JP2016143839A - Electronic component built-in multilayer wiring board and manufacturing method of the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電子部品を内蔵する電子部品内蔵多層配線基板及びその製造方法に関し、特に製造工程及び構成材料の簡略化を図ることができる電子部品内蔵多層配線基板及びその製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to an electronic component built-in multilayer wiring board that incorporates electronic components and a method for manufacturing the same, and more particularly to an electronic component built-in multilayer wiring board that can simplify the manufacturing process and constituent materials and the method for manufacturing the same.
電子部品を内蔵しモジュール化された電子部品内蔵多層配線基板として、例えば下記特許文献1に開示されたものが知られている。このような電子部品内蔵多層配線基板は、例えば中間層に当たるプリント配線基板に開口部を設けて電子部品を収容している。また、半田付け等で電子部品を実装した後、アンダーフィルや樹脂封止等のモールド工程が行われる。そして、その後に個片化等の加工工程が行われて製造される。従って、種々の工程や材料を組み合わせて製造されている。 As an electronic component built-in multilayer wiring board having a built-in electronic component and modularized, for example, one disclosed in Patent Document 1 below is known. Such a multilayer wiring board with built-in electronic components accommodates electronic components by providing openings in, for example, a printed wiring board corresponding to an intermediate layer. Moreover, after mounting electronic components by soldering or the like, a molding process such as underfill or resin sealing is performed. And after that, a manufacturing process such as singulation is performed and manufactured. Therefore, it is manufactured by combining various processes and materials.
上述したような従来技術の電子部品内蔵多層配線基板では、例えば繰り返し与えられる熱履歴にも耐え得るべく、複数回のリフロー耐性が求められる。このため、基材と封止樹脂、電子部品と封止樹脂、電子部品とアンダーフィル材、及びアンダーフィル材と基材等のそれぞれの部材同士の親和性、すなわち熱膨張係数のマッチングや材料同士の密着性などの相性を高める必要がある。 The multilayer electronic circuit board with a built-in electronic component as described above is required to have reflow resistance multiple times in order to withstand, for example, repeated heat history. For this reason, the affinity between each member such as the base material and the sealing resin, the electronic component and the sealing resin, the electronic component and the underfill material, and the underfill material and the base material, that is, the matching of the thermal expansion coefficients and the materials It is necessary to improve compatibility such as adhesion.
このため、試行錯誤的に材料選定と製造工程の条件出し等の作業が必要となり、モールド工程を含む製造工程の簡略化や基板全体の構成材料の簡素化を図ることは難しかった。また、複数回の熱履歴を含む工程設計を行うと、基板全体の製造工程数が多くなり構成材料等が多岐にわたるため、基板の平坦性を高めると共に信頼性を向上させることは困難であった。 For this reason, work such as material selection and manufacturing process condition determination is required on a trial and error basis, and it has been difficult to simplify the manufacturing process including the molding process and the constituent materials of the entire substrate. In addition, when a process design including a plurality of thermal histories is performed, the number of manufacturing processes for the entire substrate increases and the constituent materials and the like are diverse, so it is difficult to improve the flatness of the substrate and improve the reliability. .
本発明は、上述した従来技術による問題点を解消し、モールド工程を不要として製造工程の簡略化及び構成材料の簡素化を図りつつ、基板の平坦性及び信頼性を高めることができる電子部品内蔵多層配線基板及びその製造方法を提供することを目的とする。 The present invention eliminates the problems caused by the prior art described above, eliminates the molding process, simplifies the manufacturing process and simplifies the constituent materials, and improves the flatness and reliability of the substrate. An object of the present invention is to provide a multilayer wiring board and a manufacturing method thereof.
本発明に係る電子部品内蔵多層配線基板は、複数の第1のプリント配線基板を積層して構成される多層配線基板と、前記多層配線基板上に実装される第1の電子部品と、前記多層配線基板上に積層される複数の第2のプリント配線基板からなる積層体とを備え、前記積層体は、前記多層配線基板上に実装された第1の電子部品を内部に封止するように上方が閉じられた第1の開口部を備えていることを特徴とする。 An electronic component built-in multilayer wiring board according to the present invention includes a multilayer wiring board configured by laminating a plurality of first printed wiring boards, a first electronic component mounted on the multilayer wiring board, and the multilayer. A laminated body composed of a plurality of second printed wiring boards stacked on the wiring board, and the laminated body seals the first electronic component mounted on the multilayer wiring board inside. It has the 1st opening part by which upper direction was closed, It is characterized by the above-mentioned.
本発明に係る電子部品内蔵多層配線基板によれば、多層配線基板上に積層される積層体が、多層配線基板上に実装された第1の電子部品を内部に封止するように上方が閉じられた第1の開口部を備えている。このため、別途第1の電子部品を封止するためのモールド工程が不要となるので、製造工程の大幅な簡略化を図ることができると共に熱履歴を少なくして信頼性を高めることが可能となる。 According to the multilayer wiring board with built-in electronic components according to the present invention, the upper layer is closed so that the laminated body laminated on the multilayer wiring board seals the first electronic component mounted on the multilayer wiring board inside. The first opening is provided. This eliminates the need for a separate molding step for sealing the first electronic component, which can greatly simplify the manufacturing process and reduce the thermal history to increase reliability. Become.
本発明の一実施形態においては、前記第1の開口部は、前記第1の電子部品の前記多層配線基板上の実装位置及び実装高さに合わせて形成されている。 In an embodiment of the present invention, the first opening is formed in accordance with a mounting position and a mounting height of the first electronic component on the multilayer wiring board.
本発明の他の実施形態においては、前記多層配線基板は、第2の開口部を備え、第2の電子部品を前記第2の開口部内に内蔵する。 In another embodiment of the present invention, the multilayer wiring board includes a second opening, and a second electronic component is built in the second opening.
本発明の更に他の実施形態においては、前記積層体は、前記多層配線基板と電気的に非接続な状態で積層されている。 In still another embodiment of the present invention, the laminate is laminated in an electrically non-connected state with the multilayer wiring board.
本発明の更に他の実施形態においては、前記第1の電子部品は、前記多層配線基板と電気的に非接続なダミー部品を含む。これにより、基板の平坦性を高めることができる。 In still another embodiment of the present invention, the first electronic component includes a dummy component that is not electrically connected to the multilayer wiring board. Thereby, the flatness of the substrate can be improved.
本発明の更に他の実施形態においては、前記第1及び第2のプリント配線基板は、その絶縁層、配線層及び接着層が同一種類又は同一特性の材料で形成されている。これにより、構成材料の簡素化を図ることができる In still another embodiment of the present invention, the first and second printed wiring boards have the insulating layer, the wiring layer, and the adhesive layer formed of materials of the same type or the same characteristics. Thereby, simplification of a constituent material can be achieved.
