JP2016128370A - Laminated glass and pattern sheet for laminated glass - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for suppressing air bubbles from remaining in laminated glass for arranging a heating wire in window glass as a defroster device used for window glass.SOLUTION: There is provided laminated glass 10 which comprises a pair of glass plates 11 and 12 and a conductive pattern member 40 between the pair of glass plates 11 and 12, in which the conductive pattern member 40 includes a conductive thin wire 41 arranged in a pattern form and is arranged between the glass plate 11 of the pair of glass plates 11 and 12 and the conductive pattern member 40 and further includes a bonding layer 21 which directly contacts with the glass plate 11 and the conductive thin wire to bond the conductive pattern member 40 to the glass plate 11 and the conductive thin wire 41 is formed so that the wire width becomes narrower as approaching the glass plate 11 positioned on the side of the bonding layer 21 in contact with the conductive thin wire 41.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、合わせガラス及び合わせガラス用パターンシートに関する。   The present invention relates to a laminated glass and a patterned sheet for laminated glass.

従来、車両のフロントウィンドウやリアウィンドウ等の窓ガラスに用いるデフロスタ(霜取り乃至曇り止め)装置として、窓ガラスにタングステン等からなる電熱線を配置したものが知られている。このようなデフロスタ装置では、窓ガラスに配置された電熱線に通電し、その抵抗加熱により窓ガラスを昇温させて、窓ガラスの曇りを取り除いて、又は、窓ガラスに付着した雪や氷を溶かして、乗員の視界を確保することができる。   2. Description of the Related Art Conventionally, as a defroster (defrosting or defogging) device used for a window glass such as a front window or a rear window of a vehicle, an apparatus in which a heating wire made of tungsten or the like is arranged on the window glass is known. In such a defroster device, a heating wire arranged on the window glass is energized, and the window glass is heated by resistance heating to remove fogging of the window glass, or snow and ice attached to the window glass are removed. It can be melted to ensure the sight of the occupant.

前述のような電熱線は、従来から種々の材料を用いて種々の方法により形成されている。例えば、特許文献1には、基材上の銀塩感光層を露光し、現像して定着することによって、電熱線を形成することが開示されている。また、この特許文献1には、基材上に金属箔を積層し、この金属箔をエッチングすることで電熱線を形成したり、基材上に金属粒子を含むペーストを印刷することによって電熱線を形成したりすることも開示されている。さらに、基材上に電熱線をスクリーン印刷版等によって印刷して形成することも開示されている。   The heating wire as described above is conventionally formed by various methods using various materials. For example, Patent Document 1 discloses forming a heating wire by exposing, developing and fixing a silver salt photosensitive layer on a substrate. Moreover, in this patent document 1, a metal foil is laminated | stacked on a base material, a heating wire is formed by etching this metal foil, or a heating wire is printed by printing the paste containing a metal particle on a base material. It is also disclosed to form. Furthermore, it is also disclosed that a heating wire is printed on a substrate by a screen printing plate or the like.

特開2010−3667号公報JP 2010-3667 A

前述のようなデフロスタ装置では、一対のガラス板の間に、接合層及び電熱線を挟み込んで加熱および加圧して、合わせガラスを製造し、この合わせガラスからデフロスタ装置を構成する場合がある。このような合わせガラスを、特許文献1に開示された電熱線を用いて製造する場合には、当該電熱線は、シート状の基材と一体の状態で、一対のガラス板の間に配置され、その後、加熱および加圧される。詳しくは、ガラス板、接合層、基材及びこれに一体の電熱線、接合層、ガラス板がこの順に重ね合わされて、加熱および加圧される。こうして製造された合わせガラス板においては、2つの接合層のうちの一方の接合層がガラス板と基材とに直接的に接触してガラス板と基材とを接合しており、他方の接合層が、電熱線とガラス板とに直接的に接触して電熱線とガラス板とを接合している。   In the defroster apparatus as described above, a laminated glass is manufactured by sandwiching a bonding layer and a heating wire between a pair of glass plates and heating and pressurizing, and the defroster apparatus may be configured from the laminated glass. When manufacturing such a laminated glass using the heating wire disclosed in Patent Document 1, the heating wire is arranged between a pair of glass plates in a state of being integrated with a sheet-like base material, and thereafter , Heated and pressurized. In detail, a glass plate, a joining layer, a base material, a heating wire integral with this, a joining layer, and a glass plate are superimposed in this order, and are heated and pressurized. In the laminated glass plate thus manufactured, one bonding layer of the two bonding layers is in direct contact with the glass plate and the base material to bond the glass plate and the base material, and the other bonding is performed. The layer is in direct contact with the heating wire and the glass plate to join the heating wire and the glass plate.

ところで、特許文献1に開示された電熱線は、シート状の基材のシート面の法線方向に沿って突出するように形成されており、その側壁は、基材のシート面の法線方向に沿って延びている。また、このような電熱線の側壁は、形成過程における何らかの要因で、オーバーハング形状になってしまうこともある。なお、オーバーハング形状とは、電熱線の側壁が、基材のシート面の法線方向に沿って基材から離間するにつれて基材のシート面に沿う方向における外側に向けて傾斜して延びる形状をいう。このようなオーバーハング形状は、エッチングや、金属粒子を含むペーストを印刷することによって電熱線を形成する場合に、特に、生じ易い。   By the way, the heating wire disclosed in Patent Document 1 is formed so as to protrude along the normal direction of the sheet surface of the sheet-like substrate, and the side wall thereof is the normal direction of the sheet surface of the substrate. It extends along. Moreover, the side wall of such a heating wire may become an overhang shape for some reason in the formation process. The overhang shape is a shape in which the side wall of the heating wire is inclined and extended toward the outside in the direction along the sheet surface of the substrate as it is separated from the substrate along the normal direction of the sheet surface of the substrate. Say. Such an overhang shape is particularly likely to occur when a heating wire is formed by etching or printing a paste containing metal particles.

しかしながら、電熱線の側壁が、前述のように基材のシート面の法線方向に沿って延びる形状あるいはオーバーハング形状である場合には、合わせガラスの製造時の加熱および加圧の工程において電熱線と接合層とが接触する際に、接合層が電熱線の根元側に進入し難くなってしまい、電熱線の側壁周りに気泡が残留し易くなるという問題がある。このような気泡は、合わせガラスの外観品質を低下させ得ると共に、ぎらつきが生じる原因となり得る。そのため、合わせガラスの製造においては、このような気泡を残留させないようにする対策が望まれる。   However, when the side wall of the heating wire has a shape extending along the normal direction of the sheet surface of the base material or an overhanging shape as described above, the heating and pressurizing steps during the production of the laminated glass are performed. When the heat ray and the bonding layer come into contact with each other, there is a problem that the bonding layer is difficult to enter the base side of the heating wire, and bubbles are likely to remain around the side wall of the heating wire. Such bubbles can deteriorate the appearance quality of the laminated glass and cause glare. Therefore, in the production of laminated glass, a countermeasure for preventing such bubbles from remaining is desired.

本発明は、以上の点を考慮してなされたものであり、合わせガラスに気泡が残留することを抑制することを目的とする。   The present invention has been made in consideration of the above points, and an object of the present invention is to prevent bubbles from remaining in a laminated glass.

本発明は、一対のガラス板と、前記一対のガラス板の間に配置された導電性パターン部材と、を備え、前記導電性パターン部材が、パターン状に配置された導電細線を含む、合わせガラスであって、前記一対のガラス板のうちの少なくともいずれか一方と前記導電性パターン部材との間に配置され、前記ガラス板と前記導電細線とに直接的に接触して、前記導電性パターン部材を前記ガラス板に接合する接合層を備え、前記導電細線は、当該導電細線に接触している前記接合層側に位置する前記ガラス板に近づくにつれて、その線幅が狭くなるように形成されている、合わせガラス、である。   The present invention is a laminated glass comprising a pair of glass plates and a conductive pattern member disposed between the pair of glass plates, wherein the conductive pattern member includes conductive thin wires arranged in a pattern. The conductive pattern member is disposed between at least one of the pair of glass plates and the conductive pattern member, and is in direct contact with the glass plate and the conductive thin wire. It is provided with a bonding layer that is bonded to a glass plate, and the conductive thin wire is formed such that its line width becomes narrower as it approaches the glass plate located on the bonding layer side in contact with the conductive thin wire. Laminated glass.

また、前記合わせガラスにおいて、前記導電細線は、エッチングによりパターニングされた金属膜から形成されていてもよい。   In the laminated glass, the thin conductive wire may be formed from a metal film patterned by etching.

また、前記合わせガラスにおいて、前記導電細線は、前記導電細線の延在方向に直交する方向での断面形状が台形状に形成されていてもよい。   In the laminated glass, the conductive thin wire may have a trapezoidal cross-sectional shape in a direction orthogonal to the extending direction of the conductive thin wire.

また、前記合わせガラスにおいて、前記導電細線における台形状の前記断面形状は、下底の端部から上底の端部に延びる線分が前記下底に沿って延びる方向となす角度が40度以上85度以下であってもよい。   Further, in the laminated glass, the trapezoidal cross-sectional shape of the conductive thin wire is such that an angle formed by a line segment extending from an end of the lower base to an end of the upper base and a direction extending along the lower base is 40 degrees or more. It may be 85 degrees or less.

また、前記合わせガラスにおいて、前記導電細線は、当該導電細線に接触している前記接合層側に位置する前記ガラス板側とは反対側を向く部分に、暗色層を有していてもよい。
この場合、前記暗色層は、酸化クロムからなるようにしてもよい。
Moreover, in the laminated glass, the conductive thin wire may have a dark color layer in a portion facing the glass plate side located on the bonding layer side in contact with the conductive thin wire.
In this case, the dark color layer may be made of chromium oxide.

また、本発明は、一対のガラス板の間に配置される導電性パターン部材を有する合わせガラス用パターンシートであって、一対の対向する面を有するシート状の基材を有し、前記基材の一対の対向する面のうちの少なくともいずれかの面に前記導電性パターン部材が設けられており、前記導電性パターン部材は、パターン状に配置された導電細線を含み、前記導電細線は、前記基材のシート面に対する法線方向に沿って前記基材から外側に離間するにつれて、その線幅が狭くなるように形成されている、合わせガラス用パターンシート、である。   Moreover, this invention is a pattern sheet | seat for laminated glasses which has the electroconductive pattern member arrange | positioned between a pair of glass plates, Comprising: It has a sheet-like base material which has a pair of opposing surface, A pair of said base material The conductive pattern member is provided on at least one of the opposing surfaces of the substrate, and the conductive pattern member includes conductive thin wires arranged in a pattern, and the conductive thin wires are formed on the base material. It is a pattern sheet for laminated glass formed so that the line width becomes narrower as it is spaced outward from the substrate along the normal direction to the sheet surface.

