位置する領域を第１領域４３ａとし、隣り合う隔壁部５の中間に位置する領域を第２領域４３ｂとする。第１基板３９と第２基板４０との間隔を基板間距離とする。第２領域４３ｂの基板間距離は第１領域４３ａの基板間距離より短くなっている。

第１電極１０の電位を第２電極１６の電位より低くする。このとき、白色荷電粒子１２は第２領域４３ｂを通って第１基板３９側に移動する。これにより、白色荷電粒子１２の移動に伴って電気泳動分散液１１が流動して流れ１４ａが形成される。流れ１４ａは第１基板３９、隔壁部５及び第２基板４０に沿って流動する。黒色荷電粒子１３は第１領域４３ａを通って第２基板４０側に移動する。このため、第１基板３９、第２基板４０及び隔壁部５に白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３が固着しても白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３を移動させることができる。

本実施形態によれば、第１基材７上に素子層８が設置されている。そして、第１基材７において素子層８側の面は凹凸がない平坦な面になっている。凹凸のある面より平坦な面の方が素子層８を設置し易い。従って、電気泳動表示装置３８は第１基材７上に素子層８を設置し易い構造にすることができる。

（第５の実施形態）
次に、電気泳動表示装置の一実施形態について図１２を用いて説明する。図１２は電気泳動表示装置の構造を示す模式側断面図である。本実施形態が第４の実施形態と異なるところは、第２基板４０における凹凸の形態が異なる点にある。尚、第４の実施形態と同じ点については説明を省略する。

図１２に示すように、電気泳動表示装置４６は第１基板３９及び第２基板４７を備え、第１基板３９と第２基板４７とで電気泳動分散液１１を挟む構造になっている。第２基板４７は第２基材１５を備え、第２基材１５上に凹凸層４８、第２電極１６及び接着層１７がこの順に積層されている。凹凸層４８は隔壁部５と対向する場所の厚みが厚くなっている。隔壁部５に囲まれた領域を画素領域４９とするとき画素領域４９の中央では凹凸層４８の厚みが薄くなっている。凹凸層４８の材質には凹凸層４２と同様の材質を用いることができる。

隔壁部５に近い場所に位置する領域を第２領域４９ｂとし、隣り合う隔壁部５の中間に位置する領域を第１領域４９ａとする。第２領域４９ｂの基板間距離は第１領域４９ａの基板間距離より短くなっている。

第１電極１０の電位を第２電極１６の電位より低くする。このとき、白色荷電粒子１２は第２領域４９ｂを通って第１基板３９側に移動する。これにより、白色荷電粒子１２の移動に伴って電気泳動分散液１１が流動して流れ１４ａが形成される。流れ１４ａは第１基板３９、隔壁部５及び第２基板４７に沿って流動する。黒色荷電粒子１３は第１領域４９ａを通って第２基板４７側に移動する。このため、第１基板３９、第２基板４７及び隔壁部５に白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３が固着しても白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３を移動させることができる。

本実施形態によれば、第１基材７上に素子層８が設置されている。そして、第１基材７において素子層８側の面は凹凸がない平坦な面になっている。凹凸のある面より平坦な面の方が素子層８を設置し易い。従って、電気泳動表示装置４６は第１基材７上に素子層８を設置し易い構造にすることができる。

（第６の実施形態）
次に、電気泳動表示装置を搭載した電子機器の一実施形態について図１３を用いて説明する。図１３（ａ）は電子ブックの構造を示す概略斜視図であり、図１３（ｂ）は腕時計の構造を示す概略斜視図である。図１３（ａ）に示すように、電子機器としての電子ブック５２は板状のケース５３を備えている。ケース５３には蝶番５４を介して蓋部５５が設置されている。さらに、ケース５３には操作ボタン５６と表示部５７とが設置されている。操作者は操作ボタン５６を操作して表示部５７に表示する内容を操作することができる。

ケース５３の内部には電子ブック５２を制御する制御部５８と表示部５７を駆動する駆動部５９が設置されている。制御部５８は駆動部５９に表示データを出力する。駆動部５９は表示データを入力して表示部５７を駆動する。そして、駆動部５９は表示部５７に表示データに対応する内容を表示させる。表示部５７には電気泳動表示装置１、電気泳動表示装置２４、電気泳動表示装置３２、電気泳動表示装置３８及び電気泳動表示装置４６のいずれかが用いられている。従って、電子ブック５２は表示を均一に切り替えることができる電気泳動表示装置を表示部５７に用いた装置とすることができる。

図１３（ｂ）に示すように、電子機器としての腕時計６２は板状のケース６３を備えている。ケース６３にはバンド６４が設置され、操作者はバンド６４を腕に巻いて腕時計６２を腕に固定することができる。さらに、ケース６３には操作ボタン６５と表示部６６とが設置されている。操作者は操作ボタン６５を操作して表示部６６に表示する内容を操作することができる。