本発明に係る部品内蔵多層配線基板の製造方法は、複数の第1及び第2のプリント配線基板を作製する工程と、作製された複数の第1のプリント配線基板を積層して多層配線基板を作製する工程と、作製された複数の第2のプリント配線基板のうちの所定の第2のプリント配線基板に、第1の電子部品を封止可能な第1の開口部を形成する工程と、前記所定の第2のプリント配線基板を前記第1の開口部内に前記第1の電子部品が収容可能となるように積層すると共に、少なくとも一つの前記第2のプリント配線基板を前記第1の開口部を塞ぐように積層して積層体を作製する工程と、前記多層配線基板上に前記第1の電子部品を実装する工程と、前記第1の電子部品が実装された多層配線基板上に、前記第1の開口部内に前記第1の電子部品が収まるように前記積層体を配置する工程と、前記多層配線基板及び前記積層体を、前記第1の電子部品が前記第1の開口部の内部で封止されるように熱圧着により一括積層する工程とを備えたことを特徴とする。 A method of manufacturing a multilayer wiring board with built-in components according to the present invention includes a step of manufacturing a plurality of first and second printed wiring boards, and a multilayer wiring board formed by laminating a plurality of manufactured first printed wiring boards. A step of forming, and a step of forming a first opening capable of sealing the first electronic component in a predetermined second printed wiring board among the plurality of second printed wiring boards manufactured, The predetermined second printed wiring board is stacked in the first opening so that the first electronic component can be accommodated, and at least one second printed wiring board is placed in the first opening. Laminating so as to block the part, producing a laminate, mounting the first electronic component on the multilayer wiring board, and on the multilayer wiring board on which the first electronic component is mounted, The first electronic part in the first opening And stacking the multilayer wiring board and the stacked body together by thermocompression bonding so that the first electronic component is sealed inside the first opening. And a step of performing.
本発明に係る電子部品内蔵多層配線基板の製造方法によれば、上記本発明に係る電子部品内蔵多層配線基板の作用効果と同様の作用効果を奏することができる。 According to the method for manufacturing an electronic component built-in multilayer wiring board according to the present invention, the same operational effects as those of the electronic component built-in multilayer wiring board according to the present invention can be obtained.
本発明の一実施形態においては、前記多層配線基板を作製する工程では、前記複数の第1のプリント配線基板のうちの所定の第1のプリント配線基板に、第2の電子部品を収容可能な第2の開口部を形成した上で、前記第2の開口部内に前記第2の電子部品を内蔵した状態で前記複数の第1のプリント配線基板を熱圧着により一括積層する。 In one embodiment of the present invention, in the step of manufacturing the multilayer wiring board, a second electronic component can be accommodated in a predetermined first printed wiring board of the plurality of first printed wiring boards. After the second opening is formed, the plurality of first printed wiring boards are collectively laminated by thermocompression bonding with the second electronic component built in the second opening.
本発明の他の実施形態においては、前記一括積層する工程では、前記積層体は前記多層配線基板と電気的に非接続な状態で熱圧着される。 In another embodiment of the present invention, in the batch stacking step, the stacked body is thermocompression bonded in a state where it is not electrically connected to the multilayer wiring board.
本発明によれば、多層配線基板上に積層される積層体が、多層配線基板上に実装された第1の電子部品を内部に封止するように上方が閉じられた第1の開口部を備えているので、別途第1の電子部品を封止するためのモールド工程が不要となり、製造工程の簡略化を図り信頼性を高めることができる。 According to the present invention, the laminated body laminated on the multilayer wiring board has the first opening whose top is closed so as to seal the first electronic component mounted on the multilayer wiring board inside. Since it is provided, a molding process for sealing the first electronic component is not required, and the manufacturing process can be simplified and the reliability can be improved.
以下、添付の図面を参照して、本発明の実施の形態に係る電子部品内蔵多層配線基板及びその製造方法を詳細に説明する。 Hereinafter, a multilayer wiring board with built-in electronic components and a method for manufacturing the same according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
[第1の実施形態]
図1は、本発明の第1の一実施形態に係る電子部品内蔵多層配線基板1の構造を示す断面図、図2は電子部品内蔵多層配線基板1の製造工程を示すフローチャートである。また、図3は、電子部品内蔵多層配線基板1における電子部品内蔵モジュール基板100の製造工程を示すフローチャート、図4は電子部品内蔵多層配線基板1における積層体200の製造工程を示すフローチャートである。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a structure of a multilayer wiring board 1 with built-in electronic components according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a flowchart showing manufacturing steps of the multilayer wiring board 1 with built-in electronic components. FIG. 3 is a flowchart showing a manufacturing process of the electronic component built-in
また、図5は、電子部品内蔵多層配線基板1における電子部品内蔵モジュール基板100の製造工程を示す断面図、図6は電子部品内蔵多層配線基板1における積層体200の製造工程を示す断面図である。更に、図7は、電子部品内蔵多層配線基板1における積層体200の分解斜視図、図8は電子部品内蔵多層配線基板1の製造工程を示す断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the electronic component built-in