本発明によれば、合わせガラスに気泡が残留することを抑制することができる。   According to this invention, it can suppress that a bubble remains in a laminated glass.

図1は、本発明による一実施の形態を説明するための図であって、合わせガラスを備えた乗り物を概略的に示す斜視図である。特に図1では、乗り物の例として合わせガラスを備えた自動車を概略的に示している。FIG. 1 is a diagram for explaining an embodiment according to the present invention, and is a perspective view schematically showing a vehicle provided with a laminated glass. In particular, FIG. 1 schematically shows an automobile with laminated glass as an example of a vehicle. 図2は、合わせガラスをその板面の法線方向から見た図である。FIG. 2 is a view of the laminated glass as viewed from the normal direction of the plate surface. 図3は、図2の合わせガラスの横断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of the laminated glass of FIG. 図4は、図3の合わせガラスを構成する各部材の積層前の状態を示す図である。FIG. 4 is a view showing a state before lamination of each member constituting the laminated glass of FIG. 図5は、導電性パターン部材の一例を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing an example of a conductive pattern member. 図6は、図5のA−A線に対応する断面図であって、導電細線の断面形状を示す図である。FIG. 6 is a cross-sectional view corresponding to the line AA in FIG. 5 and showing the cross-sectional shape of the conductive thin wire. 図7は、図6に示す導電細線の断面形状の拡大図である。FIG. 7 is an enlarged view of the cross-sectional shape of the thin conductive wire shown in FIG. 図8は、合わせガラスの製造方法の一例を説明するための図である。FIG. 8 is a diagram for explaining an example of a method for producing laminated glass. 図9は、合わせガラスの製造方法の一例を説明するための図である。FIG. 9 is a diagram for explaining an example of a method for producing laminated glass. 図10は、合わせガラスの製造方法の一例を説明するための図である。FIG. 10 is a diagram for explaining an example of a method for producing laminated glass. 図11は、合わせガラスの製造方法の一例を説明するための図である。FIG. 11 is a diagram for explaining an example of a method for producing laminated glass. 図12は、合わせガラスの製造方法の一例を説明するための図である。FIG. 12 is a diagram for explaining an example of a method for producing laminated glass. 図13は、合わせガラスの製造方法の一例を説明するための図である。FIG. 13 is a diagram for explaining an example of a method for producing laminated glass. 図14は、合わせガラスの製造方法の一例を説明するための図である。FIG. 14 is a diagram for explaining an example of a method for producing laminated glass. 図15は、合わせガラスの製造方法の一例を説明するための図である。FIG. 15 is a diagram for explaining an example of a method for manufacturing a laminated glass. 図16は、合わせガラスの製造方法の一例を説明するための図である。FIG. 16 is a diagram for explaining an example of a method for producing laminated glass. 図17は、合わせガラスの製造方法の一例を説明するための図である。FIG. 17 is a diagram for explaining an example of a method for manufacturing a laminated glass. 図18は、本発明による一実施の形態の合わせガラスの変形例を示す図である。FIG. 18 is a view showing a modification of the laminated glass of one embodiment according to the present invention. 図19は、本発明による一実施の形態の合わせガラスの他の変形例を示す図である。FIG. 19 is a view showing another modification of the laminated glass of one embodiment according to the present invention.

以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the drawings attached to the present specification, for the sake of illustration and ease of understanding, the scale, the vertical / horizontal dimension ratio, and the like are appropriately changed and exaggerated from those of the actual product.

なお、本明細書において、「板」、「シート」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「シート」は板やフィルムと呼ばれ得るような部材をも含む概念であり、したがって、「パターンシート」は、「パターン板(基板)」や「パターンフィルム」と呼ばれる部材と、呼称の違いのみにおいて区別され得ない。   In the present specification, the terms “plate”, “sheet”, and “film” are not distinguished from each other only based on the difference in names. For example, “sheet” is a concept that includes a member that can be called a plate or a film. Therefore, a “pattern sheet” is a member called “pattern plate (substrate)” or “pattern film”. It cannot be distinguished only by differences.

また、「シート面(板面、フィルム面)」とは、対象となるシート状(板状、フィルム状)の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となるシート状部材(板状部材、フィルム状部材)の平面方向と一致する面のことを指す。
また、本明細書において、「接合」とは、完全に接合を完了する「本接合」だけでなく、「本接合」前に仮止めするための、いわゆる「仮接合」をも含むものとする。
In addition, “sheet surface (plate surface, film surface)” means a target sheet-like member (plate-like) when the target sheet-like (plate-like, film-like) member is viewed as a whole and globally. It refers to the surface that coincides with the plane direction of the member or film-like member.
Further, in this specification, “joining” includes not only “main joining” that completes joining but also so-called “temporary joining” for temporarily fixing before “main joining”.

さらに、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。   Furthermore, as used in this specification, the shape and geometric conditions and the degree thereof are specified. For example, terms such as “parallel”, “orthogonal”, “identical”, length and angle values, etc. Without being bound by meaning, it should be interpreted including the extent to which similar functions can be expected.

図1〜図17は、本発明による一実施の形態を説明するための図である。このうち図1は、合わせガラスを備えた自動車を概略的に示す図であり、図2は、合わせガラスをその板面の法線方向から見た図であり、図3は、図2の合わせガラスの横断面図であり、図4は、図3の合わせガラスを構成する各部材の積層前の状態を示す図である。なお、本実施の形態における合わせガラスは、発熱板と呼ばれる場合もある。   1-17 is a figure for demonstrating one Embodiment by this invention. Among these, FIG. 1 is a diagram schematically showing an automobile equipped with a laminated glass, FIG. 2 is a diagram of the laminated glass viewed from the normal direction of the plate surface, and FIG. 3 is a diagram of FIG. FIG. 4 is a cross-sectional view of the glass, and FIG. 4 is a diagram showing a state before lamination of each member constituting the laminated glass of FIG. In addition, the laminated glass in this Embodiment may be called a heat generating plate.

図1に示されているように、乗り物の一例としての自動車1は、フロントウィンドウ、リアウィンドウ、サイドウィンドウ等の窓ガラスを有している。ここでは、フロントウィンドウ5が合わせガラス10で構成されているものを例示する。また、自動車1はバッテリー等の電源7を有している。   As shown in FIG. 1, an automobile 1 as an example of a vehicle has window glasses such as a front window, a rear window, and a side window. Here, an example in which the front window 5 is composed of a laminated glass 10 is illustrated. The automobile 1 has a power source 7 such as a battery.

この合わせガラス10をその板面の法線方向から見たものを図2に示す。また、図2の合わせガラス10のIII−III線に対応する横断面図を図3に示す。図3に示された例では、合わせガラス10は、第1ガラス板11、第1接合層21、パターンシート(導電性パターンシート)30、第2接合層22、第2ガラス板12がこの順に積層されている。パターンシート30は、基材31と、基材31上に設けられた導電性パターン部材40と、を有している。導電性パターン部材40は、パターン状に配置された導電細線41を含んで構成されている。
詳細は後述するが、図5に示すように、本実施の形態では、導電細線41が、メッシュパターンにて配置されている。
FIG. 2 shows the laminated glass 10 viewed from the normal direction of the plate surface. Moreover, the cross-sectional view corresponding to the III-III line of the laminated glass 10 of FIG. 2 is shown in FIG. In the example shown in FIG. 3, the laminated glass 10 includes a first glass plate 11, a first bonding layer 21, a pattern sheet (conductive pattern sheet) 30, a second bonding layer 22, and a second glass plate 12 in this order. Are stacked. The pattern sheet 30 includes a base material 31 and a conductive pattern member 40 provided on the base material 31. The conductive pattern member 40 includes conductive thin wires 41 arranged in a pattern.
Although details will be described later, in the present embodiment, the conductive thin wires 41 are arranged in a mesh pattern as shown in FIG.

また、図2に示されているように、合わせガラス10は、導電性パターン部材40に通電するための配線部15と、導電性パターン部材40と配線部15とを接続する接続部16とを有している。図示された例では、バッテリー等の電源7から、配線部15及び接続部16を介して導電性パターン部材40に通電し、導電性パターン部材40を抵抗加熱により発熱させる。導電性パターン部材40で発生した熱はガラス板11,12に伝わり、ガラス板11,12が温められる。これにより、ガラス板11,12に付着した結露による曇りを取り除くことができる。また、ガラス板11,12に雪や氷が付着している場合には、この雪や氷を溶かすことができる。したがって、乗員の視界が良好に確保される。   Further, as shown in FIG. 2, the laminated glass 10 includes a wiring portion 15 for energizing the conductive pattern member 40, and a connection portion 16 that connects the conductive pattern member 40 and the wiring portion 15. Have. In the illustrated example, the conductive pattern member 40 is energized from the power source 7 such as a battery through the wiring portion 15 and the connection portion 16, and the conductive pattern member 40 is heated by resistance heating. The heat generated in the conductive pattern member 40 is transmitted to the glass plates 11 and 12, and the glass plates 11 and 12 are warmed. Thereby, the cloudiness by the dew condensation adhering to the glass plates 11 and 12 can be removed. Moreover, when snow and ice adhere to the glass plates 11 and 12, this snow and ice can be melted. Therefore, a passenger | crew's visual field is ensured favorable.

この合わせガラス10を作成するには、図4に示すように、湾曲した第1ガラス板11、第1接合層21、パターンシート30、第2接合層22、湾曲した第2ガラス板12をこの順に重ね合わせ、加熱および加圧することで、湾曲した第1ガラス板11、パターンシート30及び湾曲した第2ガラス板12が、接合層21,22により接合される。   In order to produce this laminated glass 10, as shown in FIG. 4, the curved first glass plate 11, the first bonding layer 21, the pattern sheet 30, the second bonding layer 22, and the curved second glass plate 12 are The curved first glass plate 11, the pattern sheet 30, and the curved second glass plate 12 are bonded together by the bonding layers 21 and 22 by sequentially overlapping, heating and pressing.

以下、合わせガラス10の各層について説明する。   Hereinafter, each layer of the laminated glass 10 will be described.