ケース６３の内部には腕時計６２を制御する制御部６７と表示部６６を駆動する駆動部６８が設置されている。制御部６７は駆動部６８に表示データを出力する。駆動部６８は表示データを入力して表示部６６を駆動する。そして、駆動部６８は表示部６６に表示データに対応する内容を表示させる。そして、表示部６６には電気泳動表示装置１、電気泳動表示装置２４、電気泳動表示装置３２、電気泳動表示装置３８及び電気泳動表示装置４６のいずれかが用いられている。従って、腕時計６２は表示を均一に切り替えることができる電気泳動表示装置を表示部６６に用いた装置とすることができる。

尚、本実施形態は上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想内で当分野において通常の知識を有する者により種々の変更や改良を加えることも可能である。変形例を以下に述べる。
（変形例１）
前記第１の実施形態では、電気泳動分散液１１に白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３を設置した。白色荷電粒子１２及び黒色荷電粒子１３に代えて、赤色、緑色、青色等の荷電粒子を用いてもよい。この構成によれば、赤色、緑色、青色等を表示することでカラー表示を行うことができる。

（変形例２）
前記第１の実施形態では、１つの画素領域６に１つの第１電極１０が設置された。１つの画素領域６に複数の第１電極１０を設置してもよい。表示を細分化することができる。

（変形例３）
前記第１の実施形態では白色荷電粒子１２を正極に帯電させて、黒色荷電粒子１３を負極に帯電させた。白色荷電粒子１２を負極に帯電させて、黒色荷電粒子１３を正極に帯電させても良い。制御しやすい帯電状態にしてもよい。

（変形例４）
前記第３の実施形態では、画素領域６に４つの凸部３４ａが設置された。凸部３４ａの数は１つ〜３つでも良く、５つ以上でも良い。電気泳動分散液１１が流動し易い構造にすることができる。

１，２４，３２，３８，４６…電気泳動表示装置、２，２５，３３，３９…第１基板、３，４０，４７…第２基板、５…隔壁部、６，２７，４３，４９…画素領域、６ａ，２７ａ，３５ａ，４３ａ，４９ａ…第１領域、６ｂ，２７ｂ，３５ｂ，４３ｂ，４９ｂ…第２領域、８…素子層、８ｃ…半導体素子、９，２６，３４，４１…絶縁層、１０…第１電極、１１…電気泳動分散液、１６…第２電極、２１ａ，２９ａ…基板間距離としての第１基板間距離、２１ｂ，２９ｂ…基板間距離としての第２基板間距離、５２…電子機器としての電子ブック、５７，６６…表示部、５９，６８…駆動部、６２…電子機器としての腕時計。

Claims (6)

1. 第１電極が設置された第１基板と、
   前記第１基板と対向し第２電極が設置された第２基板と、
   前記第１基板と前記第２基板との間に位置し画素領域を区画する隔壁部と、
   前記画素領域に充填され分散媒及び荷電粒子を含む電気泳動分散液と、を備え、
   前記第１基板と前記第２基板との間の距離を基板間距離とするとき、前記画素領域には第１領域と前記第１領域より前記基板間距離の短い第２領域とを有することを特徴とする電気泳動表示装置。
2. 請求項１に記載の電気泳動表示装置であって、
   前記第１領域は前記第２領域より前記隔壁部に近いことを特徴とする電気泳動表示装置。
3. 請求項１または２に記載の電気泳動表示装置であって、
   前記第１基板には半導体素子が設置された素子層と絶縁層と前記第１電極とがこの順に重ねて設置され、
   前記絶縁層は前記第１領域に比べて前記第２領域が前記第２基板側に突出することを特徴とする電気泳動表示装置。
4. 請求項１または２に記載の電気泳動表示装置であって、
   前記第１基板には半導体素子が設置され、前記第２基板は前記第１領域に比べて前記第２領域が前記第１基板側に突出することを特徴とする電気泳動表示装置。
5. 表示部と、前記表示部を駆動する駆動部と、を備え、
   前記表示部は請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気泳動表示装置であることを特徴とする電子機器。
6. 第１基板上に半導体素子が設置された素子層を設置し、
   前記素子層に重ねて凹凸のある絶縁層を設置し、
   前記絶縁層に重ねて第１電極を設置し、
   前記第１基板上に画素領域を区画する隔壁部を設置し、
   前記画素領域に分散媒及び荷電粒子を含む電気泳動分散液を充填し、
   前記隔壁部に重ねて第２電極を有する第２基板を設置することを含み、
   前記凹凸は、前記画素領域毎に存在することを特徴とする電気泳動表示装置の製造方法。

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