図1に示すように、第1の実施形態に係る電子部品内蔵多層配線基板1は、多層配線基板としての電子部品内蔵モジュール基板100と、この電子部品内蔵モジュール基板100上に積層された積層体200とを備えている。電子部品内蔵多層配線基板1は、電子部品内蔵モジュール基板100と積層体200とを、例えば熱圧着により一括積層した構造を備えている。
As shown in FIG. 1, an electronic component built-in multilayer wiring board 1 according to the first embodiment includes an electronic component built-in
図1及び図5に示すように、電子部品内蔵モジュール基板100は、例えば第1層プリント配線基板10、第2層プリント配線基板20、第3層プリント配線基板30及び第4層プリント配線基板40からなる。電子部品内蔵モジュール基板100を構成するプリント配線基板の数は、これに限定されるものではない。また、電子部品内蔵モジュール基板100は、例えば第3層プリント配線基板30に形成された第2の開口部290内に、第2の電子部品としての内蔵部品210を内蔵してなる。第2の開口部290は、内部に内蔵部品210を収容して封止可能な大きさ(高さ及び開口径)となるように形成されている。
As shown in FIGS. 1 and 5, the electronic component built-in
一方、図1及び図6に示すように、積層体200は、例えば第5層プリント配線基板50、第6層プリント配線基板60、第7層プリント配線基板70、第8層プリント配線基板80及び第9層プリント配線基板90からなる。積層体20を構成するプリント配線基板の数は、これに限定されるものではない。積層体200は、電子部品内蔵モジュール基板100上に実装された第1の電子部品としての実装部品105A、実装部品105B及びダミー部品106を、電子部品内蔵モジュール基板100と共に封止する第1の開口部としての封止用開口部110A、封止用開口部110B、封止用開口部110Cを有する。
On the other hand, as shown in FIGS. 1 and 6, the
なお、電子部品内蔵モジュール基板100の第1層〜第4層プリント配線基板10〜40は、本発明における第1のプリント配線基板として機能する。また、積層体200の第5層〜第9層プリント配線基板50〜90は、本発明における第2のプリント配線基板として機能する。これら第1層〜第9層プリント配線基板は、一例としてFPC(Flexible Printed Circuit)により構成されている。また、第5層〜第9層プリント配線基板50〜90の絶縁層、配線層及び接着層は、第1層〜第4層プリント配線基板10〜40の絶縁層、配線層及び接着層と同一種類又は同一特性の材料で形成されている。
In addition, the 1st layer-4th layer printed wiring board 10-40 of the electronic component built-in
図1及び図5に示すように、電子部品内蔵モジュール基板100の第1層プリント配線基板10、第2層プリント配線基板20及び第4層プリント配線基板40は、例えば片面CCL(片面配線基板)からなる。そして、第3層プリント配線基板30は、例えば両面CCL(両面配線基板)からなる。また、積層体200の第5層〜第9層プリント配線基板50〜90は、例えば片面CCLからなる。これら第1層〜第9層プリント配線基板10〜90は、回路設計によって適宜片面CCL及び両面CCLを選択し得る。
As shown in FIGS. 1 and 5, the first-layer printed
第1層〜第4層プリント配線基板10〜40は、それぞれ絶縁層である第1樹脂基材11、第2樹脂基材21、第3樹脂基材31及び第4樹脂基材41を備える。第1層プリント配線基板10、第2層プリント配線基板20及び第4層プリント配線基板40は、第1樹脂基材11、第2樹脂基材21及び第4樹脂基材41の一方の面(片面)に形成された配線パターン等の配線回路12、配線回路22、配線回路42を備える。これら配線回路12、配線回路22及び配線回路42は、配線層として機能する。
The first to fourth layer printed
第3層プリント配線基板30は、第3樹脂基材31の一方及び他方の面(両面)にそれぞれ形成された配線パターン等の配線回路32を備える。また、第3層プリント配線基板30は、第3樹脂基材31にレーザ加工やドリル加工等により貫通形成された第2の開口部290を備える。
The third layer printed
第1層プリント配線基板10、第2層プリント配線基板20及び第4層プリント配線基板40は、図5に示すように、第1樹脂基材11、第2樹脂基材21及び第4樹脂基材41の配線回路12、配線回路22及び配線回路42側とは反対側に形成された接着層9a、接着層9b及び接着層9cを備える。接着層9a、接着層9b及び接着層9cは、例えばエポキシ系やアクリル系の接着剤など、揮発成分が含まれた有機系接着剤等からなる。
As shown in FIG. 5, the first layer printed
更に、第1層プリント配線基板10、第2層プリント配線基板20及び第4層プリント配線基板40は、第1樹脂基材11、第2樹脂基材21並びに第4樹脂基材41及び接着層9a、接着層9b並びに接着層9cに形成された貫通孔内に導電性ペーストを充填して形成されたビア13、ビア23及びビア43を備える。また、第3層プリント配線基板30は、メッキのビア33を備えている。このメッキのビア33は、第3樹脂基材31の一方の面側の配線回路32を貫通させることなく、他方の配線回路32側からレーザやドリル等を用いて形成した貫通孔内にメッキを施した構造を備える。
Further, the first layer printed
このビア33は、例えば銅メッキにより形成されている。ビア33が上記のようにメッキにより構成された場合、一方の配線回路32上には図示しないメッキ層が形成される。その他、ビア33は、図示は省略するが、第3樹脂基材31に形成された貫通孔内に導電性ペーストを充填して形成されてもよい。
The via 33 is formed by, for example, copper plating. When the via 33 is formed by plating as described above, a plating layer (not shown) is formed on one
また、ビア33は、各配線回路32間を貫通するスルーホール(TH)内にメッキを施した構造のメッキスルーホールにより構成されてもよい。このように形成されたビア13、ビア23及びビア43は第1層〜第4層プリント配線基板10〜40の各配線回路12〜42間を電気的に層間接続し、ビア33は第3層プリント配線基板30の両面側に形成された配線回路32間を電気的に接続する。
Further, the via 33 may be configured by a plated through hole having a structure in which plating is performed in a through hole (TH) penetrating between the
内蔵部品210は、電極210aが第2層プリント配線基板20のビア23と接続された状態で、第3層プリント配線基板30の第2の開口部290内に収容されている。内蔵部品210は、第2の開口部290内において、例えば熱圧着時に流動して流れ込んだ後述する接着層9b及び接着層9cにより封止されている。
The built-in
なお、電子部品内蔵モジュール基板100は、例えば図5(c)に示すように、第4層プリント配線基板40における第4樹脂基材41の配線回路42側に形成された接着層49及びビア48を更に備えている。接着層49は、接着層9a、接着層9b及び接着層9cと同様の材料からなり、ビア48は部品実装用に形成されている。
The electronic component built-in
一方、図1及び図6に示すように、積層体200の第5層〜第8層プリント配線基板50〜80は、例えば両面CCLからなる。また、第9層プリント配線基板90は、例えば片面CCLからなる。第5層〜第9層プリント配線基板50〜90は、それぞれ絶縁層である第5樹脂基材51、第6樹脂基材61、第7樹脂基材71、第8樹脂基材81及び第9樹脂基材91を備える。
On the other hand, as shown in FIG.1 and FIG.6, the 5th layer-8th layer printed wiring boards 50-80 of the
また、第5層〜第8層プリント配線基板50〜80は、第5〜第8樹脂基材51〜81の一方及び他方の面(両面)に形成された配線パターン等の配線回路52、配線回路62、配線回路72及び配線回路82を備える。更に、第9層プリント配線基板90は、第9樹脂基材91の一方の面(片面)に形成された配線パターン等の配線回路92を備える。これら配線回路52〜92は、配線層として機能する。
In addition, the fifth to eighth layer printed
なお、第1の実施形態における積層体200の第9層プリント配線基板90の配線回路92は、例えば第9樹脂基材91の片面を塗り潰すようなベタパターンで形成されている。そして、その他の第5層〜第8層プリント配線基板50〜80の配線回路52〜82は、例えば積層方向に互いに重なる位置にパターン形成されている。
In addition, the
積層体200は、第1の実施形態においては電子部品内蔵モジュール基板100上に、この電子部品内蔵モジュール基板100と電気的に非接続な状態で積層されている。また、積層体200における各配線回路52〜92は、互いに層間接続されていないダミー配線回路である。
In the first embodiment, the