まず、ガラス板11,12について説明する。ガラス板11,12は、特にフロントウィンドウに用いる場合、乗員の視界を妨げないよう可視光透過率が高いものを用いることが好ましい。このようなガラス板11,12の材質としては、ソーダライムガラスや青板ガラスが例示できる。ガラス板11,12は、可視光領域における透過率が90%以上であることが好ましい。ここで、ガラス板11,12の可視光透過率は、分光光度計((株)島津製作所製「UV−3100PC」、JISK0115準拠品)を用いて測定波長380nm〜780nmの範囲内で測定したときの、各波長における透過率の平均値として特定される。なお、ガラス板11,12の一部または全体に着色するなどして、可視光透過率を低くしてもよい。この場合、太陽光の直射を遮ったり、車外から車内を視認しにくくしたりすることができる。   First, the glass plates 11 and 12 will be described. In particular, when the glass plates 11 and 12 are used for a front window, it is preferable to use a glass plate having a high visible light transmittance so as not to obstruct the passenger's field of view. Examples of the material of the glass plates 11 and 12 include soda lime glass and blue plate glass. The glass plates 11 and 12 preferably have a transmittance in the visible light region of 90% or more. Here, the visible light transmittance of the glass plates 11 and 12 is measured within a measurement wavelength range of 380 nm to 780 nm using a spectrophotometer (“UV-3100PC” manufactured by Shimadzu Corporation, JISK0115 compliant product). Of the transmittance at each wavelength. The visible light transmittance may be lowered by coloring a part or the whole of the glass plates 11 and 12. In this case, it is possible to block direct sunlight and to make it difficult to visually recognize the inside of the vehicle from outside the vehicle.

また、ガラス板11,12は、1mm以上5mm以下の厚みを有していることが好ましい。このような厚みであると、強度及び光学特性に優れたガラス板11,12を得ることができる。   Moreover, it is preferable that the glass plates 11 and 12 have a thickness of 1 mm or more and 5 mm or less. With such a thickness, the glass plates 11 and 12 excellent in strength and optical characteristics can be obtained.

次に、接合層21,22について説明する。第1接合層21は、第1ガラス板11とパターンシート30との間に配置され、第1ガラス板11とパターンシート30とを互いに接合する。より詳しくは、この例では、図3及び図4に示すように、第1接合層21が、第1ガラス板11とパターンシート30のうちの導電性パターン部材40との間に配置され、第1ガラス板11と導電細線41とに直接的に接触して、接触した導電細線41を介して導電性パターン部材40を第1ガラス板11に接合している。なお、厳密には、第1接合層21は、第1ガラス板11と導電細線41及び基材31の面31aとに直接的に接触して、接触した導電細線41及び面31aを介して導電性パターン部材40を第1ガラス板11に接合している。   Next, the bonding layers 21 and 22 will be described. The first bonding layer 21 is disposed between the first glass plate 11 and the pattern sheet 30 and bonds the first glass plate 11 and the pattern sheet 30 to each other. More specifically, in this example, as shown in FIGS. 3 and 4, the first bonding layer 21 is disposed between the first glass plate 11 and the conductive pattern member 40 of the pattern sheet 30. The 1st glass plate 11 and the electrically conductive thin wire | line 41 are directly contacted, and the electroconductive pattern member 40 is joined to the 1st glass plate 11 via the electrically conductive thin wire | line 41 which contacted. Strictly speaking, the first bonding layer 21 is in direct contact with the first glass plate 11, the conductive thin wire 41, and the surface 31a of the base material 31, and is electrically conductive through the contacted conductive thin wire 41 and the surface 31a. The pattern member 40 is bonded to the first glass plate 11.

また、第2接合層22は、第2ガラス板12とパターンシート30との間に配置され、第2ガラス板12とパターンシート30とを互いに接合する。より詳しくは、この例では、第2接合層22が、第2ガラス板12とパターンシート30のうちの基材31との間に配置され、第2ガラス板12と基材31とに直接的に接触して、基材31と第2ガラス板12とを接合している。   In addition, the second bonding layer 22 is disposed between the second glass plate 12 and the pattern sheet 30 and bonds the second glass plate 12 and the pattern sheet 30 to each other. More specifically, in this example, the second bonding layer 22 is disposed between the second glass plate 12 and the substrate 31 of the pattern sheet 30, and directly on the second glass plate 12 and the substrate 31. The base material 31 and the second glass plate 12 are joined together.

このような接合層21,22としては、種々の接着性または粘着性を有した材料からなる層を用いることができる。また、接合層21,22は、可視光透過率が高いものを用いることが好ましい。典型的な接合層としては、ポリビニルブチラール(PVB)からなる層を例示することができる。接合層21,22の厚みは、それぞれ0.15mm以上1mm以下であることが好ましい。   As the bonding layers 21 and 22, layers made of materials having various adhesiveness or tackiness can be used. The bonding layers 21 and 22 preferably have a high visible light transmittance. As a typical joining layer, the layer which consists of polyvinyl butyral (PVB) can be illustrated. The thicknesses of the bonding layers 21 and 22 are preferably 0.15 mm or more and 1 mm or less, respectively.

なお、合わせガラス10には、図示された例に限られず、特定の機能を発揮することを期待されたその他の機能層が設けられても良い。また、一つの機能層が二以上の機能を発揮するようにしてもよいし、例えば、合わせガラス10のガラス板11,12、接合層21,22や、後述するパターンシート30の基材31の少なくとも1つに機能を付与するようにしてもよい。合わせガラス10に付与され得る機能としては、一例として、反射防止(AR)機能、耐擦傷性を有したハードコート(HC)機能、赤外線遮蔽(反射)機能、紫外線遮蔽(反射)機能、偏光機能、防汚機能等を例示することができる。   The laminated glass 10 is not limited to the illustrated example, and may be provided with other functional layers expected to exhibit a specific function. Moreover, you may make it one functional layer exhibit two or more functions, for example, the glass plates 11 and 12 of the laminated glass 10, the joining layers 21 and 22, and the base material 31 of the pattern sheet 30 mentioned later You may make it provide a function to at least one. Examples of functions that can be imparted to the laminated glass 10 include antireflection (AR) function, hard coat (HC) function having scratch resistance, infrared shielding (reflection) function, ultraviolet shielding (reflection) function, and polarization function. An antifouling function and the like can be exemplified.

次に、パターンシート30について説明する。図2及び図3に示すように、本実施の形態のパターンシート30は、一対の対向する面31a,31bを有するシート状の基材31と、基材31の一対の対向する面31a,31bのうちの面31aに設けられた導電性パターン部材40と、導電性パターン部材40に通電するための配線部15と、導電性パターン部材40と配線部15とを接続する接続部16と、を有している。パターンシート30は、ガラス板11,12と略同一の平面寸法を有して、合わせガラス10の全体にわたって配置されてもよいし、運転席の正面部分等、合わせガラス10の一部にのみ配置されてもよい。   Next, the pattern sheet 30 will be described. As shown in FIG.2 and FIG.3, the pattern sheet 30 of this Embodiment is the sheet-like base material 31 which has a pair of opposing surface 31a, 31b, and a pair of opposing surface 31a, 31b of the base material 31. The conductive pattern member 40 provided on the surface 31a, the wiring part 15 for energizing the conductive pattern member 40, and the connection part 16 for connecting the conductive pattern member 40 and the wiring part 15 to each other. Have. The pattern sheet 30 has substantially the same plane dimensions as the glass plates 11 and 12, and may be disposed over the entire laminated glass 10, or disposed only on a part of the laminated glass 10 such as a front portion of a driver's seat. May be.

基材31は、導電性パターン部材40を支持する基材として機能する。基材31は、可視光線波長帯域の波長(380nm〜780nm)を透過する一般に言うところの透明である電気絶縁性の基板であって、熱可塑性樹脂を含んでいる。   The base material 31 functions as a base material that supports the conductive pattern member 40. The base material 31 is a transparent and electrically insulating substrate that generally transmits a wavelength in the visible light wavelength band (380 nm to 780 nm), and includes a thermoplastic resin.

基材31に主成分として含まれる熱可塑性樹脂としては、可視光を透過する熱可塑性樹脂であればいかなる樹脂でもよいが、例えば、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、トリアセチルセルロース(三酢酸セルロース)等のセルロース系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリカーボネート樹脂、AS樹脂等を挙げることができる。とりわけ、アクリル樹脂やポリエチレンテレフタレートは、光学特性に優れ、成形性が良いので好ましい。   The thermoplastic resin contained as the main component in the base material 31 may be any resin as long as it is a thermoplastic resin that transmits visible light. For example, an acrylic resin such as polymethyl methacrylate, a polyolefin resin such as polypropylene, and polyethylene terephthalate. And polyester resins such as polyethylene naphthalate, cellulose resins such as triacetyl cellulose (cellulose triacetate), polyvinyl chloride, polystyrene, polycarbonate resins, AS resins, and the like. In particular, acrylic resin and polyethylene terephthalate are preferable because they are excellent in optical properties and good in moldability.

また、基材31は、光透過性や、導電性パターン部材40の適切な支持性等を考慮すると、0.02mm以上0.20mm以下の厚さを有していることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the base material 31 has a thickness of 0.02 mm or more and 0.20 mm or less in consideration of light transmittance, appropriate supportability of the conductive pattern member 40, and the like.

図5は、導電性パターン部材40の配置パターンの一例を示す平面図である。導電性パターン部材40は、バッテリー等の電源7から、配線部15及び接続部16を介して通電され、抵抗加熱により発熱する。そして、この熱がガラス板11,12に伝わることで、ガラス板11,12が温められる。   FIG. 5 is a plan view showing an example of an arrangement pattern of the conductive pattern member 40. The conductive pattern member 40 is energized from the power source 7 such as a battery through the wiring portion 15 and the connection portion 16 and generates heat by resistance heating. And when this heat is transmitted to the glass plates 11 and 12, the glass plates 11 and 12 are warmed.

図5に示される導電性パターン部材40は、多数の開口43を画成するメッシュパターンにて配置された導電細線41からなる部材であり、導電性メッシュとも呼ばれる部材である。導電性パターン部材40は、2つの分岐点42の間を延びて、開口43を画成する複数の導電細線41を含んで構成されている。すなわち、導電性パターン部材40は、両端において分岐点42を形成する多数の導電細線41の集まりとして構成されている。とりわけ図示された例では、分岐点42において、3つの導電細線41が等角度で接続されることにより、6つの導電細線41で囲まれた同一形状のハニカム状(六角形状)の開口43が多数画成されている。   The conductive pattern member 40 shown in FIG. 5 is a member composed of conductive fine wires 41 arranged in a mesh pattern that defines a large number of openings 43, and is also a member called a conductive mesh. The conductive pattern member 40 includes a plurality of thin conductive wires 41 extending between two branch points 42 and defining an opening 43. That is, the conductive pattern member 40 is configured as a collection of a large number of thin conductive wires 41 that form branch points 42 at both ends. In particular, in the illustrated example, at the branch point 42, the three conductive thin wires 41 are connected at an equal angle, so that many honeycomb-shaped (hexagonal) openings 43 surrounded by the six conductive thin wires 41 are formed. It is defined.

図示された例では、導電性パターン部材40は、同一形状のハニカム状の開口43が規則的に画成されるメッシュパターンにて配置された導電細線41を有しているが、導電性パターン部材40は、このようなメッシュパターンに限られず、三角形、矩形等の同一形状の開口43が規則的に画成されるメッシュパターン(格子状のパターン)、異形状の開口43が規則的に画成されるメッシュパターン、ボロノイメッシュのような、異形状の開口43が不規則的に画成されるメッシュパターン等、種々のメッシュパターンにて配置される導電細線41を有していてもよい。また、導電性パターン部材40は、一方向に複数並んだ導電細線41により形成されるラインアンドスペースパターンを有していてもよい。   In the illustrated example, the conductive pattern member 40 has conductive thin wires 41 arranged in a mesh pattern in which honeycomb-shaped openings 43 of the same shape are regularly defined. 40 is not limited to such a mesh pattern, but a mesh pattern (lattice pattern) in which openings 43 having the same shape such as triangles and rectangles are regularly defined, and irregularly shaped openings 43 are regularly defined. The conductive fine wires 41 may be arranged in various mesh patterns such as a mesh pattern or a mesh pattern in which irregularly shaped openings 43 are irregularly defined, such as a Voronoi mesh. The conductive pattern member 40 may have a line and space pattern formed by a plurality of conductive thin wires 41 arranged in one direction.

このような導電性パターン部材40を構成するための材料としては、例えば、金、銀、銅、白金、アルミニウム、クロム、モリブデン、ニッケル、チタン、パラジウム、インジウム、タングステン、及び、これらの合金の一以上を例示することができる。また、導電性パターン部材40は、その導電細線41がエッチングによりパターニングされた金属膜から形成されている。なお、導電性パターン部材40には、隣り合う導電細線41を接続する細線、すなわち接続線が含まれていてもよい。   Examples of the material for forming the conductive pattern member 40 include gold, silver, copper, platinum, aluminum, chromium, molybdenum, nickel, titanium, palladium, indium, tungsten, and alloys thereof. The above can be illustrated. Further, the conductive pattern member 40 is formed of a metal film in which the conductive thin wires 41 are patterned by etching. The conductive pattern member 40 may include a thin line connecting adjacent conductive thin lines 41, that is, a connection line.

図6は、図5のA−A線に対応する断面図であって、導電細線41の断面形状を示す図である。図6においては、導電細線41の延在方向に直交する方向での導電細線41の断面形状(以下、単に「断面形状」或いは「断面」とも略称する)が示されている。基材31(面31a)上に、導電性パターン部材40をなす導電細線41が形成されている。図示された例では、導電細線41は、基材31側の面41a、基材31の反対側の面41b及び側面41c,41dを有している。図示の例においては、基材31側の面41aと基材31の反対側の面41bは平行をなしている。そして、側面41cは、パターンシート30のシート面の法線方向に沿って基材31から離間するにつれて側面41dに近づくようなテーパ面をなしている。また、側面41dも、パターンシート30のシート面の法線方向に沿って基材31から離間するにつれて側面41cに近づくようなテーパ面をなしている。すなわち、導電細線41は、その延在方向に直交する断面視において、全体として台形状の断面を有している。   FIG. 6 is a cross-sectional view corresponding to the line AA in FIG. 5 and showing a cross-sectional shape of the conductive thin wire 41. In FIG. 6, a cross-sectional shape of the thin conductive wire 41 in the direction orthogonal to the extending direction of the thin conductive wire 41 (hereinafter simply referred to as “cross-sectional shape” or “cross-section”) is shown. On the base material 31 (surface 31a), conductive fine wires 41 forming the conductive pattern member 40 are formed. In the illustrated example, the conductive thin wire 41 has a surface 41a on the base material 31 side, a surface 41b on the opposite side of the base material 31, and side surfaces 41c and 41d. In the illustrated example, the surface 41 a on the base 31 side and the surface 41 b on the opposite side of the base 31 are parallel. The side surface 41 c is a tapered surface that approaches the side surface 41 d as the distance from the substrate 31 increases along the normal direction of the sheet surface of the pattern sheet 30. Further, the side surface 41 d also has a tapered surface that approaches the side surface 41 c as the distance from the substrate 31 increases along the normal direction of the sheet surface of the pattern sheet 30. That is, the conductive thin wire 41 has a trapezoidal cross section as a whole in a cross-sectional view orthogonal to the extending direction.

より詳しく説明すると、導電細線41は、基材31のシート面に対する法線方向に沿って基材31、すなわち面31aから外側に離間するにつれて、その線幅が狭くなるように形成されている。また、図3に示すように、パターンシート30が合わせガラス10に組み込まれた状態においては、導電細線41は、当該導電細線41に接触している第1接合層21側に位置する第1ガラス板11に近づくにつれて、その線幅が狭くなるように形成されている。   More specifically, the thin conductive wire 41 is formed so that its line width becomes narrower as it is spaced outward from the base material 31, that is, the surface 31 a, along the direction normal to the sheet surface of the base material 31. As shown in FIG. 3, in the state where the pattern sheet 30 is incorporated in the laminated glass 10, the conductive thin wire 41 is the first glass located on the first bonding layer 21 side in contact with the conductive thin wire 41. It is formed so that its line width becomes narrower as it approaches the plate 11.

ここで、図7は、図6に示す導電細線41の断面形状の拡大図である。図7(A)においては、導電細線41における台形状の断面形状において、下底(面41a)の端部から上底(面41b)の端部に延びる導電細線41の側壁を形成する線分が、前記下底に沿って延びる方向となす角度αが示されている。この角度αは、40度以上85度以下の角度のうちのいずれかの角度であることが好ましい。角度αが40度未満である場合には、導電細線41の線幅を大きくしなければ、通電時に好適な発熱が得られ難くなり、導電細線41の幅広化によって合わせガラス10の視認性が損なわれる虞がある。そのため、角度αは、40度以上であることが好ましい。   Here, FIG. 7 is an enlarged view of the cross-sectional shape of the thin conductive wire 41 shown in FIG. 7A, in the trapezoidal cross-sectional shape of the thin conductive wire 41, a line segment that forms the side wall of the thin conductive wire 41 extending from the end of the lower base (surface 41a) to the end of the upper base (surface 41b). Is an angle α with the direction extending along the lower base. This angle α is preferably any angle of 40 degrees to 85 degrees. When the angle α is less than 40 degrees, unless the line width of the conductive thin wire 41 is increased, it is difficult to obtain suitable heat generation during energization, and the visibility of the laminated glass 10 is impaired due to the widening of the conductive thin wire 41. There is a risk that. Therefore, the angle α is preferably 40 degrees or more.

なお、図7(A)には、導電細線41の断面形状が整った台形状である例が示されているが、図7(B)に示すように、導電細線41は、製造時の条件等に起因して、側面41c,41dが曲線で構成されてしまう場合もある。本発明では、このような形状も台形状の概念に含まれる。この場合においても、図7(B)に示すように、角度αは、導電細線41における台形状の断面形状において、下底(面41a)の端部から上底(面41b)の端部に延びる線分が前記下底に沿って延びる方向となす角度によって規定される。この角度αも、40度以上85度以下であることが好ましい。なお、本実施の形態では、導電細線41の断面形状が台形状であるが、導電細線41は、第1ガラス板11に近づくにつれて、その線幅が狭くなるように形成されているのであれば、例えば、多段状となっていたりしてもよい。   FIG. 7A shows an example of a trapezoidal shape in which the cross-sectional shape of the conductive thin wire 41 is arranged, but as shown in FIG. For example, the side surfaces 41c and 41d may be configured with curves. In the present invention, such a shape is also included in the trapezoidal concept. Also in this case, as shown in FIG. 7B, in the trapezoidal cross-sectional shape of the conductive thin wire 41, the angle α is from the end of the lower base (surface 41a) to the end of the upper base (surface 41b). It is defined by the angle between the extending line segment and the direction extending along the lower base. This angle α is also preferably not less than 40 degrees and not more than 85 degrees. In addition, in this Embodiment, although the cross-sectional shape of the conductive thin wire 41 is trapezoid, if the conductive thin wire 41 is formed so that the line | wire width may become narrow as the 1st glass plate 11 is approached. For example, it may be multistage.

このように導電細線41が、当該導電細線41に接触している第1接合層21側に位置する第1ガラス板11に近づくにつれて、その線幅が狭くなるように形成されている場合、ガラス板11,12、接合層21,22及びパターンシート30を積層する際に、接合層21が導電細線41の根元側に進入し易くなる。その結果、導電細線41の側壁(面41c,42d)周りに気泡が残留することが抑制される。   When the thin conductive wire 41 is formed so that its line width becomes narrower as it approaches the first glass plate 11 located on the first bonding layer 21 side in contact with the conductive thin wire 41, When the plates 11 and 12, the bonding layers 21 and 22, and the pattern sheet 30 are stacked, the bonding layer 21 easily enters the base side of the conductive thin wire 41. As a result, bubbles are suppressed from remaining around the side walls (surfaces 41c and 42d) of the conductive thin wire 41.