第5層〜第8層プリント配線基板50〜80は、図6に示すように、それぞれ各樹脂基材51〜81の一方の面側に形成された接着層19a、接着層19b、接着層19c及び接着層19dを備える。第9層プリント配線基板90は、樹脂基材91の配線回路92側とは反対側に形成された接着層99を備える。これら接着層19a〜19d及び接着層99は、電子部品内蔵モジュール基板100の接着層9a〜9c及び接着層48と同一種類又は同一特性の材料からなる。
As shown in FIG. 6, the fifth to eighth layer printed
図6及び図7に示すように、積層体200の封止用開口部110A、封止用開口部110B及び封止用開口部110Cは、例えば次のように構成されている。すなわち、封止用開口部110Aは、第5層プリント配線基板50に貫通形成された開口孔110Aaと、第6層プリント配線基板60に貫通形成された開口孔110Abとを積層方向に組み合わせてなる。
As shown in FIGS. 6 and 7, the sealing opening 110 </ b> A, the sealing opening 110 </ b> B, and the sealing opening 110 </ b> C of the
また、封止用開口部110Bは、第5層〜第8層プリント配線基板50〜80に貫通形成された開口孔110Ba、開口孔110Bb、開口孔110Bc及び開口孔110Bdを積層方向に組み合わせてなる。更に、封止用開口部110Cは、第5層プリント配線基板50に貫通形成された開口孔110Caからなる。
Further, the sealing
すなわち、これら封止用開口部110A、封止用開口部110B及び封止用開口部110Cは、例えば実装部品105A並びに実装部品105B及びダミー部品106の電子部品内蔵モジュール基板100上の実装位置及び実装高さに合わせて、それぞれ貫通形成された各開口孔110Aa〜110Caを積層方向に組み合わせて構成されている。
That is, the sealing
そして、封止用開口部110Aは、第5層プリント配線基板50及び第6層プリント配線基板60に貫通形成された開口孔110Aa及び開口孔110Abが、第7層プリント配線基板70により蓋をされることにより上方が閉じられた状態で形成されている。また、封止用開口部110Bは、第5層〜第8層プリント配線基板50〜80に貫通形成された開口孔110Ba、開口孔110Bb、開口孔110Bc及び開口孔110Bdが、第9層プリント配線基板90により蓋をされることにより上方が閉じられた状態で形成されている。更に、封止用開口部110Cは、第5層プリント配線基板50に貫通形成された開口孔110Caが、第6層プリント配線基板60により蓋をされることにより上方が閉じられた状態で形成されている。
In addition, the opening 110Aa and the opening 110Ab that are formed through the fifth layer printed
そして、封止用開口部110A内に収容された実装部品105Aは、封止用開口部110A内において、接着層48、接着層19a、接着層19b及び接着層19cにより封止されている。また、封止用開口部110B内に収容された実装部品105Bは、接着層48、接着層19a、接着層19b、接着層19c、接着層19d及び接着層99により封止されている。更に、封止用開口部110C内に収容されたダミー部品106は、接着層48、接着層19a及び接着層19bにより封止されている。
The mounting
電子部品内蔵モジュール基板100の第1層〜第4層プリント配線基板10〜40及び積層体200の第5層〜第9層プリント配線基板50〜90は、例えば次のように構成されている。すなわち、第1〜第9樹脂基材11〜91は、例えば樹脂フィルムにより構成されている。
The first to fourth layer printed
樹脂フィルムとしては、ポリイミド(PI)、ポリアミド(PA)、ポリオレフィン(PO)、液晶ポリマー(LCP)等からなる樹脂フィルムを用いることができる。また、その他の樹脂フィルムとしては、熱硬化性のエポキシ樹脂等からなる樹脂フィルムなどを用いることができる。 As the resin film, a resin film made of polyimide (PI), polyamide (PA), polyolefin (PO), liquid crystal polymer (LCP), or the like can be used. Moreover, as another resin film, the resin film etc. which consist of a thermosetting epoxy resin etc. can be used.
配線回路12〜92は、例えば銅箔などの導電材をパターン形成してなる。また、ビア13、ビア23、ビア43及びビア48(ビア33が導電性ペーストからなる場合はビア33を含む)を構成する導電性ペーストは、少なくとも1種類の低電気抵抗の金属粒子と、少なくとも1種類の低融点の金属粒子とを含む。
The
上述した低電気抵抗の金属粒子は、例えばニッケル(Ni)、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、鉄(Fe)等から選択される。また、上述した低融点の金属粒子は、錫(Sn)、ビスマス(Bi)、インジウム(In)、鉛(Pb)等から選択される。 The low electrical resistance metal particles described above are selected from, for example, nickel (Ni), gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), aluminum (Al), iron (Fe), and the like. The low melting point metal particles described above are selected from tin (Sn), bismuth (Bi), indium (In), lead (Pb), and the like.
そして、導電性ペーストは、上述したこれらの金属粒子に、エポキシ、アクリル、ウレタン等を主成分とするバインダ成分を混合したペーストからなる。このような導電性ペーストは、含有された低融点の金属が例えば200℃以下の温度で溶融し合金を形成することができる。この導電性ペーストは、特に、銅や銀などとは金属間化合物を形成することができる特性を備える。 The conductive paste is made of a paste obtained by mixing these metal particles with a binder component mainly composed of epoxy, acrylic, urethane, or the like. In such a conductive paste, the contained low melting point metal can be melted at a temperature of, for example, 200 ° C. or less to form an alloy. This conductive paste has characteristics that can form intermetallic compounds with copper and silver.
すなわち、詳細な図示は省略するが、例えば第1プリント配線基板10及び第2層プリント配線基板20を例に挙げ、これらを熱圧着した場合には、導電性ペーストからなるビア13の積層方向両端部と配線回路12及び配線回路22との接触部分(接続面)は、金属間化合物により合金化される。これにより、ビア13と配線回路12及び配線回路22とは、強固且つ確実に電気的に接続される。
That is, although detailed illustration is omitted, for example, the first printed
このように、ビア13、ビア23、ビア43及びビア48と配線回路12、配線回路22、配線回路32及び配線回路42との接触部分は、例えば一括積層の熱圧着時に金属間化合物により合金化される。また、同様に内蔵部品210の電極210aとビア23との接触部分は金属間化合物により合金化される。
Thus, the contact portions of the via 13, the via 23, the via 43, and the via 48 with the
更に、実装部品105A及び実装部品105Bやダミー部品106を電子部品内蔵モジュール基板100上に実装した後の熱圧着時には、一例としてダミー部品106の電極106aとビア48との接触部分は、同様に合金化される。
Further, at the time of thermocompression bonding after mounting the mounted
なお、導電性ペーストは、例えば粒子径がナノレベルの金、銀、銅、ニッケル等のフィラーが、上記のようなバインダ成分に混合されたナノペーストで構成することもできる。その他、導電性ペーストは、上記ニッケル等の金属粒子が、上記のようなバインダ成分に混合されたペーストで構成することもできる。 The conductive paste can also be constituted by a nanopaste in which fillers such as gold, silver, copper, nickel, etc. having a nanometer particle diameter are mixed with the binder component as described above. In addition, the conductive paste can also be configured by a paste in which metal particles such as nickel are mixed with the binder component as described above.