また、図6において、Wmaxは、導電細線41の根元における基材31のシート面に沿った線幅を示し、導電細線41において最も幅広となる部位の線幅(以下、最大幅と呼ぶ。)を示している。本実施の形態では、導電細線41の最大幅Wmaxが、1μm以上20μm以下となっている。最大幅Wmaxは、2μm以上20μm以下であることが好ましく、2μm以上15μm以下であることがより好ましい。このため、導電性パターン部材40は、全体として透明に把握され、透視性が極めて良好である。また、導電細線41の高さ(厚さ)H、すなわち、基材31のシート面への法線方向に沿った高さ(厚さ)Hは、1μm以上20μm以下とすることが好ましく、1μm以上12μm以下とすることがより好ましい。このような高さ寸法の導電細線41によれば、線幅Wmaxと相俟って、十分に細線化されているので、導電性パターン部材40を効果的に不可視化することができる。   In FIG. 6, Wmax indicates the line width along the sheet surface of the substrate 31 at the base of the conductive thin wire 41, and the line width of the widest portion of the conductive thin wire 41 (hereinafter referred to as the maximum width). Is shown. In the present embodiment, the maximum width Wmax of the thin conductive wire 41 is 1 μm or more and 20 μm or less. The maximum width Wmax is preferably 2 μm or more and 20 μm or less, and more preferably 2 μm or more and 15 μm or less. For this reason, the electroconductive pattern member 40 is grasped | ascertained transparently as a whole, and transparency is very favorable. Further, the height (thickness) H of the conductive thin wire 41, that is, the height (thickness) H along the normal direction to the sheet surface of the base material 31 is preferably 1 μm or more and 20 μm or less, preferably 1 μm. More preferably, the thickness is 12 μm or less. According to the conductive thin wire 41 having such a height dimension, the conductive pattern member 40 can be effectively invisible because it is sufficiently thinned in combination with the line width Wmax.

また、図6において符号Pは、導電性パターン部材40がハニカムパターンを有する場合の当該ハニカムパターンにおける隣接する開口43のピッチ(隣接する開口43の中心の間の距離)を示している。ピッチPは、0.3mm以上2mm以下であることが好ましい。なお、ピッチPは、0.3mm以上7.0mm以下であってもよい。また、導電性パターン部材40が格子状のパターンを有する場合には、当該格子状のパターンにおける隣接する矩形状の開口のピッチが、0.3mm以上2mm以下であることが好ましい。なお、この場合も、ピッチは、0.3mm以上7.0mm以下であってもよい。また、導電性パターン部材40がラインアンドスペースパターンを有する場合には、隣接する導電細線41間の距離であるピッチが、0.3mm以上2mm以下であることが好ましい。なお、この場合も、ピッチは、0.3mm以上7.0mm以下であってもよい。   In FIG. 6, the symbol P indicates the pitch of the adjacent openings 43 (distance between the centers of the adjacent openings 43) in the honeycomb pattern when the conductive pattern member 40 has a honeycomb pattern. The pitch P is preferably 0.3 mm or more and 2 mm or less. The pitch P may be not less than 0.3 mm and not more than 7.0 mm. Further, when the conductive pattern member 40 has a lattice pattern, the pitch of adjacent rectangular openings in the lattice pattern is preferably 0.3 mm or more and 2 mm or less. In this case as well, the pitch may be not less than 0.3 mm and not more than 7.0 mm. Moreover, when the electroconductive pattern member 40 has a line and space pattern, it is preferable that the pitch which is the distance between the adjacent electroconductive fine wires 41 is 0.3 mm or more and 2 mm or less. In this case as well, the pitch may be not less than 0.3 mm and not more than 7.0 mm.

また、図示の例では、導電細線41は、基材31上に設けられた第1の暗色層46、第1の暗色層46上に設けられた導電性金属層45、及び、導電性金属層45上に設けられた第2の暗色層47を含んでいる。言い換えると、導電性金属層45の表面のうち、基材31側の面を第1の暗色層46が覆っており、導電性金属層45の表面のうち、基材31と反対側の面及び両側面を第2の暗色層47が覆っている。   In the illustrated example, the conductive thin wire 41 includes a first dark color layer 46 provided on the substrate 31, a conductive metal layer 45 provided on the first dark color layer 46, and a conductive metal layer. The second dark color layer 47 provided on the upper surface 45 is included. In other words, the surface of the conductive metal layer 45 on the base 31 side is covered with the first dark color layer 46, and the surface of the conductive metal layer 45 on the side opposite to the base 31 and The second dark color layer 47 covers both side surfaces.

金属材料からなる導電性金属層45は、比較的高い反射率を呈する。そして、導電性パターン部材40の導電細線41をなす導電性金属層45によって光が反射されると、その反射した光が視認されるようになり、乗員の視界を妨げる場合がある。また、外部から導電性金属層45が視認されると、意匠性が低下する場合がある。そこで、暗色層46,47が、導電性金属層45の表面の少なくとも一部分に配置されている。暗色層46,47は、導電性金属層45よりも可視光の反射率が低い層であればよく、例えば黒色等の暗色の層である。この暗色層46,47によって、導電性金属層45が視認されづらくなり、乗員の視界を良好に確保することができる。また、外部から見たときの意匠性の低下を防ぐことができる。なお、このような暗色層46,47は、無くても構わない。   The conductive metal layer 45 made of a metal material exhibits a relatively high reflectance. When the light is reflected by the conductive metal layer 45 forming the conductive thin wire 41 of the conductive pattern member 40, the reflected light is visually recognized, which may obstruct the occupant's field of view. Further, when the conductive metal layer 45 is visually recognized from the outside, the designability may be deteriorated. Therefore, the dark color layers 46 and 47 are disposed on at least a part of the surface of the conductive metal layer 45. The dark color layers 46 and 47 may be layers having a visible light reflectance lower than that of the conductive metal layer 45, and are dark color layers such as black. The dark color layers 46 and 47 make it difficult for the conductive metal layer 45 to be visually recognized, so that the occupant's field of view can be favorably secured. Moreover, the fall of the designability when seen from the outside can be prevented. Such dark color layers 46 and 47 may be omitted.

次に、図8〜図17を参照して、合わせガラス10の製造方法の一例について説明する。図8〜図17は、合わせガラス10の製造方法の一例を順に示す断面図であり、このうち、図8〜図16は、パターンシート30の製造について詳しく説明する図である。また、図17は、パターンシート30が製造された後、パターンシート30がガラス板11,12に挟み込まれて合わせガラス10が製造された状態を示している。   Next, with reference to FIGS. 8-17, an example of the manufacturing method of the laminated glass 10 is demonstrated. 8-17 is sectional drawing which shows an example of the manufacturing method of the laminated glass 10 in order, Among these, FIGS. 8-16 is a figure explaining manufacture of the pattern sheet 30 in detail. FIG. 17 shows a state in which the laminated glass 10 is manufactured by sandwiching the pattern sheet 30 between the glass plates 11 and 12 after the pattern sheet 30 is manufactured.

パターンシート30を製造する際には、まず、図8に示すように、対向する一対の面350a,350bを有する金属箔350を準備する。金属箔350は、導電細線41の導電性金属層45を形成するようになる。金属箔350としては、例えば、金、銀、銅、白金、アルミニウム、クロム、モリブデン、ニッケル、チタン、パラジウム、インジウム、タングステン、及び、これらの合金の箔を用いることができる。また、金属箔350の厚さは、1μm以上60μm以下とすることができる。   When manufacturing the pattern sheet 30, first, as shown in FIG. 8, a metal foil 350 having a pair of opposed surfaces 350a and 350b is prepared. The metal foil 350 forms the conductive metal layer 45 of the conductive thin wire 41. As the metal foil 350, for example, a foil of gold, silver, copper, platinum, aluminum, chromium, molybdenum, nickel, titanium, palladium, indium, tungsten, or an alloy thereof can be used. Further, the thickness of the metal foil 350 can be set to 1 μm or more and 60 μm or less.

次に、図9に示すように、図示の例では、金属箔350の面350bに、導電細線41の第1の暗色層46を形成するようになる暗色膜360を形成する。この例では、暗色膜360は、酸化クロムから形成されている。ここで、金属箔350に形成される暗色膜360が酸化クロムである場合、当該暗色膜360は、例えば、スパッタリング法や真空蒸着法等により成膜することもできるし、亜塩素酸ナトリウムと水酸化ナトリウムと燐酸三ナトリウムの水溶液で処理することでも形成することができる。また、例えば金属箔350をなす材料の一部分に暗色化処理(黒化処理)を施して、金属箔350をなしていた一部分から、金属酸化物や金属硫化物からなる暗色膜360を形成することもできる。また、暗色膜360は、例えば窒化銅、酸化銅、窒化ニッケル等から形成されてもよい。   Next, as illustrated in FIG. 9, in the illustrated example, a dark color film 360 that forms the first dark color layer 46 of the conductive thin wire 41 is formed on the surface 350 b of the metal foil 350. In this example, the dark color film 360 is made of chromium oxide. Here, when the dark color film 360 formed on the metal foil 350 is chromium oxide, the dark color film 360 can be formed by, for example, a sputtering method, a vacuum evaporation method, or the like, or sodium chlorite and water. It can also be formed by treatment with an aqueous solution of sodium oxide and trisodium phosphate. Further, for example, a part of the material forming the metal foil 350 is subjected to a darkening process (blackening process), and the dark film 360 made of a metal oxide or a metal sulfide is formed from a part of the metal foil 350. You can also. Further, the dark color film 360 may be formed of, for example, copper nitride, copper oxide, nickel nitride, or the like.

次に、図10に示すように、基材31が準備され、基材31の面31aと、金属箔350の暗色膜360が形成された面350bとが対向するように配置する。その後、図11に示すように、基材31の面31a上に金属箔350を、接着層を介して積層する。基材31としては、例えば、0.02mm以上0.20mm以下の厚さを有する、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、環状ポリオレフィン等を用いることができる。   Next, as shown in FIG. 10, the base material 31 is prepared and arranged so that the surface 31 a of the base material 31 and the surface 350 b on which the dark color film 360 of the metal foil 350 is formed face each other. Then, as shown in FIG. 11, the metal foil 350 is laminated | stacked on the surface 31a of the base material 31 through an contact bonding layer. As the base material 31, for example, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polystyrene, cyclic polyolefin or the like having a thickness of 0.02 mm to 0.20 mm can be used.

次に、図12に示すように、金属箔350上に、レジスト層48を設ける。レジスト層48は、例えば特定波長域の光、例えば紫外線に対する感光性を有する樹脂層である。この樹脂層は、樹脂フィルムを貼着して形成してもよいし、流動性の樹脂をコーティングすることにより形成してもよい。また、レジスト層48の具体的な感光特性は特に限られない。例えば、レジスト層48として、光硬化型の感光材が用いられてもよく、若しくは、光溶解型の感光材が用いられてもよい。   Next, as shown in FIG. 12, a resist layer 48 is provided on the metal foil 350. The resist layer 48 is a resin layer having photosensitivity to, for example, light in a specific wavelength range, for example, ultraviolet rays. This resin layer may be formed by sticking a resin film, or may be formed by coating a fluid resin. The specific photosensitive characteristics of the resist layer 48 are not particularly limited. For example, as the resist layer 48, a photocurable photosensitive material may be used, or a photodissolvable photosensitive material may be used.