この場合、導電性ペーストは、金属粒子同士が接触することで電気的接続が行われる特性となる。このような導電性ペーストの貫通孔内への充填方法としては、例えば印刷工法、スピン塗布工法、スプレー塗布工法、ディスペンス工法、ラミネート工法、及びこれらを併用した各種工法などを用いることができる。 In this case, the conductive paste has a characteristic that electrical connection is made when the metal particles come into contact with each other. As a method for filling such through holes in the conductive paste, for example, a printing method, a spin coating method, a spray coating method, a dispensing method, a laminating method, and various methods using these in combination can be used.
電子部品内蔵モジュール基板100に内蔵される内蔵部品210は、例えばトランジスタ、集積回路(IC)、ダイオード等の半導体素子からなる。電子部品内蔵モジュール基板100上に実装される実装部品105A及び実装部品105Bは、例えば抵抗器、コンデンサ、リレー、圧電素子等からなる。
The built-in
また、電子部品内蔵モジュール基板100上に実装されるダミー部品106は、電子部品内蔵多層配線基板1の強度や平坦性、或いは可撓性を調整するために用いられる。このダミー部品106は、例えばその電極106aが、第4層プリント配線基板40の他の配線回路42とは電気的に独立するように形成されたダミーの配線回路42上のビア48と接するように実装されている。従って、ダミー部品106は、電子部品内蔵モジュール基板100と電気的に非接続な状態で実装されている。
The
電子部品内蔵多層配線基板1は、このように構成されることにより、樹脂封止やアンダーフィル等の工程を経ることなく、実装部品105A及び実装部品105Bやダミー部品106を第5層〜第9層プリント配線基板50〜90を積層した積層体200により内部に封止した状態で内蔵することができる。すなわち、電子部品内蔵モジュール基板100上における実装高さの異なる実装部品105A及び実装部品105Bやダミー部品106を、例えば別途金型を作製してモールド加工等することなく、熱圧着による一括積層で実装・封止・内蔵することができる。
The electronic component built-in multilayer wiring board 1 is configured in this manner, so that the mounting
このように、積層体200を電子部品内蔵モジュール基板100上のモールドの代替として機能させることができる。また、電子部品内蔵モジュール基板100及び積層体200の各部材の材料を同一種類や同一特性のものとすれば、部材間の熱膨張係数をマッチングさせたり材料費を削減したりすることができる。従って、電子部品内蔵多層配線基板1の製造工程の簡略化及び構成材料の簡素化を図ることが可能となる。
In this way, the laminate 200 can function as a substitute for the mold on the electronic component built-in
更に、各部材の熱膨張係数がマッチングされた上で、熱圧着による一括積層で電子部品内蔵多層配線基板1を製造することができるので、従来よりも熱履歴を少なくすることができる。これにより、電子部品内蔵多層配線基板1の全体の信頼性を向上させることが可能となる。 Further, since the electronic component built-in multilayer wiring board 1 can be manufactured by batch lamination by thermocompression bonding after the thermal expansion coefficients of the respective members are matched, the thermal history can be reduced as compared with the prior art. As a result, it is possible to improve the overall reliability of the electronic component built-in multilayer wiring board 1.
また、電子部品内蔵モジュール基板100の配線回路12〜42の構成や、実装部品105A及び実装部品105B或いはダミー部品106の実装位置や実装高さ等に合わせて積層体200の構成を自在に選択することができる。すなわち、電子部品内蔵モジュール基板100の平坦性や可撓性に則した積層体200を構成して、モールドの代替として一括積層工程にて容易に実装することができる。このため、電子品内蔵多層配線基板1の全体の平坦性や可撓性を高めることが可能となる。
Further, the configuration of the
次に、第1の実施形態に係る電子部品内蔵多層配線基板1の製造方法について、図2〜図4のフローチャートを参照しながら説明する。
図2に示すように、まず、複数の第1及び第2のプリント配線基板として、第1層〜第9層プリント配線基板10〜90を作製する(ステップS100)。なお、内蔵部品210や実装部品105A及び実装部品105B或いはダミー部品106は、別途予め準備又は作製しておくとよい。
Next, the manufacturing method of the electronic component built-in multilayer wiring board 1 according to the first embodiment will be described with reference to the flowcharts of FIGS.
As shown in FIG. 2, first, the first to ninth layer printed
第3層プリント配線基板30を除く第1層〜第9層プリント配線基板10〜90については、まず、第1〜第9樹脂基材11〜91の一方の面にベタ状態(ベタパターン)の銅箔等からなる導体層が形成された片面CCLを準備する。一方、第3層プリント配線基板30については、第3樹脂基材の両面にベタ状態の銅箔等からなる導体層が形成された両面CCLを準備する。
For the first to ninth layer printed
次に、第9樹脂基材の導体層を除く第1〜第8樹脂基材11〜81の導体層上に、例えばフォトリソグラフィによりエッチングレジストを形成してからエッチングを行って、図1に示すような配線回路12〜82をパターン形成する。ここで、片面CCLは、例えば厚さ12μm程度の銅箔等からなる導体層に、厚さ20μm程度の樹脂基材を貼り合わせた構造からなる。
Next, etching is performed after forming an etching resist on the conductor layers of the first to eighth
導体層が銅からなる場合は、片面CCLとしては、例えば公知のキャスティング法により、銅箔にポリイミドのワニスを塗布してそのワニスを硬化させて作製されたものを用いることができる。その他、片面CCLとしては、ポリイミドフィルム上にシード層をスパッタリングにより形成し、メッキにより銅を成長させて導体層を形成したものや、圧延或いは電解銅箔とポリイミドフィルムとを接着剤により貼り合わせて作製されたものなどを用いることができる。 When the conductor layer is made of copper, as the single-sided CCL, for example, a coating produced by applying a polyimide varnish to a copper foil and curing the varnish by a known casting method can be used. In addition, as single-sided CCL, a seed layer is formed on a polyimide film by sputtering, copper is grown by plating to form a conductor layer, or rolled or electrolytic copper foil and polyimide film are bonded together with an adhesive. The produced one can be used.
なお、電子部品内蔵多層配線基板1に用いられる樹脂基材は、必ずしもポリイミドからなるものである必要はない。従って、上記のような液晶ポリマー等のプラスチックフィルムからなるものであってもよい。また、エッチングは、塩化第二鉄や塩化第二銅などを主成分とするエッチャントを用いることができる。 In addition, the resin base material used for the electronic component built-in multilayer wiring board 1 does not necessarily need to be made of polyimide. Therefore, it may be made of a plastic film such as a liquid crystal polymer as described above. Etching can be performed using an etchant mainly composed of ferric chloride or cupric chloride.
配線回路12〜82を形成したら、第1樹脂基材11、第2樹脂基材21及び第4樹脂基材41の他方の面に接着剤を貼り合わせて接着層9a、接着層9b及び接着層9cを形成する。また、第5〜第9樹脂基材51〜91の一方の面に接着剤を貼り合わせて接着層19a、接着層19b、接着層19c、接着層19d及び接着層99を形成する。
After the
そして、第1樹脂基材11、第2樹脂基材21及び第4樹脂基材41については、接着層9a、接着層9b並びに接着層9c及び第1樹脂基材11、第2樹脂基材21及び第4樹脂基材1141をそれぞれ貫通して配線回路12、配線回路22及び配線回路42に到達する貫通孔を所定箇所に形成して、形成した貫通孔内にデスミア処理を施す。接着層9a〜9cとしては、例えば厚さ25μm程度のエポキシ系熱硬化性樹脂を半硬化状態とした接着剤を用いることができる。
And about the 1st
接着層9a〜9cの貼り合わせの際の加熱圧着には、例えば真空ラミネータが用いられる。すなわち、減圧下の雰囲気中にて接着層9a〜9cが硬化しない温度でプレスして、第1樹脂基材11、第2樹脂基材21及び第4樹脂基材41に接着層9a〜9cを貼り合わせる。なお、電子部品内多層配線基板1に用いられる各接着層9a〜9c、接着層19a〜19d、接着層49及び接着層99は、上記エポキシ系の熱硬化性樹脂のみならず、エポキシ系熱硬化性樹脂をガラス布等に塗布して半硬化状態としたプリプレグや、種々の樹脂等を用いることができる。
For example, a vacuum laminator is used for thermocompression bonding when bonding the
また、貫通孔は、例えばUV−YAGレーザを用いて所定箇所に形成される。貫通孔は、その他、炭酸ガスレーザやエキシマレーザ等で形成してもよいし、ドリル加工や化学的なエッチング等により形成してもよい。デスミア処理は、プラズマデスミアの場合は、CF4及びO2(四フッ化メタン+酸素)の混合ガスにより行うことができる。また、Ar(アルゴン)等のその他の不活性ガスを用いることもできる。また、デスミア処理は、いわゆるドライ処理ではなく、薬液を用いたウェット処理としてもよい。 The through hole is formed at a predetermined location using, for example, a UV-YAG laser. In addition, the through hole may be formed by a carbon dioxide gas laser, an excimer laser, or the like, or may be formed by drilling, chemical etching, or the like. In the case of plasma desmear, the desmear treatment can be performed with a mixed gas of CF 4 and O 2 (tetrafluoromethane + oxygen). Other inert gases such as Ar (argon) can also be used. Further, the desmear process may be a wet process using a chemical solution instead of a so-called dry process.
貫通孔を形成したら、貫通孔内に例えばスクリーン印刷等により上述したような導電性ペーストを充填してビア13、ビア23及びビア43を形成する。これにより、図5(a)に示すような第1層プリント配線基板10、第2層プリント配線基板20及び第4層プリント配線基板40を製造することができる。なお、第3層プリント配線基板30及び第5層〜第9層プリント配線基板50〜90についても同様に製造して準備しておく。
After the through holes are formed, the
ここで、内蔵部品210は、図示は省略するが、例えば次のように製造される。まず、無機絶縁層が形成されたダイシング前のウェハを準備する。そして、ウェハの表面に例えば再配線電極からなる電極210a等を形成し、絶縁層等を形成する。その後、検査を行ってから薄型化及びダイシングにより個片化することで、内蔵部品210を製造する。
Here, the built-in
次に、こうして第1層〜第4層プリント配線基板10〜40及び内蔵部品210を製造したら、電子部品内蔵モジュール基板100を作製する(ステップS102)。ここで、電子部品内蔵モジュール基板100は、例えば図3に示すように作製される。すなわち、図3に示すように、所定の第1のプリント配線基板として、例えば第3層プリント配線基板30に第2の開口部290を形成する(ステップS200)。
Next, when the first to fourth layer printed
第2の開口部290は、貫通孔形成時と同様にUV−YAGレーザ等を用いて、第2の電子部品である内蔵部品210が内蔵される部分の配線回路32及び第3樹脂基材31を除去することにより、第3層プリント配線基板30に貫通形成される。そして、第1層〜第4層プリント配線基板10〜40及び内蔵部品210を図5(a)に示すように位置合わせして積層し(ステップS202)、熱圧着を行って(ステップS204)、図5(b)に示すように一括積層する。これにより、内蔵部品210を内蔵した電子部品内蔵モジュール基板100を作製することができる。
The
なお、上記ステップS204における熱圧着は、仮圧着程度のものであってもよい。また、第1の実施形態においては、こうして作製した電子部品内蔵モジュール基板100の第4層プリント配線基板40上に、図5(c)に示すように接着層49及びビア48を上述したような方法で形成しておく。
Note that the thermocompression bonding in step S204 may be of the order of temporary pressure bonding. In the first embodiment, the
こうして部品内蔵モジュール基板100を作製したら、積層体200を作製する(ステップS104)。ここで、積層体200は、例えば図4に示すように作製される。まず、図6(a)及び図7に示すように、積層体200を構成する第5層〜第9層プリント配線基板50〜90のうち、所定の第2のプリント配線基板である第5層〜第8層プリント配線基板50〜80に、第1の開口部である封止用開口部110A、封止用開口部110B及び封止用開口部110Cを構成する開口孔110Aa、開口孔110Ab、開口孔110Ba、開口孔110Bb、開口孔110Bc、開口孔110Bd及び開口孔110Caを貫通形成する(ステップS300)。
When the component built-in
これら開口孔110Aa、開口孔110Ab、開口孔110Ba、開口孔110Bb、開口孔110Bc、開口孔110Bd及び開口孔110Caについても、第2の開口部290と同様にUV−YAGレーザ等を用いて形成することができる。なお、開口孔110Aa及び開口孔110Abは互いに積層方向に一致する。また、開口孔110Ba、開口孔110Bb、開口孔110Bc及び開口孔110Bdも互いに積層方向に一致する。
The opening hole 110Aa, the opening hole 110Ab, the opening hole 110Ba, the opening hole 110Bb, the opening hole 110Bc, the opening hole 110Bd, and the opening hole 110Ca are also formed using a UV-YAG laser or the like in the same manner as the
こうして開口孔110Aa、開口孔110Ab、開口孔110Ba、開口孔110Bb、開口孔110Bc、開口孔110Bd及び開口孔110Caを形成した後に、例えば第5層〜第9層プリント配線基板50〜90を仮圧着(ステップS302)して積層する。これにより、図65(b)に示すような封止用開口部110A、封止用開口部110B及び封止用開口部110Cを有する積層体200を作製することができる。
After forming the opening hole 110Aa, the opening hole 110Ab, the opening hole 110Ba, the opening hole 110Bb, the opening hole 110Bc, the opening hole 110Bd, and the opening hole 110Ca, for example, the fifth to ninth layer printed