その後、図13に示すように、レジスト層48をパターニングして、レジストパターン49を形成(積層)する。レジスト層48をパターニングする方法としては、公知の種々の方法を採用することができるが、この例では、レジスト層48として、特定波長域の光、例えば紫外線に対する感光性を有する樹脂層を用い、公知のフォトリソグラフィー技術を用いてパターニングしている。まず、レジスト層48上に、パターン化したい部分を開口したマスク、又は、パターン化したい部分を遮蔽したマスクを配置し、このマスクを介してレジスト層48に紫外線を照射する。その後、紫外線がマスクにより遮蔽された部分、又は、紫外線が照射された部分、すなわちレジストパターン49を形成しない部分を水等の水溶液により現像して除去する。その後、残存したレジスト層48を硬化処理、例えば加熱や、クロム硬膜処理等をして、所定の温度でベーキングを行う。これにより、パターニングされたレジストパターン49を形成することができる。   Thereafter, as shown in FIG. 13, the resist layer 48 is patterned to form (stack) a resist pattern 49. As a method of patterning the resist layer 48, various known methods can be employed. In this example, a resin layer having photosensitivity to light in a specific wavelength region, for example, ultraviolet rays, is used as the resist layer 48. Patterning is performed using a known photolithography technique. First, a mask in which a portion to be patterned is opened or a mask in which a portion to be patterned is shielded is disposed on the resist layer 48, and the resist layer 48 is irradiated with ultraviolet rays through this mask. Thereafter, a portion where the ultraviolet rays are shielded by the mask or a portion irradiated with the ultraviolet rays, that is, a portion where the resist pattern 49 is not formed is developed and removed with an aqueous solution such as water. Thereafter, the remaining resist layer 48 is baked at a predetermined temperature by curing, for example, heating, chrome hardening or the like. Thereby, the patterned resist pattern 49 can be formed.

次に、図14に示すように、レジストパターン49をマスクとして、暗色膜360を含む金属箔350をエッチングする。このエッチングにより、暗色膜360を含む金属箔350がレジストパターン49と略同一のパターンにパターニングされる。この結果、パターニングされた金属箔350から、導電細線41の一部をなすようになる導電性金属層45が形成される。また、パターニングされた暗色膜360から、導電細線41の一部をなすようになる第1の暗色層46が形成される。ここで、導電性金属層45は、基材31のシート面に対する法線方向に沿って基材31、すなわち面31aから外側に離間するにつれて、その線幅が狭くなるように形成される。なお、エッチング方法は特に限られることはなく、公知の方法が採用できる。公知の方法としては、例えば、エッチング液を用いるウェットエッチングや、プラズマエッチングなどが挙げられる。   Next, as shown in FIG. 14, the metal foil 350 including the dark color film 360 is etched using the resist pattern 49 as a mask. By this etching, the metal foil 350 including the dark color film 360 is patterned into a pattern substantially the same as the resist pattern 49. As a result, the conductive metal layer 45 that forms a part of the thin conductive wire 41 is formed from the patterned metal foil 350. In addition, a first dark color layer 46 that forms a part of the thin conductive wire 41 is formed from the patterned dark color film 360. Here, the conductive metal layer 45 is formed so that the line width thereof becomes narrower as the distance from the base material 31, that is, the surface 31 a, increases outward along the normal direction to the sheet surface of the base material 31. The etching method is not particularly limited, and a known method can be employed. Known methods include, for example, wet etching using an etchant, plasma etching, and the like.

ここで、本実施の形態では、導電性金属層45の線幅が面31aから離間するにつれて、狭くなるような所望の形状に形成するために、所定の操作が行われる。このような所望の形状に形成するための所定の操作の一例として、レジストパターン49と金属箔350との密着性を低下させる操作が挙げられる。密着性を低下させるための具体的な手法の一つとしては、レジストパターン49の乾燥を完全なものとしないように、レジストパターン49の形成工程において現像後に残存したレジスト層48を硬化処理した後に行う所定の温度でのベーキングの際に、100度よりも低い80度以上95度以下程度の温度でベーキングを行うことが挙げられる。また、前記所望の形状に形成するための所定の操作の他の例としては、レジストパターン49をマスクとして、暗色膜360を含む金属箔350をエッチングする際に、ウェットエッチングを採用し、ウェットエッチングに用いるエッチング液の濃度を、所定の濃度以上としたり、エッチング液の温度を所定の温度以上にしたり、エッチング液によるエッチング時間を所定の時間以下にしたりする操作も挙げることができる。また、前記所望の形状に形成するための所定の操作のさらに他の例としては、レジスト層48に紫外線硬化型の樹脂が用いられる場合に、当該樹脂のUV強度を下げるという操作も挙げることができる。   Here, in the present embodiment, a predetermined operation is performed in order to form the conductive metal layer 45 in a desired shape that becomes narrower as the line width of the conductive metal layer 45 is separated from the surface 31a. As an example of the predetermined operation for forming such a desired shape, there is an operation for reducing the adhesion between the resist pattern 49 and the metal foil 350. One specific method for reducing the adhesion is to cure the resist layer 48 remaining after development in the formation process of the resist pattern 49 so that the resist pattern 49 is not completely dried. When baking is performed at a predetermined temperature, the baking may be performed at a temperature of about 80 degrees to 95 degrees lower than 100 degrees. In addition, as another example of the predetermined operation for forming the desired shape, wet etching is employed when the metal foil 350 including the dark color film 360 is etched using the resist pattern 49 as a mask, and wet etching is performed. Examples of the operation include setting the concentration of the etching solution used in the above to a predetermined concentration or more, setting the temperature of the etching solution to a predetermined temperature or more, and setting the etching time with the etching solution to a predetermined time or less. As still another example of the predetermined operation for forming the desired shape, there is an operation of lowering the UV intensity of the resin when an ultraviolet curable resin is used for the resist layer 48. it can.

以上のように、暗色膜360を含む金属箔350をエッチングした後は、図15に示すように、レジストパターン49を除去する。   As described above, after the metal foil 350 including the dark color film 360 is etched, the resist pattern 49 is removed as shown in FIG.

次に、図16に示すように、導電性金属層45の第1の暗色層46と反対側の面41a及び側面41c,41dに第2の暗色層47を形成する。第2の暗色層47は、例えば導電性金属層45をなす材料の一部分に暗色化処理(黒化処理)を施して、導電性金属層45をなしていた一部分から、金属酸化物や金属硫化物からなる第2の暗色層47を形成することができる。また、暗色材料の塗膜や、ニッケルやクロム等のめっき層の形成等により、導電性金属層45の表面に第2の暗色層47を設けるようにしてもよい。また、導電性金属層45の表面を粗化して第2の暗色層47を設けるようにしてもよい。   Next, as shown in FIG. 16, the second dark color layer 47 is formed on the surface 41 a and the side surfaces 41 c and 41 d of the conductive metal layer 45 opposite to the first dark color layer 46. For example, the second dark color layer 47 is subjected to a darkening process (blackening process) on a part of the material forming the conductive metal layer 45, and the metal oxide or metal sulfide is formed from a part of the conductive metal layer 45. A second dark color layer 47 made of a material can be formed. Further, the second dark color layer 47 may be provided on the surface of the conductive metal layer 45 by forming a dark color coating film or a plating layer of nickel or chromium. Alternatively, the second dark color layer 47 may be provided by roughening the surface of the conductive metal layer 45.

以上のようにしてパターンシート30が製造される。その後、図17に示すように、湾曲した第1ガラス板11、第1接合層21、パターンシート30、第2接合層22、湾曲した第2ガラス板12をこの順に重ね合わせ、加熱および加圧することで、湾曲した第1ガラス板11、パターンシート30及び湾曲した第2ガラス板12が、接合層21,22により接合される。これにより、合わせガラス10が製造される。   The pattern sheet 30 is manufactured as described above. Thereafter, as shown in FIG. 17, the curved first glass plate 11, the first bonding layer 21, the pattern sheet 30, the second bonding layer 22, and the curved second glass plate 12 are superposed in this order, and heated and pressurized. Thus, the curved first glass plate 11, the pattern sheet 30, and the curved second glass plate 12 are bonded by the bonding layers 21 and 22. Thereby, the laminated glass 10 is manufactured.

以上に説明した本実施の形態における合わせガラス10は、一対のガラス板11,12と、一対のガラス板11,12の間に配置された導電性パターン部材40と、を備え、導電性パターン部材40は、パターン状に配置された導電細線41を含んでいる。また、合わせガラス10は、一対のガラス板のうちの第1ガラス板11と導電性パターン部材40との間に配置され、第1ガラス板11と導電細線41とに直接的に接触して、導電性パターン部材40を第1ガラス板11に接合する第1接合層21を備えている。そして、導電細線41は、当該導電細線41に接触している第1接合層21側に位置する第1ガラス板11に近づくにつれて、その線幅が狭くなるように形成されている。   The laminated glass 10 in this Embodiment demonstrated above is equipped with a pair of glass plates 11 and 12, and the conductive pattern member 40 arrange | positioned between a pair of glass plates 11 and 12, A conductive pattern member Reference numeral 40 includes thin conductive wires 41 arranged in a pattern. Moreover, the laminated glass 10 is arrange | positioned between the 1st glass plate 11 and the electroconductive pattern member 40 of a pair of glass plates, and contacts the 1st glass plate 11 and the electroconductive thin wire 41 directly, A first bonding layer 21 for bonding the conductive pattern member 40 to the first glass plate 11 is provided. The thin conductive wire 41 is formed so that its line width becomes narrower as it approaches the first glass plate 11 located on the first bonding layer 21 side in contact with the conductive thin wire 41.