なお、封止用開口部110A、封止用開口部110B及び封止用開口部110Cや第2の開口部290は、第1の実施形態においては矩形状の外形を有する実装部品105A及び実装部品105Bやダミー部品106の形状に合わせて矩形状に形成されている。その他、封止用開口部110A、封止用開口部110B及び封止用開口部110Cや第2の開口部290は、収容する部品の外形に合わせて円形や多角形等、種々の形状を採り得る。
Note that the sealing
次に、部品内蔵モジュール基板100上に、第1の電子部品である実装部品105A、実装部品105B及びダミー部品106を実装する(ステップS106)。このステップS106においては、図8(a)に示すように、実装部品105A、実装部品105B及びダミー部品106を、図示しない実装マウンタ装置等を用いて電子部品内蔵モジュール基板100上に位置合わせして実装する。なお、このステップS106における部品実装は、いわゆる仮実装程度のものであってもよい。
Next, the mounting
こうして実装部品105A、実装部品105B及びダミー部品106を電子部品内蔵モジュール基板100上に実装したら、図8(b)に示すように、電子部品内蔵モジュール基板100上に積層体200を配置する(ステップS108)。このステップS108においては、積層体200は、封止用開口部110A、封止用開口部110B及び封止用開口部110C内に実装部品105A、実装部品105B及びダミー部品106が確実に収まるように位置合わせして配置される。
When the mounting
最後に、電子部品内蔵モジュール基板100及び積層体200に熱圧着を施すことにより(ステップS110)、電子部品内蔵モジュール基板100、実装部品105A、実装部品105B、ダミー部品106、及び積層体200を一括積層して、冷却硬化させ、図1に示すような第1の実施形態に係る電子部品内蔵多層配線基板1を製造する。なお、上述したステップS102及びステップS104の工程は、その順序を問わない。また、上述したステップS106の工程は、ステップS102の工程の後であれば、ステップS104の工程に先立って行われてもよい。
Finally, the electronic component built-in
以上述べたように、第1の実施形態に係る電子部品内蔵多層配線基板1及びその製造方法によれば、製造工程の大幅な簡略化を図ることができると共に熱履歴を少なくして信頼性を高めることができる。また、基板の平坦性を高めることができると共に構成材料の簡略化を図ることができる。 As described above, according to the multilayer wiring board 1 with built-in electronic components and the manufacturing method thereof according to the first embodiment, the manufacturing process can be greatly simplified and the thermal history can be reduced to improve reliability. Can be increased. In addition, the flatness of the substrate can be improved and the constituent materials can be simplified.
[第2の実施形態]
図9は、本発明の第2の実施形態に係る部品内蔵多層配線基板1Bの製造工程を示す断面図である。なお、図9において、第1の実施形態と同一の構成要素に関しては同一の参照符号を付しているので、以下では重複する説明は省略する。
[Second Embodiment]
FIG. 9 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the component built-in
図9に示すように、第2の実施形態に係る部品内蔵多層配線基板1Bでは、その製造過程において、例えば上述したステップS108の工程で部品内蔵モジュール基板100上に配置される積層体200が、第5層〜第9層プリント配線基板50〜90が互いに離れた状態で配置される。この点が、上述した第1の実施形態に係る部品内蔵多層配線基板1では、第5層〜第9層プリント配線基板50〜90が互いに仮圧着された積層体200となった状態で電子部品内蔵モジュール基板100上に配置されるのとは相違している。
このように製造しても、実装部品105A及び実装部品105Bやダミー部品106を積層体200の封止用開口部110A、封止用開口部110B及び封止用開口部110C内でモールドの代わりに封止するができるので、第1の実施形態における作用効果と同様の作用効果を奏することができる。
As shown in FIG. 9, in the component built-in
Even if manufactured in this way, the mounting
[第3の実施形態]
図10は、本発明の第3の実施形態に係る部品内蔵多層配線基板の構造を示す断面図である。なお、図10において、第1の実施形態と同一の構成要素については同一の参照符号を付しているので、以下では重複する説明は省略する。
[Third Embodiment]
FIG. 10 is a cross-sectional view showing the structure of a component built-in multilayer wiring board according to the third embodiment of the present invention. In FIG. 10, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and hence redundant description is omitted below.
図10に示すように、第3の実施形態に係る部品内蔵多層配線基板1Cでは、実装部品105A及び実装部品105Bやダミー部品106が実装される多層配線基板が、内蔵部品210を備えない(内蔵しない)タイプの一般的な多層プリント配線基板100Aで構成されている。この点が、上述した第1の実施形態の電子部品内蔵多層配線基板1では、多層配線基板が内蔵部品210を内蔵する電子部品内蔵モジュール基板100で構成されているのとは相違している。
このような構成であっても、実装部品105A及び実装部品105Bやダミー部品106を積層体200の封止用開口部110A、封止用開口部110B及び封止用開口部110C内でモールドの代わりに封止することができるので、第1の実施形態における作用効果と同様の作用効果を奏することができる。
As shown in FIG. 10, in the component built-in
Even in such a configuration, the mounting
以上、本発明のいくつかの実施の形態を説明したが、これらの実施の形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施の形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施の形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると共に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。 As mentioned above, although several embodiment of this invention was described, these embodiment is shown as an example and is not intending limiting the range of invention. These novel embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the scope of the invention. These embodiments and modifications thereof are included in the scope and gist of the invention, and are included in the invention described in the claims and the equivalents thereof.
1…電子部品内蔵多層配線基板、9a〜9c,19a〜19d,49,99…接着層、10…第1層プリント配線基板、11…第1樹脂基材、12〜92…配線回路、13〜43,48…ビア、20…第2層プリント配線基板、21…第2樹脂基材、30…第3層プリント配線基板、31…第3樹脂基材、40…第4層プリント配線基板、41…第4樹脂基材、50…第5層プリント配線基板、51…第5樹脂基材、60…第6層プリント配線基板、61…第6樹脂基材、70…第7層プリント配線基板、71…第7樹脂基材、80…第8層プリント配線基板、81…第8樹脂基材、90…第9層プリント配線基板、91…第9樹脂基材、100…電子部品内蔵モジュール基板、100A…多層プリント配線基板、105A,105B…実装部品、106…ダミー部品、106a,210a…電極、110Aa〜110Ca…開口孔、110A〜110C…封止用開口部、200…積層体、210…内蔵部品、290…第2の開口部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Electronic component built-in multilayer wiring board, 9a-9c, 19a-19d, 49,99 ... Adhesive layer, 10 ... 1st layer printed wiring board, 11 ... 1st resin base material, 12-92 ... Wiring circuit, 13- 43, 48 ... via, 20 ... second layer printed wiring board, 21 ... second resin base, 30 ... third layer printed wiring board, 31 ... third resin base, 40 ... fourth layer printed wiring board, 41 ... 4th resin base material, 50 ... 5th layer printed wiring board, 51 ... 5th resin base material, 60 ... 6th layer printed wiring board, 61 ... 6th resin base material, 70 ... 7th layer printed wiring board, 71: seventh resin base material, 80: eighth layer printed wiring board, 81: eighth resin base material, 90: ninth layer printed wiring board, 91: ninth resin base material, 100: module board with built-in electronic components, 100A ... multilayer printed wiring board, 105A, 105B ... mounting Goods, 106 ... dummy parts, 106a, 210a ... electrode, 110Aa~110Ca ... openings, 110A-110C ... sealing
第5層〜第8層プリント配線基板50〜80は、図6に示すように、それぞれ各樹脂基材51〜81の一方の面側に形成された接着層19a、接着層19b、接着層19c及び接着層19dを備える。第9層プリント配線基板90は、樹脂基材91の配線回路92側とは反対側に形成された接着層99を備える。これら接着層19a〜19d及び接着層99は、電子部品内蔵モジュール基板100の接着層9a〜9c及び接着層49と同一種類又は同一特性の材料からなる。
As shown in FIG. 6, the fifth to eighth layer printed
そして、封止用開口部110A内に収容された実装部品105Aは、封止用開口部110A内において、接着層49、接着層19a、接着層19b及び接着層19cにより封止されている。また、封止用開口部110B内に収容された実装部品105Bは、接着層49、接着層19a、接着層19b、接着層19c、接着層19d及び接着層99により封止されている。更に、封止用開口部110C内に収容されたダミー部品106は、接着層49、接着層19a及び接着層19bにより封止されている。
The mounting
Claims (9)
前記多層配線基板上に実装される第1の電子部品と、
前記多層配線基板上に積層される複数の第2のプリント配線基板からなる積層体と
を備え、
前記積層体は、前記多層配線基板上に実装された第1の電子部品を内部に封止するように上方が閉じられた第1の開口部を備えている
ことを特徴とする電子部品内蔵多層配線基板。 A multilayer wiring board configured by laminating a plurality of first printed wiring boards;
A first electronic component mounted on the multilayer wiring board;
A laminate composed of a plurality of second printed wiring boards stacked on the multilayer wiring board,
The multilayer body includes a first opening having an upper portion closed so as to seal the first electronic component mounted on the multilayer wiring board. Wiring board.
ことを特徴とする請求項1記載の電子部品内蔵多層配線基板。 The multilayer wiring board with built-in electronic components according to claim 1, wherein the first opening is formed in accordance with a mounting position and a mounting height of the first electronic component on the multilayer wiring board. .
ことを特徴とする請求項1又は2記載の電子部品内蔵多層配線基板。 The multilayer wiring board with built-in electronic components according to claim 1 or 2, wherein the multilayer wiring board includes a second opening, and the second electronic component is built in the second opening.
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項記載の電子部品内蔵多層配線基板。 The multilayered wiring board with built-in electronic components according to any one of claims 1 to 3, wherein the laminated body is laminated in a state of being electrically disconnected from the multilayered wiring board.
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項記載の電子部品内蔵多層配線基板。 5. The electronic component built-in multilayer wiring board according to claim 1, wherein the first electronic component includes a dummy component that is not electrically connected to the multilayer wiring board.
ことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項記載の電子部品内蔵多層配線基板。 The insulating layer, wiring layer, and adhesive layer of the first and second printed wiring boards are formed of the same type or material having the same characteristics. Multi-layer wiring board with built-in electronic components.
作製された複数の第1のプリント配線基板を積層して多層配線基板を作製する工程と、
作製された複数の第2のプリント配線基板のうちの所定の第2のプリント配線基板に、第1の電子部品を封止可能な第1の開口部を形成する工程と、
前記所定の第2のプリント配線基板を前記第1の開口部内に前記第1の電子部品が収容可能となるように積層すると共に、少なくとも一つの前記第2のプリント配線基板を前記第1の開口部を塞ぐように積層して積層体を作製する工程と、
前記多層配線基板上に前記第1の電子部品を実装する工程と、
前記第1の電子部品が実装された多層配線基板上に、前記第1の開口部内に前記第1の電子部品が収まるように前記積層体を配置する工程と、
前記多層配線基板及び前記積層体を、前記第1の電子部品が前記第1の開口部の内部で封止されるように熱圧着により一括積層する工程と
を備えたことを特徴とする電子部品内蔵多層配線基板の製造方法。 Producing a plurality of first and second printed wiring boards;
Laminating a plurality of first printed wiring boards produced to produce a multilayer wiring board;
Forming a first opening capable of sealing the first electronic component on a predetermined second printed wiring board among the plurality of second printed wiring boards produced;
The predetermined second printed wiring board is stacked in the first opening so that the first electronic component can be accommodated, and at least one second printed wiring board is placed in the first opening. Laminating so as to block the part, producing a laminate,
Mounting the first electronic component on the multilayer wiring board;
Disposing the laminate on the multilayer wiring board on which the first electronic component is mounted so that the first electronic component is contained in the first opening;
A step of laminating the multilayer wiring board and the laminated body by thermocompression bonding so that the first electronic component is sealed inside the first opening. Manufacturing method of built-in multilayer wiring board.
前記複数の第1のプリント配線基板のうちの所定の第1のプリント配線基板に、第2の電子部品を収容可能な第2の開口部を形成した上で、前記第2の開口部内に前記第2の電子部品を内蔵した状態で前記複数の第1のプリント配線基板を熱圧着により一括積層する
ことを特徴とする請求項7記載の電子部品内蔵多層配線基板の製造方法。 In the step of producing the multilayer wiring board,
A second opening capable of accommodating a second electronic component is formed in a predetermined first printed wiring board of the plurality of first printed wiring boards, and the second opening is formed in the second opening. The method of manufacturing a multilayer wiring board with built-in electronic components according to claim 7, wherein the plurality of first printed wiring boards are collectively laminated by thermocompression bonding with the second electronic component built-in.
ことを特徴とする請求項7又は8記載の電子部品内蔵多層配線基板の製造方法。 The method of manufacturing a multilayer wiring board with built-in electronic components according to claim 7 or 8, wherein, in the batch stacking step, the multilayer body is thermocompression bonded in a state of being electrically disconnected from the multilayer wiring board.
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