このような合わせガラス10によれば、製造過程において、ガラス板11,12、接合層21,22及びパターンシート30を積層した際に、接合層21が、特に加熱時に導電細線41の根元側に進入し易くなる。その結果、導電細線41の側壁(面41c,42d)周りに気泡が残留することを抑制することができる。これにより、本実施の形態によれば、合わせガラス10の外観品質を向上させると共に合わせガラス10にぎらつきが生じることを抑制することができる。   According to such a laminated glass 10, when the glass plates 11, 12, the bonding layers 21, 22 and the pattern sheet 30 are laminated in the manufacturing process, the bonding layer 21 is on the base side of the conductive thin wire 41 particularly during heating. Easy to enter. As a result, it is possible to prevent bubbles from remaining around the side walls (surfaces 41c and 42d) of the conductive thin wire 41. Thereby, according to this Embodiment, while improving the external appearance quality of the laminated glass 10, it can suppress that a glare arises in the laminated glass 10. FIG.

上述した本実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、図面を適宜参照しながら、変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。   Various modifications can be made to the above-described embodiment. Hereinafter, modified examples will be described with reference to the drawings as appropriate. In the following description and the drawings used in the following description, the same reference numerals as those used for the corresponding parts in the above embodiment are used for the parts that can be configured in the same manner as in the above embodiment. A duplicate description is omitted.

まず、図18に示す変形例では、第1ガラス板11の第2ガラス板12側を向く面には、図示省略する保持層を介して導電性パターン部材40が設けられており、上述の実施の形態で説明したような基材31は設けられていない。前記保持層は、厚みが1μm〜100μm程度であり、その第1ガラス板11側を向く面に形成された剥離層(図示省略)によって、導電性パターン部材40を第1ガラス板11に接合している。一方、導電性パターン部材40と第2ガラス板12との間に第3接合層23が配置され、第3接合層23は、第2ガラス板12と導電細線41とに直接的に接触して、接触した導電細線41を介して導電性パターン部材40を第2ガラス板12に接合している。そして、導電細線41は、第3接合層23側に位置する第2ガラス板12に近づくにつれて、その線幅が狭くなるように形成されている。このような変形例においても、上述の実施の形態と同様の効果が奏される。なお、この例においては、導電性パターン部材40をパターニングして形成する際には、実施の形態で説明したような導電性パターン部材40を支持する基材が存在する。しかし、この基材は、導電性パターン部材40を第1ガラス板11に接合する際に、剥離される。これにより、上述した保持層が露出するようになっている。前記保持層に形成された剥離層は、界面剥離型の剥離層、層間剥離型の剥離層、または凝集剥離型の剥離層等であってもよい。   First, in the modification shown in FIG. 18, the conductive pattern member 40 is provided on the surface of the first glass plate 11 facing the second glass plate 12 through a holding layer (not shown). The base material 31 as described in the form is not provided. The holding layer has a thickness of about 1 μm to 100 μm, and bonds the conductive pattern member 40 to the first glass plate 11 by a release layer (not shown) formed on the surface facing the first glass plate 11 side. ing. On the other hand, the third bonding layer 23 is disposed between the conductive pattern member 40 and the second glass plate 12, and the third bonding layer 23 is in direct contact with the second glass plate 12 and the conductive thin wire 41. The conductive pattern member 40 is joined to the second glass plate 12 through the contacted conductive thin wires 41. The thin conductive wire 41 is formed so that its line width becomes narrower as it approaches the second glass plate 12 located on the third bonding layer 23 side. Also in such a modification, the same effect as the above-mentioned embodiment is produced. In this example, when the conductive pattern member 40 is formed by patterning, there is a base material that supports the conductive pattern member 40 as described in the embodiment. However, the base material is peeled off when the conductive pattern member 40 is joined to the first glass plate 11. Thereby, the above-mentioned holding layer is exposed. The release layer formed on the holding layer may be an interface release type release layer, an interlayer release type release layer, a cohesive release type release layer, or the like.

次に、図19に示す変形例では、パターンシート30における基材31の面31a,31bの各々に、導電性パターン部材40が設けられている。第1ガラス板11と面31aに設けられた導電性パターン部材40との間には、第1接合層21が配置され、第1接合層21は、第1ガラス板11と面31aに設けられた導電性パターン部材40の導電細線41とに直接的に接触して、接触した導電細線41を介して導電性パターン部材40を第1ガラス板11に接合している。そして、この導電細線41は、当該導電細線41に接触している第1接合層21側に位置する第1ガラス板11に近づくにつれて、その線幅が狭くなるように形成されている。   Next, in the modification shown in FIG. 19, the conductive pattern member 40 is provided on each of the surfaces 31 a and 31 b of the substrate 31 in the pattern sheet 30. A first bonding layer 21 is disposed between the first glass plate 11 and the conductive pattern member 40 provided on the surface 31a, and the first bonding layer 21 is provided on the first glass plate 11 and the surface 31a. The conductive pattern member 40 is directly in contact with the conductive thin wire 41 of the conductive pattern member 40, and the conductive pattern member 40 is joined to the first glass plate 11 through the contacted thin conductive wire 41. The thin conductive wire 41 is formed so that its line width decreases as it approaches the first glass plate 11 located on the first bonding layer 21 side in contact with the thin conductive wire 41.

一方、第2ガラス板12と面31bに設けられた導電性パターン部材40との間には、第2接合層22が配置され、第2接合層22は、第2ガラス板12と面31bに設けられた導電性パターン部材40の導電細線41とに直接的に接触して、接触した導電細線41を介して導電性パターン部材40を第2ガラス板12に接合している。そして、この導電細線41は、当該導電細線41に接触している第2接合層22側に位置する第2ガラス板12に近づくにつれて、その線幅が狭くなるように形成されている。このような変形例においても、上述の実施の形態と同様の効果が奏される。   On the other hand, the second bonding layer 22 is disposed between the second glass plate 12 and the conductive pattern member 40 provided on the surface 31b, and the second bonding layer 22 is disposed on the second glass plate 12 and the surface 31b. The conductive pattern member 40 is directly in contact with the conductive thin wire 41 of the provided conductive pattern member 40, and the conductive pattern member 40 is bonded to the second glass plate 12 through the contacted conductive thin wire 41. The thin conductive wire 41 is formed so that its line width decreases as it approaches the second glass plate 12 located on the second bonding layer 22 side in contact with the conductive thin wire 41. Also in such a modification, the same effect as the above-mentioned embodiment is produced.

なお、上述した実施の形態および変形例に対して、さらに様々な変更を加えることが可能である。   It should be noted that various changes can be made to the above-described embodiments and modifications.

例えば、図6に示された例では、導電性金属層45の第1の暗色層46と反対側の面41a及び側面41c,41dに第2の暗色層47を形成したが、これに限られず、導電性金属層45の第1の暗色層46と反対側の面41aのみ、又は、導電性金属層45の側面41c,41dのみに第2の暗色層47を形成してもよい。   For example, in the example shown in FIG. 6, the second dark color layer 47 is formed on the surface 41a and the side surfaces 41c and 41d opposite to the first dark color layer 46 of the conductive metal layer 45. However, the present invention is not limited to this. Alternatively, the second dark color layer 47 may be formed only on the surface 41 a of the conductive metal layer 45 opposite to the first dark color layer 46 or only on the side surfaces 41 c and 41 d of the conductive metal layer 45.

導電性金属層45の第1の暗色層46と反対側の面41aのみに第2の暗色層47を形成する場合は、例えば、図11に示した工程の後に、金属箔350上に第2の暗色層47及びレジストパターン49を順に設け、その後、レジストパターン49をマスクとして、第2の暗色層47、導電性金属層45及び第1の暗色層46をエッチングすればよい。   In the case where the second dark color layer 47 is formed only on the surface 41a opposite to the first dark color layer 46 of the conductive metal layer 45, for example, after the step shown in FIG. The dark color layer 47 and the resist pattern 49 are sequentially provided, and then the second dark color layer 47, the conductive metal layer 45, and the first dark color layer 46 may be etched using the resist pattern 49 as a mask.

また、導電性金属層45の側面41c,41dのみに第2の暗色層47を形成する場合は、例えば、図14に示した工程の後に、レジストパターン49を除去せずに第2の暗色層47を形成し、その後、レジストパターン49を除去すればよい。   In the case where the second dark color layer 47 is formed only on the side surfaces 41c and 41d of the conductive metal layer 45, for example, the second dark color layer without removing the resist pattern 49 after the step shown in FIG. 47 is formed, and then the resist pattern 49 is removed.

また、合わせガラス10は、自動車1のリアウィンドウ、サイドウィンドウやサンルーフに用いてもよい。また、自動車以外の、鉄道、航空機、船舶、宇宙船等の乗り物の窓に用いてもよい。   Moreover, you may use the laminated glass 10 for the rear window of the motor vehicle 1, a side window, and a sunroof. Moreover, you may use for windows of vehicles other than a motor vehicle, such as a railway, an aircraft, a ship, and a spacecraft.

さらに、合わせガラス10は、乗り物以外にも、特に室内と室外とを区画する箇所、例えばビルや店舗、住宅の窓等に使用することもできる。   Furthermore, the laminated glass 10 can also be used in places other than the vehicle, in particular, in places that divide the room from the outdoors, such as buildings, stores, and house windows.

なお、以上において上述した実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。   In addition, although the some modification with respect to embodiment mentioned above was demonstrated above, naturally, it is also possible to apply combining several modifications suitably.

以下、実施例を用いて本発明をより詳細に説明する。なお、本発明はこの実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. In addition, this invention is not limited to this Example.

(実施例)
実施例の合わせガラス10は、次のようにして作製した。まず、基材31として、厚み100μm、幅82cm、長さ100mのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム(東洋紡株式会社製 A4300)を準備した。この基材31に、2液混合型ウレタンエステル系接着剤を硬化時の乾燥厚みが7μmとなるようにグラビアコーターにて積層した。そして、基材31上に接着剤を介して、厚み10μm、幅81cm、長さ80mの電解銅箔を金属箔350として積層して、この状態を50°の環境で4日間維持して、電解銅箔を基材31に固定した。
(Example)
The laminated glass 10 of Example was produced as follows. First, as the base material 31, a PET (polyethylene terephthalate) film (A4300 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 100 μm, a width of 82 cm, and a length of 100 m was prepared. A two-component mixed urethane ester adhesive was laminated on the substrate 31 with a gravure coater so that the dry thickness upon curing was 7 μm. Then, an electrolytic copper foil having a thickness of 10 μm, a width of 81 cm, and a length of 80 m is laminated as a metal foil 350 on the base material 31 via an adhesive, and this state is maintained for 4 days in an environment of 50 ° to perform electrolysis. A copper foil was fixed to the base material 31.

その後、電解銅箔(金属箔350)に、カゼインを塗布して乾燥させて感光性樹脂層としてのレジスト層48を積層した。そして、パターンが形成されたフォトマスクにより、レジスト層48における100cm×80cmで規定される複数の範囲に、3.0mmピッチ、線幅が7μmのメッシュ状のパターンを露光した。当該露光においては、紫外線の密着露光を間欠で行った。露光後、レジストパターン49を形成しない部分を水により現像して除去し、残存したレジスト層48を80℃で2分間加熱して、その後、85度の温度でベーキングを行った。これにより、レジストパターン49を形成した。なお、レジストパターン49は、3.0mmピッチ、線幅が7μmのメッシュ状のパターンに形成されている。   Then, casein was apply | coated and dried on the electrolytic copper foil (metal foil 350), and the resist layer 48 as a photosensitive resin layer was laminated | stacked. Then, a mesh pattern having a 3.0 mm pitch and a line width of 7 μm was exposed in a plurality of ranges defined by 100 cm × 80 cm in the resist layer 48 using a photomask on which the pattern was formed. In the exposure, ultraviolet contact exposure was intermittently performed. After the exposure, the portion where the resist pattern 49 was not formed was developed and removed with water, the remaining resist layer 48 was heated at 80 ° C. for 2 minutes, and then baked at a temperature of 85 degrees. Thereby, a resist pattern 49 was formed. The resist pattern 49 is formed in a mesh pattern having a pitch of 3.0 mm and a line width of 7 μm.

そして、レジストパターン49をマスクとして、レジストパターン49側より塩化第2鉄溶液(ボーメ度42、温度30度)を金属箔350に噴霧してエッチングを行った。そして、水で洗浄してから、アルカリ溶液を用いてレジストを剥離して、剥離後、洗浄及び乾燥をした。そして、PETからなる基材31/接着剤層/銅からなる導電性パターン部材40(導電性メッシュ)、の構成のパターンシート30を複数含む積層体を得た。パターンシート30における導電性パターン部材40は、100cm×80cmの範囲に形成され、当該範囲に、3.0mmピッチ、線幅が7μmのメッシュ状のパターンにて配置された導電細線41を有している。そして、導電細線41は、該導電細線の延在方向に直交する方向での断面形状が台形状に形成されており、導電細線41における台形状の断面形状は、下底(面41a)の端部から上底(面41b)の端部に延びる線分が前記下底に沿って延びる方向となす角度α、すなわち底角の角度が、75度であった。   Etching was performed by spraying a ferric chloride solution (Baume degree 42, temperature 30 degrees) onto the metal foil 350 from the resist pattern 49 side using the resist pattern 49 as a mask. And after wash | cleaning with water, the resist was peeled using the alkaline solution, and it wash | cleaned and dried after peeling. And the laminated body containing two or more pattern sheet 30 of the structure of the base material 31 which consists of PET / adhesive layer / conductive pattern member 40 (conductive mesh) which consists of copper was obtained. The conductive pattern member 40 in the pattern sheet 30 is formed in a range of 100 cm × 80 cm, and has conductive thin wires 41 arranged in a mesh pattern having a pitch of 3.0 mm and a line width of 7 μm in the range. Yes. The thin conductive wire 41 has a trapezoidal cross-sectional shape in a direction orthogonal to the extending direction of the conductive thin wire, and the trapezoidal cross-sectional shape of the conductive thin wire 41 is the end of the lower base (surface 41a). The angle α formed by the line extending from the portion to the end of the upper base (surface 41b) and the direction extending along the lower base, that is, the angle of the base angle, was 75 degrees.

そして、上述のようにして得られた積層体から、100cm×80cmのパターンシート30を切り出した。このパターンシート30と同じサイズのPVB接着シートからなる接合層21,22の間にパターンシート30を挟み、さらに100cm×80cmのガラス板11,12で挟んで加熱及び加圧(真空ラミネート)した。そして、実施例にかかる合わせガラス10を得た。   And the 100 cm x 80 cm pattern sheet 30 was cut out from the laminated body obtained as mentioned above. The pattern sheet 30 was sandwiched between bonding layers 21 and 22 made of a PVB adhesive sheet of the same size as the pattern sheet 30 and further sandwiched between 100 cm × 80 cm glass plates 11 and 12 and heated and pressurized (vacuum lamination). And the laminated glass 10 concerning an Example was obtained.

実施例にかかる合わせガラス10を目視で確認したところ、気泡は発見されなかった。
また、合わせガラス10を介して3m先の点光源を観察したところ、気泡に由来する細かなぎらつきが生じることはなかった。
When the laminated glass 10 according to the example was visually confirmed, no bubbles were found.
Moreover, when a point light source 3 m ahead was observed through the laminated glass 10, no fine glare derived from bubbles was generated.

(比較例)
比較例の合わせガラスは、レジストパターンを形成する際のベーキング温度を100度とする以外は、実施例と同様の材料を用いると共に同様の工程を行うことで、製造された。比較例の合わせガラスでは、導電細線は其の延在方向に直交する方向での断面形状が矩形状であり、その底角は略90度であった。比較例の合わせガラスを目視で確認したところ、気泡が発見された。また、合わせガラスを介して3m先の点光源を観察したところ、気泡に由来する細かなぎらつきが生じていた。
(Comparative example)
The laminated glass of the comparative example was manufactured by using the same material as in the example and performing the same process except that the baking temperature for forming the resist pattern was 100 degrees. In the laminated glass of the comparative example, the conductive thin wire had a rectangular cross-sectional shape in the direction orthogonal to the extending direction, and the base angle was approximately 90 degrees. When the laminated glass of the comparative example was visually confirmed, bubbles were found. Moreover, when a point light source 3 m ahead was observed through the laminated glass, fine glare derived from bubbles was generated.

1 自動車
5 フロントウィンドウ
7 電源
10 合わせガラス
11 第1ガラス板
12 第2ガラス板
15 配線部
16 接続部
21 第1接合層
22 第2接合層
23 第3接合層
30 パターンシート
31 基材
31a,31b 面
40 導電性パターン部材
41 導電細線
41a 面
41b 面
41c,41d 側面
42 分岐点
43 開口
45 導電性金属層
46 第1の暗色層
47 第2の暗色層
48 レジスト層
49 レジストパターン
350 金属箔
350a,350b 面
360 暗色層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Car 5 Front window 7 Power supply 10 Laminated glass 11 1st glass plate 12 2nd glass plate 15 Wiring part 16 Connection part 21 1st joining layer 22 2nd joining layer 23 3rd joining layer 30 Pattern sheet 31 Base material 31a, 31b Surface 40 Conductive pattern member 41 Conductive thin wire 41a Surface 41b Surface 41c, 41d Side surface 42 Branch point 43 Opening 45 Conductive metal layer 46 First dark color layer 47 Second dark color layer 48 Resist layer 49 Resist pattern 49 Metal foil 350a, 350b surface 360 dark color layer

Claims (7)

一対のガラス板と、前記一対のガラス板の間に配置された導電性パターン部材と、を備え、前記導電性パターン部材が、パターン状に配置された導電細線を含む、合わせガラスであって、
前記一対のガラス板のうちの少なくともいずれか一方と前記導電性パターン部材との間に配置され、前記ガラス板と前記導電細線とに直接的に接触して、前記導電性パターン部材を前記ガラス板に接合する接合層を備え、
前記導電細線は、当該導電細線に接触している前記接合層側に位置する前記ガラス板に近づくにつれて、その線幅が狭くなるように形成されている、合わせガラス。
A laminated glass comprising a pair of glass plates and a conductive pattern member disposed between the pair of glass plates, wherein the conductive pattern member includes conductive thin wires arranged in a pattern,
The conductive pattern member is disposed between at least one of the pair of glass plates and the conductive pattern member, and is in direct contact with the glass plate and the conductive thin wire, so that the conductive pattern member is disposed on the glass plate. A bonding layer for bonding to
The laminated glass, wherein the thin conductive wire is formed so that its line width becomes narrower as it approaches the glass plate located on the side of the bonding layer in contact with the thin conductive wire.
前記導電細線は、エッチングによりパターニングされた金属膜から形成されている、請求項1に記載の合わせガラス。   The laminated glass according to claim 1, wherein the conductive thin wire is formed from a metal film patterned by etching. 前記導電細線は、前記導電細線の延在方向に直交する方向での断面形状が台形状に形成されている、請求項1または2に記載の合わせガラス。   The laminated glass according to claim 1 or 2, wherein the thin conductive wire has a trapezoidal cross-sectional shape in a direction orthogonal to the extending direction of the thin conductive wire. 前記導電細線における台形状の前記断面形状は、下底の端部から上底の端部に延びる線分が前記下底に沿って延びる方向となす角度が40度以上85度以下である、請求項3に記載の合わせガラス。   The trapezoidal cross-sectional shape of the thin conductive wire is such that an angle between a line segment extending from an end of the lower base to an end of the upper base and a direction extending along the lower base is 40 degrees or more and 85 degrees or less. Item 4. The laminated glass according to item 3. 前記導電細線は、当該導電細線に接触している前記接合層側に位置する前記ガラス板側とは反対側を向く部分に、暗色層を有している、請求項1乃至4のいずれかに記載の合わせガラス。   The conductive thin wire has a dark color layer in a portion facing the side opposite to the glass plate side located on the bonding layer side in contact with the conductive thin wire. Laminated glass as described. 前記暗色層は、酸化クロムからなる、請求項5に記載の合わせガラス。   The laminated glass according to claim 5, wherein the dark color layer is made of chromium oxide. 一対のガラス板の間に配置される導電性パターン部材を有する合わせガラス用パターンシートであって、
一対の対向する面を有するシート状の基材を有し、
前記基材の一対の対向する面のうちの少なくともいずれかの面に前記導電性パターン部材が設けられており、
前記導電性パターン部材は、パターン状に配置された導電細線を含み、
前記導電細線は、前記基材のシート面に対する法線方向に沿って前記基材から外側に離間するにつれて、その線幅が狭くなるように形成されている、合わせガラス用パターンシート。
A pattern sheet for laminated glass having a conductive pattern member disposed between a pair of glass plates,
Having a sheet-like substrate having a pair of opposed surfaces;
The conductive pattern member is provided on at least one of a pair of opposing surfaces of the base material,
The conductive pattern member includes conductive thin wires arranged in a pattern,
The said thin conductive wire is a pattern sheet | seat for laminated glasses formed so that the line | wire width may become narrow as it spaces apart from the said base material along the normal line direction with respect to the sheet | seat surface of the said base material.
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